JPH07231009A - Connection structure of electronic parts and connecting method therefor and liquid crystal display module - Google Patents

Connection structure of electronic parts and connecting method therefor and liquid crystal display module

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JPH07231009A
JPH07231009A JP6043086A JP4308694A JPH07231009A JP H07231009 A JPH07231009 A JP H07231009A JP 6043086 A JP6043086 A JP 6043086A JP 4308694 A JP4308694 A JP 4308694A JP H07231009 A JPH07231009 A JP H07231009A
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JP
Japan
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film substrate
transparent
liquid crystal
crystal display
lsi
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JP6043086A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Atsumi
好則 厚見
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Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH07231009A publication Critical patent/JPH07231009A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
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    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83192Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body

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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE:To mount an LSI on an inexpensive film substrate such as PET film having a high precision interconnecting pattern made of ITO, etc., with applying little heat and reduce the size in the form of a package. CONSTITUTION:Connecting electrodes (bumps) 12 of an LSI 11 are connected to a connecting part 2a of a transparent conductor film 2 such as ITO film formed on a transparent film such as PET, and a light-setting resin 6 such as ultraviolet-setting resin is inserted between the LSI 11 and substrate 1 by coating, etc. The resin 6 is irradiated with light 16 such as ultraviolet ray to harden, thereby fixing the LSI 11 to the substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フィルム基板に搭載す
るLSI等の電子部品の接続構造および接続方法と、そ
のような接続の仕方によりLSIが搭載されたドライバ
ー基板を接続して備える液晶表示モジュールに関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a connecting structure and a connecting method for electronic parts such as LSI mounted on a film substrate, and a liquid crystal display provided by connecting a driver board mounted with the LSI by such a connecting method. It's about modules.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、液晶表示装置において、組立時
等における取り扱いを容易にするために、液晶表示パネ
ルおよび回路基板等をモジュール化する。従来の液晶表
示モジュールの典型的な実装形態の一例としては、液晶
表示パネルの周囲のうち2辺側に、セグメント用とコモ
ン用のそれぞれのLSI(Large Scale I
ntegration:大規模集積回路)を搭載した複
数のドライバー基板を接合し、さらに、このドライバー
基板をコントロール用の回路基板にそれぞれ接合してい
る。
2. Description of the Related Art For example, in a liquid crystal display device, a liquid crystal display panel, a circuit board and the like are modularized in order to facilitate handling at the time of assembly. As an example of a typical mounting mode of a conventional liquid crystal display module, a segment and a common LSI (Large Scale I) for segment and common are provided on two sides of the periphery of the liquid crystal display panel.
A plurality of driver boards each having an integrated circuit (large integration circuit) mounted thereon are joined together, and further, the driver boards are joined to control circuit boards respectively.

【0003】通常、ドライバー基板のベアチップ実装に
は、TAB(Tape Automated Bond
ing)方式が用いられる。このTAB方式は、予めベ
ースフィルム(ドライバー基板)のチップ(LSI)の
入る位置にデバイスホールなる角孔やスリット(開口
部)のための孔を設け、その上に銅(Cu)箔を接着剤
を介してラミネートし、パターン形成した後、デバイス
ホール内にフィンガー状に突き出たインナーリードとチ
ップ(LSI)側のバンプ電極とを接合する方式であ
る。
Usually, a TAB (Tape Automated Bond) is used for bare chip mounting on a driver substrate.
ing) method is used. In this TAB method, a square hole or a slit (opening) which is a device hole is provided in advance at a position where a chip (LSI) of a base film (driver board) is inserted, and a copper (Cu) foil is bonded onto the hole. This is a method in which the inner leads protruding in a finger shape into the device holes and the bump electrodes on the chip (LSI) side are bonded to each other after being laminated via the above to form a pattern.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
TAB方式において、ポリイミドからなるフィルム基板
は、LSIの接合時に半田等を溶かしてバンプを介して
接合しており、このときに300〜400℃の高熱が印
加されるために、その高熱でフィルムが溶けないように
デバイス部分にデバイスホールやスリット(開口部)を
あけ、その内方に、回路(配線パターン)を形成するC
u箔をインナーリードとしてフィンガー状に突出し、デ
バイス(LSI)を接合保持する構造となっており、コ
ストアップとなっていた。
However, in the conventional TAB method, the film substrate made of polyimide is melted with solder or the like at the time of bonding of LSI and bonded through bumps. Since high heat is applied, a device hole or a slit (opening) is formed in the device portion so that the film is not melted by the high heat, and a circuit (wiring pattern) is formed inside thereof.
The u-foil is used as an inner lead to project in a finger shape to bond and hold the device (LSI), resulting in an increase in cost.

