JPH07270808A - Production of liquid crystal display device - Google Patents

Production of liquid crystal display device

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Publication number
JPH07270808A
JPH07270808A JP6057739A JP5773994A JPH07270808A JP H07270808 A JPH07270808 A JP H07270808A JP 6057739 A JP6057739 A JP 6057739A JP 5773994 A JP5773994 A JP 5773994A JP H07270808 A JPH07270808 A JP H07270808A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
resin film
film material
spacers
spacer
Prior art date
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Pending
Application number
JP6057739A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Oue
誠 大植
Masahiro Adachi
昌浩 足立
Shinji Shimada
伸二 島田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP6057739A priority Critical patent/JPH07270808A/en
Publication of JPH07270808A publication Critical patent/JPH07270808A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve the display quality of a liquid crystal display device by reducing the peeling of spacers. CONSTITUTION:This liquid crystal display device is consituted by arranging a liquid crystal layer between one pair of substrate members in which at least one substrate member has tranclucency and areas where display electrodes provided respectively by one pair of substrate members are superposed are made to be pixel areas. The substrate member of one side is formed in such a way that a black color resin film material 28a having photosensitivity is applied on a translucent substrate 25 on which a pixel electrode 26 is formed, spacer 29 are scattered and after one parts of spacers are buried in the black color resin film material 28a while depressing spacers, the substrate is exposed by using a mask 61 having a pattern corresponding to the pixel area and then is developed and baked to form a black matrix 28 and moreover to form an oriented film. Since spacers 29 are scattered and depressed before the exposure and the baking of the black color resign film material 28a, spacers are sufficiently buried in the black color resin film material 28a and the adhesive strength between the spacer 29 and the black matrix 28 is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶層を介在する一対
の基板部材の間隔を所定の間隔に保持するためのスペー
サの剥離を低減して、優れた表示品位を得る際に用いら
れる液晶表示装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal used for obtaining excellent display quality by reducing peeling of spacers for maintaining a predetermined space between a pair of substrate members with a liquid crystal layer interposed therebetween. The present invention relates to a method for manufacturing a display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、少なくともいずれか一
方が透光性を有する一対の基板部材を所定の間隔をあけ
て配置し、該一対の基板部材間に液晶を注入して構成さ
れる。所定の間隔を保持するためには、たとえば直径が
制御された球状のスペーサが用いられ、いずれか一方の
基板部材の液晶層側表面にスペーサが散布された後、他
方の基板部材が貼り合わせられる。このため、基板部材
同士の間隔がほぼスペーサの直径に保持される。従来か
ら、前記スペーサは一方の基板部材の液晶層側表面のほ
ぼ全面に散布されていた。すなわち、実際に表示にかか
わる領域にも散布されていた。このようにして作成され
た液晶表示装置では、スペーサが配置された部分には液
晶がなく、該部分に入射した光は常に透過して光漏れが
生じ、コントラスト比が著しく低下するという問題が生
じていた。これは、散布されたスペーサと液晶との光学
異方性が異なるためである。このような問題を解消する
ために、表示にかかわる領域にはスペーサを散布せずに
液晶表示装置を作成する例が、たとえば特開平2−30
8224、特開昭63−98634、特開平4−324
427に開示されている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device is constructed by arranging a pair of substrate members, at least one of which has a light-transmitting property, at a predetermined interval and injecting liquid crystal between the pair of substrate members. In order to maintain a predetermined distance, for example, spherical spacers having a controlled diameter are used. After spacers are scattered on the liquid crystal layer side surface of one of the substrate members, the other substrate member is bonded. . For this reason, the distance between the substrate members is kept substantially equal to the diameter of the spacer. Conventionally, the spacers have been scattered over almost the entire liquid crystal layer side surface of one substrate member. That is, it was also scattered in the area actually related to display. In the liquid crystal display device thus manufactured, there is no liquid crystal in the portion where the spacer is arranged, and the light incident on the portion is always transmitted to cause light leakage, resulting in a problem that the contrast ratio is significantly lowered. Was there. This is because the dispersed spacers and the liquid crystal have different optical anisotropies. In order to solve such a problem, an example in which a liquid crystal display device is manufactured without dispersing spacers in a region related to display is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-30.
8224, JP-A-63-98634, and JP-A-4-324.
427.

【0003】図9は、従来の液晶表示装置の製造方法の
一部を段階的に示す断面図である。図9(1)に示され
るように、透光性基板1の一方表面には、たとえば印刷
法あるいは電着法によって、複数の赤フィルタ2R、緑
フィルタ2G、青フィルタ2Bから成るカラーフィルタ
2が形成される。フィルタ2R,2G,2Bは、画素領
域に対応してそれぞれ形成され、各フィルタ間には遮光
手段であるブラックマトリクス3が形成される。また、
各フィルタの表面には、保護層4が形成される。次に、
図9(2)に示されるように、ブラックマトリクス3の
表面に、たとえば感光性アクリル樹脂で実現される樹脂
層5が形成される。前記感光性アクリル樹脂をスピンコ
ート法で塗布した後、仮焼成して所望の形状にパターン
形成することによって、樹脂層5が形成される。
FIG. 9 is a sectional view showing stepwise a part of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display device. As shown in FIG. 9A, a color filter 2 including a plurality of red filters 2R, green filters 2G, and blue filters 2B is formed on one surface of the transparent substrate 1 by, for example, a printing method or an electrodeposition method. It is formed. The filters 2R, 2G, 2B are respectively formed corresponding to the pixel regions, and the black matrix 3 which is a light shielding unit is formed between the filters. Also,
The protective layer 4 is formed on the surface of each filter. next,
As shown in FIG. 9B, a resin layer 5 made of, for example, a photosensitive acrylic resin is formed on the surface of the black matrix 3. The resin layer 5 is formed by applying the photosensitive acrylic resin by a spin coating method and then pre-baking it to form a pattern into a desired shape.

【0004】続いて、図9(3)に示されるように、前
記保護層4および樹脂層5の表面に合成樹脂製のスペー
サ6が散布される。このような基板7を平坦性に優れる
一対の板の間に挟持してスペーサ6を押圧した後、基板
7の表面を洗浄すると、樹脂層5に固定されていないス
ペーサ6が除去され、図9(4)に示されるような基板
8が完成する。このような製造方法の例は、特開平2−
308224に開示されている。
Subsequently, as shown in FIG. 9C, spacers 6 made of synthetic resin are scattered on the surfaces of the protective layer 4 and the resin layer 5. When the surface of the substrate 7 is washed after the substrate 7 is sandwiched between a pair of plates having excellent flatness and the spacer 6 is pressed, the spacer 6 not fixed to the resin layer 5 is removed. Substrate 8 as shown in () is completed. An example of such a manufacturing method is disclosed in JP-A-2-
308224.

【0005】図10は、従来の液晶表示装置の他の製造
方法の一部を段階的に示す断面図である。図10(1)
に示されるように、絶縁性基板11の一方表面に透明電
極12が形成される。透明電極12は、所定の形状にパ
ターン形成される。次に、図10(2)に示されるよう
に、スペーサ13を混入したネガ型のレジスト膜材料1
4aが、透明電極12が形成された基板11の表面に塗
布される。スペーサ13を混入したレジスト膜材料14
aの塗布は、たとえば印刷法あるいはスピンコート法に
よって実施される。続いて、図10(3)に示されるよ
うに、たとえば前記透明電極12をパターン形成する際
に用いられるマスク16がレジスト膜材料14aが塗布
された基板18の上に配置されて、該基板18が紫外光
などの光17によって露光される。マスク16は、透明
電極12に対応した領域が遮光領域となっており、露光
後、現像することによって、光17が照射されなかった
レジスト膜材料14aが除去される。すなわち、図10
(4)に示されるように、透明電極12の上に塗布され
たレジスト膜材料14aが除去され、隣接する透明電極
12の間にスペーサ13を含むレジスト膜14が形成さ
れた基板19が完成する。基板19は、たとえば180
℃で焼成され、これによってスペーサ13がレジスト膜
14に固定される。このような製造方法の例は、特開昭
63−98634に開示されている。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing stepwise a part of another method for manufacturing a conventional liquid crystal display device. Figure 10 (1)
As shown in, the transparent electrode 12 is formed on one surface of the insulating substrate 11. The transparent electrode 12 is patterned into a predetermined shape. Next, as shown in FIG. 10B, a negative resist film material 1 containing a spacer 13 mixed therein.
4a is applied to the surface of the substrate 11 on which the transparent electrode 12 is formed. Resist film material 14 with spacers 13 mixed therein
The application of a is performed by a printing method or a spin coating method, for example. Subsequently, as shown in FIG. 10C, for example, a mask 16 used for patterning the transparent electrode 12 is arranged on the substrate 18 coated with the resist film material 14a, and the substrate 18 is formed. Is exposed to light 17 such as ultraviolet light. The mask 16 has a region corresponding to the transparent electrode 12 as a light shielding region, and the resist film material 14a not irradiated with the light 17 is removed by developing after exposure. That is, FIG.
As shown in (4), the resist film material 14a applied on the transparent electrodes 12 is removed, and the substrate 19 in which the resist film 14 including the spacers 13 is formed between the adjacent transparent electrodes 12 is completed. . The substrate 19 is, for example, 180
The spacer 13 is fixed to the resist film 14 by baking at a temperature of ℃. An example of such a manufacturing method is disclosed in JP-A-63-98634.

