JPH07260427A - Method and apparatus for detecting positioning mark - Google Patents

Method and apparatus for detecting positioning mark

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Publication number
JPH07260427A
JPH07260427A JP6047450A JP4745094A JPH07260427A JP H07260427 A JPH07260427 A JP H07260427A JP 6047450 A JP6047450 A JP 6047450A JP 4745094 A JP4745094 A JP 4745094A JP H07260427 A JPH07260427 A JP H07260427A
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JP
Japan
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positioning mark
image
axis direction
light
hole
Prior art date
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Application number
JP6047450A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiro Tamura
利郎 田村
Shigemi Mio
恵己 美尾
Keiji Takagi
啓至 高木
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Hitachi Computer Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Computer Engineering Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Computer Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Computer Engineering Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To detect the central position highly accurately by irradiating a positioning mark with a light beam having directivity, differentiating the variation of density extracted from an image being picked up, and then calculating the maximum value position of differentiated value. CONSTITUTION:A shutter 6a is opened at first for a through hole 2 and a light is projected only from an illuminator 4a before an image data is picked up for the illumination in Y direction by means of a TV camera 3. Subsequently, an image data for the illumination in X direction is picked up using a shutter 6b and an illuminator 4b. The through hole 2 receives highest quantity of light at the edge part thereof facing the illuminator and an image processor 5 calculates the address data of the maximum variation in the quantity of light thus determining the positional coordinates at the edge part. Center of the positional coordinates of through hole 2 is then determined based on two image data obtained by opening/closing the shutters 6a, 6b thus determining the central position.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、セラミック基板などの
位置合わせを行うために基板上に設けられた位置決め用
マーク(以下、ターゲットマークという)の位置決め用
マーク検出方法および装置に関し、特に、円形状のター
ゲットマークを画像処理装置により形状認識し、中心位
置を検出する位置決め用マーク検出方法および装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positioning mark detecting method and device for positioning marks (hereinafter referred to as target marks) provided on a substrate for aligning a ceramic substrate or the like, and more particularly to a circle. The present invention relates to a positioning mark detection method and apparatus for recognizing a shape of a shape target mark by an image processing apparatus and detecting a center position.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子機器あるいは通信機器などに
用いられている各種のプリント配線板(PWB:Printed Wir
ing Board、あるいはPCB:Printed Circuit Board、以
下、PWB、あるいはPCBという)は、電子部品や配
線パターンの相互接続のための必須部品であり、機器の
高性能化・高速化に伴い、多層化・高密度化・高精度化
が進められている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various printed wiring boards (PWB: Printed Wiring) used in electronic devices or communication devices have been used.
ing Board, or PCB: Printed Circuit Board (hereinafter referred to as PWB or PCB), is an essential component for interconnecting electronic components and wiring patterns. Higher density and higher accuracy are being promoted.

【0003】特に、近年の多層化・高密度化技術はめざ
ましく、特に、多層セラミック基板においては、数10
層というものが出現しており、その基板上の配線パター
ン間隔は、0.1mm以下であり、スルーホールの穴径
も0.1mmΦ以下のものが一般的になっている。
In particular, the recent multi-layer / high-density technology is remarkable, especially in the case of a multi-layer ceramic substrate,
A layer has appeared, and the wiring pattern interval on the substrate is 0.1 mm or less, and the hole diameter of the through hole is generally 0.1 mmΦ or less.

【0004】このような多層基板において、配線パター
ンの描画や多層間の接続のためのスルーホールの穴位置
の形成は、極めて高精度で行われなければならない。
In such a multilayer substrate, the drawing of wiring patterns and the formation of through-hole positions for connection between layers must be performed with extremely high precision.

【0005】そのため、PWB、あるいはPCBの製造
段階においては、配線パターンの描画装置、あるいはス
ルーホール形成装置の、ある基準点からの位置ずれを極
力排除し、また、この位置ずれを正確に検出して、すみ
やかに、その補正を行う技術が必要とされている。
Therefore, in the manufacturing stage of the PWB or PCB, the displacement of the wiring pattern drawing device or the through-hole forming device from a certain reference point is eliminated as much as possible, and this displacement is accurately detected. Therefore, there is a need for a technology for promptly making the correction.

【0006】通常、PWB、あるいはPCBには、位置
検出が可能な様にターゲットマークが設けられており、
このターゲットマークの位置を検出し、位置ずれ補正を
行っている。
Usually, a PWB or a PCB is provided with a target mark so that the position can be detected.
The position of this target mark is detected and the positional deviation is corrected.

【0007】ところが、先に述べたように、電子機器の
小型化、高密度化が進み、PWB、あるいはPCBの寸
法も微細化が進んでおり、それに伴いターゲットマーク
の寸法も、極めて微小になっている。
However, as described above, electronic devices are becoming smaller and higher in density, and the size of PWBs or PCBs is also becoming finer. As a result, the size of target marks becomes extremely small. ing.

【0008】従って、このような微小なターゲットマー
クを検出し、その結果によって位置ずれを補正する技術
も、より一層、難しいものとなっている。
Therefore, the technique of detecting such a minute target mark and correcting the positional deviation based on the result is becoming more difficult.

【0009】この微小なターゲットマークを検出し、位
置ずれを補正する技術として、テレビカメラなどの撮像
装置を利用して非接触でターゲットマークの画像を取得
し、この得られた画像に対し、2値化処理などの画像処
理技術を用いてターゲットマークの形状認識を行い、タ
ーゲットマークの中心位置を算出し、基準点からの位置
ずれを補正する方法が種々提案されている。
As a technique for detecting the minute target mark and correcting the positional deviation, an image of the target mark is acquired in a non-contact manner by using an image pickup device such as a television camera, and the obtained image is 2 Various methods have been proposed in which the shape of a target mark is recognized using an image processing technique such as a binarization process, the center position of the target mark is calculated, and the positional deviation from the reference point is corrected.

【0010】例えば、円形状のターゲットマークの中心
検出方法の例として、特開昭63−237180号公報
や特開平2−227785号公報に開示されている技術
が知られている。
For example, as an example of the method of detecting the center of a circular target mark, the techniques disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 63-237180 and Japanese Patent Laid-Open No. 2-227785 are known.

【0011】図8は、前記特開昭63−237180号
公報や特開平2−227785号公報開示されている従
来技術による撮像装置によって取得された画像データの
1例を示した図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example of image data acquired by an image pickup device according to the prior art disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 63-237180 and Japanese Patent Laid-Open No. 2-227785.

【0012】図8は、セラミック基板(図示していな
い)上に設けられた円形状のターゲットマークとしての
スルーホール(図示していない)を撮影して得られた画
像データを示したものである。
FIG. 8 shows image data obtained by photographing a through hole (not shown) as a circular target mark provided on a ceramic substrate (not shown). .

【0013】図8(A)において、80は撮像装置(図
示していない)によって得られた画像データ、81は円
形状のターゲットマークとしてのスルーホール、82は
スルーホール81の中心位置である。
In FIG. 8A, 80 is image data obtained by an image pickup device (not shown), 81 is a through hole as a circular target mark, and 82 is a central position of the through hole 81.

【0014】なお、照明装置(図示していない)による
照明方向は図中矢印で示した方向である。
The illumination direction of the illumination device (not shown) is the direction indicated by the arrow in the figure.

【0015】図8(B)、(C)、および(D)は、図
8(A)に示す画像データ80内のX−X’部分におけ
る光量変化をプロットした光量プロファイルデータ83
である。
FIGS. 8B, 8C, and 8D are light amount profile data 83 in which changes in the light amount at the XX 'portion in the image data 80 shown in FIG. 8A are plotted.
Is.

【0016】図8(B)は、スルーホール81を正常に
検出することができた例を示す図であり、図8(C)は
画像データ80の背景部分とスルーホール81とのコン
トラストが低下した例を示す図であり、図8(D)は、
照明光が不均一で片寄った照明のため、スルーホール8
1のエッジ部分の光量変化が不均一となった例を示す図
である。
FIG. 8B is a diagram showing an example in which the through hole 81 can be normally detected, and FIG. 8C shows a contrast between the background portion of the image data 80 and the through hole 81 lowered. FIG. 8D is a diagram showing an example of
Through hole 8 due to uneven illumination and uneven illumination
It is a figure which shows the example in which the light amount change of the edge part of 1 became non-uniform.

【0017】図8(C)のように検出画像のコントラス
トが低下する第1の原因は、照明光量が低いためであ
り、光量を上げるためには水銀灯などの高輝度ランプが
必要となる。
The first cause of the decrease in the contrast of the detected image as shown in FIG. 8C is that the amount of illumination light is low, and a high brightness lamp such as a mercury lamp is required to increase the amount of light.

【0018】また、第2の原因としては、例えば、円形
状のターゲットマークとしてのスルーホールの寸法が小
さくなった場合、撮像装置の検出倍率を上げざるを得
ず、この結果、検出画像のコントラストが低下すること
になる。
The second cause is that, for example, when the size of the through hole as the circular target mark becomes small, the detection magnification of the image pickup device must be increased, resulting in the contrast of the detected image. Will be reduced.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術では、ターゲットマークとしてのスルーホール8
1内の明暗の照明光量濃度が変化した場合や、スルーホ
ール81が、より微小になるに従い撮像装置の検出倍率
を上げる必要がある場合、すなわち、図8(C)に示す
ように、検出画像のコントラストが低下した場合には、
検出した画像データ80が不安定であり、2値化処理を
施した後の画像が変形してしまうため、スルーホール8
1の中心位置82を精度良く求めることができないとい
う問題があった。
However, in the above-mentioned prior art, the through hole 8 as the target mark is used.
In the case where the density of the illumination light amount in 1 changes, or when it is necessary to increase the detection magnification of the imaging device as the through hole 81 becomes smaller, that is, as shown in FIG. If the contrast of the
Since the detected image data 80 is unstable and the image after the binarization process is deformed, the through hole 8
There was a problem that the center position 82 of 1 could not be obtained accurately.

【0020】また、光量を上げるために高輝度ランプの
使用は保守性、経済性の面で問題がある。
Further, the use of a high-intensity lamp for increasing the light quantity has problems in terms of maintainability and economy.

【0021】さらに、ターゲットマークが微小になれば
なる程、撮像装置との作動距離が短くなるため、リング
ライト(環状の発光体により、照明対象物に対して均等
に光量を与えるもの)のように、均一で一様な照明方法
が採用できないという問題がある。
Further, the smaller the target mark is, the shorter the working distance to the image pickup device is. Therefore, as in the case of a ring light (a ring-shaped light emitting body which gives an even amount of light to an illuminated object). However, there is a problem that a uniform and uniform illumination method cannot be adopted.

【0022】本発明の目的は、微小ターゲットマークの
検出に際し、その検出画像のコントラストが低下した場
合であっても、ターゲットマークの中心位置を高精度に
検出する位置決め用マーク検出方法および装置を提供す
ることにある。
An object of the present invention is to provide a positioning mark detecting method and device for detecting the center position of a target mark with high accuracy when detecting a minute target mark even when the contrast of the detected image is lowered. To do.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
The outline of a typical one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0024】すなわち、XY平面上に設置された位置決
め用マークに対し指向性を有する光線を斜上方向から照
射し、該光線で照射された前記位置決め用マークを当該
位置決め用マークの真上から撮影し、該撮影された画像
の前記光線の照射方向に垂直に相対した線分方向におけ
る基準点を設定し、該設定した基準点から前記線分方向
への前記画像の濃度変化を抽出し、該抽出した濃度変化
を微分し、該微分した値のうち2つの最大点位置を算出
し、該算出した2つの最大点位置の中点位置を求めて前
記位置決め用マークの中心位置とするようにしたもので
ある。
That is, a light beam having directivity is irradiated to the positioning mark set on the XY plane from an obliquely upward direction, and the positioning mark irradiated by the light beam is photographed from directly above the positioning mark. Then, a reference point in a line segment direction perpendicular to the irradiation direction of the light beam of the captured image is set, and a density change of the image in the line segment direction from the set reference point is extracted, The extracted density change is differentiated, the two maximum point positions of the differentiated values are calculated, and the midpoint position of the calculated two maximum point positions is determined to be the center position of the positioning mark. It is a thing.

【0025】また、XY平面上に設置された位置決め用
マークに対し指向性を有する光線を前記XY平面上に投
影した時、前記位置決め用マークと45度の位置関係と
なる斜上方向から照射する照射手段と、該照射手段によ
って照射された前記位置決め用マークを当該位置決め用
マークの真上から撮影する撮影手段と、該撮影手段によ
って撮影された画像のXY平面上におけるX軸方向およ
びY軸方向における基準点を設定する基準点設定手段
と、該基準点設定手段によって設定した基準点から前記
X軸方向およびY軸方向への前記画像の濃度変化を抽出
する抽出手段と、該抽出手段によって抽出した濃度変化
を微分する微分手段と、該微分手段によって微分した微
分値のうち前記X軸方向およびY軸方向それぞれ2つの
最大点位置を算出する最大点位置算出手段と、該最大点
位置算出手段によって算出した合計4つの最大点位置か
ら前記位置決め用マークの中心位置を算出する中心位置
算出手段とを備えるものである。
Further, when a light beam having directivity with respect to the positioning mark placed on the XY plane is projected on the XY plane, it is irradiated from an obliquely upward direction having a positional relationship of 45 degrees with the positioning mark. Irradiation means, photographing means for photographing the positioning mark irradiated by the irradiation means from directly above the positioning mark, and X-axis direction and Y-axis direction on the XY plane of the image photographed by the photographing means. A reference point setting means for setting a reference point, extraction means for extracting a density change of the image in the X-axis direction and the Y-axis direction from the reference point set by the reference point setting means, and extraction by the extraction means. A differentiating means for differentiating the density change, and two maximum point positions for each of the X-axis direction and the Y-axis direction among the differential values differentiated by the differentiating means. And the maximum point position calculating means, in which and a center position calculating means for calculating the center position of the positioning mark from a total of four maximum point position calculated by the maximum point position calculating means.

【0026】[0026]

【作用】前記手段によれば、XY平面上に設置された位
置決め用マークに対し指向性を有する光線を斜上方向か
ら照射し、該光線で照射された前記位置決め用マークを
当該位置決め用マークの真上から撮影し、該撮影された
画像の前記光線の照射方向に垂直に相対した線分方向に
おける基準点を設定し、該設定した基準点から前記線分
方向への前記画像の濃度変化を抽出し、該抽出した濃度
変化を微分し、該微分した値のうち2つの最大点位置を
算出し、該算出した2つの最大点位置の中点位置を求め
て前記位置決め用マークの中心位置とするので、位置決
め用マークが微小であっても、得られた画像から位置決
め用マークの中心位置を高い精度で検出することができ
る。
According to the above-mentioned means, a light beam having directivity is irradiated from an obliquely upward direction to the positioning mark installed on the XY plane, and the positioning mark irradiated by the light beam is emitted from the positioning mark. An image is taken from directly above, a reference point in a line segment direction perpendicular to the irradiation direction of the light rays of the image is set, and a density change of the image from the set reference point in the line segment direction is set. The extracted density change is differentiated, the two maximum point positions of the differentiated values are calculated, and the midpoint position of the calculated two maximum point positions is calculated to be the center position of the positioning mark. Therefore, even if the positioning mark is minute, the center position of the positioning mark can be detected with high accuracy from the obtained image.

【0027】また、XY平面上に設置された位置決め用
マークに対し指向性を有する光線を前記XY平面上に投
影した時、前記位置決め用マークと45度の位置関係と
なる斜上方向から照射する照射手段と、該照射手段によ
って照射された前記位置決め用マークを当該位置決め用
マークの真上から撮影する撮影手段と、該撮影手段によ
って撮影された画像のXY平面上におけるX軸方向およ
びY軸方向における基準点を設定する基準点設定手段
と、該基準点設定手段によって設定した基準点から前記
X軸方向およびY軸方向への前記画像の濃度変化を抽出
する抽出手段と、該抽出手段によって抽出した濃度変化
を微分する微分手段と、該微分手段によって微分した微
分値のうち前記X軸方向およびY軸方向それぞれ2つの
最大点位置を算出する最大点位置算出手段と、該最大点
位置算出手段によって算出した合計4つの最大点位置か
ら前記位置決め用マークの中心位置を算出する中心位置
算出手段とを備えるので、位置決め用マークが微小であ
り、かつ画像のコントラストが低下した場合であって
も、位置決め用マークの中心位置を高い精度で検出する
ことができる。
Further, when a light beam having directivity with respect to the positioning mark set on the XY plane is projected on the XY plane, it is irradiated from an obliquely upward direction having a positional relationship of 45 degrees with the positioning mark. Irradiation means, photographing means for photographing the positioning mark irradiated by the irradiation means from directly above the positioning mark, and X-axis direction and Y-axis direction on the XY plane of the image photographed by the photographing means. A reference point setting means for setting a reference point, extraction means for extracting a density change of the image in the X-axis direction and the Y-axis direction from the reference point set by the reference point setting means, and extraction by the extraction means. A differentiating means for differentiating the density change, and two maximum point positions for each of the X-axis direction and the Y-axis direction among the differential values differentiated by the differentiating means. Since the maximum point position calculation means and the central position calculation means for calculating the central position of the positioning mark from a total of four maximum point positions calculated by the maximum point position calculation means are provided, the positioning mark is minute. Moreover, even if the contrast of the image is lowered, the center position of the positioning mark can be detected with high accuracy.

【0028】[0028]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0029】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰
り返しの説明は省略する。
In all the drawings for explaining the embodiments, parts having the same function are designated by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted.

【0030】図1は本発明を適用した位置決め用マーク
検出方法を実現するための実施装置の概略構成の一実施
例を示すブロック構成図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a schematic configuration of an embodying device for realizing a positioning mark detecting method to which the present invention is applied.

【0031】図1において、1はセラミック基板、2は
位置決め用のターゲットマークであるスルーホールであ
り、セラミック基板1の4隅に設けられている。
In FIG. 1, reference numeral 1 is a ceramic substrate, 2 is through holes which are target marks for positioning, and they are provided at four corners of the ceramic substrate 1.

【0032】本実施例の位置決め用マーク検出装置10
0は、スルーホール2の上部に設けられたTVカメラ3
と、スルーホール2を照明する照明装置4a、4bと、
TVカメラ3から得られた画像を処理する画像処理装置
5と、照明装置4a、4bの中に設けられているシャッ
タ6a、6bと、シャッタ6a、6bの開閉のタイミン
グを制御するシャッタ制御装置7と、画像処理装置5と
シャッタ制御装置7を制御する制御装置8とから構成さ
れている。
Positioning mark detecting apparatus 10 of this embodiment
0 is a TV camera 3 provided above the through hole 2.
And illumination devices 4a and 4b for illuminating the through hole 2,
An image processing device 5 that processes an image obtained from the TV camera 3, shutters 6a and 6b provided in the lighting devices 4a and 4b, and a shutter control device 7 that controls the opening / closing timing of the shutters 6a and 6b. And a control device 8 for controlling the image processing device 5 and the shutter control device 7.

【0033】図2は本実施例の位置決め用マーク検出方
法におけるセラミック基板と照明装置の位置関係を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing the positional relationship between the ceramic substrate and the illuminating device in the positioning mark detecting method of this embodiment.

【0034】図2に示すように、図1に示すセラミック
基板1の左上隅にあるスルーホール2のほぼ中心線上の
Y方向から照明装置4a、X方向から照明装置4bによ
って照明し、TVカメラ3(図示していない)は、スル
ーホール2のほぼ真上から撮影するものである。
As shown in FIG. 2, the illumination device 4a illuminates from the Y direction and the illumination device 4b from the X direction on the center line of the through hole 2 in the upper left corner of the ceramic substrate 1 shown in FIG. The image (not shown) is taken almost directly above the through hole 2.

【0035】照明装置4a、4bの照明により、Y方向
の画像A14、X方向の画像B15が得られ、それぞれ
照明方向に相対する側に光が多く当たることになる。こ
の部分がスルーホール2のエッジ部16である。
By the illumination of the illumination devices 4a and 4b, an image A14 in the Y direction and an image B15 in the X direction are obtained, and a large amount of light is applied to the sides opposite to the illumination direction. This portion is the edge portion 16 of the through hole 2.

【0036】なお、図2では、説明の内容を分かり易く
するために、エッジ部16を、誇張して描いている。
Note that the edge portion 16 is exaggerated in FIG. 2 in order to make the contents of the description easy to understand.

【0037】図3は本実施例の位置決め用マーク検出方
法による画像データと光量プロファイルデータを示す図
である。
FIG. 3 is a diagram showing image data and light amount profile data according to the positioning mark detection method of this embodiment.

【0038】図3(A)は、TVカメラ3(図示してい
ない)によって検出された画像データ9であり、13は
スルーホール2の中心位置である。
FIG. 3A shows image data 9 detected by the TV camera 3 (not shown), and 13 is the center position of the through hole 2.

【0039】図3(B)は、Y方向からの照明による光
量プロファイルデータ11を示した図であり、図(B−
1)は、画像データ9内のX−X’部分の光量プロファ
イルデータ11を示し、図(B−2)は、画像データ9
内のY−Y’部分の光量プロファイルデータ11を示し
ている。
FIG. 3B is a diagram showing the light amount profile data 11 obtained by illumination from the Y direction.
1) shows the light amount profile data 11 of the XX ′ portion in the image data 9, and FIG.
The light intensity profile data 11 of the YY ′ portion in FIG.

【0040】図3(C)は、X方向からの照明による光
量プロファイルデータ11を示した図であり、図(C−
1)は、画像データ9内のX−X’部分の光量プロファ
イルデータ11を示し、図(C−2)は、画像データ9
内のY−Y’部分の光量プロファイルデータ11を示し
ている。
FIG. 3C is a diagram showing the light amount profile data 11 obtained by illumination from the X direction.
1) shows the light amount profile data 11 of the XX ′ portion in the image data 9, and FIG.
The light intensity profile data 11 of the YY ′ portion in FIG.

【0041】ここで、シャッタ6a、6bの開閉を切り
替えることにより、図3(B)、(C)の光量プロファ
イルデータ11が切り替わることになる。すなわち、照
明装置4a(図示していない)によるY方向からの照明
により、図(B−1)、(B−2)の光量プロファイル
データ11が得られ、照明装置4b(図示していない)
によるX方向からの照明により、図(C−1)、(C−
2)の光量プロファイルデータ11が得られることにな
る。
Here, by switching the opening and closing of the shutters 6a and 6b, the light amount profile data 11 of FIGS. 3B and 3C is switched. That is, the illumination device 4a (not shown) illuminates in the Y direction to obtain the light amount profile data 11 in FIGS. (B-1) and (B-2), and the illumination device 4b (not shown).
Illumination from the X direction by (C-1), (C-
The light intensity profile data 11 of 2) is obtained.

【0042】なお、ここでいう光量プロファイルデータ
11とは、実際には、画像の濃淡の度合いをプロットし
たものであり、この画像の濃淡が、光量の大小(明る
さ)に相当するものである。
The light intensity profile data 11 here is actually a plot of the degree of light and shade of an image, and the light and shade of this image corresponds to the magnitude (brightness) of the light intensity. .

【0043】また、図3には示していないがTVカメラ
3の位置は、先に述べたように、位置検出の基準となる
場所、すなわち、スルーホール2のほぼ真上に設置し、
TVカメラ3の中心からのずれ量が、スルーホール2の
位置ずれ量となるように調整する。
Although not shown in FIG. 3, the position of the TV camera 3 is set as a reference for position detection, that is, substantially directly above the through hole 2, as described above.
The deviation amount from the center of the TV camera 3 is adjusted to be the positional deviation amount of the through hole 2.

【0044】なお、本実施例で用いる照明装置4a、4
bは、投光口にレンズを取付け、スポット光、あるいは
スリット光のように指向性のある光(発明者の実験で
は、2〜3mmΦのスポット光を使用した)を投光する
照明方法とする。
The illumination devices 4a and 4 used in this embodiment are
b is a lighting method in which a lens is attached to a light projecting port and light having directivity such as spot light or slit light (a spot light of 2 to 3 mmΦ is used in the experiment of the inventor) is projected. .

【0045】以下、図1、図2、および図3を用いて、
スルーホール2の中心位置13の検出方法について説明
する。
Hereinafter, with reference to FIGS. 1, 2 and 3,
A method of detecting the center position 13 of the through hole 2 will be described.

【0046】スルーホール2の中心位置13の検出は、
まず、シャッタ制御装置7によりシャッタ6aを開き
(この時、シャッタ6bは閉じておく)、照明装置4a
のみの照明とし、図1に示すTVカメラ3により、Y方
向からの照明による画像データ9を取得する。
The center position 13 of the through hole 2 is detected by
First, the shutter 6a is opened by the shutter control device 7 (at this time, the shutter 6b is closed), and the lighting device 4a.
Image data 9 obtained by illumination from the Y direction is acquired by the TV camera 3 shown in FIG.

【0047】次に、シャッタ制御装置7によりシャッタ
6bを開き(この時、シャッタ6aは閉じておく)、照
明装置4bのみの照明とし、図1に示すTVカメラ3に
より、X方向からの照明による画像データ9を取得す
る。
Next, the shutter 6b is opened by the shutter control device 7 (at this time, the shutter 6a is closed) to illuminate only the illumination device 4b, and the TV camera 3 shown in FIG. Image data 9 is acquired.

【0048】こうしてX、Y方向からの2つの画像デー
タ9を得ることができる。
Thus, the two image data 9 from the X and Y directions can be obtained.

【0049】図2から分かるように、照明装置4a、4
bによって照射されるスルーホール2は、照明の方向に
相対するエッジ部16が、最も光量を多く受けるために
明るくなる。
As can be seen from FIG. 2, the lighting devices 4a, 4a,
The through hole 2 illuminated by b becomes brighter because the edge portion 16 facing the direction of illumination receives the largest amount of light.

【0050】このため、照明方向と同方向の画像データ
9の光量プロファイルデータ11を見ると、正反射光を
得ることができるスルーホール2のエッジ部16は、図
3(B−2)、(C−1)に示すような波形となってし
まうため、スルーホール2の中心位置13を求めるデー
タとしては、これらの波形は使用できない。
Therefore, looking at the light amount profile data 11 of the image data 9 in the same direction as the illumination direction, the edge portion 16 of the through hole 2 capable of obtaining the specular reflected light is shown in FIG. These waveforms cannot be used as data for obtaining the center position 13 of the through hole 2 because of the waveforms shown in C-1).

【0051】しかし、照明方向と垂直に相対する方向の
画像データ9の光量プロファイルデータ11は、図3
(B−1)、(C−2)に示すように認識対象となるス
ルーホール2の形状および位置を良好に表す波形となる
ので、スルーホール2の中心位置13を求めるデータと
して、これらの波形を使用する。
However, the light amount profile data 11 of the image data 9 in the direction perpendicular to the illumination direction is shown in FIG.
As shown in (B-1) and (C-2), the waveform and the position of the through hole 2 to be recognized are well represented. Therefore, these waveforms are used as data for determining the center position 13 of the through hole 2. To use.

【0052】この図3(B−1)、(C−2)に示す光
量プロファイルデータ11から、光量変化の最大値がス
ルーホール2のエッジ部16であることから、この最大
値のアドレスデータを画像処理装置5で算出することに
より、エッジ部16の位置座標を得ることができる。
From the light amount profile data 11 shown in FIGS. 3B-1 and 3C-2, since the maximum value of the change in the light amount is the edge portion 16 of the through hole 2, the address data of this maximum value is obtained. The position coordinates of the edge portion 16 can be obtained by the calculation by the image processing device 5.

【0053】図3(B−1)、(C−2)に示す丸印部
分E17の点が、光量変化が最大となる点である。
The circled portion E17 shown in FIGS. 3 (B-1) and (C-2) is the point where the change in the light amount is maximum.

【0054】従って、シャッタ6a、6bの開閉によっ
て得られる2つの画像データ9を取得し、この2つの画
像データ9から、2つの良好な光量プロファイルデータ
11を得ることにより、スルーホール2のエッジ部16
の4つの位置座標を求めることができ、この4つの位置
座標の中点を求めることにより、中心位置13を算出す
ることができる。
Therefore, the two image data 9 obtained by opening and closing the shutters 6a and 6b are obtained, and two good light amount profile data 11 are obtained from these two image data 9 to obtain the edge portion of the through hole 2. 16
The four position coordinates can be obtained, and the center position 13 can be calculated by finding the midpoint of the four position coordinates.

【0055】しかし、前記方法では、シャッタ6a、6
bの開閉を制御し、それぞれの照明光における画像デー
タ9をTVカメラ3により検出することになり、検出時
間が遅くなり、また、2つの画像データ9を格納するた
めに、多くの画像メモリが必要になる。
However, in the above method, the shutters 6a, 6
Since the opening and closing of b is controlled and the image data 9 in each illumination light is detected by the TV camera 3, the detection time is delayed, and in order to store the two image data 9, many image memories are required. You will need it.

【0056】そこで、図4に示すように、スルーホール
2の位置検出を行う座標に対して、45度移動した位置
に照明装置4aのみを設置する。
Therefore, as shown in FIG. 4, only the illuminating device 4a is installed at a position moved by 45 degrees with respect to the coordinates for detecting the position of the through hole 2.

【0057】図4は本実施例において照明装置を1台に
した場合のセラミック基板と照明装置の位置関係を示す
図である。
FIG. 4 is a diagram showing the positional relationship between the ceramic substrate and the illuminating device in the case where one illuminating device is used in this embodiment.

【0058】図4(A)は、照明装置4aとセラミック
基板1との位置関係を示す平面図であり、図4(B)
は、図4(A)の矢印Bの方向から見た側面図である。
FIG. 4A is a plan view showing the positional relationship between the illuminating device 4a and the ceramic substrate 1, and FIG.
[Fig. 4] is a side view seen from the direction of arrow B in Fig. 4 (A).

【0059】図(A)に示すように、照明装置4aは、
セラミック基板1のX−X’線に対して、45度の位置
に設置し、図4(B)に示すように、セラミック基板1
の平面に対して、約10〜45度の角度に設置する。
(発明者の実験によれば、このセラミック基板1の側面
に対する角度は、ほぼ45度の場合に、良好な画像デー
タ9が得られることが分かっている)。
As shown in FIG. 7A, the lighting device 4a is
The ceramic substrate 1 is installed at a position of 45 degrees with respect to the line XX ′, and as shown in FIG.
It is installed at an angle of about 10 to 45 degrees with respect to the plane.
(Experiments by the inventor have shown that good image data 9 can be obtained when the angle with respect to the side surface of the ceramic substrate 1 is approximately 45 degrees).

【0060】図4のような位置関係において、照明装置
4aのシャッタ6aを開き、TVカメラ3(図示してい
ない)により撮像を行い、1つの画像データ9から、ス
ルーホール2の位置検出を行う座標の縦方向(Y方
向)、横方向(X方向)の光量プロファイルデータ11
を取得する。
In the positional relationship as shown in FIG. 4, the shutter 6a of the illumination device 4a is opened, the TV camera 3 (not shown) captures an image, and the position of the through hole 2 is detected from one image data 9. Light amount profile data 11 in the vertical direction (Y direction) and the horizontal direction (X direction) of coordinates
To get.

【0061】図5は本実施例において照明装置を1台に
した場合の画像データおよび光量プロファイルデータを
示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing image data and light amount profile data when one illumination device is used in this embodiment.

【0062】図5に示すように、左上方45度の角度か
ら照明を当てることにより、1台の照明装置(図示して
いない)によって得られる画像データ9(図5(A))
から、X−X’部における光量プロファイルデータ11
(図5(B))と、Y−Y’部における光量プロファイ
ルデータ11(図5(C))の2つの光量プロファイル
データ11を得ることができる。
As shown in FIG. 5, image data 9 (FIG. 5 (A)) obtained by one illumination device (not shown) by illuminating from an angle of 45 degrees to the upper left.
From the light intensity profile data 11 in the XX ′ part
(FIG. 5 (B)) and the light intensity profile data 11 (FIG. 5 (C)) in the YY ′ portion can be obtained.

【0063】これにより、前記2方向からの照明を、シ
ャッタ制御装置7によるシャッタ6a、6bの切り替え
る動作、および撮像回数などの検出時間や画像メモリ数
の問題点は解決することができる。
As a result, the problems of the switching operation of the shutters 6a and 6b by the shutter control device 7 and the detection time such as the number of times of image pickup and the number of image memories can be solved.

【0064】しかしこの時、ある程度の照明光量が必要
になるため、図4に示す照明装置4aには、更に集光性
の高い集光レンズを取付け、検出対象であるスルーホー
ル2のエッジ部16において必要十分な照明光量の確保
しなければならない。
However, at this time, since a certain amount of illumination light is required, the illumination device 4a shown in FIG. 4 is provided with a condenser lens having a higher condensing property, and the edge portion 16 of the through hole 2 to be detected is detected. It is necessary to secure the necessary and sufficient amount of illumination light.

【0065】この時、照明光の光量が多過ぎると照明光
に相対するエッジ部16では、正反射光量分が強く成り
すぎるため、画像データ9内の光量データは飽和してし
まうので、対策として、照明装置4aとTVカメラ3に
偏光レンズを設置して、正反射光量分の光を削除するよ
うにする。
At this time, if the amount of illumination light is too large, the amount of specular reflection light at the edge portion 16 facing the illumination light becomes too strong, and the amount of light data in the image data 9 will be saturated. A polarizing lens is installed on the illuminating device 4a and the TV camera 3 so that the light corresponding to the amount of specular reflection light is deleted.

【0066】図6は本実施例の位置決め用マーク検出方
法における画像データとエッジ部検出のための微分デー
タを示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing image data and differential data for detecting an edge portion in the positioning mark detecting method of this embodiment.

【0067】図6(A)は、図5に示した画像データ9
を示す図であり、図6(B)は、画像データ9から得ら
れたX−X’部の光量プロファイルデータ11を示す図
であり、図6(C)は、光量プロファイルデータ11に
対し、微分処理を施して求めた微分データ12である。
FIG. 6A shows the image data 9 shown in FIG.
6B is a diagram showing the light amount profile data 11 of the XX ′ portion obtained from the image data 9, and FIG. 6C shows the light amount profile data 11 with respect to FIG. It is the differential data 12 obtained by performing the differential processing.

【0068】図6(B)(C)に示すように、光量プロ
ファイルデータ11において、光量変化が最大となる丸
印部分E17の点で微分値が最大値をとり、この最大値
をとる位置座標から、その中点を算出することにより、
スルーホール2の中心位置13が求められることにな
る。
As shown in FIGS. 6B and 6C, in the light amount profile data 11, the differential value takes the maximum value at the point of the circled portion E17 where the change in the light amount becomes the maximum, and the position coordinate where this maximum value is obtained. From, by calculating the midpoint,
The center position 13 of the through hole 2 is required.

【0069】図7は本実施例の位置決め用マーク検出方
法における画像処理の手順を示すフローチャートであ
る。
FIG. 7 is a flow chart showing the procedure of image processing in the positioning mark detecting method of this embodiment.

【0070】図7に示すように、まず、スルーホール2
の形状の画像情報として、画像データ9をTVカメラ3
(図示していない)より取り込み、画像処理装置5内の
画像メモリに格納する(ステップ71)。
As shown in FIG. 7, first, the through hole 2
The image data 9 is used as the image information of the shape of the TV camera 3
It is taken in from (not shown) and stored in the image memory in the image processing apparatus 5 (step 71).

【0071】次に、取り込んだ画像データ9から、スル
ーホール2の形状を把握するため、光量変化を示す光量
プロファイルデータ11の抽出する基準点の設定を行う
(ステップ72)。
Next, in order to grasp the shape of the through hole 2 from the captured image data 9, the reference point for extracting the light amount profile data 11 showing the light amount change is set (step 72).

【0072】ここで、セラミック基板1の位置ずれがあ
ると、TVカメラ3(図示していない)に対する位置も
ずれてしまい、その結果、画像データ9上のスルーホー
ル2の位置もずれてしまう。
If the ceramic substrate 1 is displaced, the position of the TV camera 3 (not shown) is also displaced, and as a result, the position of the through hole 2 on the image data 9 is also displaced.

【0073】従って、スルーホール2のエッジ部16の
位置座標を得るためには、画像データ9内で位置ずれが
生じているスルーホール2の位置をマクロ的に認識しな
ければならない。
Therefore, in order to obtain the position coordinates of the edge portion 16 of the through hole 2, it is necessary to macroscopically recognize the position of the through hole 2 in which the positional deviation occurs in the image data 9.

【0074】このために、画像データ9の投影加算処理
を行い、スルーホール2の投影データからマクロ的な位
置を求め、光量プロファイルデータ11の抽出する基準
点(あるいは基準位置)を設定する(ステップ72)。
For this purpose, the projection addition processing of the image data 9 is performed, the macroscopic position is obtained from the projection data of the through hole 2, and the reference point (or reference position) from which the light amount profile data 11 is extracted is set (step). 72).

【0075】次に、ステップ72で設定された基準点か
ら、X−X’方向あるいはY−Y’方向の光量プロファ
イルデータ11を得る(ステップ73)。
Next, the light amount profile data 11 in the XX 'direction or the YY' direction is obtained from the reference point set in step 72 (step 73).

【0076】そして、光量プロファイルデータ11から
スルーホール2のエッジ部16の位置座標を示す光量の
最大値部分を求めるために、光量プロファイルデータ1
1に微分処理を施し、微分データ12の絶対値における
最大値を2つ求める(ステップ74)。
Then, in order to obtain the maximum value portion of the light quantity indicating the position coordinates of the edge portion 16 of the through hole 2 from the light quantity profile data 11, the light quantity profile data 1
1 is differentiated to obtain two maximum absolute values of the differential data 12 (step 74).

【0077】次に、求めた光量プロファイルデータ11
の微分最大値をエッジ部16の位置座標とし、2つのエ
ッジ部16の位置座標の中点を求め、スルーホール2の
中心位置13を算出する(ステップ75)。
Next, the obtained light amount profile data 11
The differential maximum value of is used as the position coordinate of the edge portion 16, the midpoint of the position coordinates of the two edge portions 16 is obtained, and the center position 13 of the through hole 2 is calculated (step 75).

【0078】以上の処理を行うことにより、スルーホー
ル2の中心位置13を精度良く求めることができる。
By performing the above processing, the center position 13 of the through hole 2 can be accurately obtained.

【0079】なお、本実施例は、主にセラミック基板1
のスルーホール2の位置座標を検出することについて説
明したが、これは、セラミックスグリーンシートの製造
工程を想定したものであり、本願に開示された技術は、
これに限定されるものではなく、例えば、PWB、ある
いはPCBへの部品搭載時の基板の位置合わせ、あるい
は位置ずれの補正などにも十分応用できるものである。
In this embodiment, the ceramic substrate 1 is mainly used.
The detection of the position coordinates of the through hole 2 has been described, but this assumes a manufacturing process of the ceramic green sheet, and the technique disclosed in the present application is
The present invention is not limited to this, and can be sufficiently applied to, for example, alignment of a board when components are mounted on a PWB or a PCB, or correction of positional deviation.

【0080】また、以上説明した位置決め用マーク検出
方法および実施装置に加え、求めたスルーホール2の中
心位置から、セラミック基板1全体の位置を算出する処
理装置と、基準位置からのずれ量を求め、その位置ずれ
量を移動補正を行う移動ステージを加えることにより、
基板の位置ずれ補正装置、位置決め装置となる。
In addition to the above-described positioning mark detection method and execution device, a processing device for calculating the overall position of the ceramic substrate 1 from the obtained center position of the through hole 2 and an amount of deviation from the reference position are obtained. , By adding a moving stage that corrects the amount of displacement,
It serves as a substrate position shift correction device and a positioning device.

【0081】以上の説明から分かるように、本実施例に
よれば、検出(認識)対象であるスルーホール2が微小
であり、TVカメラ3の検出倍率を上げることによる画
像のコントラストが低下した場合であっても、従来の2
値化画像処理方法に比べ、検出(認識)対象であるスル
ーホール2のエッジ部16の位置座標を高精度で検出す
ることができる。
As can be seen from the above description, according to this embodiment, when the through hole 2 to be detected (recognized) is minute and the contrast of the image is lowered by increasing the detection magnification of the TV camera 3. Even if the conventional 2
The position coordinates of the edge portion 16 of the through hole 2 which is a detection (recognition) target can be detected with high accuracy as compared with the binarized image processing method.

【0082】[0082]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0083】(1)位置決め用マークが微小であって、
かつ検出画像のコントラストが低下した場合であって
も、画像処理エラーや誤認識を発生させることなく、検
出対象である位置決め用マークのエッジ部を、確実に検
出することができ、位置決め用マークの中心位置を高い
精度で算出することができる。
(1) The positioning marks are minute,
Moreover, even if the contrast of the detected image is lowered, the edge portion of the positioning mark to be detected can be reliably detected without causing an image processing error or erroneous recognition. The center position can be calculated with high accuracy.

【0084】(2)(1)により、セラミック基板など
の位置ずれを高い精度で補正することが可能な位置合わ
せ装置を提供することが可能となる。
By (2) and (1), it becomes possible to provide a positioning device capable of correcting the positional deviation of the ceramic substrate or the like with high accuracy.

【0085】(3)(1)、(2)により、位置合わせ
によるエラーを削減することができ、セラミック基板な
どの配線パターンの描画工程やスルホールの形成工程に
おける歩留り率の向上を図ることができる。
(3) Due to (1) and (2), errors due to alignment can be reduced, and the yield rate in the process of drawing a wiring pattern such as a ceramic substrate and the process of forming through holes can be improved. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した位置決め用マーク検出方法を
実現するための実施装置の概略構成の一実施例を示すブ
ロック構成図である。
FIG. 1 is a block configuration diagram showing an example of a schematic configuration of an implementation device for realizing a positioning mark detection method to which the present invention is applied.

【図2】本実施例の位置決め用マーク検出方法における
セラミック基板と照明装置の位置関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a positional relationship between a ceramic substrate and a lighting device in a positioning mark detecting method of the present embodiment.

【図3】本実施例の位置決め用マーク検出方法による画
像データと光量プロファイルデータを示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing image data and light amount profile data according to the positioning mark detection method of the present embodiment.

【図4】本実施例において照明装置を1台にした場合の
セラミック基板と照明装置の位置関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a positional relationship between a ceramic substrate and a lighting device when one lighting device is used in the present embodiment.

【図5】本実施例において照明装置を1台にした場合の
画像データおよび光量プロファイルデータを示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing image data and light amount profile data when one illumination device is used in the present embodiment.

【図6】本実施例の位置決め用マーク検出方法における
画像データとエッジ部検出のための微分データを示す図
である。
FIG. 6 is a diagram showing image data and differential data for detecting an edge portion in the positioning mark detecting method of the present embodiment.

【図7】本実施例の位置決め用マーク検出方法における
画像処理の手順を示すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing a procedure of image processing in the positioning mark detecting method of the present embodiment.

【図8】従来の位置決め用マーク検出方法を説明するた
めの説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining a conventional positioning mark detection method.

【符号の説明】 1…セラミック基板、2…スルーホール、3…TVカメ
ラ、4…照明装置、5…画像処理装置、6…シャッタ、
7…シャッタ制御装置、8…制御装置、9…画像デー
タ、11…光量プロファイルデータ、12…微分デー
タ、13…スルーホール中心位置、14…画像A、15
…画像B、16…エッジ部、17…光量変化の最大点、
100…位置決め用マーク検出装置。
[Description of Reference Signs] 1 ... Ceramic substrate, 2 ... Through hole, 3 ... TV camera, 4 ... Illumination device, 5 ... Image processing device, 6 ... Shutter,
7 ... Shutter control device, 8 ... Control device, 9 ... Image data, 11 ... Light amount profile data, 12 ... Differential data, 13 ... Through hole center position, 14 ... Image A, 15
... image B, 16 ... edge part, 17 ... maximum point of change in light intensity,
100 ... Positioning mark detection device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/46 X 6921−4E (72)発明者 田村 利郎 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立コンピュータエレクトロニクス内 (72)発明者 美尾 恵己 神奈川県秦野市堀山下1番地 株式会社日 立製作所汎用コンピュータ事業部内 (72)発明者 高木 啓至 神奈川県秦野市堀山下1番地 日立コンピ ュータエンジニアリング株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location H05K 3/46 X 6921-4E (72) Inventor Toshiro Tamura 1 Horiyamashita, Hadano, Kanagawa Co., Ltd. (72) Inventor, Megumi Mio, Horiyamashita, Hadano City, Kanagawa Prefecture (72) General-purpose computer division, Hiritsu Manufacturing Co., Ltd. (72) Inventor, Keiji Takagi, 1 Horiyamashita, Hadano City, Kanagawa Ta Engineering Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 XY平面上に設置された位置決め用マー
クに対し指向性を有する光線を斜上方向から照射し、該
光線で照射された前記位置決め用マークを当該位置決め
用マークの真上から撮影し、該撮影された画像の前記光
線の照射方向に垂直に相対した線分方向における基準点
を設定し、該設定した基準点から前記線分方向への前記
画像の濃度変化を抽出し、該抽出した濃度変化を微分
し、該微分した値のうち2つの最大点位置を算出し、該
算出した2つの最大点位置の中点位置を求めて前記位置
決め用マークの中心位置とすることを特徴とする位置決
め用マーク検出方法。
1. A light beam having directivity to a positioning mark set on an XY plane is obliquely irradiated, and the positioning mark irradiated with the light beam is photographed from directly above the positioning mark. Then, a reference point in a line segment direction perpendicular to the irradiation direction of the light beam of the captured image is set, and a density change of the image in the line segment direction from the set reference point is extracted, The extracted density change is differentiated, two maximum point positions of the differentiated values are calculated, and the midpoint position of the calculated two maximum point positions is obtained and set as the center position of the positioning mark. Detecting method for positioning mark.
【請求項2】 XY平面上に設置された位置決め用マー
クに対し指向性を有する光線を前記XY平面上に投影し
た時、前記位置決め用マークと45度の位置関係となる
斜上方向から照射し、前記光線で照射された前記位置決
め用マークを当該位置決め用マークの真上から撮影し、
該撮影された画像のXY平面上におけるX軸方向および
Y軸方向における基準点を設定し、該設定した基準点か
ら前記X軸方向およびY軸方向への前記画像の濃度変化
を抽出し、該抽出した濃度変化を微分し、該微分した微
分値のうち前記X軸方向およびY軸方向それぞれ2つの
最大点位置を算出し、合計4つの最大点位置から前記位
置決め用マークの中心位置を求めることを特徴とする位
置決め用マーク検出方法。
2. When a light beam having directivity with respect to a positioning mark installed on an XY plane is projected on the XY plane, the light is irradiated from an obliquely upward direction having a positional relationship of 45 degrees with the positioning mark. , Photographing the positioning mark irradiated with the light beam from directly above the positioning mark,
A reference point in the X-axis direction and the Y-axis direction on the XY plane of the captured image is set, and a density change of the image in the X-axis direction and the Y-axis direction is extracted from the set reference point, Differentiating the extracted density change, calculating two maximum point positions for each of the X-axis direction and the Y-axis direction among the differentiated differential values, and obtaining the center position of the positioning mark from a total of four maximum point positions. A method for detecting a positioning mark, characterized by:
【請求項3】 XY平面上に設置された位置決め用マー
クに対し指向性を有する光線を前記XY平面上に投影し
た時、前記位置決め用マークと45度の位置関係となる
斜上方向から照射する照射手段と、該照射手段によって
照射された前記位置決め用マークを当該位置決め用マー
クの真上から撮影する撮影手段と、該撮影手段によって
撮影された画像のXY平面上におけるX軸方向およびY
軸方向における基準点を設定する基準点設定手段と、該
基準点設定手段によって設定した基準点から前記X軸方
向およびY軸方向への前記画像の濃度変化を抽出する抽
出手段と、該抽出手段によって抽出した濃度変化を微分
する微分手段と、該微分手段によって微分した微分値の
うち前記X軸方向およびY軸方向それぞれ2つの最大点
位置を算出する最大点位置算出手段と、該最大点位置算
出手段によって算出した合計4つの最大点位置から前記
位置決め用マークの中心位置を算出する中心位置算出手
段とを備えることを特徴とする位置決め用マーク検出装
置。
3. When a light beam having directivity with respect to a positioning mark set on an XY plane is projected on the XY plane, the light is emitted from an obliquely upward direction having a positional relationship of 45 degrees with the positioning mark. Irradiating means, a photographing means for photographing the positioning mark irradiated by the irradiating means from directly above the positioning mark, and an X-axis direction on the XY plane of the image photographed by the photographing means and a Y direction.
Reference point setting means for setting a reference point in the axial direction, extraction means for extracting a density change of the image in the X axis direction and the Y axis direction from the reference point set by the reference point setting means, and the extraction means Differentiating means for differentiating the density change extracted by, the maximum point position calculating means for calculating two maximum point positions for each of the X-axis direction and the Y-axis direction among the differential values differentiated by the differentiating means, and the maximum point position A positioning mark detecting device, comprising: a center position calculating means for calculating a center position of the positioning mark from a total of four maximum point positions calculated by the calculating means.
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