【0005】また、インナーリードとしてのCu箔は、
デバイス(LSI)を保持することから、ある程度の強
度が要求されるため、10〜30μm以上の厚さが必要
である。ところが、配線パターンを形成するCu箔のパ
ターニングにはウェットエッチングを使うため、その等
方性エッチングにより微細なパターンが形成しにくく、
Cu箔が厚くなると微細なパターンが形成できない。こ
のため、Cu箔のパターニングにおいて、70μmピッ
チが限界であった。
Also, the Cu foil as the inner lead is
Since the device (LSI) is held, a certain level of strength is required, and therefore a thickness of 10 to 30 μm or more is required. However, since the Cu foil for forming the wiring pattern is patterned by wet etching, it is difficult to form a fine pattern by the isotropic etching.
If the Cu foil becomes thick, a fine pattern cannot be formed. Therefore, in patterning the Cu foil, the pitch of 70 μm was the limit.

【0006】したがって、微細ピッチのパターンを形成
することができないため、これに対応するLSIが大型
化することとなり、実装形態を小型にすることができな
いという問題があった。
Therefore, since it is not possible to form a pattern with a fine pitch, the LSI corresponding thereto becomes large, and there is a problem that the mounting form cannot be made small.

【0007】そこで、本発明の目的は、安価で高精細な
フィルム基板に、熱をほとんど印加することなくLSI
を搭載できて、実装形態の小型化が図れるようにした電
子部品の接続構造および接続方法を提供することにあ
る。
Therefore, an object of the present invention is to provide an inexpensive and high-definition film substrate to an LSI with almost no heat applied.
An object of the present invention is to provide a connection structure and a connection method for an electronic component, which can be mounted on a board and can be mounted in a small size.

【0008】また、本発明は、そのような接続の仕方に
よりLSIが搭載されたドライバー基板を接続して備え
る液晶表示モジュールを提供することも目的としてい
る。
Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display module equipped with a driver substrate on which an LSI is mounted by connecting the device by such a connecting method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】以上の課題を解決すべく
請求項1記載の発明は、フィルム基板に設けた配線パタ
ーンの接続部に、接続電極が接合される電子部品の接続
構造において、例えば、PETなどの透明フィルム基板
にITOなどの透明導電膜による前記配線パターンを形
成し、この透明導電膜による配線パターンの前記接続部
にLSIなどの前記電子部品のバンプなどの前記接続電
極を接合するとともに、この電子部品を紫外線等の光硬
化性樹脂を介して前記透明フィルム基板に固定したこと
を特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 provides a connection structure of an electronic component in which a connection electrode is joined to a connection portion of a wiring pattern provided on a film substrate, for example, The wiring pattern is formed of a transparent conductive film such as ITO on a transparent film substrate such as PET, and the connection electrodes such as bumps of the electronic component such as LSI are bonded to the connection portions of the wiring pattern formed of the transparent conductive film. At the same time, this electronic component is fixed to the transparent film substrate via a photocurable resin such as ultraviolet light.

【0010】また、請求項2記載の発明は、フィルム基
板に設けた配線パターンの接続部に、電子部品の接続電
極を接合するようにした電子部品の接続方法において、
例えば、PETなどの透明フィルム基板に形成したIT
Oなどの透明導電膜による前記配線パターンの前記接続
部にLSIなどの前記電子部品のバンプなどの前記接続
電極を接合するとともに、この電子部品と前記透明フィ
ルム基板との間に紫外線等の光硬化性樹脂を塗布する等
により介在させ、この光硬化性樹脂に紫外線等の光を照
射することにより硬化させて、前記電子部品を前記透明
フィルム基板に固定することを特徴としている。
The invention according to claim 2 is a method of connecting an electronic component, wherein a connection electrode of the electronic component is joined to a connection portion of a wiring pattern provided on the film substrate,
For example, IT formed on a transparent film substrate such as PET
The connection electrode such as a bump of the electronic component such as an LSI is joined to the connection portion of the wiring pattern formed of a transparent conductive film such as O, and photocuring such as ultraviolet light is performed between the electronic component and the transparent film substrate. Of the photo-curable resin is applied to the transparent film substrate to cure the photo-curable resin by irradiating the photo-curable resin with light such as ultraviolet rays to fix the electronic component to the transparent film substrate.