【0006】また、特開平4−324427には、前記
レジスト膜14として遮光性を有する樹脂膜を用いた液
晶表示装置の例が開示されている。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 4-324427 discloses an example of a liquid crystal display device using a resin film having a light shielding property as the resist film 14.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述したようにしてス
ペーサ6,13が配置された後、配向膜が形成される。
配向膜の表面には、たとえばラビング法によって配向処
理が施される。しかしながら図9に示した従来技術で
は、樹脂層5が硬化された後、スペーサ6が散布され、
押圧される。このため、スペーサ6が樹脂層5に充分に
埋没されず、スペーサ6と樹脂層5との密着性が低いと
いう問題が生じる。また、図10に示した従来技術は、
スペーサ13を混入したレジスト膜材料14aを塗布す
ることによってレジスト膜14を形成するものであるこ
とから、スペーサ13の分散性が悪いと、塗布したレジ
スト膜材料14aの中にスペーサ13の塊ができてしま
うこととなる。
After the spacers 6 and 13 are arranged as described above, the alignment film is formed.
The surface of the alignment film is subjected to alignment treatment by, for example, a rubbing method. However, in the conventional technique shown in FIG. 9, after the resin layer 5 is cured, the spacers 6 are dispersed,
Pressed. For this reason, the spacer 6 is not sufficiently buried in the resin layer 5, and there is a problem that the adhesion between the spacer 6 and the resin layer 5 is low. Further, the conventional technique shown in FIG.
Since the resist film 14 is formed by applying the resist film material 14a mixed with the spacer 13, if the dispersibility of the spacer 13 is poor, lumps of the spacer 13 will be formed in the applied resist film material 14a. Will be lost.

【0008】上述したようにスペーサ6の密着性が低
い、あるいはスペーサ13の塊が生じるという問題が生
じると、配向膜のラビング処理時において、スペーサ
6,13の剥離が生じることとなる。スペーサ6,13
が剥離すると、一対の基板部材を所定の間隔に保持する
ことができなくなり、所望とする表示特性を得ることが
できない。また、剥離したスペーサ6,13が表示に係
わる領域に移動すると、前述した光漏れの原因となり、
コントラスト比の低下を招く。また、ラビング処理の不
良により表示特性の低下も招く。さらに、スペーサが剥
離することによってレジスト膜も剥離する恐れがあり、
レジスト膜が遮光手段とされた場合には、高精細な表示
を得ることができなくなる。
As described above, if the problem that the adhesion of the spacers 6 is low or that the spacers 13 are agglomerated occurs, the spacers 6 and 13 are separated during the rubbing process of the alignment film. Spacer 6,13
If is peeled off, the pair of substrate members cannot be held at a predetermined interval, and desired display characteristics cannot be obtained. Also, when the peeled spacers 6 and 13 move to the area related to the display, the above-mentioned light leakage is caused,
This causes a decrease in contrast ratio. In addition, display characteristics are deteriorated due to defective rubbing treatment. Furthermore, there is a possibility that the resist film may also peel off when the spacer peels off,
When the resist film is used as the light shielding means, it becomes impossible to obtain a high definition display.

【0009】本発明の目的は、スペーサの剥離が低減
し、表示品位の優れた液晶表示装置の製造方法を提供す
ることである。
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device which is excellent in display quality and has reduced peeling of spacers.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、少なくともい
ずれか一方が透光性を有する一対の基板部材間に液晶層
が配置され、前記一対の基板部材は液晶駆動用の表示電
極と、液晶層に最近接して設けられて電圧無印加時の液
晶分子の配向状態を規制する配向膜とをそれぞれ有し、
前記一対の基板部材がそれぞれ有する表示電極の重なる
領域を画素領域とする液晶表示装置の製造方法におい
て、前記一対の基板部材のうちのいずれか一方の基板部
材は、絶縁性基板の一方表面に前記表示電極を形成し、
前記表示電極を含む絶縁性基板上に遮光性を有する樹脂
膜材料を塗布し、該樹脂膜材料上に前記一対の基板部材
の間隔を制御するスペーサを散布し、該スペーサを押圧
して樹脂膜材料にその一部を埋没させ、前記樹脂膜材料
を焼成して樹脂膜を形成し、前記画素領域の樹脂膜を除
去して遮光膜を形成し、前記遮光膜、スペーサおよび表
示電極を覆って配向膜を形成して作成されることを特徴
とする液晶表示装置の製造方法である。
According to the present invention, a liquid crystal layer is disposed between a pair of substrate members, at least one of which has a light-transmitting property, the pair of substrate members including a display electrode for driving a liquid crystal and a liquid crystal. And an alignment film which is provided closest to the layer and regulates the alignment state of the liquid crystal molecules when no voltage is applied,
In the method for manufacturing a liquid crystal display device, in which a pixel region is an area where display electrodes of each of the pair of substrate members overlap, one of the pair of substrate members has an insulating substrate on one surface thereof. Forming display electrodes,
A resin film material having a light-shielding property is applied on an insulating substrate including the display electrodes, spacers for controlling the distance between the pair of substrate members are scattered on the resin film material, and the spacers are pressed to form a resin film. Part of the material is buried in the material, the resin film material is baked to form a resin film, the resin film in the pixel region is removed to form a light-shielding film, and the light-shielding film, the spacer and the display electrode are covered. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which is characterized in that it is formed by forming an alignment film.

【0011】また本発明は、少なくともいずれか一方が
透光性を有する一対の基板部材間に液晶層が配置され、
前記一対の基板部材は液晶駆動用の表示電極と、液晶層
に最近接して設けられて電圧無印加時の液晶分子の配向
状態を規制する配向膜とをそれぞれ有し、前記一対の基
板部材がそれぞれ有する表示電極の重なる領域を画素領
域とする液晶表示装置の製造方法において、前記一対の
基板部材のうちのいずれか一方の基板部材は、絶縁性基
板の一方表面に前記表示電極を形成し、前記表示電極を
含む絶縁性基板上に遮光性を有する感光性樹脂膜材料を
塗布し、該感光性樹脂膜材料上に前記一対の基板部材の
間隔を制御するスペーサを散布し、該スペーサを押圧し
て感光性樹脂膜材料にその一部を埋没させ、前記画素領
域に対応したパターン形状を有するマスクを用いて感光
性樹脂膜材料を露光し、現像し、残余の感光性樹脂膜材
料を焼成して遮光膜を形成し、前記遮光膜、スペーサお
よび表示電極を覆って配向膜を形成して作成されること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
According to the present invention, a liquid crystal layer is disposed between a pair of substrate members, at least one of which has a light-transmitting property.
The pair of substrate members each have a display electrode for driving a liquid crystal, and an alignment film which is provided closest to the liquid crystal layer and regulates the alignment state of liquid crystal molecules when no voltage is applied. In a method for manufacturing a liquid crystal display device in which a pixel region has an overlapping region of display electrodes, each one of the pair of substrate members has the display electrode formed on one surface of an insulating substrate, A photosensitive resin film material having a light shielding property is applied on an insulating substrate including the display electrodes, spacers for controlling the distance between the pair of substrate members are scattered on the photosensitive resin film material, and the spacers are pressed. Then, a part of the photosensitive resin film material is buried in the photosensitive resin film material, the photosensitive resin film material is exposed and developed using a mask having a pattern shape corresponding to the pixel region, and the remaining photosensitive resin film material is baked. And shade Forming a light shielding film, a method of manufacturing a liquid crystal display device characterized in that it is produced by forming an alignment film covering the spacer and the display electrodes.

【0012】また本発明は、前記スペーサの表面に熱可
塑性樹脂が塗布されていることを特徴とする。
The present invention is also characterized in that the surface of the spacer is coated with a thermoplastic resin.

【0013】また本発明は、前記感光性樹脂膜材料は光
照射によって不溶化するネガ型の感光性樹脂であり、表
面に予めネガ型の感光性樹脂が塗布されたスペーサを用
い、前記画素領域に対応した遮光領域を有するマスクを
用いて露光することを特徴とする。
Further, in the present invention, the photosensitive resin film material is a negative photosensitive resin which is insolubilized by light irradiation, and a spacer having a surface coated with a negative photosensitive resin in advance is used. It is characterized in that exposure is performed using a mask having a corresponding light-shielding region.

【0014】また本発明は、前記感光性樹脂膜材料は溶
剤に溶かして塗布され、該感光性樹脂膜材料を塗布した
直後に、露光に先立って、前記溶剤を除去するために加
熱することを特徴とする。
Further, in the present invention, the photosensitive resin film material is applied by being dissolved in a solvent, and immediately after the application of the photosensitive resin film material, heating is performed to remove the solvent prior to exposure. Characterize.

【0015】また本発明は、前記感光性樹脂膜材料は溶
剤に溶かして塗布され、前記スペーサを散布した直後
に、露光に先立って、前記溶剤を除去するために加熱す
ることを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that the photosensitive resin film material is applied by being dissolved in a solvent, and immediately after the spacers are sprayed, it is heated to remove the solvent immediately before exposure.

【0016】また本発明は、前記感光性樹脂膜材料は溶
剤に溶かして塗布され、前記スペーサを押圧した直後
に、露光に先立って、前記溶剤を除去するために加熱す
ることを特徴とする。
Further, the present invention is characterized in that the photosensitive resin film material is applied by being dissolved in a solvent, and immediately after pressing the spacer, prior to exposure, heating is performed to remove the solvent.

