JPH0562193A - Recording method of optical information - Google Patents

Recording method of optical information

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JPH0562193A
JPH0562193A JP21955191A JP21955191A JPH0562193A JP H0562193 A JPH0562193 A JP H0562193A JP 21955191 A JP21955191 A JP 21955191A JP 21955191 A JP21955191 A JP 21955191A JP H0562193 A JPH0562193 A JP H0562193A
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JP
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recording
film
pulse
optical information
recording method
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Pending
Application number
JP21955191A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuo Akahira
Kenichi Nishiuchi
Eiji Ono
Noboru Yamada
鋭二 大野
昇 山田
健一 西内
信夫 赤平
Original Assignee
Matsushita Electric Ind Co Ltd
松下電器産業株式会社
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Abstract

PURPOSE:To execute a pulse-width modulation recording operation at a low linear velocity (1.2 to 1.4m/s) by means of a rewritable pulse-change optical disk and, especially, to realize a rewritable digital audio disk. CONSTITUTION:The composition of a recording film 3 is set in the limit range of a ternary system by Ge, Sb and Te, and its film thickness is set at 10nm or higher and 35nm or lower. In addition, the film thickness of a dielectric film 4 is set at 5nm or higher and 40nm or lower. The composition of a reflecting film 5 is composed of a simple substance or an alloy out of at least Au, Al, Ti, Ni and Cr, and its film thickness is limited to 35nm or higher. The recording operation of a signal is executed by using a method in which one recording mark is formed after it has been irradiated with a plurality of short pulse trains.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光線等を用いて高密度に光学的な情報を記録再生する光ディスク上への光学情報の記録方法に関するものである。 The present invention relates to relates to a recording method for an optical information onto an optical disc for optically recording and reproducing information at high density by using a laser beam or the like.

【0002】 [0002]

【従来の技術】レーザー光線を利用して高密度な情報の再生あるいは記録を行う技術は公知であり、主に光ディスクとして実用化されている。 BACKGROUND ART technique utilizing a laser beam for reproducing or recording high-density information are known, it has been put to practical use mainly as optical disks. 光ディスクの一つの応用例として音楽情報を記録したコンパクト・ディスク(以下CDと記す)がある。 There are compact discs recorded music information as one application example of the optical disk (hereinafter referred to as CD). これは光ディスク上にあらかじめ信号が記録された再生専用型であり、ユーザーは音楽情報を再生することはできるが、信号を記録・消去することはできない。 This is a read-only pre signal is recorded on the optical disk, the user can be reproduced music information can not be recorded and erased signals. そこで近年、書換え型光ディスクにより記録・消去が可能なCDを実現する研究開発が盛んになされている。 In recent years, research and development to achieve capable of recording and erasing CD have been made extensively by the rewritable optical disk.

【0003】書換え型光ディスクは光磁気ディスクと相変化ディスクに大別できる。 [0003] rewritable optical disk can be roughly classified into magnetooptical disks and phase change disks. このうち相変化ディスクはレーザー光の照射条件を変化させることにより記録膜をアモルファスと結晶間で可逆的に状態変化させて信号を記録し、アモルファスと結晶の反射率の違いを光学的に検出して再生するものである。 The out phase change disk is reversibly state changes by recording the signals between the crystalline recording film of an amorphous by changing the irradiation conditions of the laser beam, the difference in reflectance of the amorphous and crystalline optically detected it is intended to play Te. したがって光磁気ディスクに比べ、CDと同様にレーザー光の反射率変化により信号が再生でき、レーザーパワーの変調で1ビームオーバーライトが容易に実現できるといった大きなメリットがある。 Therefore compared with the magneto-optical disk, CD as well as the signal can be reproduced by change in reflectance of the laser beam, there is a great merit one beam overwriting by modulating the laser power can be easily realized.

【0004】相変化ディスクによる書換え型CDの具体的提案としては、記録膜材料として図13の斜線の組成範囲のGeSbTe合金を用い、構造として図14のように記録膜を誘電体膜でサンドイッチした光ディスクがある(光メモリシンポジウム1988、論文集、P41-P4 [0004] Specific proposals rewritable CD by phase change disk, using a GeSbTe alloy of the hatched composition range of Fig. 13 as a recording film material was sandwiched recording film with a dielectric film as shown in FIG. 14 as a structural there is an optical disk (optical memory Symposium 1988, Proceedings, P41-P4
2)。 2).

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】従来例で提案された記録膜組成および光ディスク構造で実際にCD信号の記録を従来の1ビームオーバーライトで行ったところ、再生波形の歪が非常に大きく実用的でないことが分かった。 THE INVENTION Problems to be Solved] The recording of the proposed recording film composition and actual CD signal in the optical disk structure in the prior art was performed by the conventional one-beam overwrite, very large practical distortion of the reproduction waveform it was found not.
これは記録マーク形状が前後対称でなく先端部で細く終端部で太くなって涙滴状に歪むためである。 This is because the recording mark shape is distorted becomes thicker in teardrop shape with narrow end portion at the distal end not symmetrical back and forth. 原因は図1 Cause Figure 1
5(a)のようなレーザー光の変調波形で記録した場合、記録膜の到達温度が蓄熱現象で図15(b)のように先端で低く終端に近づくにつれて高くなることにあり、結果として、図15(c)のような涙滴状の記録マークとなる。 5 when recording with laser light modulated waveform, such as (a), lies in the attainable temperature of the recording film becomes high toward the end lower at the tip as shown in FIG. 15 (b) in the heat storage phenomenon, as a result, Figure 15 a teardrop-shaped recording marks as (c). 蓄熱現象はレーザースポットと光ディスクの相対速度、すなわち線速度が遅いほど大きくなるため、CDのように1.2〜1.4m/secと非常に遅い場合には記録マークの形状歪も大きくなる。 Heat storage behavior laser spot and the optical disk of the relative velocity, that is, the linear velocity increases as slow, the shape distortion of the recording mark also becomes large when very slow and 1.2 to 1.4 m / sec as CD. この記録マークの歪みは再生波形歪みにつながり、ジッター増大の原因となる。 Distortion of the recording mark leads to reproduction waveform distortion, cause of jitter increase. 特にCD規格のEFM信号はパルス幅変調された信号(PWM信号)であって、記録マークの長さと記録マークの間隔が情報を示すものであり、記録マークの歪はエラー発生の大きな原因となる。 In particular EFM signal CD standard is a pulse width modulated signal (PWM signal), which interval length and recording marks indicate information, distortion of the recording mark becomes a major cause of error .

【0006】 [0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために詳細な検討、研究を重ねた結果、発明者らは光ディスクの記録膜組成、構造を特定し、さらに記録方法を特定することによって、書換え型光ディスクにおいても形状歪が小さい記録マークを形成できてCD並の再生信号が得られ、かつ記録消去の繰り返し特性も優れていることを見いだした。 Details are set forth in order to solve the above problems studied SUMMARY OF THE INVENTION As a result of extensive research by inventors of the recording film composition of the optical disk to identify the structure, more particularly a recording method, also obtained CD moderate reproduction signal can form the recording mark shape distortion is small in the rewritable optical disc, and found that even superior repetition characteristics of recording and erasing.