【0011】そして、請求項3記載の発明は、液晶表示
パネルの側辺部に、集積回路が搭載されたドライバー基
板を接合して備えた液晶表示モジュールにおいて、前記
ドライバー基板は、例えば、ITOなどの透明導電膜に
よる配線パターンの接続部にLSIなどの前記集積回路
のバンプなどの接続電極を接合し、且つこの集積回路を
紫外線等の光硬化性樹脂を介して固定したPETなどの
透明フィルム基板であることを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in a liquid crystal display module provided with a driver substrate on which an integrated circuit is mounted, which is joined to a side portion of the liquid crystal display panel, the driver substrate is, for example, ITO. A transparent film substrate such as PET in which connection electrodes such as bumps of the integrated circuit such as LSI are bonded to the connection portion of the wiring pattern by the transparent conductive film and the integrated circuit is fixed through a photocurable resin such as ultraviolet rays. It is characterized by being.

【0012】[0012]

【作用】請求項1および2記載の発明によれば、透明フ
ィルム基板に透明導電膜を形成し、この透明導電膜の接
続部に電子部品の接続電極を接合し、且つこの電子部品
と透明フィルム基板との間に光硬化性樹脂を介在させ、
この光硬化性樹脂に光を照射することにより硬化させ
て、電子部品を透明フィルム基板に固定するので、熱を
ほとんど印加することなくLSIなどの電子部品をフィ
ルム基板上に搭載できる。
According to the present invention, the transparent conductive film is formed on the transparent film substrate, the connection electrode of the electronic component is bonded to the connection portion of the transparent conductive film, and the electronic component and the transparent film. The photocurable resin is interposed between the substrate and
Since the photocurable resin is cured by irradiating it with light to fix the electronic component to the transparent film substrate, the electronic component such as an LSI can be mounted on the film substrate with almost no heat applied.

【0013】しかも、フィルム基板上の配線パターンの
形成にITOなどの透明導電材の薄膜を用いることで、
例えば、70μmピッチ以下のパターニングも可能にし
て、実装形態の小型化が実現できる。そして、接続は、
加熱する必要のない紫外線等の光硬化性樹脂を使用して
いるので、安価なPETなどのフィルム基板を使用で
き、大幅なコストダウンが期待できる。
Moreover, by using a thin film of a transparent conductive material such as ITO for forming the wiring pattern on the film substrate,
For example, patterning with a pitch of 70 μm or less is also possible, and the mounting form can be miniaturized. And the connection is
Since a photocurable resin such as ultraviolet light that does not need to be heated is used, an inexpensive film substrate such as PET can be used, and a significant cost reduction can be expected.

【0014】また、請求項3記載の発明によれば、透明
導電膜の接続部に接続電極を接合した集積回路を光硬化
性樹脂を介して固定した透明フィルム基板によるドライ
バー基板を、液晶表示パネルの側辺部に接合して備えた
液晶表示モジュールであるので、大幅なコストダウンが
図れる。
According to a third aspect of the present invention, a driver substrate made of a transparent film substrate, in which an integrated circuit in which a connection electrode is joined to a connection portion of a transparent conductive film is fixed via a photocurable resin, is used as a liquid crystal display panel. Since the liquid crystal display module is provided by being bonded to the side portion of, the cost can be significantly reduced.

【0015】[0015]

【実施例】以下に、本発明に係る電子部品の接続構造お
よび接続方法と液晶表示モジュールの実施例を図1乃至
図7に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a connecting structure and connecting method for electronic parts and a liquid crystal display module according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0016】先ず、図1および図2は本発明を適用した
一例としての電子部品を搭載した透明フィルム基板を示
すもので、1は透明フィルム基板、2は透明導電膜、2
aは接続部、3は金属層、4,5は配線パターン、6は
光硬化性樹脂、11はLSI(電子部品)、12は接続
電極、16は光である。
First, FIGS. 1 and 2 show a transparent film substrate on which an electronic component as an example to which the present invention is applied is mounted. 1 is a transparent film substrate, 2 is a transparent conductive film, and 2 is a transparent conductive film.
a is a connection part, 3 is a metal layer, 4 and 5 are wiring patterns, 6 is a photocurable resin, 11 is an LSI (electronic component), 12 is a connection electrode, and 16 is light.

【0017】透明フィルム基板1は、例えば、PET
(ポリエチレンテレフタレート)またはPES(ポリエ
ーテルサルフォン)などの安価な透明材料を用いたもの
である。そして、この透明フィルム基板1の表面には、
例えば、ITO(IndiumTin Oxide)な
どの透明な導電性物質により透明導電膜2をパターニン
グしている。
The transparent film substrate 1 is, for example, PET.
An inexpensive transparent material such as (polyethylene terephthalate) or PES (polyether sulfone) is used. And, on the surface of the transparent film substrate 1,
For example, the transparent conductive film 2 is patterned with a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide).

【0018】実施例では、この透明導電膜2の上におけ
るLSI11が実装される部分を除いた部分には、例え
ば、ニッケル(Ni)や金(Au)もしくはその1つの
金属からなる二層による金属層3をメタライズして、低
インピーダンス化(低抵抗化)を図っている。これによ
り、所定の配線パターン4,5を形成している。そし
て、この配線パターン4,5間に搭載する電子部品とし
てのLSI11を、例えば、紫外線等の光16の照射に
より硬化する光硬化性樹脂6を介して実装している。
In the embodiment, the portion other than the portion on which the LSI 11 is mounted on the transparent conductive film 2 is, for example, nickel (Ni), gold (Au), or a two-layer metal composed of one metal thereof. The layer 3 is metallized to achieve low impedance (low resistance). As a result, predetermined wiring patterns 4 and 5 are formed. Then, the LSI 11 as an electronic component mounted between the wiring patterns 4 and 5 is mounted, for example, via a photocurable resin 6 which is cured by irradiation with light 16 such as ultraviolet rays.

【0019】ここで、LSI11は液晶表示駆動用のも
ので、このLSI11の下面には、接続電極としてAu
またはAuメッキによるバンプ12,12,…が備えら
れている。このようなバンプ12,12,…が、透明導
電膜2,2,…の金属層3,3,…から露出した接続部
2a,2a,…にそれぞれ接合されている。
Here, the LSI 11 is for driving a liquid crystal display, and Au is used as a connecting electrode on the lower surface of the LSI 11.
Alternatively, bumps 12, 12, ... By Au plating are provided. The bumps 12, 12, ... Are bonded to the connection portions 2a, 2a, ... Exposed from the metal layers 3, 3 ,.

【0020】なお、一方の配線パターン4は、図示しな
い回路基板側に接続されるものであり、また、他方の配
線パターン5は、図3に示した液晶表示パネル31側に
接続されるものである。さらに、実施例では、透明フィ
ルム基板1の配線パターン5を設けた側に、スリット
(開口部)1aを形成している。即ち、このスリット1
aの存在により、透明フィルム基板1がほぼ直角に折り
曲げた状態にできるようになっている。
The one wiring pattern 4 is connected to the circuit board side (not shown), and the other wiring pattern 5 is connected to the liquid crystal display panel 31 side shown in FIG. is there. Further, in the embodiment, the slit (opening) 1a is formed on the side of the transparent film substrate 1 on which the wiring pattern 5 is provided. That is, this slit 1
Due to the presence of a, the transparent film substrate 1 can be bent in a substantially right angle state.

【0021】次に、以上の透明フィルム基板1へのパタ
ーニングとLSI11の実装の仕方について説明する。
Next, a method of patterning the transparent film substrate 1 and mounting the LSI 11 will be described.

【0022】先ず、PETまたはPESからなる透明フ
ィルム基板1の表面に、ITOによる透明な導電性物質
により薄膜を形成して、公知のフォトリソグラフィの方
法により、図4に示すように、ほぼ中央部を除いて透明
導電膜2,2をパターニングして、所定の配線パターン
4,5を形成する。なお、このITOによる透明導電膜
2の膜厚は、1500〜3000Åである。
First, a thin film is formed on the surface of a transparent film substrate 1 made of PET or PES by a transparent conductive material such as ITO, and by a known photolithography method, as shown in FIG. Except for the above, the transparent conductive films 2 and 2 are patterned to form predetermined wiring patterns 4 and 5. The thickness of the transparent conductive film 2 made of ITO is 1500 to 3000Å.