【0017】[0017]

【作用】本発明に従えば、少なくともいずれか一方が透
光性を有し、液晶駆動用の表示電極と液晶分子の電圧無
印加時の配向状態を規制し、液晶層に最近接する配向膜
とをそれぞれ有する一対の基板部材間には液晶層が配置
される。このような液晶表示装置は、一対の基板部材が
それぞれ有する表示電極の重なる領域を画素領域として
表示を行う。すなわち表示電極間への電圧の印加/無印
加によって液晶分子の配向状態を変化させ、透光性基板
側からの入射光を透過/遮断して明暗による表示を行
う。たとえばマトリクス状の画素領域を有するアクティ
ブマトリクス型の液晶表示装置では、複数の画素領域の
組合わせによって画像表示される。このような液晶表示
装置では、コントラスト比の優れた表示を得るために、
画素領域以外の領域への光の漏れを防ぐために遮光膜が
設けられる。また、一対の基板部材の間隔を所定の間隔
に保持するためにスペーサが配置される。
According to the present invention, at least one of them has a light-transmitting property and controls the alignment state of liquid crystal driving display electrodes and liquid crystal molecules when no voltage is applied, and an alignment film closest to the liquid crystal layer. A liquid crystal layer is disposed between the pair of substrate members each having a. In such a liquid crystal display device, display is performed with a region where the display electrodes of the pair of substrate members overlap as a pixel region. That is, the alignment state of the liquid crystal molecules is changed by applying / not applying a voltage between the display electrodes, and the incident light from the translucent substrate side is transmitted / blocked to perform display by light and dark. For example, in an active matrix type liquid crystal display device having a matrix of pixel regions, an image is displayed by combining a plurality of pixel regions. In such a liquid crystal display device, in order to obtain a display with an excellent contrast ratio,
A light-shielding film is provided to prevent light from leaking to regions other than the pixel region. In addition, spacers are arranged to maintain the distance between the pair of substrate members at a predetermined distance.

【0018】本発明では、一方の基板部材は、表示電極
が形成された絶縁性基板上に遮光性を有する樹脂膜材料
を塗布し、前記樹脂膜材料上にスペーサを散布し、前記
スペーサを押圧して樹脂膜材料にその一部を埋没させ、
前記樹脂膜材料を焼成して樹脂膜を形成し、前記画素領
域の樹脂膜を除去して遮光膜を形成し、前記遮光膜、ス
ペーサおよび表示電極を覆って配向膜を形成して作成さ
れる。前記焼成時には、樹脂膜材料に応じた適当な時間
および温度が選択され、該焼成によって樹脂膜材料が硬
化する。
In the present invention, one of the substrate members is formed by applying a resin film material having a light-shielding property on an insulating substrate on which display electrodes are formed, spraying spacers on the resin film material, and pressing the spacers. And bury a part of it in the resin film material,
The resin film material is fired to form a resin film, the resin film in the pixel region is removed to form a light shielding film, and an alignment film is formed to cover the light shielding film, the spacers and the display electrodes. . During the baking, an appropriate time and temperature are selected according to the resin film material, and the baking cures the resin film material.

【0019】前記スペーサは、画素領域に配置されない
ので、画素領域に配置されたときに、スペーサと液晶と
の光学異方性が異なることによって生じる光漏れをなく
し、コントラスト比の低下をなくすことができる。ま
た、スペーサは樹脂膜材料を硬化させる焼成処理の前に
散布され、押圧される。このため、樹脂膜材料を焼成し
て樹脂膜を形成した後にスペーサを散布し、押圧する場
合と比較すると、樹脂膜材料が柔軟であることから、ス
ペーサを充分に樹脂膜材料に埋没させることができる。
したがって、スペーサと遮光膜との密着性が向上し、た
とえば配向膜にラビング処理などの配向処理を施す際に
おけるスペーサの剥離が低減し、剥離したスペーサによ
る光漏れが低減する。また、スペーサの剥離が低減する
ので、一対の基板部材の間隔を精度良く保持することが
できる。したがって、表示品位の優れた液晶表示装置を
提供することが可能となる。
Since the spacers are not arranged in the pixel region, when arranged in the pixel region, the light leakage caused by the difference in optical anisotropy between the spacers and the liquid crystal can be eliminated, and the deterioration of the contrast ratio can be eliminated. it can. Further, the spacers are scattered and pressed before the baking process for hardening the resin film material. Therefore, as compared with the case where the spacers are scattered and pressed after the resin film material is fired to form the resin film, the resin film material is flexible, so that the spacers can be sufficiently embedded in the resin film material. it can.
Therefore, the adhesion between the spacer and the light-shielding film is improved, the peeling of the spacer is reduced when the alignment film is subjected to the alignment treatment such as rubbing, and the light leakage due to the peeled spacer is reduced. Further, since the peeling of the spacer is reduced, the distance between the pair of substrate members can be accurately maintained. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device having excellent display quality.

【0020】また本発明に従えば、表示電極が形成され
た絶縁性基板上に遮光性を有する感光性樹脂膜材料が塗
布され、前記感光性樹脂膜材料上にスペーサが散布さ
れ、前記スペーサが押圧される。前記感光性樹脂膜材料
は画素領域に対応したパターン形状を有するマスクを用
いて露光され、現像され、残余の感光性樹脂膜が焼成さ
れて遮光膜が形成される。該焼成によって、現像時に用
いた溶剤が除去されるとともに、感光性樹脂膜材料が完
全に硬化される。
Further, according to the present invention, a photosensitive resin film material having a light shielding property is applied on an insulating substrate on which display electrodes are formed, spacers are scattered on the photosensitive resin film material, and the spacers are formed. Pressed. The photosensitive resin film material is exposed and developed using a mask having a pattern shape corresponding to the pixel region, and the remaining photosensitive resin film is baked to form a light shielding film. The baking removes the solvent used during development and completely cures the photosensitive resin film material.

【0021】遮光膜が感光性樹脂から成るので、たとえ
ばパターン形成時においてレジスト膜を形成する必要が
なく、比較的容易に遮光膜を形成することができる。ま
た、スペーサは画素領域には配置されないので、前述し
たのと同様にスペーサによる光漏れをなくし、コントラ
スト比の低下をなくすことができる。さらに、スペーサ
は感光性樹脂膜材料を露光する前に散布され、押圧され
る。このため、感光性樹脂膜材料は比較的柔軟であり、
スペーサを充分に感光性樹脂膜材料に埋没させることが
できて、スペーサと遮光膜との密着性が向上する。した
がって、前述したのと同様にスペーサの剥離が低減し、
剥離したスペーサによる光漏れが低減する。また、スペ
ーサの剥離が低減するので、一対の基板部材の間隔を精
度良く保持することができる。このため、表示品位の優
れた液晶表示装置を提供することが可能となる。
Since the light shielding film is made of a photosensitive resin, it is not necessary to form a resist film at the time of pattern formation, and the light shielding film can be formed relatively easily. Further, since the spacer is not arranged in the pixel region, it is possible to eliminate the light leakage due to the spacer and to prevent the deterioration of the contrast ratio as described above. Further, the spacers are scattered and pressed before exposing the photosensitive resin film material. Therefore, the photosensitive resin film material is relatively flexible,
The spacer can be sufficiently embedded in the photosensitive resin film material, and the adhesiveness between the spacer and the light shielding film is improved. Therefore, the peeling of the spacer is reduced as described above,
Light leakage due to the peeled spacer is reduced. Further, since the peeling of the spacer is reduced, the distance between the pair of substrate members can be accurately maintained. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device having excellent display quality.

【0022】また本発明に従えば、表面に予め熱可塑性
樹脂が塗布されたスペーサが用いられる。したがって、
樹脂膜材料の焼成時、あるいは感光性樹脂膜材料を露光
し、現像した後の焼成時に、スペーサ表面の熱可塑性樹
脂と遮光膜とが溶融し、スペーサと遮光膜との密着性を
さらに向上することができる。したがって、スペーサの
剥離がさらに低減し、表示品位の向上を図ることが可能
となる。
Further, according to the present invention, a spacer having a surface coated with a thermoplastic resin in advance is used. Therefore,
During baking of the resin film material or baking after exposing and developing the photosensitive resin film material, the thermoplastic resin on the spacer surface and the light shielding film are melted to further improve the adhesion between the spacer and the light shielding film. be able to. Therefore, peeling of the spacer can be further reduced, and the display quality can be improved.

【0023】また本発明に従えば、前記感光性樹脂膜材
料はネガ型の感光性樹脂であり、表面に予めネガ型の感
光性樹脂が塗布されたスペーサが用いられる。感光性樹
脂が光照射によって不溶化するネガ型の感光性樹脂から
成るので、露光時に用いられマスクとしては、画素領域
に光が照射されず、画素領域以外の領域に光が照射され
るものが用いられる。感光性樹脂膜材料の露光と同時に
スペーサの表面の感光性樹脂も露光されるので、スペー
サと遮光膜との密着性がさらに向上し、スペーサの剥離
が低減して表示品位が向上する。
According to the invention, the photosensitive resin film material is a negative type photosensitive resin, and a spacer having a negative type photosensitive resin coated on its surface is used. Since the photosensitive resin is composed of a negative type photosensitive resin that is insolubilized by light irradiation, the mask used at the time of exposure is a mask that does not irradiate light to the pixel area but irradiates light to the area other than the pixel area. To be Since the photosensitive resin on the surface of the spacer is also exposed at the same time as the exposure of the photosensitive resin film material, the adhesion between the spacer and the light-shielding film is further improved, the peeling of the spacer is reduced, and the display quality is improved.

