JPH0725256Y2 - Spinner device - Google Patents
Spinner deviceInfo
- Publication number
- JPH0725256Y2 JPH0725256Y2 JP1989107487U JP10748789U JPH0725256Y2 JP H0725256 Y2 JPH0725256 Y2 JP H0725256Y2 JP 1989107487 U JP1989107487 U JP 1989107487U JP 10748789 U JP10748789 U JP 10748789U JP H0725256 Y2 JPH0725256 Y2 JP H0725256Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- casing
- partition wall
- chuck
- spinner device
- exhaust
- Prior art date
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- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案はガラス板や半導体ウェハー等の被処理物の表面
に現像液や、ホトレジスト、金属酸化物被膜形成用塗布
液等を塗布する装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial field of application) The present invention relates to an apparatus for applying a developing solution, a photoresist, a coating solution for forming a metal oxide film, or the like onto the surface of an object to be processed such as a glass plate or a semiconductor wafer. .
（従来の技術） ガラス板や半導体ウェハー等の被処理物の表面に各種液
体を均一に塗布するスピンナー装置は、上方を開放した
カップ状をなすケーシング内に下方からチャックを臨ま
せ、このチャックによって被処理物下面を吸着保持し、
この状態の被処理物表面の中心に液体を滴下してチャッ
クをモータによって高速回転させ、回転による遠心力に
よって液体を被処理物表面に均一に広げるようにしてい
る。(Prior Art) A spinner device for uniformly applying various liquids to the surface of an object to be processed such as a glass plate or a semiconductor wafer is a cup-shaped casing whose upper side is opened, and a chuck is faced from below. Adsorbs and holds the lower surface of the workpiece,
The liquid is dropped on the center of the surface of the object to be processed in this state, and the chuck is rotated at a high speed by the motor so that the liquid is uniformly spread on the surface of the object to be processed by the centrifugal force due to the rotation.
そして、滴下した液体のうち被処理物表面に塗布されな
かったものはケーシングに接続したドレーンパイプから
外部へ排出され、またケーシング内は被処理物の回転に
よって気流が生じており、これによって液体がミスト状
となって被処理物表面に再び飛散して付着するのを防止
すべく、ケーシングに排気孔を形成し、積極的にケーシ
ング内のミストを外部に排出するようにしている。Then, of the dropped liquid, the liquid that has not been applied to the surface of the object to be processed is discharged to the outside from the drain pipe connected to the casing, and the air current is generated in the casing due to the rotation of the object to be processed. An exhaust hole is formed in the casing to prevent the mist from being scattered and attached again to the surface of the object to be treated, so that the mist in the casing is positively discharged to the outside.
（考案が解決しようとする課題） 上述したように従来にあっては、余分な液体の排除と、
ケーシング内のミストの排気を行うようにしているが、
排気パイプ内に液体が入り込むと液体の再利用のための
回収が困難となるばかりではく、排気パイプの清掃も頻
繁に行なわなければならず面倒である。このため排気孔
についてはケーシングの側面に、排液孔（ドレーン孔）
についてはケーシング底面に開口せしめているが、十分
とはいえない。(Problems to be solved by the invention) As described above, in the conventional case, the removal of excess liquid,
I am trying to exhaust the mist in the casing,
When liquid enters the exhaust pipe, it is difficult not only to collect the liquid for reuse but also to clean the exhaust pipe frequently, which is troublesome. For this reason, drain holes (drain holes) are provided on the side of the casing for exhaust holes.
As for the above, although it is opened to the bottom of the casing, it cannot be said to be sufficient.
（課題を解決するための手段） 上記課題を解決すべく本考案は、チャック（５）によっ
て吸着した被処理物（Ｗ）をケーシング（１）内で回転
せしめるスピンナー装置において、前記ケーシング
（１）内の中央には内部にチャック（５）を挿入する筒
体（４）を立設し、この筒体（４）の上部とケーシング
底板（２）との間には、ケーシング（１）内を上部の排
液用空間（S1）と、下部の排気用空間（S2）に区画する
傾斜隔壁（13）を設け、この傾斜隔壁（13）の中央部の
外側面には外方に向かって突出する庇部（15）を形成
し、この庇部（15）よりも下方位置に吸込み孔（14）を
形成したことを特徴とする。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the present invention relates to a spinner device for rotating an object to be processed (W) adsorbed by a chuck (5) in a casing (1), wherein the casing (1) is A cylindrical body (4) into which a chuck (5) is inserted is provided upright in the center of the inside, and the inside of the casing (1) is provided between the upper part of the cylindrical body (4) and the casing bottom plate (2). A slanted partition wall (13) is provided to partition the upper drainage space (S1) and the lower exhaust space (S2), and the outer surface of the central portion of the slanted partition wall (13) projects outward. The eaves portion (15) is formed, and the suction hole (14) is formed at a position lower than the eaves portion (15).
