JPH07263312A - Lighting optical device - Google Patents

Lighting optical device

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JPH07263312A
JPH07263312A JP6051490A JP5149094A JPH07263312A JP H07263312 A JPH07263312 A JP H07263312A JP 6051490 A JP6051490 A JP 6051490A JP 5149094 A JP5149094 A JP 5149094A JP H07263312 A JPH07263312 A JP H07263312A
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source image
optical
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light
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規彰 山元
Koji Mori
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To irradiate an area to be irradiated having a rectangular shape, circular-arcuate shape, etc., on a surface to be irradiated with light in a highly uniform illuminance distribution and at high lighting efficiency by using a light source which emits a luminous flux having, for example, a circular cross section. CONSTITUTION:A luminous flux from a light source 11 is supplied to an optical integrator 2 having a square cross section after condensing the luminous flux with an elliptic mirror 12 and converting the luminous flux into a parallel luminous flux through a collimator lens 13. The luminous flux from the integrator 2 is supplied to another optical integrator 4 through a relay optical system 3 and the luminous flux from the integrator 4 is supplied to a third optical integrator 6 through another relay optical system 5. Then a rectangular area 8 to be irradiated is irradiated with the luminous flux from the integrator 6 through a condenser optical system 7.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、被照射面上の例えば長
方形状又は円弧状の照明領域を照明するための照明光学
装置に関し、特に、半導体素子又は液晶表示素子等を製
造するための露光装置の照明系に適用して好適なもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an illuminating optical device for illuminating, for example, a rectangular or arcuate illumination area on a surface to be illuminated, and more particularly, exposure for producing a semiconductor element or a liquid crystal display element. It is suitable for application to the illumination system of the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子又は液晶表示素子等を製造す
るためのフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置
用の照明系では、高い解像度でレチクル(又はフォトマ
スク等)のパターンを被露光基板(ウエハ、ガラスプレ
ート等)上に露光するため、レチクル上の照明領域での
照度分布均一性を高めることが要求されている。更に、
露光用光源の寿命を延ばすため、露光用光源からの照明
光を高い効率で照明領域に導く必要がある。また、従来
の露光装置としては、被露光基板の各ショット領域にそ
れぞれレチクルのパターンを一括露光する投影露光装置
(ステッパー等)が多用されていた。
2. Description of the Related Art In an illumination system for an exposure apparatus used in a photolithography process for manufacturing a semiconductor device, a liquid crystal display device, etc., a reticle (or photomask, etc.) pattern is formed at a high resolution on a substrate (wafer) to be exposed. , Glass plate, etc.), it is required to increase the uniformity of illuminance distribution in the illumination area on the reticle. Furthermore,
In order to extend the life of the exposure light source, it is necessary to guide the illumination light from the exposure light source to the illumination area with high efficiency. Further, as a conventional exposure apparatus, a projection exposure apparatus (stepper or the like) that collectively exposes a reticle pattern to each shot area of a substrate to be exposed has been widely used.

【0003】図5(a)は、従来の一括露光方式の露光
装置に使用される照明系を示し、この図5(a)におい
て、水銀ランプ等の光源11は楕円鏡12の第1焦点に
配置されている。その光源1から射出された光束は、楕
円鏡12によりその第2焦点に集光された後、コリメー
タレンズ13により平行光束に変換される。この平行光
束は、断面が四角形のレンズ素子63aの集合体からな
るフライアイレンズ63に入射し、フライアイレンズ6
4の射出側に複数の光源像が形成される。この光源像位
置には円形状の開口部を有する開口絞り91が配置さ
れ、開口絞り91内の光源像からの光束は、コンデンサ
ーレンズ92によって集光されて、被照射物体としての
レチクルRを重畳的に均一な照度で照明する。
FIG. 5A shows an illumination system used in a conventional collective exposure type exposure apparatus. In FIG. 5A, a light source 11 such as a mercury lamp is placed at the first focal point of an elliptical mirror 12. It is arranged. The light flux emitted from the light source 1 is condensed by the elliptical mirror 12 at the second focal point, and then converted into a parallel light flux by the collimator lens 13. This parallel light flux enters a fly-eye lens 63 composed of an assembly of lens elements 63a having a rectangular cross section, and the fly-eye lens 6
A plurality of light source images are formed on the exit side of 4. An aperture stop 91 having a circular opening is arranged at this light source image position, and the light flux from the light source image in the aperture stop 91 is condensed by a condenser lens 92 to superimpose a reticle R as an irradiated object. Illumination with uniform illuminance.

【0004】その照明光のもとで、レチクルR上の回路
パターンは、レンズ93a及び93bよりなる投影光学
系93を介してウエハW上に転写される。ウエハWは、
投影光学系93の光軸に垂直な2次元平面内でウエハW
を位置決めするウエハステージWS上に載置され、ウエ
ハW上での1つのショット領域への露光が完了すると、
ウエハステージWSによりウエハW上の別の露光対象の
ショット領域が投影光学系93の露光フィールドに移動
するという、所謂ステップ・アンド・リピート方式で露
光が行われる。
Under the illumination light, the circuit pattern on the reticle R is transferred onto the wafer W via the projection optical system 93 including the lenses 93a and 93b. The wafer W is
The wafer W is placed in a two-dimensional plane perpendicular to the optical axis of the projection optical system 93.
Is placed on the wafer stage WS which positions the wafer, and when exposure to one shot area on the wafer W is completed,
Exposure is performed by a so-called step-and-repeat method in which another shot area to be exposed on the wafer W is moved to the exposure field of the projection optical system 93 by the wafer stage WS.

【0005】この場合、コンデンサーレンズ92によ
り、レチクルR上の照明領域とフライアイレンズ63を
構成する個々のレンズ素子93aの入射面とがそれぞれ
共役に設定されている。そして、レチクルR上の照明領
域はほぼ正方形状であり、照明効率を高めるためフライ
アイレンズ93の個々のレンズ素子93aの断面形状
(即ち、入射面の断面形状)もほぼ正方形状である。ま
た、楕円鏡12により集光された後、コリメータレンズ
13を介した光束の断面形状はほぼ円形であり、その光
束の利用効率を高めるため、図5(b)に示すように、
フライアイレンズ63の断面の外形はほぼ円形状とされ
ていた。
In this case, the condenser lens 92 sets the illumination area on the reticle R and the entrance surface of each lens element 93a forming the fly-eye lens 63 to be conjugate with each other. The illumination area on the reticle R is substantially square, and the cross-sectional shape of each lens element 93a of the fly-eye lens 93 (that is, the cross-sectional shape of the incident surface) is also substantially square in order to improve the illumination efficiency. In addition, after being condensed by the elliptical mirror 12, the cross-sectional shape of the light flux passing through the collimator lens 13 is substantially circular, and in order to improve the utilization efficiency of the light flux, as shown in FIG.
The outer shape of the cross section of the fly-eye lens 63 was substantially circular.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述のようにレチクル
上の照明領域がほぼ正方形状である場合には、1段のフ
ライアイレンズを用いることにより、比較的高い照度分
布均一性で且つ照明光の利用効率を高めてその照明領域
を照明できる。ところで、最近、照明系によりレチクル
上の長方形状又は円弧状等の照明領域を照明し、この照
明領域に対してレチクルを走査し、その照明領域と共役
な露光領域に対して同期して被露光基板を走査しながら
露光を行うスリットスキャン方式、又はステップ・アン
ド・スキャン方式等の走査露光方式の露光装置が注目さ
れている。このような走査露光方式によれば、例えば大
型のレチクルのパターンを高いスループットで露光でき
ると共に、被露光基板上で投影光学系の露光フィールド
より広い領域にレチクルのパターンを露光できる。
When the illumination area on the reticle is substantially square as described above, a one-stage fly-eye lens is used to obtain relatively high illuminance distribution uniformity and illumination light. It is possible to improve the utilization efficiency of the and to illuminate the illumination area. By the way, recently, a rectangular or arcuate illumination area on a reticle is illuminated by an illumination system, the reticle is scanned with respect to this illumination area, and an exposure area which is conjugate with the illumination area is exposed in synchronization. An exposure apparatus of a scanning exposure type such as a slit scan type or a step-and-scan type which performs exposure while scanning a substrate is drawing attention. According to such a scanning exposure method, for example, a large reticle pattern can be exposed with a high throughput, and a reticle pattern can be exposed on a substrate to be exposed in a region wider than the exposure field of the projection optical system.

【0007】この場合、例えば図5(a)において、レ
チクルR上の照明領域の形状が長方形状であるとする
と、その照明光の利用効率を高めるためには、その照明
領域とフライアイレンズ63の各レンズ素子63aの断
面形状とを共役(相似)にするのが望ましい。そのた
め、そのフライアイレンズ63の代わりに、図5(c)
に示すように断面形状が長方形のレンズ素子94aを束
ねた構成のフライアイレンズ94を使用することが望ま
しい。
In this case, for example, in FIG. 5A, if the shape of the illumination area on the reticle R is rectangular, in order to improve the utilization efficiency of the illumination light, the illumination area and the fly-eye lens 63 are used. It is desirable that the cross-sectional shape of each of the lens elements 63a is conjugated (similar). Therefore, instead of the fly-eye lens 63, FIG.
It is desirable to use a fly-eye lens 94 having a configuration in which lens elements 94a having a rectangular cross section are bundled as shown in FIG.

【0008】しかしながら、図5(c)に示す如き断面
形状を有するフライアイレンズ94を使用した場合に
は、縦方向と横方向とで配置されるレンズ素子の数が大
きく異なるため、照明領域における縦方向と横方向とで
は重畳される光源像からの光束の個数が大きく異なるよ
うになる。そのため、レチクルR上の長方形状の照明領
域では、長手方向と短辺方向とで照度分布均一性が大き
く異なり、結果として照度むらが生ずるという不都合が
ある。
However, when the fly-eye lens 94 having the cross-sectional shape as shown in FIG. 5 (c) is used, the number of lens elements arranged in the vertical direction and the number of lens elements arranged in the horizontal direction are significantly different from each other. The number of light fluxes from the light source image to be superimposed greatly differs in the vertical direction and the horizontal direction. Therefore, in the rectangular illumination area on the reticle R, the illuminance distribution uniformity is greatly different between the longitudinal direction and the short side direction, and as a result, uneven illumination occurs.

【0009】これに関して、本出願人は特願平5−19
098号において、オプティカル・インテグレータを2
段配置して、縦方向及び横方向の照度分布を均一化した
照明光学装置を提案した。ところが、この照明光学装置
では、初段のオプティカル・インテグレータとして外形
が長方形状になる場合がある。このように外形が長方形
状の初段のオプティカル・インテグレータに、図5
(a)のコリメータレンズ13から射出される断面形状
がほぼ円形の光束を供給する場合には、その光束をビー
ムエクスパンダを介して断面形状が楕円状の光束に変換
することが考えられるが、このように断面形状を楕円状
としてもその初段のオプティカル・インテグレータにお
ける光量損失が大きいという不都合がある。
In this regard, the present applicant has filed Japanese Patent Application No. 5-19
No. 098, 2 optical integrators
We have proposed an illuminating optical device that has a tiered arrangement and has uniform illuminance distribution in the vertical and horizontal directions. However, in this illumination optical device, the outer shape may be a rectangular shape as the first-stage optical integrator. As shown in FIG. 5, the first-stage optical integrator with a rectangular outer shape is used.
When supplying a light flux having a substantially circular cross-sectional shape emitted from the collimator lens 13 of (a), it is conceivable that the light flux is converted into a light flux having an elliptical cross-sectional shape through a beam expander. Even if the cross-sectional shape is elliptical as described above, there is a disadvantage that the light amount loss in the optical integrator at the first stage is large.