【0024】また本発明に従えば、前記感光性樹脂膜材
料は溶剤に溶かして塗布され、該感光性樹脂膜材料を塗
布した直後に、前記露光に先立って、前記溶剤を除去す
るために加熱される。また、前記加熱は、溶剤に溶かし
て塗布された感光性樹脂膜材料上にスペーサを散布した
直後に行われる。またさらに、前記加熱は、溶剤に溶か
して塗布された感光性樹脂膜材料上にスペーサを散布
し、押圧した直後に行われる。このように、塗布された
感光性樹脂膜材料の溶剤を除去することによって、溶剤
を除去するための加熱処理を行わなかった場合と比較す
ると、短い露光時間で感光性樹脂を硬化させることがで
きる。また、いずれの手順であっても感光性樹脂膜材料
は柔軟な状態であるので、スペーサを充分に埋没させる
ことができる。
Further, according to the invention, the photosensitive resin film material is applied by being dissolved in a solvent, and immediately after the application of the photosensitive resin film material, prior to the exposure, heating is applied to remove the solvent. To be done. The heating is performed immediately after the spacers are dispersed on the photosensitive resin film material which is dissolved in a solvent and applied. Furthermore, the heating is performed immediately after the spacers are dispersed and pressed on the photosensitive resin film material which is dissolved in a solvent and applied. Thus, by removing the solvent of the applied photosensitive resin film material, the photosensitive resin can be cured in a shorter exposure time as compared with the case where the heat treatment for removing the solvent is not performed. . Moreover, since the photosensitive resin film material is in a flexible state in any of the procedures, the spacer can be sufficiently buried.

【0025】[0025]

【実施例】図1は、本発明の第1の実施例である製造方
法に基づいて作成された液晶表示装置21の構成を示す
断面図であり、図2は、一方の基板部材22を示す平面
図である。液晶表示装置21は、一方の基板部材22と
他方の基板部材23と液晶層24とを含んで構成され、
一対の基板部材22,23の間に液晶層24が配置され
る。一対の基板部材22,23は、少なくともいずれか
一方が透光性を有し、いずれか一方の基板部材のみが透
光性を有する場合には、反射型として用いられ、両方の
基板部材が透光性を有する場合には反射型あるいは透過
型として用いられる。本実施例では、両方の基板部材2
2,23が透光性を有する例について説明する。
1 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal display device 21 produced by the manufacturing method according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows one substrate member 22. It is a top view. The liquid crystal display device 21 is configured to include one substrate member 22, the other substrate member 23, and a liquid crystal layer 24,
The liquid crystal layer 24 is disposed between the pair of substrate members 22 and 23. When at least one of the pair of substrate members 22 and 23 has a light-transmitting property and only one of the substrate members has a light-transmitting property, the pair of substrate members 22 and 23 is used as a reflective type, and both the substrate members are transparent. When it has a light property, it is used as a reflection type or a transmission type. In this embodiment, both substrate members 2
An example in which 2 and 23 have translucency will be described.

【0026】一方の基板部材22は、透光性基板25、
絵素電極26、TFT(薄膜トランジスタ)素子27、
ブラックマトリクス28、スペーサ29および配向膜3
1を含む。たとえばガラスで実現される透光性基板25
の一方表面は、少なくとも絶縁性を有しており、該表面
には後述する方法で絵素電極26、TFT素子27、ゲ
ートバス配線36およびソースバス配線37が形成され
ている。図2に示されるように、ゲートバス配線36は
互いに平行に複数本形成され、ソースバス配線37は前
記ゲートバス配線36とは直交する方向に複数本形成さ
れる。また、ゲートおよびソースバス配線36,37は
互いに絶縁性を保つように形成される。ゲートおよびソ
ースバス配線36,37によって形成される矩形状の領
域には絵素電極26およびTFT素子27がそれぞれ形
成される。TFT素子27は、ゲートおよびソースバス
配線36,37からの表示用の電気信号を絵素電極26
に与えて、液晶を駆動するためのスイッチング素子であ
る。前記絵素電極26は、ITO(インジウム錫酸化
物)などの透明電極で実現され、該絵素電極26は液晶
表示装置21の画素領域と一致する。前記絵素電極26
以外の領域には、後述する方法によって遮光手段である
ブラックマトリクス28が形成される。ブラックマトリ
クス28は、画素領域以外の領域からの光の漏れを防止
するためのものである。
The one substrate member 22 is a transparent substrate 25,
A pixel electrode 26, a TFT (thin film transistor) element 27,
Black matrix 28, spacer 29 and alignment film 3
Including 1. Translucent substrate 25 made of glass, for example
One surface has at least an insulating property, and a pixel electrode 26, a TFT element 27, a gate bus wiring 36, and a source bus wiring 37 are formed on the surface by a method described later. As shown in FIG. 2, a plurality of gate bus lines 36 are formed in parallel with each other, and a plurality of source bus lines 37 are formed in a direction orthogonal to the gate bus lines 36. In addition, the gate and source bus lines 36 and 37 are formed so as to maintain insulation between them. A pixel electrode 26 and a TFT element 27 are formed in a rectangular area formed by the gate and source bus lines 36 and 37, respectively. The TFT element 27 receives the display electric signal from the gate and source bus lines 36 and 37 from the picture element electrode 26.
Is a switching element for driving the liquid crystal. The picture element electrode 26 is realized by a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide), and the picture element electrode 26 corresponds to the pixel area of the liquid crystal display device 21. The picture element electrode 26
The black matrix 28, which is a light-shielding means, is formed in the other regions by a method described later. The black matrix 28 is for preventing light leakage from regions other than the pixel region.

【0027】本実施例では、絵素電極26以外の領域、
すなわち前記ブラックマトリクス28には、直径が制御
された球状のスペーサ29が、その一部を埋没して固着
される。スペーサ29は、一方の基板部材22と他方の
基板部材23との間隔を所定の間隔に保持するためのも
のであり、スペーサ29は後述する方法によって配置さ
れる。前記スペーサ29、ブラックマトリクス28およ
び絵素電極26を覆って、さらに配向膜31が形成され
る。たとえばポリイミド樹脂などで実現される配向膜3
1の表面は、ラビング法などの配向処理が施されてい
る。
In this embodiment, a region other than the pixel electrode 26,
That is, a spherical spacer 29 having a controlled diameter is fixed to the black matrix 28 by burying a part thereof. The spacer 29 is for keeping the gap between the one substrate member 22 and the other substrate member 23 at a predetermined gap, and the spacer 29 is arranged by a method described later. An alignment film 31 is further formed to cover the spacers 29, the black matrix 28 and the pixel electrodes 26. For example, an alignment film 3 made of polyimide resin or the like
The surface of No. 1 is subjected to an alignment treatment such as a rubbing method.

【0028】一方、他方の基板部材23は、透光性基板
32、カラーフィルタ33、対向電極34および配向膜
35を含む。たとえばガラスで実現される透光性基板3
2の一方表面は絶縁性を有しており、該表面にはカラー
フィルタ33が形成される。カラーフィルタ33は、た
とえば赤、緑、青の顔料をそれぞれ分散した樹脂で実現
される複数のフィルタから成り、印刷法、電着法あるい
はスピンコート法によって画素領域に対応してパターン
形成される。さらに、カラーフィルタ33および透光性
基板32の上には、ほぼ全面に対向電極34が形成され
る。対向電極34は、たとえばITOで実現され、スパ
ッタリング法によって50nm〜100nmの厚さに形
成される。対向電極34の上には、ポリイミド樹脂など
で実現される配向膜35が形成される。配向膜35の表
面は、ラビング法などの配向処理が施されている。
On the other hand, the other substrate member 23 includes a transparent substrate 32, a color filter 33, a counter electrode 34 and an alignment film 35. Translucent substrate 3 made of glass, for example
One surface of 2 has an insulating property, and the color filter 33 is formed on the surface. The color filter 33 is composed of a plurality of filters made of, for example, a resin in which red, green, and blue pigments are dispersed, and is formed in a pattern corresponding to a pixel region by a printing method, an electrodeposition method, or a spin coating method. Further, the counter electrode 34 is formed on almost the entire surface of the color filter 33 and the transparent substrate 32. The counter electrode 34 is realized by, for example, ITO and is formed to have a thickness of 50 nm to 100 nm by a sputtering method. An alignment film 35 made of polyimide resin or the like is formed on the counter electrode 34. The surface of the alignment film 35 is subjected to an alignment treatment such as a rubbing method.

【0029】前記一対の基板部材22,23は、互いの
基板部材の配向膜31,35が対向するようにして、図
示しない接着剤で貼り合わせられる。一対の基板部材2
2,23の間隔は、前記スペーサ29によって所定の間
隔に保持され、この間隙には液晶が注入されて液晶層2
4が形成される。液晶注入用の注入口は、接着剤などに
よって封止され、さらに液晶分子の配向状態を安定化す
る目的で焼成処理が施され、液晶表示装置21が完成す
る。
The pair of substrate members 22 and 23 are bonded with an adhesive (not shown) so that the alignment films 31 and 35 of the substrate members face each other. A pair of substrate members 2
The space between the second and the second liquid crystal layers 2 and 23 is maintained at a predetermined space by the spacer 29, and liquid crystal is injected into the space to form the liquid crystal layer 2.
4 is formed. The injection port for injecting the liquid crystal is sealed with an adhesive or the like, and is further fired for the purpose of stabilizing the alignment state of the liquid crystal molecules, whereby the liquid crystal display device 21 is completed.