（作用） 回転する被処理物表面から飛散した液体の一部は液体の
ままケーシング内面に沿ってドレーン孔から排出され、
他の一部はミストとなって吸引孔を介して排気空間に入
り、この排気空間に開口する排気孔から外部へ排出され
る。(Operation) A part of the liquid scattered from the surface of the rotating workpiece is discharged as a liquid from the drain hole along the inner surface of the casing,
The other part becomes mist and enters the exhaust space through the suction hole, and is discharged to the outside through the exhaust hole opening in the exhaust space.
（実施例） 以下に本考案の実施例を添付図面に基づいて説明する。(Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
第１図は本考案に係るスピンナー装置の縦断面図、第２
図は同スピンナー装置の分解斜視図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a spinner device according to the present invention, and FIG.
The figure is an exploded perspective view of the same spinner device.
スピンナー装置はカップ状をなすケーシング１の底板２
の中央に開口３を形成し、この開口３の周囲に筒体４を
立設し、この筒体４内にスピンナー装置のチャック５を
下方から挿入し、このチャック５上面にてガラス板等の
被処理物Ｗ下面を吸着するとともに、ケーシング１下方
に配したモータ６にてチャック５及び被処理物Ｗを高速
回転せしめる。The spinner device is a cup-shaped bottom plate 2 of a casing 1.
An opening 3 is formed in the center of the cylinder 3, a cylinder 4 is erected around the opening 3, and a chuck 5 of a spinner device is inserted into the cylinder 4 from below. The lower surface of the object W to be processed is adsorbed, and the chuck 5 and the object W to be processed are rotated at high speed by the motor 6 arranged below the casing 1.
また、ケーシング１上端には環状をなすカバー７を取付
け、このカバー７の内周部に被処理物Ｗ表面に滴下した
液のはね返りを防止するスプラッシュガードリング８を
嵌着し、前記カバー７の内側面には下方に向って開口す
る環状溝９を形成し、この環状溝９内に洗浄液噴出ノズ
ル10を設け、この洗浄液噴出ノズル10にテフロン製コネ
クター11及び流路12を介して洗浄液を供給するようにし
ている。An annular cover 7 is attached to the upper end of the casing 1, and a splash guard ring 8 is attached to the inner peripheral portion of the cover 7 to prevent splashing of the liquid dropped on the surface of the object W to be treated. An annular groove 9 opening downward is formed on the inner side surface, and a cleaning liquid ejection nozzle 10 is provided in the annular groove 9, and the cleaning liquid is supplied to the cleaning liquid ejection nozzle 10 through a Teflon connector 11 and a channel 12. I am trying to do it.
一方、前記筒体４の上部とケーシング１底面との間には
山裾状をなす傾斜隔壁13を設け、この傾斜隔壁13によっ
てケーシング１内を排液用空間S1と排気用空間S2に区画
し、これら排液用空間S1と排気用空間S2とを傾斜隔壁13
の中間部に形成した吸込み孔14にて連通し、この吸込み
孔14よりも上方位置において傾斜隔壁13から一体的に庇
部15を外方へ突設している。On the other hand, an inclined partition wall 13 having a mountain hem shape is provided between the upper part of the cylindrical body 4 and the bottom surface of the casing 1, and the inclined partition wall 13 divides the casing 1 into a drainage space S1 and an exhaust space S2. The drain partition space S1 and the exhaust space S2 are divided into slanted partition walls 13
A suction hole (14) formed in the middle portion of the suction hole (14) communicates with each other, and an eaves portion (15) is integrally projecting outward from the inclined partition wall (13) at a position above the suction hole (14).
また、排液用空間S1の底面にはドレーン孔16を開口し、
このドレーン孔16に向って排液用空間S1の底面を傾斜せ
しめるとともに、ドレーン孔16の部分にドレーンパイプ
17を接続し、また排気用空間S2の底面には排気孔18を開
口し、この排気孔18の部分に排気パイプ19を接続してい
る。更に、前記庇部15よりも上方位置の傾斜隔壁13には
ケーシングの内周面洗浄液噴出ノズル20と被処理物の裏
面洗浄液噴出ノズル21を設け、これら洗浄液噴出ノズル
20,21にテフロン製コネクター22及び流路23を介して洗
浄液を供給するようにしている。尚、実施例にあっては
洗浄液噴出ノズル20については等間隔で24個設け、洗浄
液噴出ノズル21については対向する位置に１個ずつ設け
ている。Further, a drain hole 16 is opened on the bottom surface of the drainage space S1,
The bottom surface of the drainage space S1 is inclined toward the drain hole 16 and the drain pipe is provided at the drain hole 16 portion.