【0010】本発明は斯かる点に鑑み、断面形状が例え
ば円形状等の光束を供給する光源を用いて被照射面上の
長方形状又は円弧状等の照明領域を照明する場合に、高
い照度分布均一性で、且つ高い照明効率でその被照領域
を照明できる照明光学装置を提供することを目的とす
る。
In view of the above point, the present invention provides a high illuminance when illuminating a rectangular or arcuate illumination area on a surface to be illuminated using a light source that supplies a light flux having a circular cross section, for example. An object of the present invention is to provide an illumination optical device capable of illuminating the illuminated area with uniform distribution and high illumination efficiency.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明による照明光学装
置は、例えば図1に示す如く、所定形状(円形状等)の
光束断面を有する光を供給する光源系(1)と、この光
源系からの光束よりほぼ正方形状又はほぼ円形状に配列
される複数の光源像を形成する第1多光源像形成手段
(2)と、この第1多光源像形成手段からの光束より、
ほぼ長方形状又はほぼ直線状に配列される複数の光源像
を形成する第2多光源像形成手段(4)と、この第2多
光源像形成手段からの光束よりほぼ正方形状又はほぼ円
形状に配列される複数の光源像を形成する第3多光源像
形成手段(6)と、この第3多光源像形成手段複数から
の光束を集光して被照射面(R)を照明するコンデンサ
ー光学系(7)と、それら第1及び第2多光源像形成手
段の間に配置されて第1多光源像形成手段(2)により
形成される光源像の位置と第2多光源像形成手段(4)
により形成される光源像の位置とを共役にするための第
1リレー光学系(3)と、それら第2及び第3多光源像
形成手段の間に配置されて第2多光源像形成手段(4)
により形成される光源像の位置と第3多光源像形成手段
(6)により形成される光源像の位置とを共役にするた
めの第2リレー光学系(5)と、を有するものである。
An illumination optical apparatus according to the present invention includes, for example, as shown in FIG. 1, a light source system (1) for supplying light having a light flux cross section of a predetermined shape (circular shape, etc.), and this light source system. From the light flux from the first multi-light source image forming means (2) forming a plurality of light source images arranged in a substantially square shape or a substantially circular shape, and the light flux from the first multi-light source image forming means,
Second multi-light source image forming means (4) for forming a plurality of light source images arranged in a substantially rectangular shape or a substantially straight shape, and a light flux from the second multi-light source image forming means into a substantially square shape or a substantially circular shape. Third multi-light source image forming means (6) for forming a plurality of arranged light source images, and condenser optics for condensing light fluxes from the plurality of third multi-light source image forming means to illuminate the irradiated surface (R). The system (7) and the position of the light source image formed by the first multi-source image forming means (2) disposed between the first and second multi-source image forming means and the second multi-source image forming means ( 4)
A first relay optical system (3) for conjugating the position of the light source image formed by the second multi-light source image forming means (3). 4)
And a second relay optical system (5) for making the position of the light source image formed by (3) and the position of the light source image formed by the third multi-light source image forming means (6) conjugate.

【0012】この場合、第1多光源像形成手段(2)の
一例は、長方形状の断面を有する複数のレンズ素子(2
a)よりなるものである。また、第2多光源像形成手段
(4)の一例は、少なくとも1列に配列された複数のレ
ンズ素子(4a)からなるものである。また、第3多光
源像形成手段(6)の一例は、長方形状の断面を有する
複数のレンズ素子(6a)からなるものである。
In this case, one example of the first multi-light source image forming means (2) is a plurality of lens elements (2 having a rectangular cross section.
a). An example of the second multi-light source image forming means (4) is composed of a plurality of lens elements (4a) arranged in at least one row. An example of the third multi-light source image forming means (6) is composed of a plurality of lens elements (6a) having a rectangular cross section.

【0013】更に、それら第1、第2及び第3多光源像
形成手段の内の少なくとも1つを、例えば図3に示すよ
うに内面反射型の光学部材(21,41,61)で構成
してもよい。
Further, at least one of the first, second and third multi-light source image forming means is constituted by an internal reflection type optical member (21, 41, 61) as shown in FIG. 3, for example. May be.

【0014】[0014]

【作用】斯かる本発明によれば、第1多光源像形成手段
(2)は、光源系(1)から供給される光束よりほぼ正
方形状又は円形状に配列された複数の光源像を形成す
る。即ち、その第1多光源像形成手段(2)がフライア
イレンズである場合、その外形はほぼ正方形状又は円形
状となる。従って、光源系(1)から供給される光束の
断面形状が例えば円形状であっても、その光束は大部分
が第1多光源像形成手段(2)に入射するため、光量損
失が少なく、照明効率が高い。
According to the present invention, the first multi-light source image forming means (2) forms a plurality of light source images arranged in a substantially square or circular shape from the light flux supplied from the light source system (1). To do. That is, when the first multi-light source image forming means (2) is a fly-eye lens, its outer shape is substantially square or circular. Therefore, even if the cross-sectional shape of the light beam supplied from the light source system (1) is, for example, a circular shape, most of the light beam is incident on the first multi-light source image forming means (2), and the light amount loss is small, High lighting efficiency.

【0015】更に、第1多光源像形成手段(2)による
複数の光源像からの光束より、第2多光源像形成手段
(4)によりほぼ長方形状又は直線状に配列された複数
の光源像が形成される。この際、第2多光源像形成手段
(4)による光源像の縦横の配列ピッチを調整すること
により、第2多光源像形成手段(4)の入射面での光量
損失を少なくできる。同様に、第3多光源像形成手段
(6)による光源像の縦横の配列ピッチを調整すること
により、第3多光源像形成手段(6)の入射面での光量
損失を少なくできる。また、第2多光源像形成手段
(4)による多数の光源像がほぼ長方形状又は直線状に
配列されているため、被照射面(R)上の長方形状又は
円弧状の照明領域を含む領域を均一な照度分布で、且つ
高い照明効率で照明できる。
Further, a plurality of light source images arranged in a substantially rectangular shape or a linear shape by the second multi-light source image forming means (4) from the light fluxes from the plurality of light source images by the first multi-light source image forming means (2). Is formed. At this time, by adjusting the vertical and horizontal arrangement pitches of the light source images by the second multi-light source image forming means (4), it is possible to reduce the light amount loss on the incident surface of the second multi-light source image forming means (4). Similarly, by adjusting the vertical and horizontal arrangement pitch of the light source images by the third multi-light source image forming means (6), it is possible to reduce the light amount loss on the incident surface of the third multi-light source image forming means (6). Further, since a large number of light source images formed by the second multi-light source image forming means (4) are arranged in a substantially rectangular or linear shape, an area including a rectangular or arcuate illumination area on the irradiated surface (R). Can be illuminated with a uniform illuminance distribution and high illumination efficiency.

【0016】次に、第1及び第2多光源像形成手段
(2,4)がそれぞれフライアイレンズよりなる場合、
第1のフライアイレンズ(2)を構成する個々のレンズ
素子(2a)の入射面がそれぞれ第2のフライアイレン
ズ(4)の入射面(外形がほぼ長方形状又は直線状)と
共役となる。従って、第1のフライアイレンズ(2)の
レンズ素子(2a)の断面形状を長方形状(又は直線
状)とすることにより、照明効率が高まる。
Next, when the first and second multi-light source image forming means (2, 4) each comprise a fly-eye lens,
The incident surfaces of the individual lens elements (2a) constituting the first fly-eye lens (2) are respectively conjugated with the incident surface (the outer shape is substantially rectangular or linear) of the second fly-eye lens (4). . Therefore, by making the cross-sectional shape of the lens element (2a) of the first fly-eye lens (2) rectangular (or linear), the illumination efficiency is increased.

【0017】この場合、第2のフライアイレンズ(4)
の外形はほぼ長方形状又は直線状であるが、このような
第2のフライアイレンズ(4)はレンズ素子(4a)を
1列又は複数列に配列することにより構成できる。次
に、第3多光源像形成手段(6)がフライアイレンズよ
りなる場合、このフライアイレンズ(6)を構成する個
々のレンズ素子(6a)の入射面がそれぞれ被照射面
(R)上の照明領域と共役となる。従って、第3のフラ
イアイレンズ(6)のレンズ素子(6a)の断面形状を
長方形状とすることにより、被照射面(R)上の長方形
状の照明領域を高い照明効率で照明できる。
In this case, the second fly-eye lens (4)
The outer shape of the second fly-eye lens (4) is substantially rectangular or linear, but the second fly-eye lens (4) can be configured by arranging the lens elements (4a) in one row or a plurality of rows. Next, when the third multi-light source image forming means (6) is composed of a fly's eye lens, the incident surfaces of the individual lens elements (6a) constituting this fly's eye lens (6) are respectively on the irradiated surface (R). It becomes conjugate with the illumination area of. Therefore, by making the cross-sectional shape of the lens element (6a) of the third fly-eye lens (6) rectangular, it is possible to illuminate a rectangular illumination area on the irradiated surface (R) with high illumination efficiency.

