KR100218507B1

KR100218507B1 - Ips liquid crystal display device and its manufacture method

Info

Publication number: KR100218507B1
Application number: KR1019960068152A
Authority: KR
Inventors: 남효락
Original assignee: 윤종용; 삼성전자주식회사
Priority date: 1996-12-19
Filing date: 1996-12-19
Publication date: 1999-09-01
Also published as: KR19980049438A

Abstract

본 발명은 평면 구동 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 기판 위에 다수의 공통 전극이 형성되어 있고, 공통 전극 상부에 게이트 절연막이 덮여 있으며, 게이트 절연막 위에는 공통 전극들 사이에 화소 전극이 형성되어 있다. 이러한 박막 트랜지스터 기판과 컬러 필터가 형성되어 기판 사이의 간격을 유지하는 다수의 기둥이 형성되어 있는데 이 기둥들은 화소 전극의 상부 또는 공통 전극의 상부에 유기막 또는 비전도성 무기막으로 형성되어 있다. 또한, 본 발명에 따른 평면 구동 액정 표시 장치의 제조 방법은 제1 기판에 공통 전극 및 화소 전극을 형성하는 단계, 전극 상부에 유기막을 전면적으로 도포하는 단계, 사진 식각을 통해 유기막 기둥을 형성하는 단계를 포함한다. 여기서, 유기막 기둥을 박막 트랜지스터 기판 위가 아닌 컬러 필터 기판 위에 형성을 하는 것도 가능하다. 이러한 평면 구동 액정 표시 장치 및 제조 방법에서는 유기막 기둥이 화소전극 또는 공통 전극 상부에 위치하기 때문에 빛의 투과 특성의 저하 없이 셀 간격을 유지하는 역할을 하며, 사진 식각의 방법으로 유기막 기둥을 형성하기 때문에 동일한 규격의 기둥의 형성이 가능하여 셀 간격의 균일성이 확보된다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat driving liquid crystal display and a method of manufacturing the same, wherein a plurality of common electrodes are formed on a substrate, a gate insulating film is covered on the common electrode, and a pixel electrode is formed between the common electrodes on the gate insulating film. have. The thin film transistor substrate and the color filter are formed to form a plurality of pillars that maintain a gap between the substrates. The pillars are formed of an organic film or a non-conductive inorganic film on the pixel electrode or on the common electrode. In addition, the method of manufacturing a flat panel liquid crystal display according to the present invention includes forming a common electrode and a pixel electrode on a first substrate, applying an organic layer on the electrode, and forming an organic layer through photolithography. Steps. Here, it is also possible to form the organic film pillar on the color filter substrate instead of on the thin film transistor substrate. In the flat driving liquid crystal display and the manufacturing method, since the organic film pillar is positioned above the pixel electrode or the common electrode, the cell gap is maintained without deterioration of light transmission characteristics, and the organic film pillar is formed by a photolithography method. Therefore, it is possible to form pillars of the same standard to ensure uniform cell spacing.

Description

Flat panel liquid crystal display and manufacturing method thereof

본 발명은 평면 구동 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 액정 셀 간격을 유지하는 데 있어서 스페이서(spacer)를 사용하지 않고 유기막 기둥을 사용하는 평면 구동 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat drive liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a flat drive liquid crystal display device using an organic film column without using a spacer in maintaining liquid crystal cell spacing and a method for manufacturing the same. will be.