17, an exhaust hole 18 is opened in the bottom surface of the exhaust space S2, and an exhaust pipe 19 is connected to the exhaust hole 18. Further, the inclined partition wall 13 located above the eaves portion 15 is provided with an inner peripheral surface cleaning liquid ejecting nozzle 20 of the casing and a back surface cleaning liquid ejecting nozzle 21 of the object to be treated.
The cleaning liquid is supplied to 20, 21 via the Teflon connector 22 and the flow path 23. In the embodiment, 24 cleaning liquid ejecting nozzles 20 are provided at equal intervals, and one cleaning liquid ejecting nozzle 21 is provided at a facing position.
以上の如き構成のスピンナー装置の作用を以下に述べ
る。The operation of the spinner device having the above structure will be described below.
先ず第１図に示す状態からモータ６及びチャック５を上
昇せしめ、チャック５上面をスプラッシュガードリング
８よりも上方に位置せしめる。次いで、チャック５上面
に被処理物Ｗを載置して吸着し、そのままモータ６及び
チャック５を下降せしめ、被処理物Ｗをケーシング１内
に収める。First, the motor 6 and the chuck 5 are lifted from the state shown in FIG. 1, and the upper surface of the chuck 5 is positioned above the splash guard ring 8. Next, the object W to be processed is placed on the upper surface of the chuck 5 to be adsorbed, and the motor 6 and the chuck 5 are lowered as they are, and the object W to be processed is housed in the casing 1.
この後、液滴下ノズルから被処理物Ｗ表面に例えば、金
属酸化物被膜形成用塗布液を滴下し、モータ６の駆動で
被処理物Ｗを高速回転させ、被処理物Ｗ表面に金属酸化
物被膜形成用塗布液を均一な厚さで拡散せしめる。そし
て、上記の塗布工程において被処理物Ｗ表面から遠心力
等によって飛散した液体はケーシング１内側面及び傾斜
隔壁13外側面に沿って排液用空間S1の底面に流下し、底
面の傾斜によってドレーン孔16まで流れ、ドレーンパイ
プ17を介して排出される。ここで、傾斜隔壁13に形成し
た吸込み孔14はその上方を庇部15にて覆われているので
ノズル20から流出した洗浄液が吸込み孔14を通って排気
用空気S2に入ることがない。また吸込み孔14は排液用空
間S1の底面よりも上方にあるので底面まで流下した液体
が吸込み孔14を通って排気用空間S2に入ることがない。After this, for example, a coating liquid for forming a metal oxide film is dropped from the liquid drop nozzle onto the surface of the object to be processed W, the object to be processed W is rotated at high speed by driving the motor 6, and the surface of the object to be processed W is metal oxide. The coating liquid for forming a film is diffused in a uniform thickness. Then, in the above coating step, the liquid scattered from the surface of the object W to be processed by centrifugal force or the like flows down to the bottom surface of the drainage space S1 along the inner surface of the casing 1 and the outer surface of the inclined partition wall 13 and is drained by the inclination of the bottom surface. It flows to the hole 16 and is discharged through the drain pipe 17. Here, since the suction hole 14 formed in the inclined partition wall 13 is covered with the eaves portion 15 above it, the cleaning liquid flowing out from the nozzle 20 does not enter the exhaust air S2 through the suction hole 14. Further, since the suction hole 14 is located above the bottom surface of the drainage space S1, the liquid that has flowed down to the bottom surface does not enter the exhaust space S2 through the suction hole 14.
一方、排気用空間S2内には微細な液体粒子を含むミスト
が存在する。このミストは吸込み孔14を通って排気用空
間S2に導入され、排気パイプ19を介して排出される。そ
して、吸込み孔14の上方に庇部15があるため傾斜隔壁13
に沿って上昇するミストは庇部15において遮られ、被処
理物Ｗ表面に微細な粒子が付着することがない。On the other hand, mist containing fine liquid particles exists in the exhaust space S2. This mist is introduced into the exhaust space S2 through the suction hole 14 and discharged through the exhaust pipe 19. Since the eaves portion 15 is located above the suction hole 14, the inclined partition wall 13
The mist that rises along is blocked by the eaves portion 15, and fine particles do not adhere to the surface of the object W to be processed.