【0018】更に、それら第1、第2及び第3多光源像
形成手段の内の少なくとも1つを、例えば図3に示すよ
うにロッドインテグレータ等の内面反射型の光学部材
(21,41,61)で構成した場合には、それら内面
反射型の光学部材(21,41,61)の入射面側に複
数の光源像(虚像も含む)が形成される。従って、フラ
イアイレンズを使用した場合と同様に、被照射面(R)
上の照明領域を高い照度分布均一性で照明できる。
Further, at least one of the first, second and third multi-light source image forming means is provided with an internal reflection type optical member (21, 41, 61) such as a rod integrator as shown in FIG. In the case of (1), a plurality of light source images (including virtual images) are formed on the incident surface side of the internal reflection type optical members (21, 41, 61). Therefore, the irradiated surface (R) is the same as when using the fly-eye lens.
The upper illumination area can be illuminated with high uniformity of illuminance distribution.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明による照明光学装置の第1実施
例につき図1を参照して説明する。本実施例は、本発明
の照明光学装置を半導体製造用の露光装置の照明系に適
用したものである。図1(a)は本実施例の照明光学装
置を示し、この図1(a)において、光源系1は、楕円
鏡12、この楕円鏡12の第1焦点位置に配置されg線
(436nm)、i線(365nm)又はh線(407
nm)等の光束(露光光)を出力する水銀ランプ等の光
源11、及びコリメータレンズ13より構成されてい
る。光源11から出力された光束は、楕円鏡12の集光
作用により楕円鏡12の第2焦点位置に光源像を形成
し、この光源像からの光束がコリメータレンズ13によ
って平行光束に変換される。この平行光束は、ほぼ正方
形状に配列された複数の光源像を形成する第1多光源形
成手段としてのフライアイレンズ型のオプティカル・イ
ンテグレータ2に入射する。この照明光学装置の光軸に
平行にY軸を取り、Y軸に垂直で且つ図1(a)の紙面
に平行にX軸を取り、Y軸に垂直で且つ図1(a)の紙
面に垂直にZ軸を取る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the illumination optical device according to the present invention will be described below with reference to FIG. The present embodiment is an application of the illumination optical device of the present invention to an illumination system of an exposure apparatus for semiconductor manufacturing. FIG. 1A shows an illumination optical apparatus of the present embodiment. In FIG. 1A, a light source system 1 is an elliptical mirror 12, and a g-line (436 nm) is arranged at a first focus position of the elliptic mirror 12. , I-line (365 nm) or h-line (407
(nm) etc., and a collimator lens 13 and a light source 11 such as a mercury lamp for outputting a light flux (exposure light). The light beam output from the light source 11 forms a light source image at the second focal position of the elliptic mirror 12 by the condensing action of the elliptic mirror 12, and the light beam from this light source image is converted into a parallel light beam by the collimator lens 13. The parallel light flux enters a fly-eye lens type optical integrator 2 as a first multi-light source forming means for forming a plurality of light source images arranged in a substantially square shape. The Y axis is taken parallel to the optical axis of this illumination optical device, the X axis is taken perpendicular to the Y axis and parallel to the paper surface of FIG. 1 (a), and the Y axis is perpendicular to the paper surface of FIG. 1 (a). Take the Z axis vertically.

【0020】図1(b)に示すように、オプティカル・
インテグレータ2は、長方形状の断面形状を有する複数
のレンズ素子2aを、X方向に6行、且つZ方向に2列
で外形が正方形状になるように束ねて構成されている。
レンズ素子2aの断面形状は、後述の第2多光源形成手
段としてのオプティカル・インテグレータ4(図1
(c))の全体の断面形状と相似になるように形成され
ている。オプティカル・インテグレータ2を構成する各
レンズ素子2aに入射した光束は集光され、各レンズ素
子2aの射出側にそれぞれ光源像が形成される。従っ
て、図1(a)において、オプティカル・インテグレー
タ2の射出面(射出側焦点面)A1には、レンズ素子2
aの数に相当する複数の光源像がほぼ正方形状に配列さ
れて形成され、ここには実質的に2次光源が形成され
る。
As shown in FIG. 1B, the optical
The integrator 2 is configured by bundling a plurality of lens elements 2a having a rectangular cross-sectional shape into six rows in the X direction and two columns in the Z direction so that the outer shape is a square shape.
The cross-sectional shape of the lens element 2a is the same as that of the optical integrator 4 (see FIG.
It is formed to be similar to the overall cross-sectional shape of (c). The light flux that has entered each lens element 2a that constitutes the optical integrator 2 is condensed, and a light source image is formed on the exit side of each lens element 2a. Therefore, in FIG. 1A, the lens element 2 is provided on the exit surface (exit side focal surface) A1 of the optical integrator 2.
A plurality of light source images corresponding to the number of a are arranged and formed in a substantially square shape, and a secondary light source is substantially formed here.

【0021】その射出面A1近傍に円形開口を有する光
量調整用の開口絞り31が配置され、オプティカル・イ
ンテグレータ2によって形成された複数の2次光源の
内、開口絞り31内の2次光源からの光束は、レンズ3
2及び33よりなるリレー光学系3によって集光され、
長方形状に配列された複数の光源像を形成する第2多光
源形成手段としてのフライアイレンズ型のオプティカル
・インテグレータ4に入射する。図1(c)に示すよう
に、オプティカル・インテグレータ4はほぼ正方形状の
断面を有するレンズ素子4aを、X方向に3行、且つZ
方向に9列で全体として長方形状になるように束ねて構
成されている。この各レンズ素子7aの断面形状は、後
述の第3多光源像形成手段としてのオプティカル・イン
テグレータ6(図1(d))の全体の断面形状と相似と
なるように構成されている。これにより、オプティカル
・インテグレータ4を構成する各レンズ素子4aを通過
する光束は、それぞれ集光されて各レンズ素子4aの射
出側に光源像が形成される。従って、図1(a)におい
て、オプティカル・インテグレータ4の射出面A2に
は、長方形状に配列された複数の光源像が形成され、こ
こには実質的に3次光源が形成される。
An aperture stop 31 having a circular aperture for adjusting the amount of light is arranged in the vicinity of the exit surface A1, and among the plurality of secondary light sources formed by the optical integrator 2, the secondary light source in the aperture stop 31 emits light. The luminous flux is the lens 3
It is condensed by the relay optical system 3 composed of 2 and 33,
The light is incident on a fly-eye lens type optical integrator 4 as a second multi-light source forming means for forming a plurality of light source images arranged in a rectangular shape. As shown in FIG. 1C, the optical integrator 4 includes lens elements 4a having a substantially square cross section, three rows in the X direction, and Z.
It is configured by bundling so as to form a rectangular shape as a whole in nine rows in the direction. The cross-sectional shape of each lens element 7a is configured to be similar to the overall cross-sectional shape of the optical integrator 6 (FIG. 1 (d)) as the third multi-light source image forming means described later. As a result, the light fluxes passing through the respective lens elements 4a forming the optical integrator 4 are condensed and a light source image is formed on the exit side of each lens element 4a. Therefore, in FIG. 1A, a plurality of light source images arranged in a rectangular shape are formed on the exit surface A2 of the optical integrator 4, and a substantially tertiary light source is formed therein.

【0022】オプティカル・インテグレータ4によって
形成された3次光源からの光束は、レンズ51及び52
よりなるリレー光学系5によって集光されて、ほぼ正方
形状に配列された複数の光源像を形成する第3多光源像
形成手段としてのフライアイレンズ型のオプティカル・
インテグレータ6に入射する。図1(d)に示すよう
に、オプティカル・インテグレータ6は、長方形状の断
面を有するレンズ素子6aを、X方向に9行、且つZ方
向に3列で全体としてほぼ正方形状になるように束ねて
構成されている。このオプティカル・インテグレータ6
を構成する各レンズ素子6aを通過する光束は、それぞ
れ集光されて各レンズ素子6aの射出側には光源像が形
成される。従って、オプティカル・インテグレータ6の
射出面A3には正方形状に配列された複数の光源像が形
成され、ここには実質的に4次光源が形成される。
The luminous flux from the tertiary light source formed by the optical integrator 4 is reflected by the lenses 51 and 52.
Optical system of fly-eye lens type as third multi-light source image forming means for forming a plurality of light source images which are condensed by the relay optical system 5 and are arranged in a substantially square shape.
It is incident on the integrator 6. As shown in FIG. 1D, the optical integrator 6 bundles the lens elements 6a having a rectangular cross section into nine rows in the X direction and three columns in the Z direction so as to form a substantially square shape as a whole. Is configured. This Optical Integrator 6
The light fluxes passing through the respective lens elements 6a constituting the above are condensed respectively, and a light source image is formed on the exit side of each lens element 6a. Therefore, a plurality of light source images arranged in a square shape are formed on the exit surface A3 of the optical integrator 6, and a quaternary light source is formed substantially there.

【0023】図1(a)において、オプティカル・イン
テグレータ6の射出面A3に形成される正方形状に配列
された複数の光源像の数は、オプティカル・インテグレ
ータ2を構成するレンズ素子2aの数をL個、オプティ
カル・インテグレータ4を構成するレンズ素子4aの数
をM個、オプティカル・インテグレータ6を構成するレ
ンズ素子6aの数をN個としたとき、L×M×N個とな
る。
In FIG. 1A, the number of a plurality of light source images arranged in a square shape on the exit surface A3 of the optical integrator 6 is equal to the number of lens elements 2a constituting the optical integrator 2 by L. L × M × N, where M is the number of lens elements 4a forming the optical integrator 4 and N is the number of lens elements 6a forming the optical integrator 6.

【0024】なお、リレー光学系3はオプティカル・イ
ンテグレータ2の入射面B1とオプティカル・インテグ
レータ4の入射面B2とを光学的に共役にすると共に、
オプティカル・インテグレータ2の射出面A1とオプテ
ィカル・インテグレータ4の射出面A2とを光学的に共
役にしている。また、リレー光学系5も、オプティカル
・インテグレータ4の入射面B2とオプティカル・イン
テグレータ6の入射面B3とを光学的に共役にすると共
に、オプティカル・インテグレータ4の射出面A2とオ
プティカル・インテグレータ6の射出面A3とを光学的
に共役にしている。
The relay optical system 3 makes the incident surface B1 of the optical integrator 2 and the incident surface B2 of the optical integrator 4 optically conjugate with each other, and
The exit surface A1 of the optical integrator 2 and the exit surface A2 of the optical integrator 4 are optically conjugated. In addition, the relay optical system 5 also optically makes the incident surface B2 of the optical integrator 4 and the incident surface B3 of the optical integrator 6 optically conjugate with each other, and the exit surface A2 of the optical integrator 4 and the exit of the optical integrator 6 The surface A3 is optically conjugated.

【0025】オプティカル・インテグレータ6によって
形成されたほぼ正方形状に分布する4次光源からの光束
は、オプティカル・インテグレータ6の射出面A3の直
後に配置されている開口絞り71の円形状の開口を通過
して、断面形状が円形状の光束に変換される。開口絞り
71を通過した光束は、レンズ72及び73よりなるコ
ンデンサー光学系7を介して、被照射面R1上に設置さ
れているレチクルRのパターン形成面上の長方形状の照
明領域8aを照明する。コンデンサー光学系7は、その
前側焦点位置がオプティカル・インテグレータ6の射出
面(射出側焦点面)A3と一致し、且つその後側焦点位
置が被照射面R1に一致するように構成されている。従
って、オプティカル・インテグレータ6により形成され
る複数の光源像からの光束はコンデンサー光学系7の集
光作用により被照射面R1を重畳的に均一な照度分布で
照明する。この際に、初段のオプティカル・インテグレ
ータ2の直後の開口絞り31の交換、又は開口絞り31
の開口径の制御により、被照射面R1上での光量が制御
される。
The light beam from the fourth-order light source formed by the optical integrator 6 and distributed in a substantially square shape passes through the circular aperture of the aperture stop 71 disposed immediately after the exit surface A3 of the optical integrator 6. Then, the cross-sectional shape is converted into a circular luminous flux. The light flux that has passed through the aperture stop 71 illuminates a rectangular illumination area 8a on the pattern formation surface of the reticle R installed on the irradiation surface R1 via the condenser optical system 7 including the lenses 72 and 73. . The condenser optical system 7 is configured such that its front focal position coincides with the emission surface (emission side focal plane) A3 of the optical integrator 6 and its rear focal position coincides with the irradiated surface R1. Therefore, the light fluxes from the plurality of light source images formed by the optical integrator 6 illuminate the illuminated surface R1 in a superimposed and uniform illuminance distribution by the condensing action of the condenser optical system 7. At this time, the aperture stop 31 immediately after the first-stage optical integrator 2 is replaced, or the aperture stop 31 is replaced.
The amount of light on the irradiated surface R1 is controlled by controlling the opening diameter of the.

【0026】次に、本実施例の3段のオプティカル・イ
ンテグレータ2,4及び6の作用につき説明する。先
ず、被照射面R1上の照明領域8aは、図1(e)に示
すようにZ方向に長い長方形であり、その照明領域8a
内のパターンが不図示の投影光学系を介して不図示のウ
エハ上に投影露光される。この際に、照明領域8aに対
して短辺方向であるX方向にレチクルRを走査し、それ
と共役な方向にウエハを走査することにより、レチクル
Rの全パターンがウエハのショット領域に転写される。
Next, the operation of the three-stage optical integrators 2, 4 and 6 of this embodiment will be described. First, the illumination area 8a on the irradiation surface R1 is a rectangle long in the Z direction as shown in FIG.
The pattern inside is projected and exposed on a wafer (not shown) through a projection optical system (not shown). At this time, the reticle R is scanned in the X direction, which is the short-side direction with respect to the illumination area 8a, and the wafer is scanned in a direction conjugate with it, so that the entire pattern of the reticle R is transferred to the shot area of the wafer. .

【0027】また、コンデンサー光学系7によりその長
方形状の照明領域8aと、オプティカル・インテグレー
タ6の各レンズ素子6aの入射面B3とが共役になって
いる。そこで、各レンズ素子6aに入射した光束の大部
分が照明領域8aを照明するためには、各レンズ素子6
aの断面形状を照明領域8aと相似(共役)な長方形と
する必要があるが、既に説明したように本実施例ではこ
の条件が満たされている。具体的に各レンズ素子6aの
形状は、図1(h)に示すように直方体状となってい
る。これにより、オプティカル・インテグレータ6に入
射した光束が効率的に照明領域8a上に照射される。
The rectangular illumination area 8a and the entrance surface B3 of each lens element 6a of the optical integrator 6 are conjugated by the condenser optical system 7. Therefore, in order for most of the light flux incident on each lens element 6a to illuminate the illumination area 8a, each lens element 6
The cross-sectional shape of a needs to be a rectangle that is similar (conjugate) to the illumination area 8a, but this condition is satisfied in this embodiment as already described. Specifically, each lens element 6a has a rectangular parallelepiped shape as shown in FIG. As a result, the light flux incident on the optical integrator 6 is efficiently irradiated onto the illumination area 8a.

【0028】更に、オプティカル・インテグレータ6の
全体の断面形状は正方形状であるが、これは開口絞り7
1の開口としては通常円形の開口、輪体状の開口、又は
円周に内接する複数個の小円開口等が使用されるため、
その円形の開口又は円周に外接する図形として正方形状
の図形を選んだものである。以上をまとめると、図1に
おいて、長方形の照明領域8aの長手方向(Z方向)の
幅をt、短辺方向(X方向)の幅をsとして、オプティ
カル・インテグレータ6の各レンズ素子6aのZ方向
(長手方向)の幅をm3、X方向(短手方向)の幅をn
3とすると、次の関係を満たすことが望ましい。
Further, the optical integrator 6 has a square sectional shape as a whole.
As the opening of 1, usually a circular opening, a ring-shaped opening, or a plurality of small circular openings inscribed in the circumference are used,
A square figure is selected as a figure circumscribing the circular opening or circumference. To summarize the above, in FIG. 1, assuming that the width in the longitudinal direction (Z direction) of the rectangular illumination area 8a is t and the width in the short side direction (X direction) is s, Z of each lens element 6a of the optical integrator 6 is represented. The width in the direction (longitudinal direction) is m3, and the width in the X direction (transverse direction) is n.
When it is set to 3, it is desirable to satisfy the following relationship.

【0029】m3/n3=s/t (1) 次に、リレーレンズ系5により、オプティカル・インテ
グレータ6の入射面B3とオプティカル・インテグレー
タ4の各レンズ素子4aの入射面B2とが共役になって
いる。そのため、各レンズ素子4aに入射した光束の大
部分がオプティカル・インテグレータ6の入射側端面に
入射するためには、各レンズ素子4aの断面形状をオプ
ティカル・インテグレータ6の断面形状と相似(共役)
な正方形状とする必要があるが、既に説明したように本
実施例ではこの条件が満たされている。具体的に、各レ
ンズ素子4aは、図1(g)に示すように正四角柱状と
なっている。これにより、オプティカル・インテグレー
タ4に入射した光束が効率的にオプティカル・インテグ
レータ6に入射する。
M3 / n3 = s / t (1) Next, the entrance surface B3 of the optical integrator 6 and the entrance surface B2 of each lens element 4a of the optical integrator 4 are conjugated by the relay lens system 5. There is. Therefore, in order for most of the light flux that has entered each lens element 4a to enter the incident side end surface of the optical integrator 6, the cross-sectional shape of each lens element 4a is similar to (conjugated to) the cross-sectional shape of the optical integrator 6.
However, as described above, this condition is satisfied in this embodiment. Specifically, each lens element 4a has a square prism shape as shown in FIG. As a result, the light flux that has entered the optical integrator 4 efficiently enters the optical integrator 6.

【0030】更に、オプティカル・インテグレータ4の
全体の断面形状は長方形状であるが、これはコリメータ
レンズ13から射出される断面形状が円形状の光束を効
率的に照明領域8aに導くために定められたものであ
る。以上をまとめると、3段目のオプティカル・インテ
グレータ6の全体のZ方向の幅をM3、X方向の幅をN
3として、オプティカル・インテグレータ4の各レンズ
素子4aのZ方向の幅をm2、X方向の幅をn2とする
と、次の関係を満たすことが望ましい。
Further, the optical integrator 4 has a rectangular sectional shape as a whole, but this is determined in order to efficiently guide the luminous flux having a circular sectional shape emitted from the collimator lens 13 to the illumination area 8a. It is a thing. To summarize the above, the width of the third optical integrator 6 in the Z direction is M3, and the width in the X direction is N.
Assuming that the width in the Z direction of each lens element 4a of the optical integrator 4 is m2 and the width in the X direction is n2, it is desirable that the following relationship be satisfied.

【0031】m2/n2=M3/N3 (2) なお、開口絞り71の開口は円形であるため、最終段の
オプティカル・インテグレータ6の断面形状を従来例の
図5(b)に示すように、ほぼ円形状又はほぼ正6角形
状とすることも可能であるが、この場合には、2段目の
オプティカル・インテグレータ4の各レンズ素子4aの
断面形状を正6角形として、全体の断面形状をほぼ長方
形状としてもよい。
M2 / n2 = M3 / N3 (2) Since the aperture of the aperture stop 71 is circular, the cross-sectional shape of the final stage optical integrator 6 is as shown in FIG. It is also possible to have a substantially circular shape or a substantially regular hexagonal shape, but in this case, the sectional shape of each lens element 4a of the second stage optical integrator 4 is a regular hexagonal shape, and the entire sectional shape is It may have a substantially rectangular shape.

【0032】更に、リレーレンズ系3により、オプティ
カル・インテグレータ4の入射面B2とオプティカル・
インテグレータ2の各レンズ素子2aの入射面B1とが
共役になっている。そのため、各レンズ素子2aに入射
した光束の大部分がオプティカル・インテグレータ4の
入射側端面に入射するためには、各レンズ素子2aの断
面形状をオプティカル・インテグレータ4の断面形状と
相似(共役)な長方形状とする必要があるが、既に説明
したように本実施例ではこの条件が満たされている。具
体的に、各レンズ素子2aは、図1(f)に示すように
直方体状となっている。これにより、オプティカル・イ
ンテグレータ2に入射した光束が効率的にオプティカル
・インテグレータ4に入射する。
Further, by means of the relay lens system 3, the incident surface B2 of the optical integrator 4 and the optical
The entrance surface B1 of each lens element 2a of the integrator 2 is conjugated. Therefore, in order for most of the light flux incident on each lens element 2a to be incident on the incident side end surface of the optical integrator 4, the cross-sectional shape of each lens element 2a is similar (conjugate) to the cross-sectional shape of the optical integrator 4. Although it is necessary to make the shape rectangular, this condition is satisfied in this embodiment as already described. Specifically, each lens element 2a has a rectangular parallelepiped shape as shown in FIG. As a result, the light beam that has entered the optical integrator 2 efficiently enters the optical integrator 4.

【0033】更に、オプティカル・インテグレータ2の
全体の断面形状は正方形状であるが、これは光源系1か
ら射出される光束の断面形状がほぼ円形状であるため、
その光束を効率的に受光するために定められたものであ
る。以上をまとめると、2段目のオプティカル・インテ
グレータ4の全体のZ方向(長手方向)の幅をM2、X
方向(短手方向)の幅をN2として、オプティカル・イ
ンテグレータ2の各レンズ素子2aのZ方向(長手方
向)の幅をm1、X方向(短手方向)の幅をn1とする
と、次の関係を満たすことが望ましい。
Further, the optical integrator 2 has a square sectional shape as a whole, but this is because the luminous flux emitted from the light source system 1 has a substantially circular sectional shape.
It is defined in order to efficiently receive the light flux. To summarize the above, the width in the Z direction (longitudinal direction) of the entire second-stage optical integrator 4 is set to M2, X.
When the width in the direction (short direction) is N2, the width in the Z direction (longitudinal direction) of each lens element 2a of the optical integrator 2 is m1, and the width in the X direction (short direction) is n1, the following relationship It is desirable to satisfy.

【0034】 m1/n1=M2/N2 (3) これら(1)式〜(3)式を満たす範囲内で各オプティ
カル・インテグレータ2,4及び6の全体の外形、及び
各レンズ素子の断面形状が設定できる。また、照度分布
均一性に関しては、最終段のオプティカル・インテグレ
ータ6の射出面A3に多数の光源像が形成されるため、
照明領域8a上では重畳効果により極めて高い照度分布
均一性が得られる。以上のように本実施例によれば、オ
プティカル・インテグレータを3段重ねたことにより、
光源系1から射出される断面形状がほぼ円形の光束によ
り、長方形の照明領域8aが均一な照度分布(ケーラ照
明)で、且つ高い照明効率で照明される。
M1 / n1 = M2 / N2 (3) Within the range where these expressions (1) to (3) are satisfied, the overall outer shape of each optical integrator 2, 4 and 6 and the cross-sectional shape of each lens element are Can be set. Regarding the uniformity of the illuminance distribution, a large number of light source images are formed on the exit surface A3 of the optical integrator 6 at the final stage.
An extremely high illuminance distribution uniformity can be obtained on the illumination area 8a due to the superimposing effect. As described above, according to this embodiment, by stacking the optical integrators in three stages,
The rectangular illumination area 8a is illuminated with a uniform illuminance distribution (Kehler illumination) and with high illumination efficiency by the light flux emitted from the light source system 1 and having a substantially circular cross section.

【0035】なお、既に述べたように本出願人は特願平
5−19098号において、2段のオプティカル・イン
テグレータを用いた照明光学装置を提案している。そこ
で、その2段のオプティカル・インテグレータを用いた
場合と、本実施例のように3段のオプティカル・インテ
グレータを用いた場合との比較を行う。図4は、そのよ
うに2段のオプティカル・インテグレータを用いた照明
光学装置中で、光源としてエキシマレーザ光源を使用
し、オプティカル・インテグレータとしてフライアイレ
ンズ型を使用した場合を示す。この図4の光源系1Bに
おいて、エキシマレーザ光源14から出力される断面形
状が矩形(図4(b)参照)の平行光束LBは、シリン
ドリカルレンズ15及び16よりなるビーム整形光学系
を通過して所定のビーム断面の光束に変換される。
As described above, the applicant of the present application has proposed an illumination optical device using a two-stage optical integrator in Japanese Patent Application No. 5-19098. Therefore, a comparison is made between the case where the two-stage optical integrator is used and the case where the three-stage optical integrator is used as in the present embodiment. FIG. 4 shows a case in which an excimer laser light source is used as a light source and a fly-eye lens type is used as an optical integrator in an illumination optical device using such a two-stage optical integrator. In the light source system 1B of FIG. 4, the parallel light flux LB output from the excimer laser light source 14 and having a rectangular cross section (see FIG. 4B) passes through the beam shaping optical system including the cylindrical lenses 15 and 16. It is converted into a light beam having a predetermined beam cross section.

【0036】光源系1Bから射出される光束は、図4
(c)に示す正方形状のレンズ断面を有する複数のレン
ズ素子42aが図4(a)の紙面に垂直な方向に1列状
に配列されたオプティカル・インテグレータ42に入射
する。このオプティカル・インテグレータ42の射出面
E2における図4(a)の紙面と垂直な方向には1列状
に配列された光源像が形成される。射出面E2近傍には
円形開口を有する開口絞り55が配置され、開口絞り5
5内の複数個の光源像からの光束は、レンズ56及び5
7よりなるリレー光学系5Bを通過した後、図4(d)
に示すように長方形状のレンズ断面を有する複数のレン
ズ素子62aが正方形状に配列されてオプティカル・イ
ンテグレータ62に入射する。
The luminous flux emitted from the light source system 1B is shown in FIG.
A plurality of lens elements 42a having a square lens cross section shown in (c) are incident on the optical integrator 42 arranged in one row in a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 4 (a). Light source images arranged in one row are formed in a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 4A on the emission surface E2 of the optical integrator 42. An aperture stop 55 having a circular aperture is arranged near the exit surface E2, and the aperture stop 5
The light beams from the plurality of light source images in 5 are reflected by the lenses 56 and 5
4 (d) after passing through the relay optical system 5B composed of 7
A plurality of lens elements 62a having a rectangular lens cross section are arranged in a square shape and enter the optical integrator 62 as shown in FIG.

【0037】オプティカル・インテグレータ62の集光
作用によりその射出面E3には、正方形状に配列された
複数の光源像が形成される。この光源像位置には円形状
の開口部を有する開口絞り77が設けてあり、この開口
絞り77により円形状となった複数の光源像からの光束
は、レンズ78及び79よりなるコンデンサー光学系7
Bを介してレチクルRの被照射面R2上の長方形状の照
明領域8aを照明する。このコンデンサー光学系7B
は、この前側焦点位置がオプティカル・インテグレータ
62の射出面E3と一致し、この後側焦点位置がレチク
ルRの被照射面R2に一致するように構成されている。
これにより、オプティカル・インテグレータ62により
形成される複数の光源像からの光束は、コンデンサー光
学系7Bの集光作用を受けてレチクルR上の照明領域8
aを重畳的に均一照明する。
Due to the condensing action of the optical integrator 62, a plurality of light source images arranged in a square shape are formed on the exit surface E3 thereof. An aperture stop 77 having a circular opening is provided at the position of the light source image, and the light flux from the plurality of light source images circularized by the aperture stop 77 causes the condenser optical system 7 including lenses 78 and 79.
The rectangular illumination area 8a on the illuminated surface R2 of the reticle R is illuminated via B. This condenser optical system 7B
Of the optical integrator 62 has its front focus position aligned with the exit surface E3 of the optical integrator 62, and its rear focus position aligned with the illuminated surface R2 of the reticle R.
As a result, the light fluxes from the plurality of light source images formed by the optical integrator 62 are subjected to the condensing action of the condenser optical system 7B, and the illumination area 8 on the reticle R is illuminated.
a is uniformly illuminated in a superimposed manner.

【0038】また、オプティカル・インテグレータ22
の直後の開口絞り55の交換や、開口絞り55の開口径
の変化により、レチクルRの照明領域8aでの光量が制
御されていた。しかしながら、この図4において、光源
系1Bの代わりに図1の光源系1を用いると、光源系1
からの光束の断面形状が円形であるため、オプティカル
・インテグレータ42の入射面で光量損失が生じてしま
う。これに対して、図1の本実施例では初段のオプティ
カル・インテグレータ2の断面形状が正方形状であるた
め、その初段のオプティカル・インテグレータ2での光
量損失が少なくなっている。
Also, the optical integrator 22
The amount of light in the illumination area 8a of the reticle R was controlled by replacing the aperture stop 55 immediately after the change and changing the aperture diameter of the aperture stop 55. However, in FIG. 4, if the light source system 1 of FIG. 1 is used instead of the light source system 1B, the light source system 1
Since the cross-sectional shape of the light flux from is circular, light amount loss occurs at the incident surface of the optical integrator 42. On the other hand, in the present embodiment of FIG. 1, since the cross-sectional shape of the optical integrator 2 in the first stage is square, the light amount loss in the optical integrator 2 in the first stage is small.

【0039】次に、被照射面上での光量制御について比
較すると、図4の例ではオプティカル・インテグレータ
42の直後の開口絞り55により光量を制御している。
この場合、オプティカル・インテグレータ42が長方形
状をしているため、ここからの光束を開口絞り55の円
形開口で制限すると、オプティカル・インテグレータ6
2の各レンズ素子62aの射出面にそれぞれ形成される
オプティカル・インテグレータ42の射出面の複数の光
源像の像の大きさが変化する。また、図4の照明光学装
置を投影露光装置に適用した場合、その開口絞り55の
配置面は投影光学系の瞳面と共役である。
Next, comparing the control of the amount of light on the surface to be illuminated, in the example of FIG. 4, the amount of light is controlled by the aperture stop 55 immediately after the optical integrator 42.
In this case, since the optical integrator 42 has a rectangular shape, if the light flux from here is limited by the circular aperture of the aperture stop 55, the optical integrator 6
The image size of the plurality of light source images on the exit surface of the optical integrator 42 formed on the exit surface of each of the second lens elements 62a changes. When the illumination optical apparatus of FIG. 4 is applied to a projection exposure apparatus, the plane on which the aperture stop 55 is arranged is conjugate with the pupil plane of the projection optical system.

【0040】従って、開口絞り55の開口径の変化によ
り、投影光学系の瞳面に形成される光源像が局所的に変
化して、結像性能が劣化する恐れがある。オプティカル
・インテグレータ62のレンズ素子62aの配列数をN
1(X方向)×N2(Z方向)とすると、投影光学系の
瞳面に形成される光源像の局所的な変化のX方向及びZ
方向への空間的周期は(N1,N2)となる。
Therefore, due to the change in the aperture diameter of the aperture stop 55, the light source image formed on the pupil plane of the projection optical system may locally change and the image forming performance may be deteriorated. The number of arrayed lens elements 62a of the optical integrator 62 is N
1 (X direction) × N2 (Z direction), the X direction and Z of the local change of the light source image formed on the pupil plane of the projection optical system.
The spatial period in the direction is (N1, N2).

【0041】これに対して、図1に示す本実施例におい
ては、オプティカル・インテグレータを3段直列に配置
し、且つ光量制御のための開口絞り31を初段のオプテ
ィカル・インテグレータ2の射出面の直後に置いてい
る。従って、オプティカル・インテグレータ4の各レン
ズ素子の配列数をM1(X方向)×M2(Z方向)、オ
プティカル・インテグレータ6の配列をN1×N2とし
たとき、投影光学系の瞳面に形成される光源像の局所的
変化のX方向及びZ方向への空間的周期は(M1×N
2,M1×N2)となり、投影光学系の瞳面に形成され
る光源像の輝度変化をより小さく局所化でき、投影光学
系の結像性能の劣化を防ぐことが出来るという利点があ
る。
On the other hand, in the present embodiment shown in FIG. 1, three optical integrators are arranged in series, and an aperture stop 31 for controlling the light quantity is provided immediately after the exit surface of the optical integrator 2 in the first stage. I put it in. Therefore, when the array number of each lens element of the optical integrator 4 is M1 (X direction) × M2 (Z direction) and the array of the optical integrator 6 is N1 × N2, it is formed on the pupil plane of the projection optical system. The spatial period of the local change of the light source image in the X and Z directions is (M1 × N
2, M1 × N2), which is advantageous in that the change in the brightness of the light source image formed on the pupil plane of the projection optical system can be localized to a smaller extent and the deterioration of the imaging performance of the projection optical system can be prevented.

【0042】次に、本発明の第2実施例につき図2を参
照して説明する。本実施例は、図1の実施例を用いて円
弧状の照明領域を照明するものであり、この図2におい
て図1に対応する部分には同一符号を付してその詳細説
明を省略する。図2(a)は本実施例の照明光学装置の
平面図、図2(b)はその照明光学装置の正面図であ
り、これら図2(a)及び(b)において被照射面R1
上の長方形の照明領域が均一な照度分布で照明されてい
る。本実施例では、その被照射面R1上に視野絞り81
が設置されている。視野絞り81の開口はその長方形の
照明領域より小さい長方形であり、視野絞り81の開口
形状により最終的な円弧状の照明領域の形状(大きさ)
が決定される。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The present embodiment illuminates an arcuate illumination area using the embodiment of FIG. 1, and in FIG. 2, parts corresponding to those in FIG. 1 are assigned the same reference numerals and detailed explanations thereof are omitted. 2A is a plan view of the illumination optical device of this embodiment, and FIG. 2B is a front view of the illumination optical device. In these FIGS. 2A and 2B, the illuminated surface R1 is shown.
The upper rectangular illumination area is illuminated with a uniform illuminance distribution. In this embodiment, the field stop 81 is provided on the illuminated surface R1.
Is installed. The aperture of the field stop 81 is a rectangle smaller than the rectangular illumination area, and the shape (size) of the final arc-shaped illumination area depends on the opening shape of the field stop 81.
Is determined.

【0043】その視野絞り81の開口を通過した光束
が、リレーレンズ82を介してトーリック型反射鏡83
に入射する。この際に、リレーレンズ82の前側焦点位
置は視野絞り81の配置面と一致し、リレーレンズ82
の後側焦点位置を面A4とすると、面A4はオプティカ
ル・インテグレータ6の射出面A3と共役であり、この
面A4には多数の光源像が形成される。
The light flux passing through the aperture of the field stop 81 passes through the relay lens 82 and the toric reflector 83.
Incident on. At this time, the front focus position of the relay lens 82 coincides with the arrangement surface of the field stop 81, and the relay lens 82
Assuming that the rear focus position is the surface A4, the surface A4 is conjugate with the exit surface A3 of the optical integrator 6, and many light source images are formed on this surface A4.

【0044】この場合、その光源像が形成される面A4
に垂直に、且つ図2(a)及び(b)の紙面内にオプテ
ィカル・インテグレータ6の光軸AX4があるものとす
る。また、所定の定数αを用いて、面A4に垂直で且つ
光軸AX4からの距離が1/(2α)になる位置に面A
5を設定し、面A5内で図2(b)の紙面に平行な方向
にY軸、面A5内でY軸に垂直(即ち、図2(b)の紙
面に垂直)にZ軸を取る。そして、Y軸上で面A4から
の距離が3/(4α)の位置に原点Oを取り、原点Oを
通りYZ平面に垂直にX軸を取る。
In this case, the surface A4 on which the light source image is formed
It is assumed that the optical axis AX4 of the optical integrator 6 is perpendicular to, and in the paper surface of FIGS. 2 (a) and 2 (b). Also, using a predetermined constant α, the surface A is placed at a position perpendicular to the surface A4 and at a distance of 1 / (2α) from the optical axis AX4.
5 is set, and the Y axis is taken in the direction parallel to the paper surface of FIG. 2B in the plane A5, and the Z axis is taken perpendicular to the Y axis in the surface A5 (that is, perpendicular to the paper surface of FIG. 2B). . Then, the origin O is taken at a position where the distance from the surface A4 is 3 / (4α) on the Y axis, and the X axis is taken perpendicularly to the YZ plane through the origin O.

【0045】次に、図2(b)に示すように、XY平面
内に、上述の定数αを用いて、Y=αX2 で定義される
放物線PAを想定する。この放物線PAの対称軸AX1
はY軸そのものである。この放物線PAを、面A4内で
光軸AX4を通り且つY軸に垂直な基準軸AX3を中心
として回転させて放物トーリック状の回転面を形成し、
この放物トーリック状の回転面と光軸AX4との交点を
中心として、この放物トーリック状の回転面上で2つの
緯線と、2つの経線とで囲まれた領域をトーリック型反
射鏡83の反射面とする。トーリック型反射鏡83の反
射面には、光源系1から供給される波長帯の光束に対す
る反射率を高めるための誘電体多層膜が形成されてい
る。
Next, as shown in FIG. 2B, a parabola PA defined by Y = αX 2 is assumed in the XY plane using the above-mentioned constant α. The axis of symmetry AX1 of this parabola PA
Is the Y axis itself. This parabola PA is rotated about a reference axis AX3 that passes through the optical axis AX4 in the plane A4 and is perpendicular to the Y axis to form a paraboloidal toric rotation surface,
A region surrounded by two parallels and two meridians on the parabolic toric surface of rotation is centered on the intersection of the parabolic toric surface of rotation and the optical axis AX4. Use as a reflective surface. On the reflecting surface of the toric reflector 83, a dielectric multilayer film for increasing the reflectance with respect to the light flux in the wavelength band supplied from the light source system 1 is formed.

【0046】この場合、面A4上の光源像の1点からの
光束は、実線で示すようにトーリック型反射鏡83によ
り平行光束に変換され、面A5上にはテレセントリック
性が維持された状態で円弧状の照明領域84が形成され
る。一方、光軸AX4に平行な光は、トーリック型反射
鏡83で反射された後、面A5上のY軸上で原点Oから
1/(4α)だけ離れた位置、即ち面A4から1/(2
α)だけ離れた位置を通過するため、照明領域83もそ
の位置を中心として形成されている。
In this case, the light flux from one point of the light source image on the surface A4 is converted into a parallel light flux by the toric reflector 83 as shown by the solid line, and the telecentricity is maintained on the surface A5. An arc-shaped illumination area 84 is formed. On the other hand, the light parallel to the optical axis AX4 is reflected by the toric reflection mirror 83, and then is separated from the origin O by 1 / (4α) on the Y axis on the surface A5, that is, from the surface A4 1 / ( Two
Since the light passes through a position separated by α), the illumination region 83 is also formed centering on that position.

【0047】図2において、トーリック型反射鏡83の
焦点距離fは1/(2α)であり、トーリック型反射鏡
83の入射瞳(光源側焦点位置)は、光源像形成面であ
る面A4上にあり、面A5上にトーリック型反射鏡83
の被照明物体側の焦点位置がある。その円弧状の照明領
域84が形成される面A5には、レチクルRのパターン
形成面が配置されている。レチクルRは、不図示のレチ
クルステージを介して円弧状の照明領域84に対してY
軸に平行な方向(短辺方向)に一定速度で走査される。
このレチクルRの下方には、例えば等倍で両側テレセン
トリックなミラープロジェクション方式の投影光学系
(不図示)が設けられている。ミラープロジェクション
方式の投影光学系では、良像範囲が円弧状であるため、
レチクルR上の照明領域を円弧状とすることが望まし
い。照明領域84内のレチクルRのパターン像がその投
影光学系を介して、レチクルRと同期して走査されるウ
エハW上に結像投影される。これにより、走査露光方式
でレチクルRのパターンがウエハ上に逐次転写露光され
る。
In FIG. 2, the focal length f of the toric reflection mirror 83 is 1 / (2α), and the entrance pupil (focal position on the light source side) of the toric reflection mirror 83 is on the surface A4 which is the light source image forming surface. And a toric reflector 83 on the surface A5.
There is a focal position on the illuminated object side. The pattern forming surface of the reticle R is arranged on the surface A5 on which the arcuate illumination region 84 is formed. The reticle R is attached to the Y-shaped illumination area 84 via a reticle stage (not shown).
Scanning is performed at a constant speed in a direction parallel to the axis (short side direction).
Below the reticle R, for example, a projection optical system (not shown) of a mirror projection type, which is both-side telecentric at the same magnification, is provided. In the projection optical system of the mirror projection system, the good image range is an arc,
It is desirable that the illumination area on the reticle R be arcuate. The pattern image of the reticle R in the illumination area 84 is image-projected via the projection optical system onto the wafer W which is scanned in synchronization with the reticle R. As a result, the pattern of the reticle R is sequentially transferred and exposed on the wafer by the scanning exposure method.

【0048】上述のように本実施例によれば、リレー光
学系7の次にトーリック型反射鏡83が設置されている
ため、最終的にレチクルR上の円弧状の照明領域84を
高い照度分布均一性が且つ高い照明効率で照明できる。
なお、本実施例でのトーリック型反射鏡83によりレチ
クルR上には、図2(c)に示す如き円弧状の照明領域
84が形成されるが、ここで、円弧状の照明領域84の
中心部の幅をs、円弧状の照明領域84の円弧(弦)の
長さをt、オプティカル・インテグレータ6の各レンズ
素子6aのZ方向(長手方向)の幅をm3、オプティカ
ル・インテグレータ6の各レンズ素子6aのX方向(短
手方向)の幅をn3とするとき、オプティカル・インテ
グレータ6は上述の(1)式を満足するように構成され
ることが望ましい。また、オプティカル・インテグレー
タ6とオプティカル・インテグレータ4との相対的な関
係は上述の(2)式を満足することが好ましく、更にオ
プティカル・インテグレータ4とオプティカル・インテ
グレータ2との相対的な関係は上述の(3)式を満足す
ることがより好ましい。次に、本発明の第3実施例につ
き図3を参照して説明する。本実施例はオプティカル・
インテグレータとしてガラスロッド等の内面反射型のイ
ンテグレータを使用して、長方形状の照明領域を照明す
る例であり、図3において図1に対応する部分には同一
符号を付してその詳細説明を省略する。
As described above, according to this embodiment, since the toric reflector 83 is installed next to the relay optical system 7, the arc-shaped illumination area 84 on the reticle R is finally provided with a high illuminance distribution. It is possible to illuminate with uniformity and high illumination efficiency.
It should be noted that an arc-shaped illumination area 84 as shown in FIG. 2C is formed on the reticle R by the toric reflector 83 in this embodiment, but here, the center of the arc-shaped illumination area 84 is formed. The width of the section is s, the length of the arc (chord) of the arc-shaped illumination area 84 is t, the width of each lens element 6a of the optical integrator 6 in the Z direction (longitudinal direction) is m3, and each of the optical integrator 6 is When the width of the lens element 6a in the X direction (short side direction) is n3, the optical integrator 6 is preferably configured to satisfy the above expression (1). The relative relationship between the optical integrator 6 and the optical integrator 4 preferably satisfies the above expression (2), and the relative relationship between the optical integrator 4 and the optical integrator 2 is as described above. It is more preferable to satisfy the expression (3). Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is optical
This is an example of illuminating a rectangular illumination area by using an internal reflection type integrator such as a glass rod as an integrator. In FIG. 3, parts corresponding to those in FIG. To do.

【0049】図3(a)は本実施例の照明光学装置の平
面図、図3(b)はその照明光学装置の正面図であり、
これら図3(a)及び(b)において被照射面R1上の
長方形状の照明領域8aの長手方向をZ軸、短辺方向を
X軸として、光軸に平行にY軸を取る。図3(a)及び
(b)に示す如く、光源系1Aは、楕円鏡12と、楕円
鏡12の第1焦点位置に配置され、g線(436n
m)、i線(365nm)又はh線(407nm)等の
光束を出力する水銀ランプ等の光源11から構成されて
いる。光源系1Aにおいて、光源11からの光を楕円鏡
12の集光作用により集光し、楕円鏡12の第2焦点位
置に光源像を形成する。
FIG. 3A is a plan view of the illumination optical device of this embodiment, and FIG. 3B is a front view of the illumination optical device.
In FIGS. 3A and 3B, the longitudinal direction of the rectangular illumination region 8a on the irradiated surface R1 is the Z axis, and the short side direction is the X axis, and the Y axis is parallel to the optical axis. As shown in FIGS. 3A and 3B, the light source system 1A is arranged at the elliptic mirror 12 and the first focal position of the elliptic mirror 12, and the g-line (436n
m), i-line (365 nm), h-line (407 nm), or other light source 11 such as a mercury lamp. In the light source system 1A, the light from the light source 11 is condensed by the condensing action of the elliptic mirror 12 to form a light source image at the second focal position of the elliptic mirror 12.

【0050】楕円鏡12の第2焦点は、第1多光源形成
手段としての内部反射型の長方形断面を有する光学部材
21(図3(c)参照)の入射側端面C1上に位置する
様に配置され、光学部材21の入射側端面C1上には光
源像が形成される。光学部材21は例えばガラスロッド
から構成されている。その光源像からの光束は光学部材
21で内部反射を繰り返し、光学部材21の射出側端面
D1から射出する。このとき、光学部材21の入射側端
面C1には正方形状に配列された複数の光源像(虚像)
が形成され、光学部材21の入射側端面C1上にあたか
も複数の光源像があるかの如く、光学部材21の射出側
端面D1から光束が射出される。
The second focal point of the elliptical mirror 12 is positioned on the incident side end face C1 of the optical member 21 (see FIG. 3C) having a rectangular cross section of the internal reflection type as the first multiple light source forming means. The light source image is formed on the incident side end surface C1 of the optical member 21. The optical member 21 is composed of, for example, a glass rod. The light flux from the light source image is repeatedly internally reflected by the optical member 21 and is emitted from the emission side end face D1 of the optical member 21. At this time, a plurality of light source images (virtual images) arranged in a square shape are formed on the incident side end surface C1 of the optical member 21.
Are formed, and a light beam is emitted from the exit side end surface D1 of the optical member 21 as if there were a plurality of light source images on the entrance side end surface C1 of the optical member 21.

【0051】内面反射型の光学部材21から射出された
光束は、レンズ34及び35よりなるリレー光学系3A
を通過した後、第2多光源像形成手段としての正方形状
断面を有する内部反射型の光学部材41(図3(d)参
照)に入射する。このリレー光学系3Aは、光学部材2
1の入射側端面C1と光学部材41の入射側端面C2と
を光学的に共役にすると共に、光学部材21の射出側端
面D1と光学部材41の射出側端面D2とを光学的に共
役にしている。
The light beam emitted from the internal reflection type optical member 21 is a relay optical system 3A composed of lenses 34 and 35.
And then enters the internal reflection type optical member 41 (see FIG. 3D) having a square cross section as the second multi-light source image forming means. The relay optical system 3A includes the optical member 2
The incident-side end surface C1 of No. 1 and the incident-side end surface C2 of the optical member 41 are optically conjugated, and the exit-side end surface D1 of the optical member 21 and the exit-side end surface D2 of the optical member 41 are optically conjugated. There is.

【0052】これにより、光学部材21の入射側端面C
1に形成された正方形状に分布するる複数の光源像から
の光束は、光学部材41の入射側端面C2上に正方形状
に分布する複数の光源像を形成する。この光源像からの
光束は、光学部材41で内面反射を繰り返し、光学部材
41の射出側端面D2から射出する。このとき光学部材
41の入射側端面C2には長方形状に分布する複数の光
源像(虚像)が形成され、あたかも光学部材41の入射
側端面C2に複数の光源像があるかのように、光学部材
41の射出側端面D2より光束が射出される。
As a result, the incident side end surface C of the optical member 21 is formed.
The light fluxes from the plurality of square-shaped light source images formed in 1 form a plurality of square-shaped light source images on the incident side end surface C2 of the optical member 41. The light flux from this light source image is repeatedly reflected on the inner surface of the optical member 41, and is emitted from the emission side end face D2 of the optical member 41. At this time, a plurality of light source images (virtual images) distributed in a rectangular shape are formed on the incident side end surface C2 of the optical member 41, and the optical images are generated as if the incident side end surface C2 of the optical member 41 has a plurality of light source images. A light beam is emitted from the emission side end surface D2 of the member 41.

【0053】光学部材41の射出側端面D2より射出さ
れた光束は、レンズ53及び54よりなるリレー光学系
5Aを経て、第3多光源像形成手段としての長方形状断
面を持つ内部反射型の光学部材61(図3(e)参照)
に入射する。このリレー光学系5Aは、光学部材41の
入射側端面C2と光学部材61の入射側端面C3を光学
的に共役にすると共に、光学部材41の射出側端面D2
と光学部材61の射出側端面D3とを光学的に共役にし
ている。このため、光学部材41の入射側端面C2上に
形成されている複数の光源像からの光束は、光学部材6
1の入射側端面C3上に長方形状に分布する複数の光源
像(実像)を形成する。
The light flux emitted from the exit side end surface D2 of the optical member 41 passes through the relay optical system 5A composed of the lenses 53 and 54, and the internal reflection type optics having the rectangular cross section as the third multiple light source image forming means. Member 61 (see FIG. 3 (e))
Incident on. In the relay optical system 5A, the incident side end surface C2 of the optical member 41 and the incident side end surface C3 of the optical member 61 are optically conjugate with each other, and the exit side end surface D2 of the optical member 41 is made.
And the exit side end face D3 of the optical member 61 are optically conjugated. Therefore, the light beams from the plurality of light source images formed on the incident side end surface C2 of the optical member 41 are transmitted by the optical member 6.
A plurality of light source images (real images) distributed in a rectangular shape are formed on the incident-side end face C3 of No. 1.

【0054】この光学部材61の入射側端面C3上に形
成された複数の光源像からの光束は、光学部材61で内
部反射を繰り返し、光学部材61の射出側端面D3より
射出される。このとき、光学部材61の入射側端面C3
には複数の光源像(虚像)が形成され、光学部材41か
らの光束により直接形成される複数の光源像(実像)と
合わせて、全体で正方形状に分布する複数の光源像が形
成される。光学部材61の射出側端面D3からは、あた
かも光学部材61の入射側端面C3上に複数の光源像が
あるかの様に光束が射出される。
Light fluxes from a plurality of light source images formed on the incident side end face C3 of the optical member 61 are repeatedly internally reflected by the optical member 61 and are emitted from the emission side end face D3 of the optical member 61. At this time, the incident side end surface C3 of the optical member 61
, A plurality of light source images (virtual images) are formed, and together with the plurality of light source images (real images) directly formed by the light flux from the optical member 41, a plurality of light source images distributed in a square shape as a whole are formed. . A light beam is emitted from the exit side end surface D3 of the optical member 61 as if there were a plurality of light source images on the entrance side end surface C3 of the optical member 61.

【0055】光学部材61から射出された光束は、コン
デンサー光学系7A内で集光レンズ74を通過したの
ち、円形開口を有する開口絞り75に入射する。集光レ
ンズ74は、その前側焦点位置が光学部材61の射出側
端面D3と一致する様に配置されていると共に、集光レ
ンズ74により光学部材61の入射側端面C3と開口絞
り75の配置面C4とが共役になっている。これによ
り、開口絞り75の配置面C4には正方形状に分布する
光源像が形成され、開口絞り75の例えば円形の開口に
より、円形状に分布する複数の光源像に変換される。
The light beam emitted from the optical member 61 passes through the condenser lens 74 in the condenser optical system 7A and then enters the aperture stop 75 having a circular aperture. The condenser lens 74 is arranged such that its front focus position coincides with the exit side end surface D3 of the optical member 61, and the condenser lens 74 disposes the incident side end surface C3 of the optical member 61 and the aperture stop 75. It is conjugated with C4. As a result, a light source image distributed in a square shape is formed on the arrangement surface C4 of the aperture stop 75, and is converted into a plurality of light source images distributed in a circular shape by the circular aperture of the aperture stop 75, for example.

【0056】開口絞り75の開口内の光源像からの光束
は、コンデンサーレンズ76により集光作用を受け、レ
チクルRの被照射面R1上の照明領域8aを照明する。
コンデンサーレンズ76の前側焦点位置は開口絞り75
の配置面C4と一致し、且つその後側焦点位置は、被照
射面R1と一致するように構成されている。これによ
り、開口絞り75の配置面C4上に形成された光源像か
らの光束は、被照射面R1上で、長方形状の照明領域8
aを重畳的に均一な照度で照明する。
The light flux from the light source image in the aperture of the aperture stop 75 is subjected to the condensing action by the condenser lens 76, and illuminates the illumination area 8a on the illuminated surface R1 of the reticle R.
The front focus position of the condenser lens 76 is the aperture stop 75.
Is arranged so as to coincide with the arrangement surface C4 and the rear focal position thereof coincides with the irradiated surface R1. Thus, the light flux from the light source image formed on the arrangement surface C4 of the aperture stop 75 has a rectangular illumination area 8 on the irradiation target surface R1.
Illuminate a with a uniform illuminance.

【0057】本実施例においては、長方形状の照明領域
8aと共役な光学部材61の射出側端面D3は、その照
明領域8aと相似(共役)な長方形状であるため、光学
部材61から射出された光束は効率的に照明領域8aを
照明する。また、2段の光学部材41及び61により照
明領域8aにおけるX方向及びZ方向の照度分布の均一
性が高められている。しかも、初段の光学部材21の入
射側端面C1の中央部には、光源11の像が形成される
ため、光源系1Aから供給される光束の断面形状が円形
状であっても、光量損失が生じない利点がある。ここ
で、本実施例で使用される光学部材21,41,61の
最適な構成例につき説明する。先ず、照明領域8aの長
辺方向(Z方向)の幅をt、短辺方向(X方向)の幅を
sとして、3段目の光学部材61のZ方向(長手方向)
の幅をv3、X方向(短手方向)の幅をu3とすると、
照明領域8aと光学部材61の射出側端面とが共役であ
るため、次の関係が成立することが望ましい。
In the present embodiment, the exit side end surface D3 of the optical member 61 conjugate with the rectangular illumination area 8a is a rectangle similar (conjugated) to the illumination area 8a, so that it is emitted from the optical member 61. The luminous flux efficiently illuminates the illumination area 8a. Further, the two-stage optical members 41 and 61 improve the uniformity of the illuminance distribution in the X direction and the Z direction in the illumination area 8a. In addition, since the image of the light source 11 is formed at the center of the incident side end surface C1 of the first-stage optical member 21, even if the cross-sectional shape of the light beam supplied from the light source system 1A is circular, the light amount loss is small. There is an advantage that does not occur. Here, an optimum configuration example of the optical members 21, 41, 61 used in this embodiment will be described. First, assuming that the width in the long side direction (Z direction) of the illumination area 8a is t and the width in the short side direction (X direction) is s, the Z direction (longitudinal direction) of the third stage optical member 61.
Is v3 and the width in the X direction (short direction) is u3,
Since the illumination area 8a and the exit side end surface of the optical member 61 are conjugated, it is desirable that the following relationship be established.

【0058】s/t=u3/v3 (4) また、リレー光学系5Aの結像倍率をβ5Aとして、2段
目の光学部材41のZ方向の幅をv2、X方向の幅をu
2とすると、次の関係が成立することが望ましい。但
し、本実施例ではv2=u2が成立している。 u2=β5A・u3 (5) また、リレー光学系3Aの結像倍率をβ3Aとして、初段
の光学部材21のZ方向(長手方向)の幅をv1、X方
向(短手方向)の幅をu1とすると、次の関係が成立す
ることが望ましい。但し、本実施例ではv2=u2が成
立している。
S / t = u3 / v3 (4) Further, assuming that the image forming magnification of the relay optical system 5A is β 5A , the width of the second stage optical member 41 in the Z direction is v2, and the width in the X direction is u.
If it is 2, it is desirable that the following relationship be established. However, in this embodiment, v2 = u2 holds. u2 = β 5A · u3 (5) Further, assuming that the image forming magnification of the relay optical system 3A is β 3A , the width of the first stage optical member 21 in the Z direction (longitudinal direction) is v1, and the width in the X direction (short side direction). Let u1 be the following relationship. However, in this embodiment, v2 = u2 holds.

【0059】u1=β3A・u2 (6) これらの関係が成立することにより、照明領域8aが高
い照明効率で、且つ高い照度分布均一性(ケーラー照
明)で照明される。なお、光学部材21,41,61と
してはロッドガラスの他に、中空の角柱状の内面反射型
の光学部材を使用してもよい。
U1 = β 3A · u2 (6) By establishing these relationships, the illumination area 8a is illuminated with high illumination efficiency and high illuminance distribution uniformity (Kohler illumination). As the optical members 21, 41, 61, a hollow prismatic inner reflection type optical member may be used instead of the rod glass.

【0060】また、本発明において、第1多光源像形成
手段〜第3多光源像形成手段として、フライアイレンズ
型のオプティカル・インテグレータと、内面反射型の光
学部材とを混ぜて使用してもよいことは言うまでもな
い。更に、上述実施例では、光源系として水銀ランプ等
の光源からの光束を楕円鏡で集光する系が使用されてい
るが、例えばレーザ光源を使用するような場合でもその
レーザ光源から射出される光束の断面形状がほぼ円形状
であるときには、本発明を適用して3段のオプティカル
・インテグレータを用いることにより、照度分布均一性
の条件と照明効率の条件とを満たすことができる。
In the present invention, a fly-eye lens type optical integrator and an internal reflection type optical member may be mixed and used as the first multi-source image forming means to the third multi-source image forming means. It goes without saying that it is good. Further, in the above-mentioned embodiment, the light source system uses a system in which a light flux from a light source such as a mercury lamp is condensed by an elliptic mirror, but even when a laser light source is used, the light is emitted from the laser light source. When the cross-sectional shape of the light flux is substantially circular, by applying the present invention and using a three-stage optical integrator, the condition of uniform illuminance distribution and the condition of illumination efficiency can be satisfied.

【0061】このように本発明は上述実施例に限定され
ず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り
得る。
As described above, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明によれば、3段の多光源像形成手
段を配置しているため、光源系から供給される光束の断
面形状が例えば円形状であっても、その光源系からの光
束を効率的に取り込むことができる。従って、高い照度
分布均一性で、且つ高い照明効率で被照射面上の長方形
状又は円弧状等の照明領域を照明できる利点がある。
According to the present invention, since the multistage light source image forming means of three stages are arranged, even if the cross-sectional shape of the light beam supplied from the light source system is, for example, a circular shape, the light source system can generate light from the light source system. The light flux can be taken in efficiently. Therefore, there is an advantage that a rectangular or arcuate illumination area on the illuminated surface can be illuminated with high illuminance distribution uniformity and high illumination efficiency.

【0063】従って、本発明を投影光学系を有する投影
露光装置の照明系として適用した場合には、光源像が形
成される投影光学系の瞳面での照度分布が均一に出来る
ため、投影光学系の十分な解像力及び焦点深度の性能を
引き出すことが出来る。また、第1多光源像形成手段
が、長方形状の断面を有する複数のレンズ素子よりなる
場合には、そのレンズ素子の入射面と被照射面とを共役
にすることにより、その被照射面上の長方形状の照明領
域を効率的に照明できる。
Therefore, when the present invention is applied as an illumination system of a projection exposure apparatus having a projection optical system, the illuminance distribution on the pupil plane of the projection optical system on which the light source image is formed can be made uniform, so The system can bring out sufficient resolution and depth of focus performance. Further, when the first multi-light source image forming means is composed of a plurality of lens elements having a rectangular cross section, the incident surface and the irradiated surface of the lens element are conjugated so that the irradiated surface is The rectangular illumination area can be efficiently illuminated.

【0064】次に、第2多光源像形成手段が、少なくと
も1列に配列された複数のレンズ素子からなる場合に
は、全体としての照明効率を高めることができる。ま
た、第3多光源像形成手段が、長方形状の断面を有する
複数のレンズ素子からなる場合には、特に第2多光源像
形成手段がフライアイレンズ型のオプティカル・インテ
グレータで、且つ断面形状が長方形状のときの照明効率
を高めることができる。
If the second multi-light source image forming means is composed of a plurality of lens elements arranged in at least one row, the illumination efficiency as a whole can be improved. When the third multi-light source image forming means is composed of a plurality of lens elements having a rectangular cross section, especially the second multi-light source image forming means is a fly-eye lens type optical integrator and the cross-sectional shape is The illumination efficiency in the rectangular shape can be improved.

【0065】更に、第1、第2及び第3多光源像形成手
段の内の少なくとも1つを、内面反射型の光学部材で構
成した場合には、光学系の構成が簡略化できる。
Further, when at least one of the first, second and third multi-light source image forming means is composed of an internal reflection type optical member, the structure of the optical system can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による照明光学装置の第1実施例を示す
図であり、(a)はその実施例をZ方向から見た正面
図、(b)はオプティカル・インテグレータ2の入射面
を示す図、(c)はオプティカル・インテグレータ4の
入射面を示す図、(d)はオプティカル・インテグレー
タ6の入射面を示す図、(e)は照明領域を示す図、
(f)はレンズ素子2aを示す拡大斜視図、(g)はレ
ンズ素子4aを示す拡大斜視図、(h)はレンズ素子6
aを示す拡大斜視図である。
1A and 1B are views showing a first embodiment of an illumination optical apparatus according to the present invention, FIG. 1A is a front view of the embodiment as seen from the Z direction, and FIG. 1B is a view showing an incident surface of an optical integrator 2. The figure, (c) is a figure which shows the incident surface of the optical integrator 4, (d) is a figure which shows the incident surface of the optical integrator 6, (e) is a figure which shows an illumination area,
(F) is an enlarged perspective view showing the lens element 2a, (g) is an enlarged perspective view showing the lens element 4a, (h) is the lens element 6
It is an expansion perspective view which shows a.

【図2】本発明による照明光学装置の第2実施例を半導
体製造用の露光装置に適用したときの構成を示す図であ
り、(a)はその実施例を示す平面図、(b)はその実
施例の正面図である。
2A and 2B are diagrams showing a configuration when a second embodiment of the illumination optical device according to the present invention is applied to an exposure apparatus for semiconductor manufacturing, FIG. 2A is a plan view showing the embodiment, and FIG. It is a front view of the Example.

【図3】本発明による照明光学装置の第3実施例を半導
体製造用の露光装置に適用したときの構成を示す図であ
り、(a)はその実施例を示す平面図、(b)はその実
施例を示す正面図、(c)は光学部材21を示す拡大斜
視図、(d)は光学部材41を示す拡大斜視図、(e)
は光学部材61を示す拡大斜視図である。
3A and 3B are views showing a configuration when a third embodiment of the illumination optical device according to the present invention is applied to an exposure apparatus for semiconductor manufacturing, FIG. 3A is a plan view showing the embodiment, and FIG. The front view which shows the Example, (c) is the expansion perspective view which shows the optical member 21, (d) is the expansion perspective view which shows the optical member 41, (e).
FIG. 6 is an enlarged perspective view showing an optical member 61.

【図4】本出願人の先願に係る照明光学装置の一例の構
成を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an example of an illumination optical device according to a prior application of the applicant.

【図5】従来の照明光学装置を半導体製造用の露光装置
に適用したときの構成を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration when a conventional illumination optical device is applied to an exposure apparatus for semiconductor manufacturing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源系 2,4,6 オプティカル・インテグレータ 3,5 リレー光学系 3A,5A リレー光学系 7 コンデンサー光学系 7A コンデンサー光学系 R1 被照射面 R レチクル 8a 照明領域 11 水銀ランプ等の光源 12 楕円鏡 13 コリメータレンズ 21,41,61 内面反射型の光学部材 31 開口絞り 71 開口絞り 83 トーリック型反射鏡 1 Light source system 2,4,6 Optical integrator 3,5 Relay optical system 3A, 5A Relay optical system 7 Condenser optical system 7A Condenser optical system R1 Irradiated surface R Reticle 8a Illumination area 11 Light source such as mercury lamp 12 Elliptical mirror 13 Collimator lens 21, 41, 61 Internal reflection type optical member 31 Aperture stop 71 Aperture stop 83 Toric reflector

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定形状の光束断面を有する光を供給す
る光源系と、 該光源系からの光束よりほぼ正方形状又はほぼ円形状に
配列される複数の光源像を形成する第1多光源像形成手
段と、 該第1多光源像形成手段からの光束より、ほぼ長方形状
又はほぼ直線状に配列される複数の光源像を形成する第
2多光源像形成手段と、 前記第2多光源像形成手段からの光束よりほぼ正方形状
又はほぼ円形状に配列される複数の光源像を形成する第
3多光源像形成手段と、 該第3多光源像形成手段複数からの光束を集光して被照
射面を照明するコンデンサー光学系と、 前記第1及び第2多光源像形成手段の間に配置されて前
記第1多光源像形成手段により形成される光源像の位置
と前記第2多光源像形成手段により形成される光源像の
位置とを共役にするための第1リレー光学系と、 前記第2及び第3多光源像形成手段の間に配置されて前
記第2多光源像形成手段により形成される光源像の位置
と前記第3多光源像形成手段により形成される光源像の
位置とを共役にするための第2リレー光学系と、を有す
ることを特徴とする照明光学装置。
1. A light source system that supplies light having a light flux cross section of a predetermined shape, and a first multi-light source image that forms a plurality of light source images arranged in a substantially square or circular shape from the light flux from the light source system. Forming means, a second multi-light source image forming means for forming a plurality of light source images arranged in a substantially rectangular shape or a substantially straight shape from the light flux from the first multi-light source image forming means, and the second multi-light source image Third multi-light source image forming means for forming a plurality of light source images arranged in a substantially square shape or a substantially circular shape from the light flux from the forming means, and condensing light fluxes from the plurality of third multi-light source image forming means A condenser optical system for illuminating a surface to be illuminated, a position of a light source image formed by the first multi-light source image forming means and arranged between the first and second multi-light source image forming means, and the second multi-light source. The position of the light source image formed by the image forming means is conjugated And a position of a light source image formed by the second multi-light source image forming means and arranged between the second and third multi-light source image forming means, and the third multi-light source image forming means. A second relay optical system for making the position of the light source image formed by the means conjugate with each other, and an illumination optical device.
【請求項2】 前記第1多光源像形成手段は、長方形状
の断面を有する複数のレンズ素子よりなることを特徴と
する請求項1記載の照明光学装置。
2. The illumination optical apparatus according to claim 1, wherein the first multi-light source image forming means includes a plurality of lens elements having a rectangular cross section.
【請求項3】 前記第2多光源像形成手段は、少なくと
も1列に配列された複数のレンズ素子からなることを特
徴とする請求項1又は2記載の照明光学装置。
3. The illumination optical device according to claim 1, wherein the second multi-light source image forming means includes a plurality of lens elements arranged in at least one row.
【請求項4】 前記第3多光源像形成手段は、長方形状
の断面を有する複数のレンズ素子からなることを特徴と
する請求項1、2又は3記載の照明光学装置。
4. The illumination optical apparatus according to claim 1, wherein the third multi-light source image forming means comprises a plurality of lens elements having a rectangular cross section.
【請求項5】 前記第1、第2及び第3多光源像形成手
段の内の少なくとも1つは、内面反射型の光学部材で構
成されることを特徴とする請求項1記載の照明光学装
置。
5. The illumination optical apparatus according to claim 1, wherein at least one of the first, second and third multi-light source image forming means is composed of an internal reflection type optical member. .
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