일반적으로 액정 표시 장치에서는 액정 셀 간격을 유지하기 위하여 플라스틱 볼과 같은 스페이서를 컬러 필터 기판이나 박막 트랜지스터 기판에 도포하여 사용하여 왔다. 그러나 셀 제조 공정은 여러 가지 문제점들을 갖고 있다. 스페이서가 서로 뭉칠 경우에 점결함이나 휘도의 저하가 발생하고, 스페이서 밀도의 균일성을 확보하기 어렵기 때문에 셀 간격이 불균일해지거나 화소 내에 부분적인 디스클리네이션(disclination)이 발생한다. 또한, 공기 방울이 생성될 수 있어 액정과 스페이서가 팽창 또는 축소되는 현상이 발생한다. 따라서, 구형 스페이서를 사용하지 않고 정확한 셀 간격을 유지하는 구조에 대한 연구가 행해지고 있다.In general, in the liquid crystal display device, a spacer such as a plastic ball is applied to a color filter substrate or a thin film transistor substrate in order to maintain a liquid crystal cell gap. However, the cell manufacturing process has various problems. When the spacers agglomerate with each other, point defects and a decrease in luminance occur, and since the uniformity of the spacer density is difficult to be secured, the cell spacing becomes uneven or partial disclination occurs in the pixel. In addition, air bubbles may be generated to cause the liquid crystal and the spacer to expand or contract. Therefore, research has been conducted on a structure for maintaining accurate cell spacing without using spherical spacers.

그러면 첨부한 도면을 참고로 하여 종래의 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 살펴본다.Next, a conventional liquid crystal display and a manufacturing method thereof will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1a 내지 도 1c는 종래의 비틀린 네마틱(twisted nematic :TN) 방식의 액정 표시 장치의 제조 방법을 공정 순서에 따라 도시한 단면도이다.1A to 1C are cross-sectional views illustrating a conventional method for manufacturing a liquid crystal display device of a twisted nematic (TN) type according to a process sequence.

하부 기판(1) 위에 ITO나 이산화주석(SnO₂)과 같은 전도성 투명 산화물 재질의 전극 배선(2)을 다수 형성하고, 액정 물질을 배향하기 위한 배향막(3)을 도포한 후, 그 위에 감광성이 있는 열경화성 수지막(9)을 일정 두께로 형성한다. 이 열경화성 수지는 스핀 방법, 롤 코팅 또는 살포 등의 방법으로 도포한다[도1a 참조].After forming a plurality of electrode wirings 2 made of a conductive transparent oxide material such as ITO or tin dioxide (SnO ₂ ) on the lower substrate 1, and applying an alignment layer 3 for orienting the liquid crystal material, the photosensitive The thermosetting resin film 9 is formed to a certain thickness. This thermosetting resin is applied by a method such as spin method, roll coating or spraying (see Fig. 1A).

그 다음, 열경화성 수지막(9) 위에 마스크(도시하지 않음)를 씌워 자외선을 조사시키는데, 다수개의 기둥이 형성될 부분(9)과 기판의 가장자리 부분(9')만 자외선에 노출되도록 한다. 감광되지 않은 나머지 부분은 아세톤, 메틸 알콜 등과 같은 용제를 써서 제거해 낸다[도1b 참조].Subsequently, a mask (not shown) is applied to the thermosetting resin film 9 to irradiate ultraviolet rays, so that only the portion 9 on which the plurality of pillars are to be formed and the edge portion 9 'of the substrate are exposed to the ultraviolet rays. The remaining unsensitized portion is removed using a solvent such as acetone, methyl alcohol, or the like (see FIG. 1B).

그 후, 공통 전극(2')과 배향막(3')이 형성되어 있는 하부 기판(1')을 화소 전극(2) 및 배향막(3)이 형성되어 있는 상부 기판(1)과 대응시킨후, 150℃에서 한 시간동안 베이크 공정을 실시하면 열경화성 수지막(9, 9')이 경화되면서 두 기판(1, 1')을 접착시킨다. 마지막으로, 액정(도시하지 않음)을 주입하고 밀봉한다[도1c 참조].Thereafter, the lower substrate 1 'on which the common electrode 2' and the alignment layer 3 'are formed is made to correspond to the upper substrate 1 on which the pixel electrode 2 and the alignment layer 3 are formed. When the baking process is performed at 150 ° C. for one hour, the thermosetting resin films 9 and 9 'are cured to bond the two substrates 1 and 1'. Finally, a liquid crystal (not shown) is injected and sealed (see FIG. 1C).

이러한 방법으로 형성된 액정 표시 장치에서는 기둥들(9)이 ITO 등의 화소 전극(2) 위에 형성되어 있기 때문에 그 개수가 적당히 조절되어야 한다. 기둥(9)의 수가 많으면 개구율의 저하를 가져오고 기둥(9)의 수가 적으면 기판(1, 1')에 가해지는 압력이 불균일해지므로, 셀 간격을 균일하게 유지하는데 어려움이 따른다.In the liquid crystal display device formed in this manner, the number of pillars 9 is formed on the pixel electrode 2 such as ITO. If the number of pillars 9 is large, the opening ratio will be reduced. If the number of pillars 9 is small, the pressure applied to the substrates 1 and 1 'will be uneven, which makes it difficult to keep the cell gap uniform.

최근 시야각을 향상시키기 위한 평면 구동(in plane switching : IPS) 액정 표시 장치에 대한 연구가 활발해짐에 따라, 셀 간격이 얇고 균일한 구조가 더욱 요청되고 있다. 이는 평면 구동 방식에서는 셀 간격이 작을 수록 평면 전계에 의한 효과가 두드러져 더욱 좋은 시야 특성을 갖게 되기 때문이다.Recently, as research on in-plane switching (IPS) liquid crystal display devices for improving viewing angles is being actively conducted, a thin and uniform cell gap is required. This is because, in the planar driving method, the smaller the cell spacing, the more prominent the effect of the planar electric field is and the better the viewing characteristic is.

따라서, 본 발명에서의 과제는 대비비 및 개구율 저하를 비롯한 공정 상의 불량을 제거하며 균일한 셀 간격을 유지하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to eliminate process defects including lowering of contrast ratio and opening ratio, and to maintain uniform cell spacing.

도1a 내지 도1c는 종래의 액정 표시 장치의 제조 방법을 공정 순서에 따라 도시한 단면도이고,1A to 1C are cross-sectional views illustrating a conventional method for manufacturing a liquid crystal display device according to a process sequence;

도2는 본 발명의 실시예에 따른 평면 구동 박막 트랜지스터 기판 제조를 나타낸 단면도이고,2 is a cross-sectional view illustrating a fabrication of a planar driving thin film transistor substrate according to an embodiment of the present invention;

도3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 평면 구동 박막 트랜지스터 기판 제조를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating fabrication of a planar driving thin film transistor substrate according to another exemplary embodiment of the present invention.

이러한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 평면 구동 박막 트랜지스터 기판은, 기판 위에 형성되어 있는 다수의 공통 전극, 공통 전극 상부에 전면적으로 형성되어 있는 게이트 절연막, 게이트 절연막을 매개로 하여 공통 전극들 사이에 형성되어 있는 다수의 화소 전극, 화소 전극의 상부 또는 공통 전극의 상부에 위치하며 일정한 크기를 갖는 다수의 기둥을 포함한다.According to an aspect of the present invention, a planar driving thin film transistor substrate includes a plurality of common electrodes formed on the substrate, a gate insulating film formed entirely on the common electrode, and a gate insulating film between the common electrodes. A plurality of formed pixel electrodes, a plurality of pillars having a predetermined size and positioned on an upper portion of the pixel electrode or an upper portion of the common electrode.

또한, 본 발명에 따른 컬러 필터 기판은, 기판 위에 형성되어 있어 화소 영역을 구분짓는 컬러 필터, 화소 영역의 바깥부분에 형성되어 있는 블랙 매트릭스, 컬러 필터의 상부에 일정 간격으로 형성되어 있는 다수의 기둥을 포함한다.In addition, the color filter substrate according to the present invention includes a color filter formed on the substrate to distinguish the pixel region, a black matrix formed at an outer portion of the pixel region, and a plurality of pillars formed at regular intervals on the color filter. It includes.

또한, 본 발명에 따른 평면 구동 액정 표시 장치는, 제1 기판 위에 형성되어 있는 다수의 공통 전극, 공통 전극 상부에 전면적으로 형성되어 있는 게이트 절연막, 게이트 절연막을 매개로 하여 공통 전극들 사이에 형성되어 있는 다수의 화소 전극, 제1 기판과 대응되며 표면에 컬러 필터가 형성되어 있는 제2 기판, 화소 전극의 상부 또는 공통 전극의 상부에 위치하며 제1 기판과 제2 기판의 간격을 유지하고 있는 다수의 기둥을 포함한다.In addition, the planar driving liquid crystal display according to the present invention includes a plurality of common electrodes formed on the first substrate, a gate insulating film formed entirely on the common electrode, and a gate insulating film formed between the common electrodes. A plurality of pixel electrodes, a second substrate corresponding to the first substrate and having a color filter formed on the surface thereof, a plurality of pixel electrodes positioned on an upper portion of the pixel electrode or an upper portion of the common electrode and maintaining a gap between the first substrate and the second substrate Includes pillars.

여기서, 기둥들은 4μm 이하의 유기막 또는 비도전성 무기막으로 형성되어 있다.Here, the pillars are formed of an organic film or a non-conductive inorganic film of 4 μm or less.

또한, 본 발명에 따른 평면 구동 박막 트랜지스터 기판은 제1 기판에 공통 전극 및 화소 전극을 형성하는 단계, 전극 상부에 일정 두께의 막을 전면적으로 형성하는 단계, 막을 패터닝하여 다수의 기둥을 일정 간격으로 형성하는 단계를 포함한다.In addition, the planar driving thin film transistor substrate according to the present invention comprises the steps of forming a common electrode and a pixel electrode on the first substrate, forming a film of a predetermined thickness over the electrode, patterning the film to form a plurality of pillars at regular intervals It includes a step.

또한, 본 발명에 따른 컬러 필터 기판의 제조 방법은 기판 위에 컬러 필터와 블랙 매트릭스를 형성하는 단계, 기판 위에 일정 두께의 막을 전면적으로 형성하는 단계, 막을 패터닝하여 다수의 기둥을 일정 간격으로 형성하는 단계를 포함한다.In addition, the method for manufacturing a color filter substrate according to the present invention comprises the steps of forming a color filter and a black matrix on the substrate, forming a film of a predetermined thickness on the substrate, patterning the film to form a plurality of pillars at regular intervals It includes.

여기서, 기둥은 유기막 또는 비도전성 무기막으로 형성하고 그 두께는 4μm 이하로 형성한다.Here, the pillar is formed of an organic film or a non-conductive inorganic film, and the thickness thereof is formed to 4 μm or less.

또한, 본 발명에 따른 평면 구동 액정 표시 장치의 제조 방법은 제1 기판 위에 블랙 매트릭스와 컬러 필터를 형성하는 단계, 유기막을 전면적으로 도포하는 단계, 패턴이 형성되어 있는 마스크를 씌워 노광하고 현상하여 유기막 기둥을 일정 간격으로 형성하는 단계, 제2 기판에 공통 전극과 화소 전극을 형성하는 단계, 제1 기판과 제2 기판을 조립하고 액정을 주입하는 단계를 포함한다.In addition, the method for manufacturing a flat panel liquid crystal display according to the present invention includes forming a black matrix and a color filter on a first substrate, applying an organic layer on the entire surface, and exposing and developing a mask on which a pattern is formed. Forming the film pillars at regular intervals, forming a common electrode and a pixel electrode on the second substrate, assembling the first substrate and the second substrate and injecting the liquid crystal.