（考案の効果） 以上に説明したように本考案によれば、スピンナー装置
のケーシング内を傾斜隔壁によって排液用空間と排気用
空間に分けたので、液体の回収と気体の排出を効率よく
行うことができ、特に傾斜隔壁の吸込み孔の上方に庇部
を設けるようにすれば、ケーシング内のミストを効果的
に排出することができ、品質向上が図れる。(Effect of the Invention) As described above, according to the present invention, the interior of the casing of the spinner device is divided into the drainage space and the exhaust space by the inclined partition wall, so that the liquid recovery and the gas discharge can be performed efficiently. In particular, if the eave portion is provided above the suction hole of the inclined partition wall, the mist in the casing can be effectively discharged, and the quality can be improved.
第１図は本考案に係るスピンナー装置の縦断面図、第２
図は同装置の分解斜視図である。 尚、図面中１はケーシング、４は筒体、５はチャック、
13は傾斜隔壁、14は吸込み孔、15は庇部、16はドレーン
孔、18は排気孔、20,21は洗浄ノズル、S1は排液用空
間、S2は排気用空間、Ｗは被処理物である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a spinner device according to the present invention, and FIG.
The figure is an exploded perspective view of the device. In the drawings, 1 is a casing, 4 is a cylindrical body, 5 is a chuck,
13 is an inclined partition wall, 14 is a suction hole, 15 is an eaves portion, 16 is a drain hole, 18 is an exhaust hole, 20 and 21 are cleaning nozzles, S1 is a drainage space, S2 is an exhaust space, and W is an object to be treated. Is.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 植原 晃 神奈川県横浜市旭区若葉台２丁目24番204 号 (72)考案者 中山 宗雄 東京都世田谷区代田４丁目２番28号 (72)考案者 山本 正治 岡山県井原市木之子町167番地 タツモ株 式会社内 (72)考案者 川上 和志 岡山県井原市木之子町167番地 タツモ株 式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−77569（ＪＰ，Ａ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Akira Uehara 2-24 204 Wakabadai, Asahi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa (72) Inventor Muneo Nakayama 4-28 28, Shirota, Setagaya-ku, Tokyo (72) Inventor Shoji Yamamoto 167, Kinoko Town, Ibara City, Okayama Prefecture Tatsumo Co., Ltd. (72) Inventor Kazushi Kawakami 167, Kinoko Town, Ihara City, Okayama Prefecture Tatsumo Co., Ltd. (56) Reference JP 63-77569 (JP) , A)
Claims (2)
（Ｗ）をケーシング（１）内で回転せしめるスピンナー
装置において、前記ケーシング（１）内の中央には内部
にチャック（５）を挿入する筒体（４）を立設し、この
筒体（４）の上部とケーシング底板（２）との間には、
ケーシング（１）内を上部の排液用空間（S1）と、下部
の排気用空間（S2）に区画する傾斜隔壁（13）を設け、
この傾斜隔壁（13）の中央部の外側面には外方に向かっ
て突出する庇部（15）を形成し、この庇部（15）よりも
下方位置に吸込み孔（14）を形成したことを特徴とする
スピンナー装置。1. A spinner device for rotating an object to be treated (W) adsorbed by a chuck (5) in a casing (1), wherein a chuck (5) is inserted in the center of the casing (1). The tubular body (4) is erected, and between the upper portion of the tubular body (4) and the casing bottom plate (2),
An inclined partition wall (13) for partitioning the interior of the casing (1) into an upper drainage space (S1) and a lower drainage space (S2) is provided.
An eave portion (15) protruding outward is formed on the outer surface of the central portion of the inclined partition wall (13), and a suction hole (14) is formed below the eave portion (15). Spinner device characterized by.
（20）が設けられていることを特徴とする請求項（１）
に記載のスピンナー装置。2. The cleaning nozzle (20) is provided on the upper part of the inclined partition wall (13).
The spinner device described in 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989107487U JPH0725256Y2 (en) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | Spinner device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989107487U JPH0725256Y2 (en) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | Spinner device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0347070U JPH0347070U (en) | 1991-04-30 |
| JPH0725256Y2 true JPH0725256Y2 (en) | 1995-06-07 |
Family
ID=31656178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989107487U Expired - Fee Related JPH0725256Y2 (en) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | Spinner device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725256Y2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6377569A (en) * | 1986-09-19 | 1988-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Rotary type surface treatment device for substrate |
| JP3007978U (en) * | 1994-08-19 | 1995-02-28 | 株式会社オーディオテクニカ | Microphone device |
-
1989
- 1989-09-13 JP JP1989107487U patent/JPH0725256Y2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0347070U (en) | 1991-04-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |