JPH0629189A - Projection type aligner, method therefor and illumination optical device - Google Patents
Projection type aligner, method therefor and illumination optical deviceInfo
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- JPH0629189A JPH0629189A JP4184962A JP18496292A JPH0629189A JP H0629189 A JPH0629189 A JP H0629189A JP 4184962 A JP4184962 A JP 4184962A JP 18496292 A JP18496292 A JP 18496292A JP H0629189 A JPH0629189 A JP H0629189A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体の投影式露光装置
等に用いられる露光照明の方法及び装置に係り、特に露
光や検出を行うパターンの寸法や形状、或いはマスクま
たはレチクルやウェハの種類に応じて照明光の指向性を
制御し、最適な状態でパターン露光やパターン検出を可
能にする投影式露光装置およびその方法並びに照明光学
装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure illumination method and apparatus used in a semiconductor projection type exposure apparatus and the like, and more particularly to the size and shape of a pattern for exposure and detection, or the type of mask or reticle or wafer. The present invention relates to a projection-type exposure apparatus, a method thereof, and an illumination optical apparatus that control the directivity of illumination light in accordance therewith and enable pattern exposure and pattern detection in an optimum state.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体集積回路のパターン微細化は光の
波長に近いパターン幅に迫るほどに進んできている。光
に変わる露光方法として、Ｘ線或いは電子線による方法
も開発が進められているが、需要の大きいメモリ等では
短時間で多数の集積回路チップが露光できる光露光に比
べ量産性が劣り、安価なメモリーを大量に生産すること
が難しい。このような状況下で、近年、従来のｉ線縮小
投影露光装置（ｉ線ステッパ）に用いるマスクあるいは
レチクル上のパターンに位相シフト部を設け、従来使用
されていた通常のレチクルに比べパターンの解像度を大
幅に向上させる技術の開発が進められている。またこの
ような特殊なレチクルを用いなくても、特開昭６１−９
１６６２号に記載されているように、レチクルに照射す
る照明光が縮小投影レンズの入射瞳上で輪帯状になるよ
うにし、レチクル透過光の高い空間周波数成分が露光結
像レンズの入射瞳を通過する様にすることにより、パタ
ーンの解像度を向上させる技術の開発も進められてい
る。2. Description of the Related Art The pattern miniaturization of semiconductor integrated circuits has advanced to the extent that the pattern width close to the wavelength of light is approached. A method using X-rays or electron beams is being developed as an exposure method that changes to light, but mass production is inferior to optical exposure, which can expose a large number of integrated circuit chips in a short time, for memories that are in high demand, and it is inexpensive. It is difficult to produce a large amount of memory. Under these circumstances, in recent years, a pattern shifter is provided in a pattern on a mask or reticle used in a conventional i-line reduction projection exposure apparatus (i-line stepper), and the pattern resolution is higher than that of a conventionally used reticle. The development of technology that significantly improves In addition, even if such a special reticle is not used, the method disclosed in JP-A-61-9
As described in No. 1662, the illumination light irradiating the reticle is formed into an annular shape on the entrance pupil of the reduction projection lens, and the high spatial frequency component of the reticle transmitted light passes through the entrance pupil of the exposure imaging lens. By doing so, the development of a technique for improving the resolution of the pattern is also in progress.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】このような解像度向上
方法を用いようとするとき、従来用いていた半導体露光
装置（ｉ線ステッパ）をそのまま用いると、レチクルを
照明する照明光の照明指向性を示すいわゆるσの値（σ
＝露光結像レンズの瞳径に対する照明光のこの瞳上での
広がりの比）が上記の解像度向上方法で最適とされる照
明指向性を示すσ値と一致しないという課題を有してい
た。When attempting to use such a resolution improving method, if the conventionally used semiconductor exposure apparatus (i-line stepper) is used as it is, the illumination directivity of the illumination light for illuminating the reticle is improved. The so-called σ value (σ
(The ratio of the spread of illumination light on the pupil to the pupil diameter of the exposure imaging lens) does not match the σ value that indicates the illumination directivity that is optimal in the above-described resolution improving method.
【０００４】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決すべく、各種の解像度向上方法に対し最適となる照明
光を容易に選択制御し、かつ露光光源から発する露光光
を無駄することなく利用できるようにした投影式露光装
置およびその方法並びに照明光学装置を提供することに
ある。The object of the present invention is to easily select and control the illumination light which is optimum for various resolution improving methods and solve the above-mentioned problems of the prior art without waste of the exposure light emitted from the exposure light source. It is an object of the present invention to provide a projection type exposure apparatus, a method thereof, and an illumination optical apparatus that can be used.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、露光光源と、該露光光源より出射した光
をマスクまたはレチクルに照射せしめるべく、前記露光
光源より出射した光が入射される入射面を有する複数の
光ファイバーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバ
ー束部から分岐され、出射面を有する複数個の小さい束
の小光ファイバー束部とから構成された光ファイバーを
備えた照明光学系と、該照明光学系により照明されてマ
スクまたはレチクルを通過した光を被露光物体上にマス
クまたはレチクルのパターン像として投影せしめる投影
露光系とを備えたことを特徴とする投影式露光装置であ
る。即ち、本発明は、投影式露光装置において、露光光
源より出射した光を集めて複数の光ファイバーを束ねた
光ファイバー束部の一方の入射面に照射し、この光ファ
イバー束部を分岐して複数個の小さい束の小光ファイバ
ー束部を有するように照明光学系を構成する。そしてこ
の光ファイバーの複数の小光ファイバー束部から出射し
た光をマスクまたはレチクルの被照射物体に照射する
際、この複数の小光ファイバー束部の各出射面の相対的
位置を制御可能に構成する。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an exposure light source and light emitted from the exposure light source so that the light emitted from the exposure light source is applied to a mask or a reticle. An illumination optical system including an optical fiber comprising a plurality of optical fibers having an incident surface and a plurality of small optical fiber bundles branched from the optical fiber bundle portion and having an emission surface. And a projection exposure system for projecting the light, which is illuminated by the illumination optical system and passed through the mask or reticle, onto the object to be exposed as a pattern image of the mask or reticle. That is, the present invention is, in a projection type exposure apparatus, collecting light emitted from an exposure light source and irradiating the light on one incident surface of an optical fiber bundle portion in which a plurality of optical fibers are bundled, and branching the optical fiber bundle portion into a plurality of portions. The illumination optical system is configured to have a small bundle of small optical fibers. When the light emitted from the plurality of small optical fiber bundles of the optical fiber is applied to the irradiation target object of the mask or reticle, the relative positions of the respective emission surfaces of the plurality of small optical fiber bundles can be controlled.
【０００６】また本発明は、前記投影式露光装置におい
て、前記照明光学系の光ファイバーの出射端と集光発散
光学系の入射面とが光学的に共役な関係になるようにし
たことにある。また本発明は、前記投影式露光装置にお
いて、前記照明光学系の光ファイバーに入射する光の光
束を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段
を備えたことにある。また本発明は、前記投影式露光装
置において、前記照明光学系の集光発散光学系に入射す
る光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変形
光学手段を備えたことにある。また本発明は、前記投影
式露光装置において前記光ファイバーは、前記変形光学
手段により変形させられた照明光の傾きを十分透過可能
であるＮＡ（開口比）を有することにある。また本発明
は、前記投影式露光装置において、前記集光発散光学系
は、前記変形光学手段により変形させられた照明光の傾
きを十分透過可能であるＮＡ（開口比）を有することに
ある。また本発明は、前記投影式露光装置において前記
照明光学系の光ファイバーの出射面と前記集光発散光学
系の入射面を光学的にケーラー照明、又は光学的に無限
遠の関係にする光学手段を備えたことにある。In the projection type exposure apparatus, the present invention is such that the exit end of the optical fiber of the illumination optical system and the entrance surface of the converging / diverging optical system are in an optically conjugate relationship. Further, according to the present invention, in the projection type exposure apparatus, there is provided a deforming optical means for deforming a light flux of light incident on the optical fiber of the illumination optical system by refraction or reflection. Further, according to the present invention, in the projection type exposure apparatus, there is provided deforming optical means for deforming a light flux of light incident on the converging / diverging optical system of the illumination optical system by refraction or reflection. Further, the present invention is that in the projection type exposure apparatus, the optical fiber has an NA (aperture ratio) capable of sufficiently transmitting the inclination of the illumination light deformed by the deforming optical means. Further, the present invention is that in the projection exposure apparatus, the converging / diverging optical system has an NA (aperture ratio) capable of sufficiently transmitting the inclination of the illumination light deformed by the deforming optical means. Further, the present invention provides an optical unit that optically sets the exit surface of the optical fiber of the illumination optical system and the entrance surface of the converging / diverging optical system in the projection type exposure apparatus to optically Koehler illumination or optically infinity. Be prepared.
【０００７】また本発明は、露光光源より出射した光
を、入射面を有する複数の光ファイバーを束ねた光ファ
イバー束部と該光ファイバー束部から分岐され、出射面
を有する複数個の小さい束の小光ファイバー束部とから
構成された光ファイバーの前記入射面に入射し、前記光
ファイバの前記出射面から出射された光を、集光発散光
学系により特定角度成分の光を集光して発散させてマス
クまたはレチクルに照射せしめ、該マスクまたはレチク
ルを透過した光を投影光学系により被露光物体状にマス
ク又はレチクルのパターン像として投影せしめることを
特徴とする投影式露光方法である。According to the present invention, the light emitted from the exposure light source is bundled with a plurality of optical fibers each having an incident surface, and an optical fiber bundle portion branched from the optical fiber bundle portion, and a plurality of small bundles of small optical fibers each having an emission surface. A mask that condenses and diverges the light of a specific angle component by the converging / diverging optical system to the light that is incident on the incident surface of the optical fiber configured by a bunch and is emitted from the exit surface of the optical fiber. Alternatively, the projection exposure method is characterized in that a reticle is irradiated and light transmitted through the mask or reticle is projected as a pattern image of the mask or reticle on an object to be exposed by a projection optical system.
【０００８】また本発明は、光源を設け、該光源より出
射した光を入射させる入射面を有する複数の光ファイバ
ーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバー束部から
分岐され、出射面を有する複数個の小さい束の小光ファ
イバー束部とから構成された光ファイバーを有し、前記
光ファイバから出射された光を入射して特定角度成分の
光を集光して発散させる集光発散光学系を備えたことを
特徴とする照明光学装置である。Further, according to the present invention, a light source is provided and a plurality of optical fibers having an incident surface on which the light emitted from the light source is incident, and a plurality of optical fibers which are branched from the optical fiber bundle and have an emission surface. An optical fiber composed of a small optical fiber bundle part of a small bundle is provided, and a converging / diverging optical system for converging the light emitted from the optical fiber to condense and diverge the light of a specific angle component is provided. Is an illuminating optical device.
【０００９】[0009]
【作用】上記の手段を用いることにより、位相シフトレ
チクルの場合に適した指向性の比較的高い、σの小さな
照明にしたり、通常のレチクルで高解像度のパターンを
得るために輪帯照明にしたり、あるいは従来の照明の指
向性にしたりすることが容易に可能となる。さらに上記
手段を用いることにより光源から出射した光を高い利用
効率で被露光物体に照射させることが可能となる。By using the above means, it is possible to make an illumination with a relatively high directivity and a small σ suitable for a phase shift reticle, or to make an annular illumination to obtain a high resolution pattern with a normal reticle. Alternatively, the directivity of the conventional lighting can be easily achieved. Further, by using the above means, it becomes possible to irradiate the object to be exposed with the light emitted from the light source with high utilization efficiency.
【００１０】[0010]
【実施例】以下本発明を図面に基づいて詳細に説明す
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
【００１１】図１は本発明の露光照明装置２を示す一実
施例である。水銀ランプ２４から発した光は楕円面鏡２
５で反射され、所望の露光波長である例えばｉ線を反射
する波長選択ミラー２６で反射された後に光ファイバー
束の入射面Ａ−Ａに入射する。束ねられた光ファイバー
１は入射端からある距離離れたところから複数の小光フ
ァイバー１１に分岐される。例えば、光ファイバー１本
の径は約０．２ｍｍ程度で、束ねたものの径は約３０ｍ
ｍ程度である。そして前記分岐された複数の小光ファイ
バー束１１の出射面は、相対位置制御手段１０により、
小光ファイバー束出射面Ｂ−Ｂ内で相対的な位置を変え
られる。小光ファイバー束１１を出射した光は集光発散
光学系である棒状レンズ５００に入射する。集光発散光
学系である棒状レンズ群５００に入射する光の光束径
は、小光ファイバ束１１により変更が可能であるため、
棒状レンズ群５００の出射面付近に形成される２次光源
の形状や大きさを任意に設定することが可能となり、照
明のパーシャルコヒーレンシーσを容易に、しかも光の
利用効率を低下させることなく変更することが可能とな
る。棒状レンズ群５００を射出した光は、通常の半導体
露光装置で用いられる照明系と同様にアウトプットレン
ズ２２を通過した後コンデンサレンズ２３を通り被露光
物体であるレチクル３を照明する。FIG. 1 is an embodiment showing an exposure illumination device 2 of the present invention. The light emitted from the mercury lamp 24 is an ellipsoidal mirror 2.
After being reflected by the wavelength selecting mirror 26 that reflects the desired exposure wavelength, for example, the i-line, the light is incident on the incident surface AA of the optical fiber bundle. The bundled optical fibers 1 are branched into a plurality of small optical fibers 11 at a distance from the incident end. For example, the diameter of one optical fiber is about 0.2 mm, and the diameter of a bundle is about 30 m.
It is about m. The exit surfaces of the plurality of branched small optical fiber bundles 11 are controlled by the relative position control means 10.
The relative position can be changed within the small optical fiber bundle emitting surface BB. The light emitted from the small optical fiber bundle 11 enters a rod-shaped lens 500 which is a converging / diverging optical system. Since the light flux diameter of the light incident on the rod-shaped lens group 500 which is the converging / diverging optical system can be changed by the small optical fiber bundle 11,
The shape and size of the secondary light source formed near the emission surface of the rod-shaped lens group 500 can be arbitrarily set, and the partial coherency σ of the illumination can be changed easily without lowering the light use efficiency. It becomes possible to do. The light emitted from the rod-shaped lens group 500 passes through the output lens 22 and then passes through the condenser lens 23 to illuminate the reticle 3, which is the object to be exposed, similarly to the illumination system used in a normal semiconductor exposure apparatus.
【００１２】図２は、図１に示す露光照明装置２におい
て、上記相対位置制御手段（小光ファイバ束相対位置可
変機構）１０を用いて、小光ファイバ束１１の相対位置
を変化させた場合の出射面の状態を示した図である。こ
のように小光ファイバーの相対位置を変化させることに
よって棒状レンズ群５００に入射する光の光束径を変更
することが可能となる。これに伴って、棒状レンズ群５
００の射出面付近に形成される２次光源の大きさを任意
に変更することができ、照明のパーシャルコヒーレンシ
ーσを自由に設定することが可能となり、しかも露光光
の損失が低いため照明効率の高い照明光学系となる。そ
こで、例えば通常のレチクルの場合には、σ＝０．６程
度に、また位相シフタレチクルを用いる場合にはσ＝
０．４程度になるように上記相対位置制御手段１０によ
り、小光ファイバー束出射面Ｂ−Ｂ内で相対的な位置を
変える。FIG. 2 shows a case where the relative position of the small optical fiber bundle 11 is changed by using the relative position control means (small optical fiber bundle relative position changing mechanism) 10 in the exposure illumination apparatus 2 shown in FIG. It is a figure showing the state of the outgoing radiation surface. By changing the relative position of the small optical fibers in this way, it is possible to change the light flux diameter of the light incident on the rod-shaped lens group 500. Along with this, the rod-shaped lens group 5
00, the size of the secondary light source formed in the vicinity of the exit surface can be arbitrarily changed, the partial coherency σ of the illumination can be freely set, and the loss of the exposure light is low, so that the illumination efficiency can be improved. It becomes a high illumination optical system. Therefore, for example, in the case of a normal reticle, σ = 0.6, and in the case of using a phase shifter reticle, σ =
The relative position control means 10 changes the relative position within the small optical fiber bundle emission surface B-B so that it becomes about 0.4.
【００１３】図３は、図１に示す露光照明装置２におい
て、小光ファイバー束１１の出射面Ｂ−Ｂと集光発散光
学系である棒状レンズ５００の入射面を無限遠の位置に
設定するため、光学レンズ５１７の前側焦点位置に小光
ファイバー束１１の出射面を配置し、後側焦点位置に棒
状レンズ５００の入射面を設定したものである。即ち、
光学レンズ５１７により小光ファイバー束１１の出射面
Ｂ−Ｂと集光発散光学系である棒状レンズ５００の入射
面を無限遠の位置関係にすればよい。他の構成は図１と
同様である。これにより、棒状レンズ群５００に入射す
る光の強度は均一となるため、被露光物体であるレチク
ル３を均一に照明することが可能となる。FIG. 3 is for setting the exit surface BB of the small optical fiber bundle 11 and the entrance surface of the rod lens 500, which is a converging / diverging optical system, in the infinity position in the exposure illumination apparatus 2 shown in FIG. The exit surface of the small optical fiber bundle 11 is arranged at the front focus position of the optical lens 517, and the entrance surface of the rod lens 500 is set at the rear focus position. That is,
The optical lens 517 may be used to bring the exit surface BB of the small optical fiber bundle 11 and the entrance surface of the rod lens 500, which is a converging / diverging optical system, into an infinite positional relationship. Other configurations are the same as those in FIG. As a result, the intensity of the light incident on the rod-shaped lens group 500 becomes uniform, so that the reticle 3, which is the object to be exposed, can be uniformly illuminated.
【００１４】図４は、図１に示す露光照明装置２におい
て、光ファイバー１の入射面Ａ−Ａに入射する光束の径
を光の反射を利用して変形させる屈折変形機構５１０を
配置した場合を示した図である。水銀ランプ２４から発
した光は楕円面鏡２５で反射され光ファイバー１に入射
する。このとき、テーパのついた穴の内面が高反射率で
あるミラーを光ファイバー入射面に配置することによ
り、光ファイバー１の周辺部に入射すべき光を中心部に
入射させることが可能となり、小光ファイバー束１１の
射出光は中心部のみで得られ、棒状レンズ群５００に入
射する光も中心部だけとなる。従って、集光発散光学系
である棒状レンズ群５００の射出面付近に形成される２
次光源も棒状レンズ群５００の中心部のみに形成され、
照明光を損失させることなくパーシャルコヒーレンシー
σを変更することが可能である。また、光ファイバー１
の入射面Ａ−Ａに入射する光束の径を光の屈折を利用し
て変形させる屈折変形機構５２０を配置することによ
り、照明光を損失させることなくパーシャルコヒーレン
シーσを変更することも可能である。FIG. 4 shows a case where a refraction / deformation mechanism 510 for arranging the diameter of a light beam incident on the incident surface AA of the optical fiber 1 by utilizing the reflection of light is arranged in the exposure illumination apparatus 2 shown in FIG. It is the figure shown. The light emitted from the mercury lamp 24 is reflected by the ellipsoidal mirror 25 and enters the optical fiber 1. At this time, by arranging a mirror whose inner surface of the tapered hole has a high reflectance on the optical fiber entrance surface, it becomes possible to allow the light that should enter the peripheral portion of the optical fiber 1 to enter the central portion, and thus the small optical fiber. The light emitted from the bundle 11 is obtained only in the central portion, and the light incident on the rod-shaped lens group 500 is also only in the central portion. Therefore, it is formed near the exit surface of the rod-shaped lens group 500 which is a converging / diverging optical system.
The secondary light source is also formed only in the central portion of the rod-shaped lens group 500,
It is possible to change the partial coherency σ without loss of illumination light. Also, optical fiber 1
It is also possible to change the partial coherency σ without loss of illumination light by disposing the refraction / deformation mechanism 520 that deforms the diameter of the light beam incident on the incident surface A-A by utilizing the refraction of light. .
【００１５】図５は、図１に示す露光照明装置２におい
て、反射変形機構５１０を用いて、光ファイバー１（５
１１）に入射する光束の径を変更させた場合を示した図
である。例えば、図５（ａ）に示すように、反射変形機
構５１０を配置させない場合は光ファイバー１の全面に
光が入射するように光学設計する。この光学系において
図５（ｂ）に示すように、中心部に円錐状の光束の反射
変形鏡５１２を配置させると、中心部に集まる光は周辺
部に反射されて輪帯状の光束として光ファイバー１（５
１１）ヘ入射する。またこの光学系において図５（ｃ）
に示すように、周辺部に円錐筒状の光束の反射変形鏡５
１３を配置させると、周辺部に集まる光は中心部に反射
されて円状の光束として光ファイバー１（５１１）ヘ入
射する。また、光ファイバー１に入射する光束の径を任
意に変更するためには、反射変形鏡５１２、５１３のテ
ーパを適正である値に設定すれば良い。FIG. 5 is a schematic view of the exposure illuminator 2 shown in FIG.
It is the figure which showed the case where the diameter of the light beam which injects into 11) was changed. For example, as shown in FIG. 5A, when the reflection / deformation mechanism 510 is not arranged, the optical design is performed so that light is incident on the entire surface of the optical fiber 1. In this optical system, as shown in FIG. 5 (b), when a conical light beam reflecting and deforming mirror 512 is arranged in the central portion, the light gathering in the central portion is reflected in the peripheral portion to form a ring-shaped light beam in the optical fiber 1. (5
11) It is incident on. Moreover, in this optical system, FIG.
As shown in FIG.
When 13 is arranged, the light collected in the peripheral portion is reflected by the central portion and is incident on the optical fiber 1 (511) as a circular luminous flux. Further, in order to arbitrarily change the diameter of the light beam incident on the optical fiber 1, the taper of the reflecting and deforming mirrors 512 and 513 may be set to an appropriate value.
【００１６】図６は、図１に示す露光照明装置２におい
て、屈折変形機構５２０を用いて、光ファイバー１に入
射する光束の径を変更させた場合を示した図である。例
えば、図６（ａ）に示すように、屈折変形機構５２０を
配置させない場合は光ファイバー１の全面に光が入射す
るように光学設計する。この光学系において図６（ｂ）
に示すように、光ファイバー１にプリズム５２１を配置
させると、中心部に集まる光は周辺部に屈折され、光軸
に対して傾いた光線を平行にさせるレンズを透過して光
ファイバー１に入射する。これにより、光ファイバー１
に入射する光束は周辺部のみとなり、照明光を損失する
ことなく輪帯状の光束が得られる。また、図６（ｃ）に
示すように、プリズム５２１の替わりに光束を圧縮させ
る作用をもつレンズ５２２を配置させることにより、周
辺部に集まる光を屈折させて中心部に円状の光束として
光ファイバー１へ入射させることが可能となる。なお、
光ファイバー１に入射する光束の径を任意に変更するた
めには、レンズ５２２の焦点距離を適正である値に設定
すれば良い。FIG. 6 is a diagram showing a case where the diameter of the light beam incident on the optical fiber 1 is changed by using the refraction / deformation mechanism 520 in the exposure illumination apparatus 2 shown in FIG. For example, as shown in FIG. 6A, when the refraction / deformation mechanism 520 is not arranged, the optical design is performed so that light is incident on the entire surface of the optical fiber 1. In this optical system, FIG.
As shown in FIG. 3, when the prism 521 is arranged in the optical fiber 1, the light collected in the central portion is refracted in the peripheral portion and is incident on the optical fiber 1 through the lens for collimating the light rays inclined with respect to the optical axis. This allows the optical fiber 1
The luminous flux incident on is only in the peripheral portion, and an annular luminous flux can be obtained without loss of illumination light. Further, as shown in FIG. 6C, by disposing a lens 522 having a function of compressing a light beam in place of the prism 521, light gathering in the peripheral portion is refracted and a circular light beam is formed in the central portion as an optical fiber. It becomes possible to make it enter 1. In addition,
In order to arbitrarily change the diameter of the light beam incident on the optical fiber 1, the focal length of the lens 522 may be set to an appropriate value.
【００１７】以上に示した光束を変形させる手段である
反射変形鏡５１２及び５１３並びにプリズム５２１及び
レンズ５２２は、光ファイバー１の入射面において有効
であるが、集光発散光学系である棒状レンズ５００の入
射面に配置しても同様の効果が得られ、光ファイバー１
あるいは棒状レンズ５００の入射面のどちらに配置して
も良い。The reflecting and deforming mirrors 512 and 513, the prism 521, and the lens 522, which are means for deforming the luminous flux described above, are effective on the incident surface of the optical fiber 1, but they are included in the rod-shaped lens 500 which is a converging / diverging optical system. The same effect can be obtained even if the optical fiber 1 is arranged on the incident surface.
Alternatively, it may be arranged on either of the incident surfaces of the rod lens 500.
【００１８】図７は、反射変形機構５１０あるいは屈折
変形機構５２０を配置させると、光束の傾きが大きくな
り、棒状レンズ５００の透過可能である傾き以上になる
ため、光に損失が生じる恐れが大きくなるが、この問題
を防ぐ手段を示した実施例である。図７（ａ）に示すご
とく、反射変形機構５１０あるいは屈折変形機構５２０
を配置させない場合は、光線の最大入射角度はα1であ
り、通常の棒状レンズ５０１はＮＡ（開口数）＝ｓｉｎ
α1で表される開口数で設計されている。しかし、反射
変形機構５１０あるいは屈折変形機構５２０を配置させ
ると光束の傾きが大きくなり、最大入射角度はα2と大
きくなるため、図７（ｂ）に示すごとく、通常の棒状レ
ンズ５０１では入射面で反射するなどの損失が生じ、光
の利用効率が低下する。この対策として、棒状レンズ群
５００の個々の棒状レンズ５０２をＮＡ（開口数）＝ｓ
ｉｎα2で表される開口数で設計することにより、光の
損失を防ぐことが可能である。但し、棒状レンズ群５０
０の開口数を変更させることにより、アウトプットレン
ズ２２及びコンデンサレンズ２３についても設計変更す
る必要がある。In FIG. 7, when the reflection / deformation mechanism 510 or the refraction / deformation mechanism 520 is arranged, the inclination of the luminous flux becomes large and becomes larger than the inclination at which the rod-shaped lens 500 can be transmitted. However, this is an embodiment showing means for preventing this problem. As shown in FIG. 7A, the reflection deformation mechanism 510 or the refraction deformation mechanism 520.
, The maximum incident angle of the light ray is α 1 , and the ordinary rod lens 501 has NA (numerical aperture) = sin.
It is designed with a numerical aperture represented by α 1 . However, when the reflection deformation mechanism 510 or the refraction deformation mechanism 520 is arranged, the inclination of the light beam becomes large and the maximum incident angle becomes as large as α 2. Therefore, as shown in FIG. A loss such as reflection at a position occurs, and the light utilization efficiency decreases. As a countermeasure against this, the individual bar-shaped lens 502 of the bar-shaped lens group 500 is set to NA (numerical aperture) = s.
By designing with a numerical aperture represented by in α 2 , it is possible to prevent light loss. However, the rod-shaped lens group 50
It is also necessary to change the design of the output lens 22 and the condenser lens 23 by changing the numerical aperture of 0.
【００１９】図８は本発明の変形照明手段を備えた投影
式露光装置を示した図である。水銀ランプ２４より発し
た例えばｉ線の光は光ファイバー１に入射して射出面よ
り射出して、レンズ５１６により屈折して棒状レンズ群
５００に入射する。レンズ５１６は光ファイバー１の射
出面と棒状レンズ５００群の入射面を共役な位置関係に
設定する作用を有している。棒状レンズ５００群の入射
面には反射変形機構５１０あるいは屈折変形機構５２０
が配置されており、棒状レンズ５００群の出射面付近に
形成される２次光源の形状を変形させる。２次光源より
発散する光はコンデンサレンズ２３を透過してレチクル
３を均一にケーラー照明して、縮小投影レンズ４の入射
瞳４１の位置に２次光源像２００を結像する。縮小投影
レンズ４の入射瞳４１の径Ｄに対して、入射瞳４１の位
置に形成される２次光源像２００の径ｄの比で表される
照明のパーシャルコヒーレンシーσは任意に設定するこ
とが可能となる。露光照明系２を最適な光学条件に設定
後は、レチクル３に形成された回路パターンと、ウエハ
５に前の露光工程で既に転写されているパターンとの位
置合せを行うため、測長用のレーザビーム６０及びウエ
ハ駆動ステージ６を用いて、ウエハチャック５１に吸着
されたウエハ５を駆動する。FIG. 8 is a view showing a projection type exposure apparatus provided with the modified illumination means of the present invention. For example, i-line light emitted from the mercury lamp 24 enters the optical fiber 1 and exits from the exit surface, is refracted by the lens 516, and enters the rod-shaped lens group 500. The lens 516 has a function of setting the exit surface of the optical fiber 1 and the entrance surface of the rod-shaped lens 500 group in a conjugate positional relationship. A reflection deformation mechanism 510 or a refraction deformation mechanism 520 is formed on the entrance surface of the rod-shaped lens 500 group.
Are arranged, and the shape of the secondary light source formed near the emission surface of the group of rod-shaped lenses 500 is deformed. The light diverging from the secondary light source is transmitted through the condenser lens 23 and uniformly illuminates the reticle 3 with Koehler to form a secondary light source image 200 at the position of the entrance pupil 41 of the reduction projection lens 4. The partial coherency σ of the illumination, which is represented by the ratio of the diameter d of the secondary light source image 200 formed at the position of the entrance pupil 41 to the diameter D of the entrance pupil 41 of the reduction projection lens 4, can be set arbitrarily. It will be possible. After the exposure illumination system 2 is set to the optimum optical condition, the circuit pattern formed on the reticle 3 is aligned with the pattern already transferred to the wafer 5 in the previous exposure process. The laser beam 60 and the wafer drive stage 6 are used to drive the wafer 5 attracted to the wafer chuck 51.
【００２０】図９は本発明の変形照明手段を備えた投影
式露光装置を示した図である。水銀ランプ２４より発し
た例えばｉ線の光は光ファイバー１に入射して射出面よ
り射出して、レンズ５１６により屈折して棒状レンズ群
５００に入射する。レンズ５１６は光ファイバー１の射
出面と棒状レンズ群５００の入射面を共役な位置関係に
設定する作用を有している。光ファイバー１の入射面に
は反射変形機構５１０あるいは屈折変形機構５２０が配
置されており、棒状レンズ群５００の出射面付近に形成
される２次光源の形状を変形させる。これにより、縮小
投影レンズ４の入射瞳４１の径Ｄに対して、入射瞳４１
の位置に形成される２次光源像２００の径ｄの比で表さ
れる照明のパーシャルコヒーレンシーσは任意に設定す
ることが可能となる。FIG. 9 is a view showing a projection type exposure apparatus provided with the modified illumination means of the present invention. For example, i-line light emitted from the mercury lamp 24 enters the optical fiber 1 and exits from the exit surface, is refracted by the lens 516, and enters the rod-shaped lens group 500. The lens 516 has a function of setting the exit surface of the optical fiber 1 and the entrance surface of the rod-shaped lens group 500 in a conjugate positional relationship. A reflection / deformation mechanism 510 or a refraction / deformation mechanism 520 is arranged on the incident surface of the optical fiber 1, and deforms the shape of the secondary light source formed near the emission surface of the rod-shaped lens group 500. Accordingly, for the diameter D of the entrance pupil 41 of the reduction projection lens 4,
The partial coherency σ of the illumination represented by the ratio of the diameter d of the secondary light source image 200 formed at the position can be set arbitrarily.
【００２１】図１０に光ファイバー１の射出面から棒状
レンズ群５００の入射面までの光路中に３枚のレンズを
配置して、棒状レンズ群５００に入射する光束の径を任
意に変更するズームレンズ機構５３０を配置した例を示
す。光ファイバー１側から１枚目のレンズの焦点距離を
ｆ1、２枚目のレンズの焦点距離をｆ2、３枚目のレンズの
焦点距離をｆ3、光ファイバー１の射出面の径をｄ1、棒
状レンズ５００に入射する光束の径をｄ2とした場合、
図１０に示す式を満たすようにｆ1及びｆ2の焦点距離を
持つレンズを光軸と平行に移動させることにより、棒状
レンズ５００に入射する光束の径を任意に変更すること
が可能となる。これにより、光を損失させることなく、
照明のパーシャルコヒーレンシーσを任意に変更するこ
とが可能となる。しかも、この光学系では棒状レンズ５
００の入射面が均一に照明されるケーラー照明の位置に
なっており、被露光物体であるレチクル３をより均一に
照明することができる。FIG. 10 shows a zoom lens in which three lenses are arranged in the optical path from the exit surface of the optical fiber 1 to the entrance surface of the rod lens group 500 to arbitrarily change the diameter of the light beam incident on the rod lens group 500. An example in which the mechanism 530 is arranged is shown. From the side of the optical fiber 1, the focal length of the first lens is f 1 , the focal length of the second lens is f 2 , the focal length of the third lens is f 3 , and the diameter of the exit surface of the optical fiber 1 is d 1. , If the diameter of the light beam incident on the rod lens 500 is d 2 ,
By moving the lenses having the focal lengths f 1 and f 2 in parallel with the optical axis so as to satisfy the formula shown in FIG. 10, it is possible to arbitrarily change the diameter of the light beam incident on the rod lens 500. . This allows you to
It is possible to arbitrarily change the partial coherency σ of the illumination. Moreover, in this optical system, the rod-shaped lens 5
The incident surface of 00 is located at the position of the Koehler illumination where the reticle 3 which is the object to be exposed is illuminated more uniformly.
【００２２】図１１にズームレンズ機構５３０を搭載し
た投影式露光装置の実施例を示す。水銀ランプ２４より
発した例えばｉ線の光は光ファイバー１に入射して射出
面より射出して、ズームレンズ機構５３０により屈折し
て棒状レンズ群５００に入射する。ズームレンズ機構５
３０は棒状レンズ群５００に入射する光束の径を任意に
変更する作用を有しており、棒状レンズ５００の出射面
付近に形成される２次光源の形状を変形させる。これに
より、縮小投影レンズ４の入射瞳４１の径Ｄに対して、
入射瞳４１の位置に形成される２次光源像２００の径ｄ
の比で表される照明のパ−シャルコヒ−レンシ−σは任
意に設定することが可能となる。FIG. 11 shows an embodiment of a projection type exposure apparatus equipped with a zoom lens mechanism 530. For example, i-line light emitted from the mercury lamp 24 enters the optical fiber 1 and exits from the exit surface, is refracted by the zoom lens mechanism 530, and enters the rod-shaped lens group 500. Zoom lens mechanism 5
Reference numeral 30 has an action of arbitrarily changing the diameter of the light beam incident on the rod lens group 500, and deforms the shape of the secondary light source formed near the emission surface of the rod lens 500. Thereby, with respect to the diameter D of the entrance pupil 41 of the reduction projection lens 4,
Diameter d of secondary light source image 200 formed at the position of entrance pupil 41
It is possible to arbitrarily set the partial coherency-σ of the illumination represented by the ratio of
【００２３】なお、光源として、前記実施例において
は、水銀ランプ２４から発した光は楕円面鏡２５で反射
され、所望の露光波長である例えばｉ線を波長選択ミラ
ー２６で反射させるものを示したが、これに限定される
ものではなく、例えば、エキシマレーザ光源で構成して
も良いことは明かである。As the light source, in the above-described embodiment, the light emitted from the mercury lamp 24 is reflected by the ellipsoidal mirror 25, and the desired exposure wavelength such as i-line is reflected by the wavelength selection mirror 26. However, the present invention is not limited to this, and it is obvious that the light source may be composed of, for example, an excimer laser light source.
【００２４】また、前記実施例で説明した照明光学系
は、パターンの露光は勿論のこと、パターンの検査ある
いは表示棟等に用いる照明光学系に適用することができ
ることは明かである。Further, it is obvious that the illumination optical system described in the above embodiments can be applied not only to pattern exposure but also to an illumination optical system used for pattern inspection or a display building.
【００２５】[0025]
【発明の効果】本発明によれば、光の利用効率を低下さ
せることなく所望の照明指向性あるいは照明光分布を実
現できる効果を奏する。According to the present invention, there is an effect that a desired illumination directivity or illumination light distribution can be realized without lowering the light utilization efficiency.
【００２６】また本発明によれば、比較的簡単な構成
で、かつ光の損失を生じることなく照明光の指向性を照
度分布を一様に保ち変化させることが可能となり、１つ
の露光装置、あるいは検査装置や表示装置で各種の対象
パターンに対し、最適な照明を、効率よく実現でき、こ
のため、露光装置、検査装置、あるいは表示装置の解像
性能の大幅な向上と共に、これら装置に用いる光源の低
出力化、または露光装置と検査装置にあっては高スルー
プット可が実現できる効果を奏する。Further, according to the present invention, it is possible to change the directivity of the illumination light while maintaining a uniform illuminance distribution with a relatively simple structure and without causing a loss of light. Alternatively, the inspection device or the display device can efficiently realize optimum illumination for various target patterns. Therefore, the exposure device, the inspection device, or the display device can be used in these devices with a great improvement in the resolution performance. This has the effect of reducing the output of the light source or achieving high throughput in the exposure apparatus and the inspection apparatus.
【図１】本発明の露光照明系を備えた投影式露光装置の
実施例を示した図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a projection type exposure apparatus provided with an exposure illumination system of the present invention.
【図２】図１に示す小光ファイバー束の相対位置を変化
させた場合の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram when the relative position of the small optical fiber bundle shown in FIG. 1 is changed.
【図３】本発明の露光照明系を備えた投影式露光装置の
実施例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an embodiment of a projection type exposure apparatus provided with an exposure illumination system of the present invention.
【図４】本発明の変形照明手段を備えた投影式露光装置
の実施例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of a projection type exposure apparatus provided with modified illumination means of the present invention.
【図５】本発明に係る反射を利用した変形照明手段の実
施例を示した図である。FIG. 5 is a diagram showing an embodiment of modified illumination means using reflection according to the present invention.
【図６】本発明に係る屈折を利用した変形照明手段の実
施例を示した図である。FIG. 6 is a diagram showing an embodiment of modified illumination means utilizing refraction according to the present invention.
【図７】本発明に係る棒状レンズの適正化を示すための
説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing the optimization of the rod-shaped lens according to the present invention.
【図８】本発明の変形照明手段を備えた投影式露光装置
の実施例を示した図である。FIG. 8 is a diagram showing an embodiment of a projection type exposure apparatus provided with the modified illumination means of the present invention.
【図９】本発明の変形照明手段を備えた投影式露光装置
の実施例を示した図である。FIG. 9 is a diagram showing an embodiment of a projection type exposure apparatus provided with modified illumination means of the present invention.
【図１０】本発明のレンズを用いた変形照明手段の実施
例を示した図である。FIG. 10 is a diagram showing an example of modified illumination means using the lens of the present invention.
【図１１】本発明の変形照明手段を備えた投影式露光装
置の実施例を示した図である。FIG. 11 is a diagram showing an embodiment of a projection type exposure apparatus provided with modified illumination means of the present invention.
１…光ファイバ−、２…照明光学系、３…レチクル、４
…縮小レンズ、１０…小光ファイバ束、２４…水銀ラン
プ、５００…棒状レンズ群、５１０…反射変形機構、５
２０…屈折変形機構、５３０…ズ−ムレンズ機構1 ... Optical fiber-2 ... Illumination optical system-3 ... Reticle-4
... reduction lens, 10 ... small optical fiber bundle, 24 ... mercury lamp, 500 ... rod lens group, 510 ... reflective deformation mechanism, 5
20 ... Refractive deformation mechanism, 530 ... Zoom lens mechanism
Claims (21)
マスクまたはレチクルに照射せしめるべく、前記露光光
源より出射した光が入射される入射面を有する複数の光
ファイバーを束ねた光ファイバー束部と該光ファイバー
束部から分岐され、出射面を有する複数個の小さい束の
小光ファイバー束部とから構成された光ファイバーを有
し、前記光ファイバから出射された光を入射して特定角
度成分の光を集光して発散させる集光発散光学系を備え
た照明光学系と、該照明光学系により照明されてマスク
またはレチクルを透過した光を被露光物体状にマスク又
はレチクルのパターン像として投影せしめる投影光学系
とを備えたことを特徴とする投影式露光装置。1. An exposure light source, and an optical fiber bundle section which bundles a plurality of optical fibers having an incident surface on which the light emitted from the exposure light source is incident so that the mask or reticle is irradiated with the light emitted from the exposure light source. It has an optical fiber which is branched from the optical fiber bundle part and is composed of a plurality of small optical fiber bundle parts of a small bundle having an emitting surface, and the light emitted from the optical fiber is made incident to generate light of a specific angle component. An illumination optical system having a converging / diverging optical system for condensing and diverging, and projection for projecting the light illuminated by the illumination optical system and transmitted through the mask or reticle as a pattern image of the mask or reticle on an object to be exposed. A projection type exposure apparatus comprising: an optical system.
バー束部の出射面の相対的位置を制御する制御手段を備
えたことを特徴とする請求項１記載の投影式露光装置。2. The projection type exposure apparatus according to claim 1, wherein the illumination optical system further comprises control means for controlling the relative position of the exit surface of the small optical fiber bundle portion.
集光発散光学系の入射面とが光学的に共役な関係である
ことを特徴とする請求項１記載の投影式露光装置。3. The projection type exposure apparatus according to claim 1, wherein the exit end of the optical fiber of the illumination optical system and the entrance surface of the converging / diverging optical system have an optically conjugate relationship.
光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変形光
学手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の投影式
露光装置。4. The projection type exposure apparatus according to claim 1, further comprising a deforming optical unit that deforms a light beam of light incident on the optical fiber of the illumination optical system by refraction or reflection.
る光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変形
光学手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の投影
式露光装置。5. The projection type exposure apparatus according to claim 1, further comprising deforming optical means for deforming a light flux of light incident on the converging / diverging optical system of the illumination optical system by refraction or reflection.
より変形させられた照明光の傾きを十分透過可能である
ＮＡ（開口比）を有することを特徴とする請求項４記載
の投影式露光装置。6. The projection type exposure apparatus according to claim 4, wherein the optical fiber has an NA (aperture ratio) that can sufficiently transmit the inclination of the illumination light deformed by the deforming optical means.
により変形させられた照明光の傾きを十分透過可能であ
るＮＡ（開口比）を有することを特徴とする請求項５記
載の投影式露光装置。7. The projection according to claim 5, wherein the converging / diverging optical system has an NA (aperture ratio) capable of sufficiently transmitting the inclination of the illumination light deformed by the deforming optical means. Exposure equipment.
前記集光発散光学系の入射面を光学的にケーラー照明、
又は光学的に無限遠の関係にする光学手段を備えたこと
を特徴とする請求項１記載の投影式露光装置。8. An optical Koehler illumination is provided on the exit surface of the optical fiber of the illumination optical system and the entrance surface of the converging / diverging optical system.
Alternatively, the projection type exposure apparatus according to claim 1, further comprising an optical unit that optically sets the distance to infinity.
光束の径を変形させて、前記集光発散光学系に入射させ
る変形手段を備えたことを特徴とする請求項８記載の投
影式露光装置。9. The projection type exposure apparatus according to claim 8, further comprising a deforming unit that deforms a diameter of a light beam emitted from the optical fiber of the illumination optical system and causes the light beam to enter the converging / diverging optical system. .
する光の光束を、屈折あるいは反射により変形させる変
形光学手段を備えたことを特徴とする請求項８記載の投
影式露光装置。10. The projection type exposure apparatus according to claim 8, further comprising a deforming optical means for deforming a light flux of light incident on the converging / diverging optical system of the illumination optical system by refraction or reflection.
したことを特徴とする請求項１又は２又は３又は５又は
７又は８又は９又は１０記載の投影式露光装置。11. The projection type exposure apparatus according to claim 1, wherein the converging / diverging optical system is formed of a rod-shaped lens.
する複数の光ファイバーを束ねた光ファイバー束部と該
光ファイバー束部から分岐され、出射面を有する複数個
の小さい束の小光ファイバー束部とから構成された光フ
ァイバーの前記入射面に入射し、前記光ファイバの前記
出射面から出射された光を、集光発散光学系により特定
角度成分の光を集光して発散させてマスクまたはレチク
ルに照射せしめ、該マスクまたはレチクルを透過した光
を投影光学系により被露光物体状にマスク又はレチクル
のパターン像として投影せしめることを特徴とする投影
式露光方法。12. An optical fiber bundle portion in which light emitted from an exposure light source is bundled with a plurality of optical fibers having an incident surface, and a plurality of small bundles of small optical fibers having an emission surface and branched from the optical fiber bundle portion. The light incident on the incident surface of the optical fiber composed of the light emitted from the output surface of the optical fiber is condensed by a converging / diverging optical system to diverge by converging light of a specific angle component to a mask or reticle. A projection-type exposure method, which comprises irradiating and projecting light transmitted through the mask or reticle as a pattern image of the mask or reticle on an object to be exposed by a projection optical system.
射させる入射面を有する複数の光ファイバーを束ねた光
ファイバー束部と該光ファイバー束部から分岐され、出
射面を有する複数個の小さい束の小光ファイバー束部と
から構成された光ファイバーを有し、前記光ファイバか
ら出射された光を入射して特定角度成分の光を集光して
発散させる集光発散光学系を備えたことを特徴とする照
明光学装置。13. An optical fiber bundle part provided with a light source and having a plurality of optical fibers having an incident surface on which light emitted from the light source is incident, and a plurality of small bundles branched from the optical fiber bundle part and having an emission surface. An optical fiber composed of a small optical fiber bundle section, and a converging / diverging optical system for converging light emitted from the optical fiber to condense and diverge light of a specific angle component, Illumination optical device.
相対的位置を制御する制御手段を備えたことを特徴とす
る請求項１３記載の照明光学装置。14. The illumination optical apparatus according to claim 13, further comprising control means for controlling the relative position of the exit surface of the small optical fiber bundle portion.
学系の入射面とが光学的に共役な関係であることを特徴
とする請求項１３記載の照明光学装置。15. The illumination optical apparatus according to claim 13, wherein the exit end of the optical fiber and the entrance surface of the converging / diverging optical system are in an optically conjugate relationship.
を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段を
備えたことを特徴とする請求項１３記載の照明光学装
置。16. The illumination optical apparatus according to claim 13, further comprising a deforming optical unit that deforms a light flux of light incident on the optical fiber by refraction or reflection.
を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段を
備えたことを特徴とする請求項１３記載の照明光学装
置。17. The illumination optical apparatus according to claim 13, further comprising a deforming optical unit that deforms a light flux of light incident on the converging / diverging optical system by refraction or reflection.
散光学系の入射面を光学的にケーラー照明、又は光学的
に無限遠の関係にする光学手段を備えたことを特徴とす
る請求項１３記載の照明光学装置。18. The optical means is provided so as to optically make the output surface of the optical fiber and the incident surface of the converging / diverging optical system optically Koehler illumination or optically infinity. Illumination optical device described.
変形させて、前記集光発散光学系に入射させる変形手段
を備えたことを特徴とする請求項１８記載の照明光学装
置。19. The illumination optical apparatus according to claim 18, further comprising a deforming unit that deforms a diameter of a light beam emitted from the optical fiber and causes the light beam to enter the converging / diverging optical system.
を、屈折あるいは反射により変形させる変形光学手段を
備えたことを特徴とする請求項１８記載の照明光学装
置。20. The illumination optical apparatus according to claim 18, further comprising a deforming optical unit that deforms a light flux of light incident on the converging / diverging optical system by refraction or reflection.
したことを特徴とする請求項１３記載の照明光学装置。21. The illumination optical apparatus according to claim 13, wherein the converging / diverging optical system is formed of a rod lens.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4184962A JPH0629189A (en) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | Projection type aligner, method therefor and illumination optical device |
| DE4301716A DE4301716C2 (en) | 1992-02-04 | 1993-01-22 | Projection exposure device and method |
| US08/009,928 US5302999A (en) | 1992-02-04 | 1993-01-27 | Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4184962A JPH0629189A (en) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | Projection type aligner, method therefor and illumination optical device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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ID=16162400
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP4184962A Pending JPH0629189A (en) | 1992-02-04 | 1992-07-13 | Projection type aligner, method therefor and illumination optical device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0629189A (en) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5729331A (en) * | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
| US6157497A (en) * | 1993-06-30 | 2000-12-05 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
| JP2001308048A (en) * | 2000-04-19 | 2001-11-02 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | Method of cleaning and carrying ground wafer |
| KR100374910B1 (en) * | 1994-07-29 | 2003-05-09 | 가부시키가이샤 니콘 | Exposure device |
| KR100381745B1 (en) * | 1994-08-17 | 2003-07-22 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | Off-axis Alignment System for Scanned Photolithography |
| JP2004233749A (en) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Pentax Corp | Lighting system for pattern forming apparatus and pattern forming apparatus |
| KR100566023B1 (en) * | 2003-03-26 | 2006-03-30 | 샤프 가부시키가이샤 | Exposing apparatus |
| JP2006337475A (en) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Pattern drawing device |
| US7209243B2 (en) * | 2000-06-29 | 2007-04-24 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Illumination device, and coordinate measuring instrument having an illumination device |
| JP2007329455A (en) * | 2006-04-13 | 2007-12-20 | Asml Holding Nv | Optical system for improving efficiency in irradiation on patterning device |
| JP2009302225A (en) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Nikon Corp | Light guide, illuminating device, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1992
- 1992-07-13 JP JP4184962A patent/JPH0629189A/en active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5729331A (en) * | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
| US6157497A (en) * | 1993-06-30 | 2000-12-05 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
| US6795169B2 (en) | 1993-06-30 | 2004-09-21 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
| US6351305B1 (en) | 1993-06-30 | 2002-02-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method for transferring pattern onto a substrate |
| US6480262B1 (en) | 1993-06-30 | 2002-11-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus for illuminating a mask, method of manufacturing and using same, and field stop used therein |
| US6509954B1 (en) | 1993-06-30 | 2003-01-21 | Nikon Corporation | Aperture stop having central aperture region defined by a circular ARC and peripheral region with decreased width, and exposure apparatus and method |
| US6556278B1 (en) | 1993-06-30 | 2003-04-29 | Nikon Corporation | Exposure/imaging apparatus and method in which imaging characteristics of a projection optical system are adjusted |
| KR100374910B1 (en) * | 1994-07-29 | 2003-05-09 | 가부시키가이샤 니콘 | Exposure device |
| KR100381745B1 (en) * | 1994-08-17 | 2003-07-22 | 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨. | Off-axis Alignment System for Scanned Photolithography |
| JP2001308048A (en) * | 2000-04-19 | 2001-11-02 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | Method of cleaning and carrying ground wafer |
| JP4672829B2 (en) * | 2000-04-19 | 2011-04-20 | 株式会社岡本工作機械製作所 | Method for cleaning and transporting ground wafers |
| US7209243B2 (en) * | 2000-06-29 | 2007-04-24 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Illumination device, and coordinate measuring instrument having an illumination device |
| JP2004233749A (en) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Pentax Corp | Lighting system for pattern forming apparatus and pattern forming apparatus |
| KR100566023B1 (en) * | 2003-03-26 | 2006-03-30 | 샤프 가부시키가이샤 | Exposing apparatus |
| JP2006337475A (en) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Pattern drawing device |
| JP4679249B2 (en) * | 2005-05-31 | 2011-04-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Pattern drawing device |
| JP2007329455A (en) * | 2006-04-13 | 2007-12-20 | Asml Holding Nv | Optical system for improving efficiency in irradiation on patterning device |
| JP2009302225A (en) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Nikon Corp | Light guide, illuminating device, exposure apparatus, and device manufacturing method |
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