【0007】すなわち、基板上に誘電体膜、記録膜、誘電体膜、反射膜の順に積層し、前記記録膜は、組成がGe Namely, a dielectric film on a substrate, a recording film, a dielectric film, laminated in this order of the reflective film, the recording film composition is Ge
x Sb y Te z ( 45≦z≦53 at%, 0.5≦y/(x+y)≦0.72, x+y+z= x Sb y Te z (45 ≦ z ≦ 53 at%, 0.5 ≦ y / (x + y) ≦ 0.72, x + y + z =
100at%) で表され、かつ膜厚は10nm以上35nm 以下であり、反射膜側の前記誘電体膜の膜厚は5nm以上40nm以下であり、かつ前記反射膜は少なくともAu,Al,Ti,Ni,Crの単体あるいは合金からなり、かつ膜厚は35nm以上であることを特徴とする光ディスク上に、パルス幅変調されたデジタル信号を一つのレーザースポットを用いてオーバーライトする光学情報の記録方法において、前記デジタル信号に含まれるそれぞれのパルスを複数のパルスからなるパルス列に変換するステップと、レーザーパワーを前記パルス列により消去レベルと記録レベルの間で変調して、それぞれの前記パルス列でそれぞれ一つの記録マークを光ディスク上に形成して前記デジタル信号を記録するステップからなり、前記パルス列は先頭パルスと後続パルス列からなり、前記先頭パル Represented by 100 atomic%), and the film thickness is at 10nm or more 35nm or less, the thickness of the dielectric layer of the reflective film side is at 5nm or 40nm or less, and the reflective layer is at least Au, Al, Ti, Ni , made from a single piece or an alloy of Cr, and film thickness on an optical disc, wherein the at 35nm or more, in the recording method of an optical information overwriting using a single laser spot pulse width modulated digital signal , and converting the respective pulses contained in the digital signal into a pulse train consisting of a plurality of pulses, by modulating the laser power between the erase level and recording level by the pulse train, each one recording in each of the pulse train the mark is formed on the optical disc consists step of recording the digital signal, the pulse train consists of succeeding pulse train and the top pulse, the leading pulse の幅は記録マークの長さに係わりなく常に一定でかつ後続パルス列中の各パルスの幅より大きく、前記後続パルス列中の各パルスの幅と間隔はそれぞれ等しく、かつ長さがn番目の記録マークを形成する場合の前記後続パルス中のパルス数はn−1個であることを特徴とする光学情報の記録方法を採用する。 The width greater than the width of each pulse in the always constant and the subsequent pulse train regardless of the length of the recording mark, the width and spacing of the pulses in the subsequent pulse train is equal to each other and the length of the n-th recording mark number of pulses in said subsequent pulses in the case of forming a adopts a recording method of an optical information, which is a (n-1).

【0008】 [0008]

【作用】本発明の光学情報の記録方法は蓄熱現象を大幅に低減すると同時に、良好な消去速度、記録感度、繰返し特性を実現することができるものである。 Recording method of the optical information of the effects of the present invention and at the same time greatly reduce the heat accumulation phenomenon, good erase speed, recording sensitivity, and is capable to realize the repetition characteristics.

【0009】本発明に用いる光ディスクは、膜厚の薄い記録膜が金属の反射膜に非常に近接して設けられているため放熱効果が大きく、記録膜は昇温した後速やかに冷却される。 [0009] optical disc used in the present invention has a high heat dissipation effect because they provided a small thickness recording film is very close to the reflective film of a metal, the recording layer is rapidly cooled after the temperature was raised. したがって蓄熱現象が低減され記録マークの終端部が必要以上に昇温するのが抑えられる。 Thus it is prevented the heat storage phenomenon heated more than necessary the end of the reduced recording mark.

【0010】さらに光ディスクへのレーザーの照射は、 [0010] Furthermore, the irradiation of a laser onto the optical disc,
パルス幅の広い先頭パルスで照射して記録膜を十分に昇温した後、パルス幅の狭い後続パルスで断続的に照射するため、記録マークの終端部での蓄熱現象を低減することができる。 After sufficient heating the recording film was irradiated with a wide top pulse having a pulse width, for intermittently irradiating a narrow succeeding pulse pulse width, it is possible to reduce the heat accumulation phenomenon at the end portion of the recording mark.

【0011】 [0011]

【実施例】以下本発明を図面を参照しながら詳細に説明する。 EXAMPLES be described in detail with reference to the drawings The present invention will.

【0012】上述のように低線速度においてPWM記録を実現するには記録時における蓄熱現象を抑えて記録マークの形状歪を低減する必要がある。 [0012] To achieve PWM recording in low linear velocity as described above, it is necessary to reduce the shape distortion of the recording mark by suppressing the heat accumulation phenomenon at the time of recording. 発明者らは記録マークの形状歪を低減するために光ディスク構造および記録膜組成の検討と、記録方法の検討を行った。 We performed a study on the optical disk structure and recording film composition in order to reduce the shape distortion of the recording mark, the examination of the recording method. その結果、限定された記録膜組成および構造を持つ光ディスク上に、限定された記録レーザー波形で信号を記録することにより、記録マークの形状歪を小さくできることを見いだした。 As a result, on the optical disk having a limited recording film composition and structure, by recording a signal in a limited recording laser waveform it was found to be able to reduce the shape distortion of the recording mark.

【0013】この光ディスクとレーザー光の照射方法は同時に採用することにより形状歪は飛躍的に小さくなり、CD規格のEFM(8−14変調)信号を記録・再生する場合に非常に有効な手段であることが分かった。 [0013] In this optical disk and the irradiation method of the laser beam shape distortion dramatically reduced by employing the same time, very effective means in the case of recording and reproducing the EFM (8-14 modulation) signal of the CD standard it has been found that there is.

【0014】図1に本発明の光ディスクの構造を示す。 [0014] showing the structure of an optical disk of the present invention in FIG.
基板1上に誘電体膜2、記録膜3、誘電体膜4、反射膜5の順に積層してある。 The dielectric film 2 on the substrate 1, the recording film 3, dielectric film 4, are stacked in this order of the reflection film 5. 基板1としては金属、ガラス、 As the substrate 1 of metal, glass,
樹脂等が使用可能であるが、一般的にレーザー光線は基板側から入射されるため、透明なガラス、石英、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート等を用いる。 While resin can be used, typically laser radiation to be incident from the substrate side, a transparent glass, quartz, polycarbonate, using polymethyl methacrylate and the like.
本発明による光ディスクの特徴は、記録膜組成を図2のA,B,C,Dの各点で囲まれた領域に特定し、記録膜厚は10nm以上35nm 以下であり、かつ、誘電体膜4の膜厚は5nm以上40nm以下とし、反射膜5は少なくともAu,A Features of an optical disc according to the present invention, A in FIG. 2 the recording film composition, B, C, identified in a region surrounded by points and D, the recording film thickness is at 10nm or more 35nm or less, and a dielectric film 4 of thickness was 5nm or 40nm or less, the reflection film 5 is at least Au, a
l,Ti,Ni,Crの単体あるいは合金で構成し、かつ膜厚を35 l, Ti, Ni, constitutes alone or an alloy of Cr, and a thickness 35
nm以上と特定したことにある。 Some that were identified as nm or more. なおA,B,C,Dの各点の座標を以下に示す。 Incidentally shown A, B, C, the coordinates of each point D below.

【0015】( Ge, Sb, Te ) at% A (23.5, 23.5, 53) B (13 , 34, 53) C (15.5, 39.5, 45) D (27.5, 27.5, 45) このような光ディスクでは薄い記録膜が金属の反射膜に非常に近接して設けられているため放熱効果が大きく、 [0015] (Ge, Sb, Te) at% A (23.5, 23.5, 53) B (13, 34, 53) C (15.5, 39.5, 45) D (27.5, 27.5, 45) thinner in such an optical disk heat dissipation effect because the recording film is provided very close to the reflective film of the metal is large,
記録膜は昇温した後速やかに冷却され、したがって蓄熱現象が低減されて、低線速度においても記録マークの形状歪が抑えられると同時に、記録膜の組成を限定することにより、良好な消去速度、記録感度、繰返し特性を実現することができる。 Recording film is rapidly cooled after heated, thus heat accumulation phenomenon is reduced, at the same time the shape distortion of the recording mark is suppressed even at a low linear velocity, by limiting the composition of the recording film, good erase speed , it is possible to realize the recording sensitivity, the repetition characteristics.

【0016】ここで光ディスクの各構成要素を上述のように限定した理由について説明する。 [0016] explained reasons for limiting where each component of the optical disc as described above.

【0017】記録膜組成は図2のABCDの各点で囲まれた領域に限定したが、これは以下の理由による。 [0017] Although the recording film composition is limited to the area surrounded by the points of ABCD 2, for the following reason. 上記光ディスク構造を保ちながら組成を変化させたとき、直線ABよりTeの多い領域では結晶化速度が速すぎるため記録膜が溶融した後も結晶化しやすくなり、アモルファスの記録マークの形状が歪み、逆に直線CDよりTeの少ない領域では結晶化速度が遅すぎてアモルファス部分が十分に結晶化されず大きな消し残りが生じ、共にジッターが増大した。 When changing the composition while maintaining the optical disk structure, in more than the line AB of Te region is easily crystallized even after melting the recording film for crystallization speed is too high, distortion is the shape of the recording mark in the amorphous, reverse large unerased not sufficiently crystallize amorphous portions too slow crystallization rate in Te less space than straight CD occurs, jitter is increased together. また、直線BCよりGeの少ない領域、および直線DAよりGeの多い領域では記録・消去の繰返し特性が低いことが分かった。 Moreover, Ge less space than straight BC, and the Ge-rich region of the straight line DA was found that repetition characteristics of recording and erasing is low. したがって、蓄熱現象を小さく抑えた光ディスク構造においては、記録膜組成は図2のA,B,C,Dの各点で囲まれた領域がよい。 Therefore, in the small suppressed optical disk structure thermal storage phenomenon, A recording film composition Figure 2, B, C, it is a region surrounded by the points of D.

【0018】また上記構造を保ったまま記録膜厚のみを変化させたところ、記録膜厚が10nm未満では記録膜によるレーザー光の吸収が悪くかつ放熱効果が大きいために記録感度が悪くなり、35nmを越えると記録膜の熱容量が大きくなり蓄熱現象による記録マークの形状歪が大きくなった。 [0018] When varying only the recording film thickness while maintaining the above structure, the recording film thickness recording sensitivity is deteriorated due to the large absorption is poor and the heat dissipation effect of the laser light by the recording film is less than 10 nm, 35 nm shape distortion of the recording mark due to exceeding the heat capacity of the recording film becomes large heat accumulation phenomenon is increased. したがって、記録膜厚は10nm以上35nm以下がよい。 Therefore, the recording film thickness should preferably be 10nm or 35nm or less.

【0019】同様に反射膜側の誘電体膜4の膜厚を検討したところ、5nm未満では記録膜が反射膜に近接しすぎて放熱効果が大きくなりすぎ記録感度が悪くなり、40nm [0019] When reviewing the thickness of the dielectric film 4 similarly reflective film side, the recording film is heat radiation effect too close is increased and excessively recording sensitivity deteriorates the reflective film is less than 5 nm, 40 nm
を越えると反射膜への放熱が小さくなり蓄熱現象による記録マークの形状歪が大きくなった。 Shape distortion of the recording mark due to heat accumulation phenomenon radiator is reduced to the reflective film exceeds a is increased. したがって、誘電体膜4の膜厚は5nm以上40nm以下がよい。 Therefore, the thickness of the dielectric film 4 has good 5nm or 40nm or less. なお、誘電体2および4の材質としては、たとえばSiO2,SiO,Al2O3,G As the material of the dielectric 2 and 4, for example SiO2, SiO, Al2 O3, G
eO2,TeO2,MoO3,WO3,Si3N4,AlN,BN,TiN,ZnS,ZnSe,ZnTe,S eO2, TeO2, MoO3, WO3, Si3N4, AlN, BN, TiN, ZnS, ZnSe, ZnTe, S
iCの単体あるいはこれらの混合物が使用できるが、熱的安定性に優れ、成膜が容易なものがよく特にZnS,SiO2,S Although alone or a mixture of these iC can be used, excellent thermal stability, in particular good thing deposition is easy ZnS, SiO2, S
i3N4,AlN,TiN,ZnSとSiO2の混合物,ZnSeとSiO2の混合物がよい。 i3N4, AlN, TiN, a mixture of ZnS and SiO2, it is a mixture of ZnSe and SiO2.

【0020】さらに、反射膜5の膜厚を検討したところ、35nm未満では反射膜の放熱効果が小さくなり蓄熱現象による記録マークの形状歪が大きくなった。 Furthermore, when reviewing the thickness of the reflective film 5, the shape distortion of the recording mark due to heat accumulation phenomenon becomes small heat dissipating effect of the reflection film is less than 35nm is increased. したがって、反射膜5の膜厚は35nm以上がよい。 Therefore, the film thickness of the reflecting film 5 is good over 35 nm. なお反射膜の組成は反射率が大きいこと、熱伝導が大きいこと、成膜が容易であることを考慮すれば、少なくともAu,Al,Ti,Ni, Note the composition of the reflective film is large reflectivity, thermal conductivity is high, considering that the deposition is easy, at least Au, Al, Ti, Ni,
Crの単体あるいは合金で構成するのが良い。 It is good to consist of Cr of stand-alone or an alloy.

【0021】次に、記録レーザー光の照射方法について説明する。 Next, a description will be given irradiation method of the recording laser beam. CD規格のEFM信号は、3T〜11T(Tはクロック周期)の9種類のパルス幅の異なるパルスで構成されており、従来の1ビームオーバーライトによる記録方法は、レーザーパワーを消去レベルと記録レベルの間で、EFM信号により直接変調して光ディスク上に信号を記録していた。 EFM signals CD standard, 3T to 11T (T is the clock period) is configured different pulses 9 types of pulse widths of the recording method by the conventional one-beam overwriting, laser power and the erasing level recording level between, it was recorded signal on the optical disc by modulating directly by the EFM signal. しかしながら、この記録方法では記録マークは涙滴状に大きく歪むため、発明者らはこれを低減する方法を考案した(例えば特願平1-32336 However, since the recording mark is greatly distorted into a teardrop shape in this recording method, the inventors have devised a method of reducing this (e.g. Japanese Patent Application No. 1-32336
9)。 9). これは、1ビームオーバーライトする際に一つの記録マークを形成する記録パルスを特定形状の複数の短パルスからなるパルス列に変換して信号を記録するものである(この記録方法は以後マルチパルス記録方法あるいはMP記録方法と記す)。 This 1 in which converting the recording pulse forming one recording mark into a pulse train comprising a plurality of short pulses of specific shape recording signals when the beam overwrite (this recording method hereinafter multi-pulse recording referred to as the method or MP recording method). 本発明の記録方法はMP記録方法のうち本発明の光ディスクに特に有効な要素を抽出し限定したものである。 Recording method of the present invention has been limited to extract particularly effective elements in the optical disk of the present invention of MP recording method.

【0022】すなわち、デジタル信号に含まれるそれぞれのパルスを複数のパルスからなるパルス列に変換した後、レーザーパワーをパルス列により消去レベルと記録レベルの間で変調して、それぞれのパルス列でそれぞれ一つの記録マークを光ディスク上に形成して前記デジタル信号を記録するときに、パルス列は先頭パルスと後続パルス列で構成し、先頭パルスの幅は記録マークの長さに係わらず常に一定でかつ後続パルス列中の各パルスの幅より大きく、後続パルス列中の各パルスの幅と間隔はそれぞれ等しく、そして長さがn番目の記録マークを形成する場合の後続パルス中のパルス数はn−1個とするものである。 [0022] That is, after converting the respective pulses contained in the digital signal into a pulse train consisting of a plurality of pulses, by modulating between erasing level and recording level laser power by pulse trains, each one recording in each pulse train a mark when recording the digital signal formed on the optical disc, the pulse train is constituted by the top pulse and following pulse train, the width of the leading pulse in each always constant and during subsequent pulse train regardless of the length of the recording mark greater than the width of the pulse width and interval of the pulses in the subsequent pulse train are equal respectively, and the number of pulses in the subsequent pulse if the length to form a n-th recording mark is to the (n-1) .

【0023】図3のように、EFM信号に含まれる3T〜 [0023] As shown in FIG. 3, 3T~ included in the EFM signal
11Tの幅の異なる9種類のパルスのうち、3Tのパルスは幅の広い先頭パルスに変換され、4Tのパルスには幅の狭い後続パルスが先頭パルスに一つ追加され、その後パルス幅が広くなるにつれて幅の等しいパルスが一つずつ追加されたパルス列に変換される。 Of width different 9 types of pulse of 11T, a pulse of 3T is converted into a wide top pulse width, narrow succeeding pulse width to the pulse of 4T are added one to the leading pulse, then the pulse width increases equal pulse width is converted to one by one additional pulse train brought to. そしてこのパルス列によりレーザーパワーを記録レベルと消去レベルの間で変調して信号を記録するため、例えば図4(a)の様な入力波形は図4(b)のようなレーザー出力により光ディスク上に照射されて、予め記録されている信号を消去しながら新しい信号が記録される。 Then this pulse train for recording signal by modulating the laser power between recording level and erasure level, for example, the input waveform as in FIG. 4 (a) on the optical disk by the laser output as shown in FIG. 4 (b) It is irradiated, a new signal while erasing signal which is previously recorded are recorded. なお、レーザーパワーの変調方法としてはさらに図4(c)のようにパルス列の期間だけ記録レベルPpと再生レベルPrまたはオフレベルの間で変調してもよい。 It is also possible to modulate only between periods of the pulse train and the recording level Pp reproducing level Pr or an OFF level as 4 further drawing as the modulation method of the laser power (c).

【0024】次に本発明のさらに具体的実施例を示す。 The following more specific embodiment of the present invention. (実施例1)最初に本発明による光ディスクおよび光学情報の記録方法の有効性を従来例と比較した例を示す。 (Example 1) shows an example in which the efficacy was compared with a conventional example of a recording method of an optical disk and an optical information according to the first invention.
ここでは本発明による光ディスクと従来例による光ディスクの2種類を用意し、それぞれの光ディスクに対して本発明による記録レーザー光の照射方法と従来例による記録レーザー光の照射方法でEFM信号を記録したのち、再生して信号のジッターの大きさを比較した。 Here provides two optical disc according to the optical disk and a conventional example according to the present invention, after EFM signals were recorded in the irradiation method of the recording laser light by the irradiation method of the conventional example of the recording laser beam according to the invention for each optical disk It was compared the magnitude of the jitter of the reproduced to signal.

【0025】本発明による光ディスクAは図1の構造と同じであり、基板1は信号トラックを予め設けた120mm The optical disk A of the present invention is the same as the structure of FIG. 1, 120 mm substrate 1 which previously provided the signal track
φのポリカーボネート基板、記録膜3の組成はGe20Sb30 Polycarbonate substrate of phi, the composition of the recording film 3 Ge20Sb30
Te50:at%で膜厚は20nm、誘電体膜の組成は20mol%のSiO2 TE50: thickness in at% is 20 nm, the composition of the dielectric film of 20 mol% SiO2
を含むZnSとSiO2の混合物で膜厚は誘電体膜2が150nm、 Thickness of a mixture of ZnS and SiO2 including the dielectric film 2 is 150 nm,
誘電体膜4が12nm、反射膜5の組成はAuで膜厚は50nmとした。 Dielectric film 4 is 12 nm, the composition of the reflective film 5 was set to 50nm in thickness with Au. なおこれらの薄膜層を保護するためにさらにポリカーボネート製の保護カバーを接着した。 Still further bonding the polycarbonate protective cover to protect these thin film layers. 光ディスクとレーザースポットの相対速度、すなわち線速度は1.25m/ Relative velocity of the optical disk and the laser spot, or the linear velocity 1.25 m /
secで一定とした。 It was a constant in sec.

【0026】従来例の光ディスクBは図14の構造と同じであり、基板、記録膜、誘電体の組成は光ディスクA The optical disk B of the conventional example is the same as the structure of FIG. 14, a substrate, a recording film, the composition of the dielectric disc A
と同じとした。 It was the same as. 膜厚は基板側の誘電体膜が100nm、反対側が200nm、記録膜厚が100nmである。 The film thickness the dielectric film on the substrate side is 100 nm, the opposite side is 200 nm, the recording layer thickness is 100 nm. 光ディスクBも薄膜層を保護するためにさらにポリカーボネート製の保護カバーを接着した。 Further bonding the polycarbonate protective cover to the optical disk B also protects the thin film layer.

【0027】記録レーザー光の照射方法は、EFM信号で直接レーザー光を記録レベルと消去レベルの間でパワー変調する従来の方法と、EFM信号を本発明によるパルス列に変換してからレーザー光を変調するMP記録方法を採用した。 The method of irradiating recording laser light is modulated with a conventional method of power modulation directly laser beam between the recording level and erasing level by the EFM signal, the laser light after converting the EFM signal into a pulse train according to the invention MP recording method for was adopted. MP記録方法における3Tから11Tの入力パルスは一定の規則にしたがってパルス列化されるため、先頭パルスの幅t1、後続パルスの幅t2を指定すれば全てのパルス列を知ることができる。 Input pulses 3T to 11T in the MP recording method to be pulsed Stringified according to a certain rule, the width t1 of the leading pulse, all of the pulse train by specifying the width t2 of the subsequent pulse can be known. すなわち、図5 That is, FIG. 5
(a)の11Tの波形を図5(b)の様にパルス列化したとき、先頭パルスの幅t1、後続パルスの幅t2を指定すれば3T〜11Tに対する全てのパルス列が分かる(t3=T-t2である)。 When pulsed Stringified as shown in FIG. 5 (b) to 11T of the waveform of (a), the width t1 of the leading pulse, all of the pulse train can be seen for the 3T~11T by specifying the width t2 of the subsequent pulse (t3 = T- it is a t2).

【0028】図6に図4(b)の波形を得るために本実施例で用いた記録装置を示す。 [0028] A recording apparatus used in this embodiment to obtain the waveform shown in FIG. 4 (b) in FIG. 6. まず光ディスク6をスピンドルモータ7により光学ヘッド8からのレーザースポットと光ディスク6の相対速度、すなわち線速度が1.25 First the relative speed of the laser spot and the optical disk 6 of the optical disc 6 from the optical head 8 by a spindle motor 7, i.e. the linear velocity 1.25
m/secで一定になるように回転する。 It rotates so as to be constant in m / sec.

【0029】信号を記録するときには、信号発生器9からのEFM信号s1をMP回路10でパルス列信号s4に変換する。 [0029] When recording signals, converts the EFM signal s1 from the signal generator 9 to the pulse train signal s4 by MP circuit 10. MP回路10はパルス幅が最も長い11Tのパルスに対応するパルス列のパターンを予め設定しておくパターン設定器11と、s1中のパルス幅を検知し、その長さに応じてパターン設定器11の設定パターンの先頭から必要な長さを切り出してパルス列を発生して出力する変調器12で構成した。 MP circuit 10 and the pattern setting unit 11 to set the pattern of the pulse train whose pulse width corresponds to the longest 11T pulse in advance, to detect the pulse width in s1, the pattern setting device 11 according to the length constituted by the modulator 12 which generates and outputs a pulse train cut out the required length from the beginning of the setting pattern. なお信号発生器からの入力信号のエッジ位置がパルス列に変調されることによって変動しないように、入力信号の発生器、変調器、パターン設定器を同一のクロックC1で同期させて記録信号のジッタを抑えた。 Incidentally, as the edge position of the input signal from the signal generator it does not vary by being modulated into a pulse train, generator of the input signal, the modulator, the jitter of the recording signal in synchronization with the same clock C1 pattern setter muted.

【0030】また、光学ヘッド8中の半導体レーザーは信号再生時には再生レベルPrを得るために電流Irが流れているが、信号の記録期間中、すなわち記録ゲート信号 Further, the semiconductor laser in the optical head 8 is at the time of signal reproduction and current Ir flows in order to obtain a reproduction level Pr, the recording period of the signal, that is, the recording gate signal
Wgが入力されるときには消去レベルPbを得るためのバイアス電流Ibが流れ、かつs4のパルス列信号でスイッチ1 When the Wg is input flow bias current Ib to obtain an erase level Pb, and the switch 1 with a pulse train signal s4
3が作動したときにはさらに記録レベルPpを得るための電流Iaが重畳される。 3 current Ia for obtaining the further recording level Pp is when activated is superimposed. したがって信号記録時にはレーザーパワーは図4(b)の様に消去レベルPbと記録レベル Thus the laser power at the time of signal recording erasing level Pb and the recording level as shown in FIG. 4 (b)
Ppの間で、パルス列波形に基づいて変調される。 Between Pp, it is modulated based on the pulse train waveform. なお基準電圧設定回路14は電流Ir,Ia,Ibを得るのに必要な電圧を発生させるものでる。 Note the reference voltage setting circuit 14 is a current Ir, Ia, leaving those to generate a necessary voltage to obtain a Ib. また、光学ヘッド8中の半導体レーザーの波長は830nm,対物レンズの開口数(numeric Further, the wavelength of the semiconductor laser in the optical head 8 830 nm, the numerical aperture of the objective lens (numeric
al aperture;NA)は0.5である。 al aperture; NA) is 0.5.

【0031】本実施例におけるパルス列の構成は図5においてt1=348nsec,t2=116nsec,T=232nsecである。 The structure of the pulse train in this embodiment is t1 = 348nsec, t2 = 116nsec, T = 232nsec in FIG.

【0032】また従来の記録方法による場合はEFM信号s1でスイッチ13を直接動作して、レーザーパワーを変調した。 Further by operating the switch 13 directly EFM signal s1 is the case of the conventional recording method to modulate the laser power.

【0033】以上の様な光ディスクと記録方法の組合せによって、同じトラック上に10回オーバーライトした信号を再生して、そのジッターの大きさを測定した。 [0033] The combination of such an optical disk and the recording method described above, by reproducing a signal overwritten 10 times on the same track, and measuring the magnitude of the jitter. ジッター測定には目黒電機(株)製のCDジッターメーター MJM-631 を用いた。 The jitter measurement using a CD jitter meter MJM-631 manufactured by Meguro Denki Co., Ltd..

【0034】(表1)に測定結果を示す。 [0034] The measurement results are shown in (Table 1). ここで示したジッターの値は、それぞれの組合せにおいてレーザーパワーPbとPpを変化させ、最小のジッターを求めたものであり、そのときPbとPpも同時に記した。 Jitter values ​​shown here changes the laser power Pb and Pp in each combination, which was determined minimum jitter are also shown simultaneously that time Pb and Pp. なおレーザーパワーは光ディスクの盤面上での値である。 Incidentally laser power is a value on the surface of the optical disk. (表1)から分かるように従来の光ディスクBと従来の記録方法の組合せではジッターが非常に大きいが、従来の光ディスクBとMP記録方法の組合せ、または本発明による光ディスクAと従来の記録方法の組合せでジッターは大きく改善される。 Although very large jitter is a combination of a conventional optical disk B and the conventional recording method as can be seen from Table 1, the combination of the conventional optical disk B and MP recording method or an optical disc A and the conventional recording method according to the invention, jitter in combination is greatly improved. さらに、本発明による光ディスクAとMP記録方法の組合せによるジッター低減効果は非常に大きくなっている。 Furthermore, the jitter reduction effect by the combination of the optical disk A and MP recording method according to the invention is very large. したがってジッターの低減には本発明による光ディスクAに対して本発明により限定されたMP記録方法を同時に採用することに大きな意義がある。 Thus the reduction of the jitter is of great significance to adopt MP recording method is limited by the present invention to the optical disk A of the present invention at the same time.

【0035】 [0035]

【表1】 [Table 1]

【0036】以下に光ディスクの構成要因を限定した詳細な実施例について述べるが、実施例1から分かるように記録レーザー光の照射方法はMP記録方法の方がジッターが小さくなるため、以下の実施例2〜8では全て実施例1と同じ波形のMP記録方法を用いた。 [0036] Although described detailed embodiment for limiting the configuration factor of the optical disc in the following, since the direction of irradiation methods MP recording method of the recording laser beam as can be seen from Example 1 jitter is reduced, the following examples all the 2-8 with MP recording method of the same waveform as in example 1.

【0037】また、本実施例では線速度は1.25m/secで一定としたが、線速度を1.2〜1.4m/secの範囲で変化させても同様の結果が得られた。 Further, the linear velocity in the present embodiment was fixed at 1.25 m / sec, similar results were obtained even by changing the linear velocity in the range of 1.2 to 1.4 m / sec.

【0038】最初に記録膜組成を図2のA,B,C,D [0038] The first recording film composition in Fig. 2 A, B, C, D
で囲まれた領域に限定した実施例を示す。 It shows an embodiment in which only a region surrounded by.

【0039】(実施例2)発明者らは JJAP,Vol.26(198 [0039] (Example 2) JJAP, Vol.26 (198
7) Suppl.26-4,P61-P66 においてGeSbTe合金のうちGeTe 7) Suppl.26-4, among GeSbTe alloy in P61-P66 GeTe
とSb2Te3を結ぶライン上に、アモルファスから高速で結晶化する3種類の化合物GeSb4Te7,GeSb2Te4,Ge2Sb2Te5 When Sb2Te3 line on connecting the three types of compounds which crystallize at high speed from amorphous GeSb4Te7, GeSb2Te4, Ge2Sb2Te5
が存在し、これらの化合物は記録消去特性、繰り返し特性が優れていることを示し、かつGeTe-Sb2Te3ラインから離れるにつれて結晶化速度が遅くなることを示した。 There exist, these compounds indicates that the recording and erasing characteristics and repetition characteristics are excellent, and showed that the crystallization speed is reduced with increasing distance from the GeTe-Sb2Te3 line.
CDの線速度ではGeTe-Sb2Te3ライン上での結晶化速度は速すぎてアモルファス化が困難なため、化合物Ge2Sb2 Since the linear velocity of the CD difficult crystallization speed is too fast amorphization on GeTe-Sb2Te3 line, compound Ge2Sb2
Te5にSbを添加して結晶化速度を遅くすることを試みた。 I tried to the addition of Sb to slow down the crystallization rate to Te5. 光ディスク構造を実施例1における光ディスクAと同様にして記録膜組成のみGe2Sb2Te5とSbを結ぶライン上で変化させた。 The optical disc structure was changed in the same manner as the optical disk A on the line connecting the recording film composition only Ge2Sb2Te5 and Sb in the first embodiment. 作成した光ディスクは実施例1と同様の方法でジッターを測定した。 Creating an optical disc was measured jitter in the same manner as in Example 1. さらに相変化光ディスクに要求される特性としては記録・消去の繰返し特性がある。 The properties are further required to phase-change optical disc is repeated characteristic of the recording and erasure. 繰返し特性の評価は、ジッターが最小になる記録レベルPpおよび消去レベルPbでEFM信号を繰返し記録してジッターを測定して、ジッターが初期の2倍になる繰返し回数を求めることで行なった。 Evaluation of repetitive characteristics, by measuring the jitter by recording repeatedly EFM signal recording level Pp and the erasing level Pb jitter is minimized, jitter was performed by obtaining the number of repetitions to be 2 times the initial.

【0040】測定結果を図7に示す。 [0040] The measurement results are shown in Figure 7. ジッターJ0は記録レベルPpおよび消去レベルPbを変化させて得られる最小値を示している。 Jitter J0 represents the minimum value obtained by changing the recording level Pp and the erasing level Pb. 再生信号のジッターJ0はSb量が30at% Jitter J0 is Sb content of the reproduction signal 30 at%
(図2におけるE点)付近において極小値を示した。 It showed a minimum value in the vicinity of (E point in FIG. 2). E
点よりSb量が減少すると結晶化速度が速くなり記録マーク形状が歪み、増加すると結晶化速度が遅くなって消去率が悪くなり以前に記録されていた信号の影響を受けるために、どちらもジッターが増加するものと考えられる。 Sb amount decreases the crystallization rate becomes faster distorted recording mark shape of the point, in order to receive the effect of increasing the signal crystallization speed slowed by the erasure rate was recorded becomes earlier poor, both jitter There is considered to increase. ジッターの大きさはCDの規格を考慮すれば30nsec The size of the jitter 30nsec considering the standard of the CD
以下がよい。 The following is good. これはSb量が25at%〜37at%の範囲である。 This is a range amount Sb of 25at% ~37at%.

【0041】繰返し試験は初期のジッターJ0が30nsec以下の光ディスクについて10万回まで行い、ジッターが初期の2倍になる繰返し回数C2を求めた。 The repeated test is the initial of the jitter J0 make up to 10 million times for the following optical disk 30nsec, was asked to repeat the number of times C2 that jitter is 2 times the initial. Ge2Sb2Te5とS Ge2Sb2Te5 and S
bを結ぶライン上では、10万回の繰返しによってもジッターは初期の2倍までは増加しなかった。 In line on the connecting is b, jitter also by 100,000 iterations did not increase up to 2-fold early.

【0042】以上より本発明による放熱構造と記録方法に適したGe2Sb2Te5-Sbライン上の組成は、Sb量が25at% [0042] The composition of the Ge2 Sb2 Te5-Sb line suitable for heat dissipation structure and a recording method according to the invention from the above, Sb amount is 25 at%
〜37at%の範囲である。 It is in the range of ~37at%.

【0043】(実施例3)次にTe量を一定:50at%に保った状態でGeとSbの比率を変えて記録膜を成膜し(図2 [0043] (Example 3) then Te amount constant: A recording film by changing the ratio of Ge and Sb while maintaining the 50at% (FIG. 2
のFとGを結ぶライン上の組成)、光ディスクを作製して、実施例2と同様の方法で信号を記録しジッターおよび繰返し特性を測定した。 Composition on the line connecting the F and G), to prepare a disc was measured recorded jitter and repetition characteristics signals in the same manner as in Example 2. 光ディスク構造は実施例2と同じである。 Optical disc structure is the same as in Example 2. 結果を図8に示す。 The results are shown in Figure 8. 初期のジッターJ0はGe The initial jitter J0 is Ge
を変化させても30nsec以下であり、良好な値が得られた。 It is varied and at 30nsec or less, good values ​​were obtained.

【0044】しかし、繰返し特性はGe量が14at%〜25at% [0044] However, repeated characteristic Ge amount of 14at% ~25at%
の範囲では、10万回の繰返しによってもジッターは初期の2倍までは増加しなかったが、この範囲よりGe量が少ない領域および多い領域では繰り返し回数C2は10万回以下となり、ジッターは10万回より少ない回数で初期の2倍となった。 In the range of, although jitter by 100,000 iterations did not increase to twice the initial number of iterations C2 becomes less 100,000 times in the Ge region a small amount, and more space than this range, the jitter is 10 in fewer than ten thousand times was initial two-fold.

【0045】以上より、本発明による光ディスク構造および記録レーザー光の照射方法に適した記録膜組成は、 [0045] From the above, the recording film composition suitable for the irradiation method of an optical disk structure and recording laser beam according to the present invention,
Te量を50at%で一定に保った場合、Ge量が14at%〜25at% If kept constant Te amount 50at%, Ge amount is 14at% ~25at%
の範囲である。 It is in the range of.

【0046】(実施例4)次にSb量を一定:30at%に保った状態でGeとTeの比率を変えて記録膜を成膜し(図2 [0046] (Example 4) Next, the Sb content constant: A recording film by changing the ratio of Ge and Te while maintaining the 30 at% (FIG. 2
のHとIを結ぶライン上の組成)、光ディスクを作製して、実施例2と同様の方法で信号を記録しジッターおよび繰返し特性を測定した。 Composition on the line connecting the H and I), to prepare a disc was measured recorded jitter and repetition characteristics signals in the same manner as in Example 2. 光ディスク構造は実施例2と同じである。 Optical disc structure is the same as in Example 2.

【0047】結果を図9に示す。 [0047] The results are shown in Figure 9. 再生信号の初期のジッターJ0はGe量が20at%(図2におけるE点)付近において極小値を示した。 Initial jitter J0 of the reproduction signal amount of Ge showed a minimum value in the vicinity of 20at% (E point in FIG. 2). E点よりGe量が減少すると結晶化速度が速くなり記録マーク形状が歪み、増加すると結晶化速度が遅くなって消去率が悪くなり以前に記録されていた信号の影響を受けるために、どちらもジッターが増加するものと考えられる。 E Ge amount decreases the strain crystallization rate faster recording mark shape from point, to receive the influence of increasing the signal crystallization speed slowed by the erasure rate was recorded it becomes earlier poor, both it is considered that jitter is increased. ジッターの大きさが30nsec以下である領域はSb量を一定:30at%に保った場合、Ge量が1 Region size is less than 30nsec jitter certain amount of Sb: If kept at 30 at%, Ge amount is 1
7at%〜25at%の範囲である。 It is in the range of 7at% ~25at%.

【0048】繰返し試験は初期のジッターJ0が30nsec以下の光ディスクについて10万回まで行い、ジッターが初期の2倍になる繰返し回数C2を求めた。 The repeated test is the initial of the jitter J0 make up to 10 million times for the following optical disk 30nsec, was asked to repeat the number of times C2 that jitter is 2 times the initial. Sb量一定(30a Sb amount fixed (30a
t%)でGe量を17at%〜25at%の範囲で変化させた記録膜を有する光ディスクでは、10万回の繰返しによってもジッターは初期の2倍までは増加しなかった。 In the optical disk having a recording film was changed in the range of 17at% ~25at% of Ge amount t%), jitter by 100,000 iterations did not increase to twice the initial.

【0049】以上より、本発明による光ディスク構造および記録レーザー光の照射方法に適した記録膜組成は、 [0049] From the above, the recording film composition suitable for the irradiation method of an optical disk structure and recording laser beam according to the present invention,
Sb量を30at%で一定に保った場合、Ge量が17at%〜25at% If kept constant amount of Sb in 30 at%, Ge amount is 17at% ~25at%
の範囲である。 It is in the range of.

【0050】以上の実施例2〜4より本発明による放熱構造と記録方法に適したGeSbTe合金の組成範囲は図2のA,B,C,Dで囲まれた範囲、つまりGe x Sb y Te z ( 45 The above composition range of GeSbTe alloy suitable for heat dissipation structure and a recording method according to the invention from Examples 2-4 in FIG. 2 A, B, C, range surrounded by D, ie Ge x Sb y Te z (45
≦z≦53 at%, 0.5≦y/(x+y)≦0.72, x+y+z=100 at%) で表される範囲である。 ≦ z ≦ 53 at%, a range represented by 0.5 ≦ y / (x + y) ≦ 0.72, x + y + z = 100 at%). なおA,B,C,Dの各座標を以下に示す。 Incidentally shown A, B, C, each coordinate of the D below.

【0051】( Ge, Sb, Te ) at% A (23.5, 23.5, 53) B (13 , 34, 53) C (15.5, 39.5, 45) D (27.5, 27.5, 45) (実施例5)次に記録膜の膜厚範囲を決定するための実施例を示す。 [0051] (Ge, Sb, Te) at% A (23.5, 23.5, 53) B (13, 34, 53) C (15.5, 39.5, 45) D (27.5, 27.5, 45) (Example 5) Next It shows an embodiment for determining the thickness range of the recording film. 光ディスク構造と記録膜組成は実施例1における光ディスクAと同様にして記録膜の膜厚のみ変化させて作成し、実施例2と同様の記録方法で信号を記録し、そのジッターと記録感度を測定した。 Optical disk structure and recording film composition is prepared by changing only the thickness of the recording film in the same manner as the optical disk A of Example 1, to record the signal in the same recording method as in Example 2, measuring the recording sensitivity and the jitter did. 結果を図10 Figure a result 10
に示す。 To show. 初期のジッターJ0は膜厚が25nm以下では20nsec 20nsec initial jitter J0 has a thickness of at 25nm or less
程度と非常に小さく一定であるが、25nmを越えると大きくなり35nm以上では30nsecを越えてしまう。 Is a very small constant and degree, but exceeds the 30nsec in greater becomes 35nm or more exceeds 25 nm. これは記録膜の熱容量が大きくなり蓄熱現象が現れ、記録マークの形状歪が大きくなったためと考えられる。 This heat accumulation phenomenon increases the heat capacity of the recording film appears, is considered to be due to the shape distortion of the record mark is increased. したがってジッターの観点からは、記録膜厚は35nm以下がよく、特に Thus from the viewpoint of jitter, the recording film thickness may have 35nm or less, in particular
25nm以下がよい。 It is 25nm or less.

【0052】しかしながら、記録膜厚が薄くなると、記録膜によるレーザー光の吸収が悪くかつ放熱効果が大きくなるために、記録感度が低下する。 [0052] However, when the recording film thickness decreases, in order to absorb poor and the heat dissipation effect of the laser light by the recording film becomes large, the recording sensitivity is lowered. 現在入手できる光ディスクの光源用の半導体レーザーは出力が40〜50mw A semiconductor laser for a light source of currently available optical disks output 40~50mw
程度以下であり、光学系の伝送効率を考慮すると、光ディスクの盤面上では20mW程度となる。 And the degree or less, in consideration of the transmission efficiency of the optical system becomes about 20mW at the surface of the optical disk. したがってレーザー光の記録レベルPpは20mW以下がよい。 Accordingly recording level Pp of the laser beam should preferably be less 20 mW. 本実施例による構造では記録膜厚が10nmより薄くなると記録感度の低下により記録レベルは20mWを越えた。 Recording level by lowering the recording sensitivity recording film thickness is thinner than 10nm in the structure according to this embodiment exceeds 20 mW. つまり記録感度の観点からは、記録膜厚は10nm以上がよい。 That from the viewpoint of recording sensitivity, recording film thickness is better than 10 nm.

【0053】すなわち本発明による放熱構造と記録方法に適したGeSbTe記録膜の膜厚はジッター、記録感度の両方の観点から10nm以上35nm以下がよく、特に10nm以上25 [0053] That is the film thickness of the GeSbTe recording film suitable for heat dissipation structure and a recording method according to the invention the jitter, the recording sensitivity both in terms often 10nm or 35nm or less from, especially 10nm or more 25
nm以下が優れている。 nm or less is better.

【0054】なお、繰返し特性の記録膜厚依存性は、記録膜厚が10〜35nmの範囲では見られず、10万回の繰返しによってもジッターは初期の2倍までは増加しなかった。 [0054] The recording film thickness dependency of the repetition characteristics, the recording film thickness is not observed in the range of 10 to 35 nm, the jitter by 100,000 iterations did not increase to twice the initial.

【0055】(実施例6)さらに反射膜側の誘電体膜4 [0055] (Example 6) further reflecting film side dielectric film 4
の膜厚範囲を決定するための実施例を示す。 It shows an embodiment for determining a film thickness range. 光ディスク構造と記録膜組成は実施例1における光ディスクAと同様にして誘電体膜4の膜厚のみ変化させて作成し、実施例2と同様の記録方法で信号を記録し、そのジッターと記録感度を測定した。 Optical disk structure and recording film composition is prepared in the same manner as the optical disk A is varied only the thickness of the dielectric film 4 in Example 1, to record the signal in the same recording method as in Example 2, the recording sensitivity and the jitter It was measured. 結果を図11に示す。 The results are shown in Figure 11. ジッターJ0 Jitter J0
は誘電体4の膜厚が25nm以下では20nsec程度と非常に小さく一定であるが、25nmを越えると大きくなり40nmより厚くなると30nsecを越えてしまう。 Although the film thickness of the dielectric 4 is constant as small as about 20nsec at 25nm or less, it exceeds a 30nsec becomes thicker than increased and 40nm exceeds 25nm. これは記録膜から反射膜への放熱が小さくなり蓄熱現象が現れ、記録マークの形状歪が大きくなったためと考えられる。 This heat storage phenomenon becomes small heat dissipation from the recording film to the reflecting film appeared, presumably because the shape distortion of the recording mark is increased. したがってジッターの観点からは、反射膜側の誘電体膜の膜厚は40 Jitter from the point of view of therefore the thickness of the reflective film side of the dielectric film 40
nm以下がよく、特に25nm以下がよい。 nm or less is good, especially good is 25nm or less.

【0056】しかしながら、反射膜側の誘電体膜の膜厚が薄くなると、記録膜が反射膜に接近しすぎて放熱効果が大きくなりすぎるため、記録感度が低下する。 [0056] However, if the thickness of the reflective film side of the dielectric film becomes thinner, since the heat dissipation effect recording film is too close to the reflective film is too large, the recording sensitivity is lowered. 本実施例では5nmより薄くなると記録感度の低下により記録レベルPpは20mWを越えた。 Recording level Pp by lower thin the recording sensitivity than 5nm in this embodiment exceeds 20 mW. つまり記録感度の観点からは、 This means that from the point of view of recording sensitivity,
反射膜側の誘電体膜の膜厚は5nm以上がよい。 Thickness of the reflective film side of the dielectric film may have more than 5 nm.

【0057】すなわち本発明による放熱構造と記録方法に適した誘電体膜4の膜厚はジッター、記録感度の両方の観点から5nm以上40nm以下がよく、特に5nm以上25nm以下が優れている。 [0057] That the thickness of the dielectric film 4 suitable for heat dissipation structure and a recording method according to the invention the jitter, following 40nm both from the viewpoint of 5nm or more recording sensitive, particularly excellent 5nm or 25nm or less.

【0058】なお、繰返し特性の誘電体膜4の膜厚依存性は、膜厚が5〜40nmの範囲では見られず、10万回の繰返しによってもジッターは初期の2倍までは増加しなかった。 [0058] The film thickness dependency of the dielectric film 4 of the repeating characteristic, the film thickness can not be observed in the range of 5 to 40 nm, the jitter by 100,000 iterations did not increase to twice the initial It was.

【0059】(実施例7)さらに反射膜5の膜厚範囲を決定するための実施例を示す。 [0059] shows an embodiment for determining the thickness range of (Example 7) further reflection film 5. 光ディスク構造と記録膜組成は実施例1における光ディスクAと同様にしてAu Optical disk structure and recording film composition in the same manner as the optical disk A of Example 1 Au
の反射膜5の膜厚のみ変化させて作成し、実施例2と同様の記録方法で信号を記録し、そのジッターと記録感度を測定した。 Created only by changing the thickness of the reflecting film 5, to record signals in the same recording method as in Example 2, it was measured recording sensitivity and its jitter. 結果を図12に示す。 The results are shown in Figure 12. ジッターJ0は反射膜5の膜厚が45nm以上では20nsec程度と非常に小さく一定であるが、45nmより薄くなると大きくなり35nm未満では Although jitter J0 is constant as small as about 20nsec the thickness of the reflective film 5 is more than 45nm, the greater becomes less than 35nm becomes thinner than 45nm
30nsecを越えてしまう。 It exceeds the 30nsec. これは反射膜の放熱効果が小さくなり蓄熱現象が現れ、記録マークの形状歪が大きくなったためと考えられる。 It appears heat accumulation phenomenon becomes small heat dissipating effect of the reflection film, presumably because the shape distortion of the recording mark is increased.

【0060】また記録感度は反射膜厚が大きくなるにつれて放熱効果が大きくなるため低下するものの、記録パワーは反射膜厚45nm以上ではほぼ飽和し、記録レベルPp [0060] The recording sensitivity but decreases for a greater cooling effect as the reflective film thickness becomes larger, the recording power is substantially saturated in the reflective film thickness 45nm or more, the recording level Pp
は20mW以下であった。 It was less than 20mW.

【0061】すなわち本発明による放熱構造と記録方法に適した反射膜5の膜厚はジッター、記録感度の両方の観点から35nm以上がよく、特に45nm以上が優れている。 [0061] That thickness of the reflective film 5 suitable owing to the heat radiation structure and recording method of the present invention is jitter, more than 35nm in terms of both the recording sensitivity is good and is particularly excellent at least 45 nm.

【0062】なお、繰返し特性の反射膜厚依存性は、35 [0062] The reflection film thickness dependence of the repetition characteristics is 35
nm以上では見られず、10万回の繰返しによってもジッターは初期の2倍までは増加しなかった。 In nm or more was not observed, jitter also by 100,000 iterations did not increase up to 2-fold early.

【0063】また、本実施例では反射膜としてAuを使用したが、Al,Ti,Ni,Crの単体あるいはこれらを含む合金を用いても同様な結果が得られた。 [0063] Furthermore, although this embodiment uses the Au as the reflection film, Al, Ti, Ni, alone or similar results using alloys containing these Cr was obtained.

【0064】 [0064]

【発明の効果】以上の実施例から明かなように、本発明の光学情報の記録方法は、記録膜の組成と膜厚、誘電体膜の膜厚、反射膜の膜厚等を限定した光ディスクに、記録レーザー光の波形を限定して信号を記録することで、 As apparent from the above embodiment according to the present invention, the recording method of the optical information of the present invention, the composition and film thickness of the recording film, an optical disc for limiting the thickness of the dielectric film, the film thickness and the like of the reflective film to, by recording the signal by limiting the waveform of the recording laser beam,
低線速度においてもCDと同じ程度の再生信号品質を実現することができ、例えば書換え可能なデジタルオーディオディスクを提供することができる。 Even at low linear velocity can achieve reproduction signal quality as much as CD, for example, it is possible to provide a rewritable digital audio disc.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の光ディスクの断面図 Sectional view of an optical disc of the present invention; FIG

【図2】本発明による光ディスクの記録膜の組成範囲図 Composition range view of a recording film of the optical disk according to the invention, FIG

【図3】本発明による光学情報の記録方法における信号波形の変換例を示す図 Illustrates a conversion example of the signal waveform in the recording method of an optical information according to the present invention; FIG

【図4】(a)は光学情報の入力信号波形を示す図 (b)は図4(a)の入力信号に対するレーザーの変調方法の1例を示す図 (c)は図4(a)の入力信号に対するレーザーの変調方法の1例を示す図 [4] The (a) shows an input signal waveform of the optical information (b) is a diagram showing an example of a modulation method of the laser with respect to the input signal of FIG. 4 (a) (c) FIG. 4 (a) view showing an example of a laser modulation method for the input signal

【図5】(a)は11Tの入力パルスの波形図 (b)は図5(a)の入力パルスをMP記録方法においてパルス列化した1例を示す図 [5] (a) a waveform diagram of the input pulse of 11T is (b) is a diagram showing an example of an input pulse and pulse strung in MP recording method of Figure 5 (a)

【図6】本発明による光学情報の記録方法を実現する記録装置の一例を示すブロック図 Block diagram illustrating an example of a recording apparatus for realizing the recording method of the optical information by the present invention; FIG

【図7】記録膜組成(Sb量をパラメータ)と記録特性の関係を示す特性図 [7] characteristic diagram showing the relationship between (a Sb amount parameter) recording film composition and the recording characteristics

【図8】記録膜組成(Te量を一定)と記録特性の関係を示す特性図 [8] characteristic diagram showing the relationship between (the amount of Te constant) recording film composition and the recording characteristics

【図9】記録膜組成(Sb量を一定)と記録特性の関係を示す特性図 [9] characteristic diagram showing the relationship of (the Sb content constant) recording film composition and the recording characteristics

【図10】記録膜厚と記録特性の関係を示す特性図 [10] characteristic diagram showing the relationship between the recording film thickness and the recording characteristics

【図11】反射膜側の誘電体4の膜厚と記録特性の関係を示す特性図 [11] characteristic diagram showing the relationship between the film thickness and the recording characteristics of the reflection film side dielectric 4

【図12】反射膜厚と記録特性の関係を示す特性図 [12] characteristic diagram showing the relationship between the reflective film thickness and the recording characteristics

【図13】従来例の光ディスクの記録膜の組成を示す図 13 is a diagram showing the composition of the recording film of the conventional example of an optical disc

【図14】従来例の光ディスクの構造を示す断面図 Figure 14 is a sectional view showing a structure of a conventional optical disc

【図15】(a)はレーザーパワーレベルをしめす波形図 (b)は図15(a)のレーザーパワーにおける記録膜の到達温度を示す図 (c)は図15(a)のレーザーパワーにおける記録マークの形状を示す図 [Figure 15 (a) is recorded in the laser power waveform view showing a laser power level (b) is a diagram showing the arrival temperature of the recording film in the laser power in FIG. 15 (a) (c) is 15 (a) It shows the shape of the mark

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 基板 2 誘電体膜 3 記録膜 4 誘電体膜 5 反射膜 6 光ディスク 7 スピンドルモータ 8 光学ヘッド 10 マルチパルス回路 1 substrate 2 dielectric film 3 recording film 4 dielectric film 5 the reflection film 6 disc 7 spindle motor 8 optical head 10 multi-pulse circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 赤平 信夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Shinobu Akabira Osaka Prefecture Kadoma Oaza Kadoma 1006 address Matsushita Electric industrial Co., Ltd. in

Claims (10)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】基板上に誘電体膜、記録膜、誘電体膜、反射膜の順に積層し、前記記録膜は、組成がGe x Sb y Te z ( 4 1. A dielectric film on a substrate, a recording film, a dielectric film, laminated in this order of the reflective film, the recording film composition is Ge x Sb y Te z (4
    5≦z≦53 at%, 0.5≦y/(x+y)≦0.72, x+y+z=100 at%) 5 ≦ z ≦ 53 at%, 0.5 ≦ y / (x + y) ≦ 0.72, x + y + z = 100 at%)
    で表され、かつ膜厚は10nm以上35nm 以下であり、 前記反射膜側に積層された前記誘電体膜の膜厚は5nm以上40nm以下であり、 かつ前記反射膜は少なくともAu,Al,Ti,Ni,Crの単体あるいは合金からなり、 かつ膜厚は35nm以上であることを特徴とする光ディスク上に、 パルス幅変調されたデジタル信号を一つのレーザースポットを用いてオーバーライトする光学情報の記録方法において、 前記デジタル信号に含まれるそれぞれのパルスを複数のパルスからなるパルス列に変換するステップと、 レーザーパワーを前記パルス列により消去レベルと記録レベルの間で変調して、それぞれの前記パルス列でそれぞれ一つの記録マークを光ディスク上に形成して前記デジタル信号を記録するステップからなり、 前記パルス列は先頭パルスと後続パルス列からなり In the represented, and the film thickness is at 10nm or more 35nm or less, the thickness of the dielectric film stacked on the reflective layer side is at 5nm or 40nm or less, and the reflective layer is at least Au, Al, Ti, Ni, made from a single piece or an alloy of Cr, and film thickness on an optical disc, wherein the at 35nm or more, the recording method of the optical information overwriting using a single laser spot pulse width modulated digital signal in the step of converting the respective pulses contained in the digital signal into a pulse train consisting of a plurality of pulses, by modulating the laser power between the erase level and recording level by the pulse train of each one in each of said pulse train a recording mark formed on the optical disc consists step of recording the digital signal, the pulse train consists of succeeding pulse train and the leading pulse 前記先頭パルスの幅は記録マークの長さに係わらず常に一定でかつ後続パルス列中の各パルスの幅より大きく、前記後続パルス列中の各パルスの幅と間隔はそれぞれ等しく、 かつ長さがn番目の記録マークを形成する場合の前記後続パルス中のパルス数はn−1個であることを特徴とする光学情報の記録方法。 The width of the leading pulse is greater than the width of each pulse in the always constant and the subsequent pulse train regardless of the length of the recording mark, the width and spacing of the pulses in the subsequent pulse train is equal to each other and the n-th length the recording method of an optical information, wherein the number of pulses in the subsequent pulse is (n-1) when forming a recording mark of.
  2. 【請求項2】光ディスクとレーザースポットとの相対速度が1.2〜1.4m/secであることを特徴とする請求項1記載の光学情報の記録方法。 2. A disc recording method for an optical information according to claim 1, wherein the relative speed between the laser spot is 1.2 to 1.4 m / sec.
  3. 【請求項3】レーザーパワーの変調はパルス列の対応する変換前のパルス幅の期間だけ、記録レベルと再生レベルまたはオフレベルとの間で行われることを特徴とする請求項1記載の光学情報の記録方法。 Wherein modulation of the laser power for a period of a corresponding pre-conversion of the pulse width of the pulse train, the optical information according to claim 1, wherein the performed between the recording level and the reproducing level or OFF level Recording method.
  4. 【請求項4】デジタル信号がCD規格のEFM信号であることを特徴とする請求項1記載の光学情報の記録方法。 4. A recording method for an optical information according to claim 1, wherein the digital signal is EFM signal CD standard.
  5. 【請求項5】記録膜の組成が化合物Ge2Sb2Te5とSbを結ぶライン上の組成であることを特徴とする請求項1記載の光学情報の記録方法。 5. The recording method for an optical information according to claim 1, wherein the composition of the recording film is a composition on the line connecting the compound Ge2Sb2Te5 and Sb.
  6. 【請求項6】記録膜の組成がGe20Sb30Te50(at%)で表されることを特徴とする請求項5記載の光学情報の記録方法。 6. A recording method for an optical information according to claim 5, wherein the composition of the recording film is characterized by being represented by Ge20Sb30Te50 (at%).
  7. 【請求項7】記録膜の膜厚が25nm 以下であることを特徴とする請求項1記載の光学情報の記録方法。 7. A recording method for an optical information according to claim 1, wherein a thickness of the recording film is 25nm or less.
  8. 【請求項8】誘電体膜がZnS,SiO2,Si3N4,AlN,TiN,ZnSと 8. A dielectric film ZnS, SiO2, Si3N4, AlN, TiN, and ZnS
    SiO2の混合物,ZnSeとSiO2の混合物の少なくとも一種類からなることを特徴とする請求項1記載の光学情報の記録方法。 Mixtures of SiO2, the recording method of the optical information according to claim 1, characterized in that it consists of at least one of a mixture of ZnSe and SiO2.
  9. 【請求項9】反射膜側に積層された誘電体膜の膜厚が25 Thickness of 9. laminated to the reflective film side dielectric film 25
    nm以下であることを特徴とする請求項1記載の光学情報の記録方法。 Recording method for an optical information according to claim 1, wherein the nm or less.
  10. 【請求項10】反射膜の膜厚が45nm以上であることを特徴とする請求項1記載の光学情報の記録方法。 10. A recording method for an optical information according to claim 1, wherein a thickness of the reflective film is not less than 45 nm.
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