이러한 평면 구동 액정 표시 장치 및 제조 방법에서는 유기막 기둥이 화소전극 또는 공통 전극 상부에 위치하기 때문에 빛의 투과 특성의 저하 없이 셀 간격을 유지하는 역할을 하며, 사진 식각의 방법으로 유기막 기둥을 형성하기 때문에 동일한 규격의 기둥의 형성이 가능하여 셀 간격의 균일성이 확보된다.In the flat driving liquid crystal display and the manufacturing method, since the organic film pillar is positioned above the pixel electrode or the common electrode, the cell gap is maintained without deterioration of light transmission characteristics, and the organic film pillar is formed by a photolithography method. Therefore, it is possible to form pillars of the same standard to ensure uniform cell spacing.

그러면 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 평면 구동 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세하게 설명한다.Next, a flat driving liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention and a manufacturing method thereof will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 평면 구동 박막 트랜지스터 기판의 제조를 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating fabrication of a planar driving thin film transistor substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

도1에서와는 달리, 도2는 화소 전극과 공통 전극이 한 기판 위에 형성되어 있는 평면 구동 액정 표시 장치에 적용된 구조 및 제조 방법을 나타내고 있다.Unlike FIG. 1, FIG. 2 illustrates a structure and a manufacturing method applied to a flat driving liquid crystal display in which a pixel electrode and a common electrode are formed on one substrate.

도2에 도시된 제조 방법은 박막 트랜지스터 기판 제작시에 유기막 기둥을 형성하는 방법으로서, 기판(1) 위에 금속층을 형성하여 게이트 전극(2)과 공통 전극(3)을 동시에 형성하고 그 위에 게이트 절연막(4)과 금속층을 전면적으로 형성한다. 금속층을 패터닝하여 소스-드레인 전극(S, D)과 화소 전극(5)을 형성한다. 이때, 소스-드레인 전극(S-D)은 게이트 전극(2)의 가장자리와 일정 부분 중첩되도록 형성하고, 화소 전극(5)은 드레인 전극(D)과 공통 전극(3)의 사이 또는 공통 전극(3)과 공통 전극(3)의 사이에 위치하도록 패터닝한다. 이 후, 보호막 공정을 실시한다. 이렇게 액정 표시 장치용으로 제작된 박막 트랜지스터의 기판 면에 감광성이 있는 유기막(12)을 4μm 이하의 두께로 도포하고, 패턴(14)이 형성되어 있는 마스크(13)를 부착한 후 노광 및 현상함으로써 유기막 기둥(12')을 형성한다. 이때, 마스크(13)의 패턴(14)이 화소 전극(5) 또는 공통 전극(3)과 정렬되도록 하여 유기막 기둥(12')을 공통 전극(3) 상부의 보호막(6) 면에 형성하거나, 화소 전극(5) 상부의 보호막(6) 면에 형성한다. 마지막으로, 베이크(bake) 공정을 실시하여 유기막 기둥(12')을 경화한다.The manufacturing method shown in FIG. 2 is a method of forming an organic film pillar during fabrication of a thin film transistor substrate, wherein a metal layer is formed on the substrate 1 to simultaneously form the gate electrode 2 and the common electrode 3 and the gate thereon. The insulating film 4 and the metal layer are formed entirely. The metal layer is patterned to form the source-drain electrodes S and D and the pixel electrode 5. In this case, the source-drain electrode SD is formed to overlap a portion of the edge of the gate electrode 2, and the pixel electrode 5 is disposed between the drain electrode D and the common electrode 3 or the common electrode 3. And patterned to be positioned between the common electrode (3). Thereafter, a protective film step is performed. The photosensitive organic film 12 is applied to the substrate surface of the thin film transistor fabricated for the liquid crystal display device to a thickness of 4 μm or less, and the mask 13 having the pattern 14 formed thereon is exposed and developed. By this, the organic film pillar 12 'is formed. At this time, the pattern 14 of the mask 13 is aligned with the pixel electrode 5 or the common electrode 3 so that the organic film pillar 12 ′ is formed on the passivation layer 6 on the common electrode 3. On the surface of the protective film 6 above the pixel electrode 5. Finally, a bake process is performed to cure the organic film pillar 12 '.

이러한 과정을 통해 형성된 박막 트랜지스터 기판은, 기판(1) 면에 구형 스페이서가 도포되는 대신에 유기막의 기둥(12')이 설치되어 있다. 유기막 기둥(12')들은 공통 전극(3)이나 화소 전극(5) 위에 형성되어 있어서, 액정 공핍 영역의 발생으로 인한 빛의 무조건적인 투과나 무조건적인 차단을 막는다. 또한, 유기막 기둥(12')들은 일정한 규격으로 제작되어 있다. 다시 말하면, 동일한 크기를 갖는 유리막 기둥(12')이 공통 전극(3)이 하부에 위치하고 있는 부분의 보호막(6) 위 또는 화소 전극(5)이 하부에 위치하고 있는 부분의 보호막(6) 위에만 적당한 간격으로 형성되어 있어서, 셀 간격의 균일성이 확보된다. 이때, 기판 지지에 필요한 최소한의 탄력을 유지하는 데에 유기막(12')이 유리하지만, 비도전성 무기막을 사용하는 것도 가능하다.In the thin film transistor substrate formed through such a process, instead of applying a spherical spacer to the surface of the substrate 1, the pillar 12 ′ of the organic film is provided. The organic film pillars 12 ′ are formed on the common electrode 3 or the pixel electrode 5 to prevent unconditional transmission of light or unconditional blocking due to generation of a liquid crystal depletion region. In addition, the organic film pillars 12 ′ are manufactured to a certain standard. In other words, the glass film pillars 12 ′ having the same size are only on the passivation layer 6 of the portion where the common electrode 3 is located below or on the passivation layer 6 of the portion where the pixel electrode 5 is located below. It is formed at suitable intervals, and the uniformity of cell spacing is ensured. At this time, although the organic film 12 'is advantageous in maintaining the minimum elasticity required for supporting the substrate, it is also possible to use a non-conductive inorganic film.

이러한 박막 트랜지스터 기판은 컬러 필터(도시하지 않음)가 형성되어 있는 컬러 필터 기판(도시하지 않음)과 조립되고 그 내부에 액정물질(도시하지 않음)이 주입된다.The thin film transistor substrate is assembled with a color filter substrate (not shown) on which a color filter (not shown) is formed, and a liquid crystal material (not shown) is injected therein.

유기막 기둥을 제작하는 또 다른 실시예가 도3에 도시되어 있다.Another embodiment of fabricating an organic membrane pillar is shown in FIG.

도3에 도시된 방법은 컬러 필터 기판 제작시에 유기막 기둥을 형성하는 방법으로서, 기판(8) 위 화소(도시하지 않음) 경계가 될 부분에 블랙 매트릭스(9)를 형성하고 화소가 될 부분에 컬러 필터(10)를 형성한다. 그 후, 유기막(12)을 전면적으로 도포하고, 패턴(14)이 형성되어 있는 마스크(13)를 씌워 노광하고 현상하여 유기막 기둥(12')을 형성한 후, 경화시킨다. 앞 선 실시예에서와 마찬가지로, 유기막 기둥(12')은 박막 트랜지스터 기판(도2의 도면부호1)과 조립시 공통 전극(3)과 대응될 부분에 일정 간격으로 형성하거나, 화소 전극(5)과 대응될 부분에 일정 간격으로 형성한다. 여기에서 유기막(12) 대신에 비전도성 무기막을 증착시켜 사용하는 것도 가능하다.The method shown in FIG. 3 is a method of forming an organic film pillar during fabrication of a color filter substrate, in which a black matrix 9 is formed at a portion to be a pixel (not shown) boundary on the substrate 8 and becomes a pixel. The color filter 10 is formed in the. Thereafter, the organic film 12 is applied over the entire surface, covered with a mask 13 on which the pattern 14 is formed, exposed, and developed to form an organic film pillar 12 ', and then cured. As in the previous embodiment, the organic film pillars 12 ′ are formed at regular intervals on portions corresponding to the common electrodes 3 when assembled with the thin film transistor substrate (1 in FIG. 2), or the pixel electrodes 5. ) To be formed at regular intervals. Instead of the organic film 12, it is also possible to deposit and use a non-conductive inorganic film.