【0030】図3は、TFT素子27の製造方法を段階
的に示す断面図である。まず、図3(1)に示されるよ
うに、透光性基板25の一方表面25aに半導体層41
が形成される。たとえば、一方表面25aにp−Si
(ポリシリコン)を25nm〜200nm、好ましくは
70nm〜100nmの厚さに減圧化学気相成長(LP
CVD)法で堆積させてp−Si膜を形成し、該p−S
i膜を所定の形状にパターン形成して半導体層41が形
成される。
3A to 3C are sectional views showing a method of manufacturing the TFT element 27 step by step. First, as shown in FIG. 3A, the semiconductor layer 41 is formed on one surface 25 a of the transparent substrate 25.
Is formed. For example, p-Si is formed on the one surface 25a.
(Polysilicon) to a thickness of 25 nm to 200 nm, preferably 70 nm to 100 nm, under reduced pressure chemical vapor deposition (LP).
CVD) to form a p-Si film, and the p-S film is formed.
The i film is patterned into a predetermined shape to form the semiconductor layer 41.

【0031】次に、図3(2)に示されるように透光性
基板25の一方表面25aおよび半導体層41の表面を
覆ってゲート絶縁膜42が形成される。たとえばSiO
2を200nm〜500nm、好ましくは200nm程
度の厚さにプラズマ化学気相成長(PCVD)法で堆積
させてSiO2膜を形成し、該SiO2膜を所定の形状に
パターン形成して、ゲート絶縁膜42が形成される。前
記半導体層41の所定の領域の前記ゲート絶縁膜42の
上には、図3(3)に示されるように、ゲート電極43
が形成される。前記ゲートバス配線36と接続されるゲ
ート電極43は、たとえば金属などの導電材料をスパッ
タリング法によって200nm〜400nmの厚さに堆
積することによって形成される。続いて、図3(4)に
示されるように、イオン注入法によって前記ゲート電極
43が形成された半導体層41の所定の領域以外の領域
が、コンタクト層45a,45bとされる。照射される
イオン44は、リンなどのV族元素またはその化合物、
またはボロンなどのIII族元素またはその化合物で実
現され、たとえば50keV〜100keVの加速電圧
で照射される。
Next, as shown in FIG. 3B, a gate insulating film 42 is formed so as to cover one surface 25a of the transparent substrate 25 and the surface of the semiconductor layer 41. For example SiO
2 is deposited by plasma chemical vapor deposition (PCVD) to a thickness of about 200 nm to 500 nm, preferably about 200 nm to form a SiO 2 film, and the SiO 2 film is patterned into a predetermined shape to form a gate insulating film. A film 42 is formed. As shown in FIG. 3C, a gate electrode 43 is formed on the gate insulating film 42 in a predetermined region of the semiconductor layer 41.
Is formed. The gate electrode 43 connected to the gate bus line 36 is formed by depositing a conductive material such as metal to a thickness of 200 nm to 400 nm by a sputtering method. Subsequently, as shown in FIG. 3D, regions other than the predetermined region of the semiconductor layer 41 in which the gate electrode 43 is formed by the ion implantation method are used as contact layers 45a and 45b. The irradiated ions 44 are group V elements such as phosphorus or compounds thereof,
Alternatively, it is realized by a group III element such as boron or a compound thereof, and is irradiated with an accelerating voltage of, for example, 50 keV to 100 keV.

【0032】さらに、図3(5)に示されるように、ゲ
ート絶縁膜42およびゲート電極43の表面に層間絶縁
膜46が形成される。たとえばSiNxあるいはSiO2
をPCVD法によって300nm〜500nmの厚さに
堆積して層間絶縁膜46が形成される。次に、形成され
た層間絶縁膜46および前記ゲート絶縁膜42の所定の
個所がエッチングされ、コンタクトホール47a,47
bが形成される。コンタクトホール47a,47bを形
成することによって、前記コンタクト層45a,45b
が露出する。コンタクトホール47a,47bが形成さ
れた層間絶縁膜46の所定の領域には、前記絵素電極2
6が形成される。絵素電極26は、たとえばITOをス
パッタリング法によって50nm〜100nmの厚さに
堆積することによって形成される。さらに、図3(6)
に示されるようにソースバス配線37と接続されるソー
ス電極48および絵素電極26と接続されるドレイン電
極49が形成される。ソース電極48およびドレイン電
極49は、たとえば金属などの導電材料をスパッタリン
グ法によって200nm〜700nmの厚さに堆積して
形成される。ソース電極48は、コンタクトホール47
aによってコンタクト層45aと接続され、ドレイン電
極49は、コンタクトホール47bによってコンタクト
層45bと接続される。
Further, as shown in FIG. 3 (5), an interlayer insulating film 46 is formed on the surfaces of the gate insulating film 42 and the gate electrode 43. For example SiN x or SiO 2
Is deposited by PCVD to a thickness of 300 nm to 500 nm to form an interlayer insulating film 46. Then, the predetermined portions of the formed interlayer insulating film 46 and the gate insulating film 42 are etched to form contact holes 47a, 47.
b is formed. By forming the contact holes 47a and 47b, the contact layers 45a and 45b are formed.
Is exposed. The pixel electrode 2 is formed in a predetermined region of the interlayer insulating film 46 in which the contact holes 47a and 47b are formed.
6 is formed. The pixel electrode 26 is formed, for example, by depositing ITO by sputtering to a thickness of 50 nm to 100 nm. Furthermore, FIG. 3 (6)
A source electrode 48 connected to the source bus line 37 and a drain electrode 49 connected to the pixel electrode 26 are formed as shown in FIG. The source electrode 48 and the drain electrode 49 are formed by depositing a conductive material such as metal to a thickness of 200 nm to 700 nm by a sputtering method. The source electrode 48 has a contact hole 47.
The drain electrode 49 is connected to the contact layer 45a through a, and the drain electrode 49 is connected to the contact layer 45b through a contact hole 47b.

【0033】さらに、図3(7)に示されるように、ソ
ース電極48、ドレイン電極49および絵素電極26の
表面を覆ってパッシベーション膜50が形成される。パ
ッシベーション膜50は、たとえばSiNxをPCVD
法によって300nm〜500nmの厚さに堆積して形
成される。以上のようにして、TFT素子27が完成す
る。
Further, as shown in FIG. 3 (7), a passivation film 50 is formed so as to cover the surfaces of the source electrode 48, the drain electrode 49 and the pixel electrode 26. The passivation film 50 is, for example, SiN x PCVD.
It is formed to a thickness of 300 nm to 500 nm by a method. As described above, the TFT element 27 is completed.

【0034】図4は、前記一方の基板部材22を作成す
るための手順を示す工程図であり、図5は前記手順を段
階的に示す断面図である。まず、上述した方法によっ
て、図5(1)に示されるように透光性基板25の一方
表面にTFT素子27と絵素電極26とが形成され、さ
らにアミン系シランカップリング剤などで実現される図
示しないプライマ層が形成される。プライマ層は、たと
えばスピンコート法によって所定の膜材料を塗布した
後、100℃で5分間焼成して、形成される。工程a1
では、前記プライマ層が形成された絵素電極26および
TFT素子27の表面に、図5(2)に示されるように
黒色樹脂膜材料28aが塗布される。黒色樹脂膜材料2
8aとしては、ネガ型レジストなどの感光性樹脂に、カ
ーボン、または鉄やマンガンなどの酸化物で実現される
フィラを分散させたものが用いられる。本実施例では黒
色樹脂膜材料28aとして、カラーモザイクCK−20
00(フジハントエレクトロニクステクノロジー社製)
を用いた。黒色樹脂膜材料28aは溶剤に溶かして、た
とえばスピンコート法によって0.1μm〜2μm、好
ましくは1μmの厚さに塗布される。
FIG. 4 is a process drawing showing a procedure for making the one substrate member 22, and FIG. 5 is a sectional view showing the procedure stepwise. First, as shown in FIG. 5A, the TFT element 27 and the pixel electrode 26 are formed on one surface of the light-transmissive substrate 25 by the above-described method, and further realized by an amine-based silane coupling agent or the like. A primer layer (not shown) is formed. The primer layer is formed by applying a predetermined film material by, for example, a spin coat method, and then baking it at 100 ° C. for 5 minutes. Process a1
Then, as shown in FIG. 5B, a black resin film material 28a is applied to the surface of the pixel electrode 26 and the TFT element 27 on which the primer layer is formed. Black resin film material 2
As 8a, a photosensitive resin such as a negative resist in which a filler made of carbon or an oxide such as iron or manganese is dispersed is used. In this embodiment, as the black resin film material 28a, a color mosaic CK-20 is used.
00 (manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.)
Was used. The black resin film material 28a is dissolved in a solvent and applied to a thickness of 0.1 μm to 2 μm, preferably 1 μm by, for example, a spin coating method.

【0035】工程a2では、前記黒色樹脂膜材料28a
が塗布された基板が、たとえば90℃で15分間焼成
(プリベーク)される。このプリベーク処理によって、
黒色樹脂膜材料28aに含まれる溶剤が除去される。こ
のように溶剤を除去することによって、後述する露光時
において、プリベーク処理を施さなかった場合よりも短
い露光時間で黒色樹脂膜材料28aを硬化させることが
できる。
In step a2, the black resin film material 28a is used.
The substrate coated with is baked (prebaked) at 90 ° C. for 15 minutes, for example. By this pre-baking process,
The solvent contained in the black resin film material 28a is removed. By removing the solvent in this manner, the black resin film material 28a can be cured at the time of exposure, which will be described later, in a shorter exposure time than when the pre-baking process is not performed.

【0036】工程a3では、前記黒色樹脂膜材料28a
の表面に、図5(3)に示されるようにスペーサ29が
散布される。スペーサ29は、一対の基板部材22,2
3の間隔を一定の間隔に保持するためのものであり、作
成する液晶表示装置に応じてその直径が選ばれる。本実
施例では、4.5μmの直径を有する合成樹脂製のスペ
ーサ29を、図6に示されるようなスペーサ散布装置5
4を用いて乾式散布した。乾式散布とは、スペーサ29
を、加圧した空気55でノズル56の先端部から噴射さ
せて、ノズル56の下方に配置される基板25の上に散
布する方法であり、たとえばスペーサを溶剤を含む樹脂
中に分散させ、スピンコート法などによって塗布する湿
式法と比較すると、スペーサ29を均一に散布させるこ
とが可能である。
In step a3, the black resin film material 28a is used.
As shown in FIG. 5C, spacers 29 are scattered on the surface of the. The spacer 29 includes a pair of substrate members 22, 2
3 is to maintain a constant interval, and its diameter is selected according to the liquid crystal display device to be produced. In this embodiment, a spacer 29 made of synthetic resin having a diameter of 4.5 μm is used as the spacer spraying device 5 as shown in FIG.
4 was used for dry spraying. Dry spraying means spacer 29
Is sprayed from the tip of the nozzle 56 with the pressurized air 55 and is sprayed onto the substrate 25 arranged below the nozzle 56. For example, spacers are dispersed in a resin containing a solvent, and spin is performed. Compared with the wet method of applying by a coating method or the like, the spacers 29 can be evenly dispersed.

【0037】工程a4では、前記スペーサ29を散布し
た基板を平坦性に優れた、たとえばガラス製の一対の板
で挟持し、1.0kg/cm2の圧力を加えて押圧す
る。これによって、スペーサ29は、その一部が図5
(4)に示されるように前記黒色樹脂膜材料28aに埋
没し、固着される。黒色樹脂膜材料28aを露光する前
にスペーサ29が散布されて押圧されるので、スペーサ
29を充分に埋没させることができる。
In step a4, the substrate on which the spacers 29 are dispersed is sandwiched between a pair of plates having excellent flatness, for example, glass, and a pressure of 1.0 kg / cm 2 is applied and pressed. As a result, a part of the spacer 29 is shown in FIG.
As shown in (4), it is embedded and fixed in the black resin film material 28a. Since the spacers 29 are scattered and pressed before the black resin film material 28a is exposed, the spacers 29 can be sufficiently buried.

【0038】工程a5では露光処理が施されるけれど
も、この処理に先立って、スペーサ29および黒色樹脂
膜材料28a上には図示しない酸素遮断膜が形成され
る。酸素遮断膜は、露光時に発生するオゾン(O3)に
よって黒色樹脂膜材料28aの表面が酸化し、露光時間
が長くなるのを防止するために設けられ、たとえばスピ
ンコート法によって所定の膜材料を塗布した後、90℃
で5分間焼成して、形成される。酸素遮断膜を形成した
後、図5(5)に示されるようなマスク61を介して紫
外光などの光62を照射して露光を行い、黒色樹脂膜材
料28aを硬化する。マスク61は、画素領域に対応し
た遮光領域と透光領域とを有しており、黒色樹脂膜材料
28aとして用いる感光性樹脂の種類によって、それぞ
れの領域の位置が選ばれる。たとえば、ネガ型のレジス
トを用いたときには、図示されるように絵素電極26に
対応した領域が遮光領域とされたマスク61が用いられ
る。露光が終了すると、前記酸素遮断膜を全て除去する
ために水洗される。
Although exposure processing is performed in step a5, an oxygen blocking film (not shown) is formed on the spacer 29 and the black resin film material 28a prior to this exposure processing. The oxygen barrier film is provided to prevent the surface of the black resin film material 28a from being oxidized by ozone (O 3 ) generated at the time of exposure and prolonging the exposure time. For example, a predetermined film material is formed by spin coating. 90 ° C after coating
It is formed by baking for 5 minutes. After the oxygen blocking film is formed, the black resin film material 28a is cured by irradiating it with light 62 such as ultraviolet light through a mask 61 as shown in FIG. The mask 61 has a light-shielding region and a light-transmitting region corresponding to the pixel region, and the position of each region is selected depending on the type of photosensitive resin used as the black resin film material 28a. For example, when a negative resist is used, a mask 61 having a region corresponding to the picture element electrode 26 as a light shielding region is used as shown in the figure. When the exposure is completed, the substrate is washed with water to remove all the oxygen barrier film.

【0039】工程a6では、現像される。これによっ
て、図5(6)に示されるように光62が照射された領
域の黒色樹脂膜材料28aおよびスペーサ29が残存
し、光62が照射されなかった領域の黒色樹脂膜材料2
8aおよびスペーサ29が除去され、ブラックマトリク
ス28が形成される。現像後は水洗される。
In step a6, development is performed. As a result, as shown in FIG. 5 (6), the black resin film material 28a and the spacers 29 in the region irradiated with the light 62 remain, and the black resin film material 2 in the region not irradiated with the light 62 is left.
8a and the spacer 29 are removed, and the black matrix 28 is formed. After development, it is washed with water.

【0040】工程a7では、たとえば200℃で30分
間焼成(ポストベーク)される。このポストベークによ
って、現像および水洗時に用いた溶剤や水が除去される
とともに前記黒色樹脂膜材料28aから成るブラックマ
トリクス28が完全に硬化する。この後、配向膜31が
形成されて、一方の基板部材22が完成する。
In step a7, baking (post-baking) is performed at 200 ° C. for 30 minutes, for example. By this post-baking, the solvent and water used during development and washing with water are removed, and the black matrix 28 made of the black resin film material 28a is completely cured. After that, the alignment film 31 is formed, and the one substrate member 22 is completed.

【0041】以上のように本実施例によれば、露光の前
にスペーサ29が散布され、押圧される。このように露
光前の比較的柔軟な黒色樹脂膜材料28a上にスペーサ
29が散布され、押圧されるので、スペーサ29を黒色
樹脂膜材料28aに充分に埋没させることができ、スペ
ーサ29とブラックマトリクス28との密着性を向上さ
せることができる。したがって、配向膜31の配向処理
時などにおいて、スペーサ29が剥離することが低減
し、剥離したスペーサ29による光漏れが低減する。ス
ペーサ29の剥離が低減するので、一対の基板部材2
2,23の間隔を精度良く保持することができ、表示品
位の優れた液晶表示装置を提供することが可能となる。
また、黒色樹脂膜材料28aは感光性樹脂から成るの
で、パターン形成時においてレジスト膜を形成する必要
はなく、比較的容易にブラックマトリクス28を形成す
ることができる。
As described above, according to this embodiment, the spacers 29 are scattered and pressed before the exposure. In this way, since the spacers 29 are scattered and pressed on the relatively flexible black resin film material 28a before exposure, the spacers 29 can be sufficiently buried in the black resin film material 28a, and the spacers 29 and the black matrix. The adhesiveness with 28 can be improved. Therefore, the spacer 29 is less likely to be peeled off when the alignment film 31 is aligned, and light leakage due to the peeled spacer 29 is reduced. Since the peeling of the spacer 29 is reduced, the pair of substrate members 2
It is possible to maintain the interval between 2 and 23 with high accuracy, and to provide a liquid crystal display device with excellent display quality.
Further, since the black resin film material 28a is made of a photosensitive resin, it is not necessary to form a resist film at the time of pattern formation, and the black matrix 28 can be formed relatively easily.

【0042】なお、本実施例では黒色樹脂膜材料28a
を塗布し、プリベークした後に、スペーサ29を散布
し、押圧する例について説明したけれども、黒色樹脂膜
材料28aを塗布し、スペーサ29を散布した後にプリ
ベークを行い、さらに前記スペーサ29を押圧する例
や、黒色樹脂膜材料28aを塗布し、スペーサ29を散
布し、前記スペーサ29を押圧した後に、プリベークす
る例も本発明の範囲に属するものであり、本実施例と同
様の効果が得られる。
In this embodiment, the black resin film material 28a is used.
Although the example in which the spacers 29 are applied and pre-baked and then the spacers 29 are sprayed and pressed has been described, an example in which the black resin film material 28a is applied, the spacers 29 are sprayed and then pre-baked, and the spacers 29 are further pressed, An example in which the black resin film material 28a is applied, the spacers 29 are scattered, the spacers 29 are pressed, and then prebaked is also included in the scope of the present invention, and the same effect as the present embodiment can be obtained.

【0043】また、スペーサ29としては、シリカ系材
料から成るスペーサを用いることも可能であり、さらに
表面に樹脂をコーティングしたスペーサ、あるいは、た
とえばアミン系シランカップ剤でその表面を処理したス
ペーサなどを用いることも可能である。さらに、スペー
サ29は無色に限らず、有色であってもよい。
It is also possible to use a spacer made of a silica material as the spacer 29. Further, a spacer whose surface is coated with a resin, or a spacer whose surface is treated with, for example, an amine silane cup agent, is used. It is also possible to use. Furthermore, the spacer 29 is not limited to being colorless and may be colored.

【0044】図7は、本発明の第2の実施例である液晶
表示装置の製造方法に基づく、一方の基板部材22を作
成するための手順を段階的に示す断面図である。第2の
実施例は、前記スペーサ29に代わってスペーサ63を
用いる以外は、前述したのと同様の手順で作成される。
このため、図4の工程図を参照して説明する。なお、前
述した実施例と同様の部材には同じ参照符を付して示し
ている。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing stepwise the procedure for producing one substrate member 22 based on the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention. The second embodiment is manufactured by the same procedure as described above except that the spacer 63 is used instead of the spacer 29.
Therefore, description will be made with reference to the process chart of FIG. The same members as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals.

【0045】前述したのと同様にして図7(1)に示さ
れるようなTFT素子27と絵素電極26とが形成さ
れ、図示しないプライマ層が形成された後、工程a1で
は、図7(2)に示されるような黒色樹脂膜材料28a
が塗布される。工程a2では、焼成(プリベーク)され
る。
After the TFT element 27 and the pixel electrode 26 as shown in FIG. 7A are formed in the same manner as described above and the not-shown primer layer is formed, in step a1, the step shown in FIG. Black resin film material 28a as shown in 2)
Is applied. In step a2, baking (prebaking) is performed.

【0046】工程a3では、図7(3)に示されるよう
にスペーサ63が散布される。スペーサ63は、合成樹
脂などから成る球体63aの表面に樹脂膜64をコーテ
ィングしたものである。本実施例では、直径が4.5μ
mの球体63aに熱可塑性樹脂から成る樹脂膜64をコ
ーティングしたものを用いた。熱可塑性樹脂としてはポ
リメチルメタクリレートを用い、0.2μm〜0.5μ
mの膜厚にコーティングした。また、樹脂膜64のコー
ティングは、周知の方法で行われ、たとえば熱可塑性樹
脂を溶解した溶液中に球体63aを浸漬した後、取出し
た球体63aを乾燥することによって行われる。球体6
3aは、合成樹脂から成るものに限らず、シリカ系材料
から成るものを用いることも可能である。
In step a3, the spacers 63 are scattered as shown in FIG. 7 (3). The spacer 63 is formed by coating the surface of a sphere 63a made of synthetic resin or the like with a resin film 64. In this embodiment, the diameter is 4.5μ.
A sphere 63a of m coated with a resin film 64 made of a thermoplastic resin was used. Polymethylmethacrylate is used as the thermoplastic resin, 0.2 μm to 0.5 μm
It was coated to a film thickness of m. The coating of the resin film 64 is performed by a known method, for example, by immersing the sphere 63a in a solution in which a thermoplastic resin is dissolved and then drying the taken sphere 63a. Sphere 6
The material 3a is not limited to one made of a synthetic resin, but a material made of a silica-based material can be used.

【0047】以下、工程a4〜a7では、前述したのと
同様の処理が施される。現像後のポストベークによって
ブラックマトリクス28とスペーサ63を構成している
樹脂膜64とが溶融される。図7(7)では、溶融され
ていることを二点鎖線で示している。したがって、実質
的にスペーサとして機能する球体63aとブラックマト
リクス28との密着性が向上し、スペーサの剥離を低減
することが可能となる。
Thereafter, in steps a4 to a7, the same processing as described above is performed. The black matrix 28 and the resin film 64 forming the spacer 63 are melted by post-baking after development. In FIG. 7 (7), the fact that it is melted is indicated by a chain double-dashed line. Therefore, the adhesiveness between the sphere 63a that substantially functions as a spacer and the black matrix 28 is improved, and the peeling of the spacer can be reduced.

【0048】なお、樹脂膜64としては、ポストベーク
時において、ブラックマトリクス28とほぼ同じ温度、
たとえば150℃〜220℃、好ましくは200℃で焼
成するものが選ばれる。
The resin film 64 has substantially the same temperature as that of the black matrix 28 during post baking.
For example, one that is fired at 150 ° C to 220 ° C, preferably 200 ° C is selected.

【0049】図8は、本発明の第3の実施例である液晶
表示装置の製造方法に基づく、一方の基板部材22を作
成するための手順を段階的に示す断面図である。第3の
実施例は、前記スペーサ29,63に代わって、スペー
サ65を用いる以外は、前述したのと同様の手順で作成
される。スペーサ65は、前記球体63aと同様の球体
65aの表面に前記ブラックマトリクス28とされる感
光性樹脂と同じ感光性を有する樹脂膜66をコーティン
グしたものである。本実施例では、樹脂膜66としてネ
ガ型の感光性樹脂を用いた。なお、前述した実施例と同
様の部材には同じ参照符を付して示している。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a step-by-step procedure for producing one substrate member 22 based on the liquid crystal display device manufacturing method according to the third embodiment of the present invention. The third embodiment is manufactured by the same procedure as described above except that the spacer 65 is used instead of the spacers 29 and 63. The spacer 65 is formed by coating a surface of a sphere 65a similar to the sphere 63a with a resin film 66 having the same photosensitivity as the photosensitive resin used as the black matrix 28. In this embodiment, a negative photosensitive resin is used as the resin film 66. The same members as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals.

【0050】したがって、露光時において黒色樹脂膜材
料28aと同時に樹脂膜66が露光される。また、ポス
トベークによって、図8(7)に示されるように、ブラ
ックマトリクス28と樹脂膜66とが溶融され、一体化
される。このため、スペーサとブラックマトリクス28
との密着性が向上し、剥離を低減することが可能とな
る。
Therefore, at the time of exposure, the resin film 66 is exposed at the same time as the black resin film material 28a. Further, the post-baking melts and integrates the black matrix 28 and the resin film 66, as shown in FIG. 8 (7). Therefore, the spacer and the black matrix 28
Adhesion with and is improved, and peeling can be reduced.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、樹脂膜材
料を硬化させる焼成処理の前にスペーサが散布され、押
圧される。したがって、樹脂膜材料が柔軟であり、スペ
ーサを充分に樹脂膜材料に埋没させることができ、スペ
ーサと遮光膜との密着性を向上させることが可能とな
る。このため、たとえば配向膜の配向処理時におけるス
ペーサの剥離を低減することが可能となり、剥離したス
ペーサによる光の漏れが低減する。また、スペーサの剥
離が低減するので、一対の基板部材の間隔を精度よく保
持することが可能となり、表示品位が向上する。
As described above, according to the present invention, the spacers are scattered and pressed before the baking process for hardening the resin film material. Therefore, the resin film material is flexible, the spacer can be sufficiently embedded in the resin film material, and the adhesion between the spacer and the light shielding film can be improved. Therefore, for example, it is possible to reduce the peeling of the spacer during the alignment treatment of the alignment film, and the light leakage due to the peeled spacer is reduced. Further, since the peeling of the spacers is reduced, it is possible to accurately maintain the distance between the pair of substrate members, and the display quality is improved.

【0052】また本発明によれば、感光性樹脂膜材料の
露光の前にスペーサが散布され、押圧される。したがっ
て、前述したのと同様に、スペーサを充分に感光性樹脂
膜材料に埋没させることができ、スペーサと遮光膜との
密着性を向上させることが可能となる。このため、スペ
ーサの剥離を低減することが可能となり、表示品位が向
上する。また、パターン形成時においては、レジスト膜
を形成することなく、比較的容易に遮光膜を形成するこ
とができる。
Further, according to the present invention, the spacers are scattered and pressed before the exposure of the photosensitive resin film material. Therefore, similarly to the above, the spacer can be sufficiently embedded in the photosensitive resin film material, and the adhesion between the spacer and the light shielding film can be improved. Therefore, peeling of the spacer can be reduced, and the display quality is improved. Further, at the time of pattern formation, the light shielding film can be formed relatively easily without forming a resist film.

【0053】また本発明によれば、スペーサの表面に塗
布された熱可塑性樹脂が焼成時において、樹脂膜材料あ
るいは感光性樹脂膜材料と溶融する。したがって、スペ
ーサと遮光膜との密着性をさらに向上することができ
る。
Further, according to the present invention, the thermoplastic resin applied to the surface of the spacer is melted with the resin film material or the photosensitive resin film material during firing. Therefore, the adhesiveness between the spacer and the light shielding film can be further improved.

【0054】また本発明によれば、ネガ型の感光性樹脂
膜材料と、スペーサの表面に塗布されたネガ型の感光性
樹脂膜材料とが同時に露光されるので、スペーサと遮光
膜との密着性をさらに向上させることができる。
Further, according to the present invention, since the negative type photosensitive resin film material and the negative type photosensitive resin film material applied to the surface of the spacer are exposed at the same time, the spacer and the light shielding film are adhered to each other. The property can be further improved.

【0055】また本発明によれば、溶剤に溶かして感光
性樹脂膜材料を塗布した直後に、露光に先立って、前記
溶剤を除去するために加熱される。また前記加熱は感光
性樹脂膜材料上にスペーサを散布した直後に行われる。
またさらに前記加熱は、感光性樹脂膜材料上にスペーサ
を散布し、押圧した直後に行われる。このように塗布さ
れた感光性樹脂膜材料の溶剤を除去することによって、
溶剤を除去するために加熱処理を施さなかった場合と比
較して、短い露光時間で感光性樹脂膜材料を硬化させる
ことができる。また、いずれの手順であっても感光性樹
脂膜材料にスペーサを充分に埋没させることができる。
Further, according to the present invention, immediately after applying the photosensitive resin film material by dissolving it in a solvent, it is heated to remove the solvent immediately before the exposure. The heating is performed immediately after the spacers are dispersed on the photosensitive resin film material.
Further, the heating is performed immediately after the spacers are scattered and pressed on the photosensitive resin film material. By removing the solvent of the photosensitive resin film material thus applied,
It is possible to cure the photosensitive resin film material in a shorter exposure time as compared with the case where heat treatment is not performed to remove the solvent. Moreover, the spacers can be sufficiently embedded in the photosensitive resin film material by any of the procedures.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例である液晶表示装置の製
造方法に基づいて作成された液晶表示装置21の構成を
示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal display device 21 produced based on a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】一方の基板部材22を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing one substrate member 22. FIG.

【図3】TFT素子27の製造方法を段階的に示す断面
図である。
3A to 3D are cross-sectional views showing a method of manufacturing the TFT element 27 step by step.

【図4】第1の実施例に基づいて前記一方の基板部材2
2を作成するための手順を示す工程図である。
FIG. 4 is the one substrate member 2 according to the first embodiment.
It is a flowchart showing the procedure for creating 2.

【図5】第1の実施例に基づいて前記一方の基板部材2
2を作成するための手順を段階的に示す断面図である。
FIG. 5 is the one substrate member 2 based on the first embodiment.
It is sectional drawing which shows the procedure for producing 2 in steps.

【図6】スペーサ散布装置54を示す図である。FIG. 6 is a view showing a spacer spraying device 54.

【図7】本発明の第2の実施例である液晶表示装置の製
造方法に基づいて一方の基板部材22を作成するための
手順を段階的に示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing stepwise a procedure for producing one substrate member 22 based on a method for manufacturing a liquid crystal display device which is a second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第3の実施例である液晶表示装置の製
造方法に基づいて一方の基板部材22を作成するための
手順を段階的に示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing step by step a procedure for producing one substrate member 22 based on a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.

【図9】従来の液晶表示装置の製造方法の一部を段階的
に示す断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing stepwise a part of a conventional method for manufacturing a liquid crystal display device.

【図10】従来の液晶表示装置の他の製造方法の一部を
段階的に示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a part of another manufacturing method of the conventional liquid crystal display device step by step.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 液晶表示装置 22,23 基板部材 24 液晶層 25 透光性基板 26 絵素電極 28 ブラックマトリクス 28a 黒色樹脂膜材料 29,63,65 スペーサ 31 配向膜 64,66 樹脂膜 21 liquid crystal display device 22,23 substrate member 24 liquid crystal layer 25 translucent substrate 26 pixel electrode 28 black matrix 28a black resin film material 29,63,65 spacer 31 alignment film 64,66 resin film

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくともいずれか一方が透光性を有す
る一対の基板部材間に液晶層が配置され、前記一対の基
板部材は液晶駆動用の表示電極と、液晶層に最近接して
設けられて電圧無印加時の液晶分子の配向状態を規制す
る配向膜とをそれぞれ有し、前記一対の基板部材がそれ
ぞれ有する表示電極の重なる領域を画素領域とする液晶
表示装置の製造方法において、 前記一対の基板部材のうちのいずれか一方の基板部材
は、絶縁性基板の一方表面に前記表示電極を形成し、前
記表示電極を含む絶縁性基板上に遮光性を有する樹脂膜
材料を塗布し、該樹脂膜材料上に前記一対の基板部材の
間隔を制御するスペーサを散布し、該スペーサを押圧し
て樹脂膜材料にその一部を埋没させ、前記樹脂膜材料を
焼成して樹脂膜を形成し、前記画素領域の樹脂膜を除去
して遮光膜を形成し、前記遮光膜、スペーサおよび表示
電極を覆って配向膜を形成して作成されることを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
1. A liquid crystal layer is disposed between a pair of substrate members, at least one of which has a light-transmitting property, and the pair of substrate members are provided so as to be closest to the liquid crystal driving display electrode and the liquid crystal layer. In a method for manufacturing a liquid crystal display device, each of which has an alignment film that controls an alignment state of liquid crystal molecules when no voltage is applied, and a pixel region is a region where display electrodes of each of the pair of substrate members overlap, In any one of the substrate members, the display electrode is formed on one surface of an insulating substrate, and a resin film material having a light-shielding property is applied onto the insulating substrate including the display electrode. Spacers for controlling the distance between the pair of substrate members are scattered on the film material, the spacers are pressed to bury a part thereof in the resin film material, and the resin film material is baked to form a resin film, Tree of the pixel area By removing the film to form a light shielding film, the light-shielding film, a method of manufacturing a liquid crystal display device characterized by being produced by forming an alignment film covering the spacer and the display electrodes.
【請求項2】 少なくともいずれか一方が透光性を有す
る一対の基板部材間に液晶層が配置され、前記一対の基
板部材は液晶駆動用の表示電極と、液晶層に最近接して
設けられて電圧無印加時の液晶分子の配向状態を規制す
る配向膜とをそれぞれ有し、前記一対の基板部材がそれ
ぞれ有する表示電極の重なる領域を画素領域とする液晶
表示装置の製造方法において、 前記一対の基板部材のうちのいずれか一方の基板部材
は、絶縁性基板の一方表面に前記表示電極を形成し、前
記表示電極を含む絶縁性基板上に遮光性を有する感光性
樹脂膜材料を塗布し、該感光性樹脂膜材料上に前記一対
の基板部材の間隔を制御するスペーサを散布し、該スペ
ーサを押圧して感光性樹脂膜材料にその一部を埋没さ
せ、前記画素領域に対応したパターン形状を有するマス
クを用いて感光性樹脂膜材料を露光し、現像し、残余の
感光性樹脂膜材料を焼成して遮光膜を形成し、前記遮光
膜、スペーサおよび表示電極を覆って配向膜を形成して
作成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. A liquid crystal layer is disposed between a pair of substrate members, at least one of which has a light-transmitting property, and the pair of substrate members are provided so as to be closest to the liquid crystal driving display electrode and the liquid crystal layer. In a method for manufacturing a liquid crystal display device, each of which has an alignment film that controls an alignment state of liquid crystal molecules when no voltage is applied, and a pixel region is a region where display electrodes of each of the pair of substrate members overlap, Any one of the substrate members, the display electrode is formed on one surface of an insulating substrate, a photosensitive resin film material having a light-shielding property is applied onto the insulating substrate including the display electrode, Spacers for controlling the distance between the pair of substrate members are scattered on the photosensitive resin film material, and the spacers are pressed to bury a part of the spacers in the photosensitive resin film material to form a pattern shape corresponding to the pixel region. Have The photosensitive resin film material is exposed and developed using a mask, and the remaining photosensitive resin film material is baked to form a light shielding film, and an alignment film is formed to cover the light shielding film, the spacers and the display electrodes. A method for manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that
【請求項3】 前記スペーサの表面に熱可塑性樹脂が塗
布されていることを特徴とする請求項1または2記載の
液晶表示装置の製造方法。
3. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the surface of the spacer is coated with a thermoplastic resin.
【請求項4】 前記感光性樹脂膜材料は光照射によって
不溶化するネガ型の感光性樹脂であり、表面に予めネガ
型の感光性樹脂が塗布されたスペーサを用い、前記画素
領域に対応した遮光領域を有するマスクを用いて露光す
ることを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置の製造
方法。
4. The light-sensitive resin film material is a negative-type photosensitive resin which is insolubilized by light irradiation, and uses a spacer having a surface coated with the negative-type photosensitive resin in advance to shield light corresponding to the pixel region. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 2, wherein the exposure is performed using a mask having a region.
【請求項5】 前記感光性樹脂膜材料は溶剤に溶かして
塗布され、該感光性樹脂膜材料を塗布した直後に、露光
に先立って、前記溶剤を除去するために加熱することを
特徴とする請求項2記載の液晶表示装置の製造方法。
5. The photosensitive resin film material is applied by being dissolved in a solvent, and immediately after applying the photosensitive resin film material, it is heated to remove the solvent prior to exposure. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 2.
【請求項6】 前記感光性樹脂膜材料は溶剤に溶かして
塗布され、前記スペーサを散布した直後に、露光に先立
って、前記溶剤を除去するために加熱することを特徴と
する請求項2記載の液晶表示装置の製造方法。
6. The photosensitive resin film material is applied by dissolving it in a solvent, and immediately after spraying the spacer, heating is performed to remove the solvent prior to exposure. Manufacturing method of the liquid crystal display device of.
【請求項7】 前記感光性樹脂膜材料は溶剤に溶かして
塗布され、前記スペーサを押圧した直後に、露光に先立
って、前記溶剤を除去するために加熱することを特徴と
する請求項2記載の液晶表示装置の製造方法。
7. The photosensitive resin film material is applied by being dissolved in a solvent, and immediately after pressing the spacer, it is heated to remove the solvent immediately before the exposure. Manufacturing method of the liquid crystal display device of.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100516054B1 (en) * 1998-01-21 2005-12-02 삼성전자주식회사 Liquid crystal display device having uniform substrate spacing and high contrast ratio and manufacturing method thereof
US7456926B2 (en) * 2000-12-08 2008-11-25 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device
WO2009041125A1 (en) * 2007-09-26 2009-04-02 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal panel, liquid crystal display device, tv receiver device, and liquid crystal panel manufacturing method
KR101033460B1 (en) * 2003-12-29 2011-05-09 엘지디스플레이 주식회사 Array substrate for Liquid Crystal Display Device and method for fabricating the same
US8134680B2 (en) 2007-09-26 2012-03-13 Sharp Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid crystal panel

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100516054B1 (en) * 1998-01-21 2005-12-02 삼성전자주식회사 Liquid crystal display device having uniform substrate spacing and high contrast ratio and manufacturing method thereof
US7456926B2 (en) * 2000-12-08 2008-11-25 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device
US7826028B2 (en) 2000-12-08 2010-11-02 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device
KR101033460B1 (en) * 2003-12-29 2011-05-09 엘지디스플레이 주식회사 Array substrate for Liquid Crystal Display Device and method for fabricating the same
WO2009041125A1 (en) * 2007-09-26 2009-04-02 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal panel, liquid crystal display device, tv receiver device, and liquid crystal panel manufacturing method
US8134680B2 (en) 2007-09-26 2012-03-13 Sharp Kabushiki Kaisha Manufacturing method of liquid crystal panel

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