이러한 방법으로 형성된 컬러 필터 기판(8)은, 화소 영역에 해당하는 부분에 컬러 필터(10)가 형성되어 있고, 화소 영역 가장자리 부분에는 블랙 매트릭스(9)가 형성되어 있다. 컬러 필터(10) 상부에는 유기막 기둥(12')들이 형성되어 있는데, 박막 트랜지스터 기판(도시하지 않음)과 조립될 때에 공통전극(도시하지 않음)과 대응될 부분 또는 화소 전극(도시하지 않음)과 대응될 부분에만 형성되어 있다. 이때, 유기막 기둥(12')들은 4μm 이하의 두께로 형성되어 있어서, 얇은 셀 간격이 요구되는 평면 구동에 적합하다.In the color filter substrate 8 formed by this method, the color filter 10 is formed in the part corresponding to a pixel area, and the black matrix 9 is formed in the edge part of a pixel area. Organic film pillars 12 ′ are formed on the color filter 10, and portions or pixel electrodes (not shown) to correspond to a common electrode (not shown) when assembled with a thin film transistor substrate (not shown). It is formed only in the part to correspond with. At this time, the organic film pillars 12 ′ are formed to a thickness of 4 μm or less, which is suitable for planar driving requiring a thin cell spacing.

이러한 컬러 필터 기판(8)은 박막 트랜지스터(도시하지 않음) 및 배선이 형성되어 있는 박막 트랜지스터 기판(도시하지 않음)과 조립되며 그 내부에 액정물질(도시하지 않음)이 주입된다.The color filter substrate 8 is assembled with a thin film transistor substrate (not shown) in which a thin film transistor (not shown) and wiring are formed, and a liquid crystal material (not shown) is injected therein.

이상에서와 같이, 본 발명에 따른 평면 구동 액정 표시 장치 및 그 제조 방법은 사진 식각 공정으로 유기막 기둥을 형성함으로써 이전보다 공정 및 설비가 절약되고 기둥 규격의 균일성이 확보되어 생산성이 향상되는 효과가 있으며, 유기막 또는 비도전성 무기막 기둥을 화소 전극 또는 공통 전극 등의 상부에 일정 간격으로 형성함으로써 개구율이나 대비비 등의 구동 특성이 저하되는 것을 방지한다.As described above, the planar driving liquid crystal display according to the present invention and the method of manufacturing the same by forming an organic film pillar by a photolithography process, the process and facilities are saved than before, and the uniformity of the pillar standard is secured, thereby improving productivity. The organic film or the non-conductive inorganic film pillar is formed on the pixel electrode or the common electrode at regular intervals to prevent deterioration of driving characteristics such as the aperture ratio and the contrast ratio.

Claims

Forming a common electrode and a pixel electrode on the first substrate,

Forming a film of a predetermined thickness over the electrode;

Patterning the membrane to form a plurality of pillars at regular intervals

Method of manufacturing a flat drive liquid crystal display comprising a.

The method of claim 1, wherein the film is formed of a photosensitive organic film.

The method of claim 2, wherein the pillar is formed by photo etching the organic layer.

The method of claim 3, wherein the organic layer pillar is formed only on an upper portion of the common electrode.

The method of claim 3, wherein the organic layer pillar is formed only on an upper portion of the pixel electrode.

The method of claim 5, further comprising performing a baking process after forming the organic film pillar.

The method of claim 1, wherein the film is formed of a non-conductive inorganic film.

The method of claim 1, wherein the film is formed to 4 μm or less.

The method of claim 1, further comprising applying a passivation layer on the common electrode and the pixel electrode.

Forming a color filter and a black matrix on the substrate,

Forming a film of a predetermined thickness over the substrate,

Patterning the membrane to form a plurality of pillars at regular intervals

The manufacturing method of the color filter substrate for flat drive liquid crystal display devices containing these.

The method of manufacturing a color filter substrate for a flat driving liquid crystal display device according to claim 12, wherein the film is formed by applying a photosensitive organic film.

The method of claim 11, wherein the organic pillar is formed to a thickness of 4 μm or less.

The method of claim 10, wherein the film is formed by depositing a non-conductive inorganic film.

Forming a black matrix and a color filter on the first substrate,

Applying the entire thickness of the organic film,

Exposing and developing a mask having a pattern formed thereon to form organic film pillars at a predetermined interval;

Forming a common electrode and a pixel electrode on the second substrate,

Assembling the first substrate and the second substrate and injecting liquid crystal;

Method of manufacturing a flat drive liquid crystal display comprising a.

The method of claim 14, wherein the organic film pillar is formed on the common electrode by matching the mask pattern with the common electrode.

The method of claim 14, further comprising performing a baking process after the forming of the organic film pillar.

A plurality of common electrodes formed on the substrate,

A gate insulating film formed entirely over the common electrode,

A plurality of pixel electrodes formed between the common electrodes via the gate insulating layer;

And a plurality of pillars positioned on the pixel electrode and having a predetermined height.

The planar driving thin film transistor substrate of claim 18, wherein the pillar is formed of an organic layer.

The planar driving thin film transistor substrate of claim 18, wherein the pillar is formed of a non-conductive inorganic film.

A plurality of common electrodes formed on the substrate,

A gate insulating film formed entirely over the common electrode,

A plurality of pillars positioned on the common electrode and having a predetermined height;

Planar driving thin film transistor substrate comprising a.

The planar driving thin film transistor substrate of claim 21, wherein the pillar is an organic membrane pillar.

The planar driving thin film transistor substrate of claim 21, wherein the pillar is a non-conductive inorganic layer.

A color filter formed on the substrate to distinguish the pixel region,

A black matrix formed outside the pixel region,

A plurality of pillars formed at a predetermined interval and a predetermined height on the top of the color filter

Color filter substrate comprising a.

The color filter substrate of claim 24, wherein the pillar is formed of an organic film.

The color filter substrate of claim 24, wherein the pillar is formed of a non-conductive inorganic film.

A plurality of common electrodes formed on the first substrate,

A gate insulating film formed entirely on the common electrode;

A second substrate corresponding to the first substrate and having a color filter formed on a surface thereof;

A plurality of pillars positioned on the pixel electrode and maintaining a constant distance between the first substrate and the second substrate.

Flat drive liquid crystal display comprising a.

The flat panel liquid crystal display of claim 27, wherein the pillar is formed of an organic layer.

The flat panel liquid crystal display of claim 27, wherein the pillar is formed of a nonconductive inorganic layer.

30. The flat driving liquid crystal display of claim 28 or 29, wherein the pillar is 4 μm or less.

A plurality of common electrodes formed on the first substrate,

A gate insulating film formed entirely on the common electrode;

A plurality of pillars positioned above the common electrode and maintaining a distance between the first substrate and the second substrate;

Flat drive liquid crystal display comprising a.

32. The flat driving liquid crystal display of claim 31, wherein the pillar is formed of an organic layer.

32. The flat panel liquid crystal display of claim 31, wherein the pillar is formed of a non-conductive inorganic film.

The flat driving liquid crystal display of claim 33 or 34, wherein the pillar is 4 μm or less.