【0023】さらに、実施例では、透明導電膜2,2端
部の接続部2a,2aを含むほぼ中央部、すなわちLS
I11が実装される部分、および隣合う透明導電膜2,
2間に、図示しないメッキレジストを形成して、この部
分を除く部分にNiやAuもしくはその2つの金属から
なる二層による金属膜をメッキにより形成する。そし
て、メッキレジストを剥離することにより、図5に示す
ように、透明導電膜2,2上に金属層3,3を形成し
て、低インピーダンス化(低抵抗化)を図る。なお、N
iやAuもしくはその二層による金属層3の膜厚は、1
000〜30000Åである。
Furthermore, in the embodiment, the transparent conductive film 2 and the end portions of the transparent conductive film 2 are connected to the central portion including the connecting portions 2a and 2a, that is, LS.
The part where I11 is mounted, and the adjacent transparent conductive film 2,
A plating resist (not shown) is formed between the two, and a metal film of Ni or Au or a two-layered metal composed of the two metals is formed by plating on a portion other than this portion. Then, by removing the plating resist, as shown in FIG. 5, the metal layers 3 and 3 are formed on the transparent conductive films 2 and 2 to lower the impedance (lower the resistance). Note that N
The film thickness of the metal layer 3 made of i or Au or its two layers is 1
It is 000 to 30,000Å.

【0024】その後、フォトリソグラフィーの方法によ
り、透明フィルム基板におけるスリット1aを形成する
部分をエッチングによって除去して、この部分にスリッ
ト1aを設ける。
Thereafter, the portion of the transparent film substrate where the slit 1a is formed is removed by etching by the photolithography method, and the slit 1a is provided in this portion.

【0025】次に、図6に示すように、透明フィルム基
板1上において、透明導電膜2,2端部の接続部2a,
2aを含むほぼ中央部に、紫外線等の光硬化性樹脂6を
塗布して、その上方から、接続電極としてAuまたはA
uメッキによるバンプ12,12,…を下面に備えたL
SI11を位置合わせする。即ち、透明導電膜2,2,
…の金属層3,3,…から露出した接続部2a,2a,
…に、LSI11のバンプ12,12,…をそれぞれ接
合させる。
Next, as shown in FIG. 6, on the transparent film substrate 1, the transparent conductive films 2 and the connecting portions 2a at the two end portions,
A photo-curable resin 6 such as ultraviolet light is applied to almost the central portion including 2a, and Au or A is used as a connecting electrode from above.
L with u-plated bumps 12, 12, ...
Align SI11. That is, the transparent conductive films 2, 2,
The connection portions 2a, 2a, exposed from the metal layers 3, 3, ...
, And the bumps 12, 12, ... Of the LSI 11 are joined respectively.

【0026】そして、例えば、図7に示すように、上下
対をなす加圧治具71,72により透明フィルム基板1
上に光硬化性樹脂6を介在させながらLSI11を加圧
した状態にする。このとき、少なくとも下側の加圧治具
71に透明樹脂等の透明材料を用いることで、後述する
紫外線等の光の照射を下方から行う。
Then, for example, as shown in FIG. 7, the transparent film substrate 1 is formed by a pair of pressure jigs 71, 72 which are vertically paired.
The LSI 11 is pressed while the photo-curable resin 6 is interposed therebetween. At this time, by using a transparent material such as a transparent resin for at least the lower pressing jig 71, irradiation of light such as ultraviolet rays described below is performed from below.

【0027】こうして、透明フィルム基板1上に光硬化
性樹脂6を介在させながらLSI11を加圧した状態
で、図2に矢印で示すように、上下両方から紫外線等の
光16を透明フィルム基板1のほぼ中央部に照射する。
このとき、下方からの光16は、透明材料からなる加圧
治具71、透明フィルム基板1、および透明導電膜2,
2を透過して光硬化性樹脂6に到達するため、この光硬
化性樹脂6が硬化して、透明フィルム基板1上にLSI
11が固定される。
Thus, in a state where the LSI 11 is pressed while the photocurable resin 6 is interposed on the transparent film substrate 1, light 16 such as ultraviolet rays is irradiated from both the upper and lower sides of the transparent film substrate 1 as shown by the arrow in FIG. Irradiate almost the center of the.
At this time, the light 16 from below is applied to the pressing jig 71 made of a transparent material, the transparent film substrate 1, and the transparent conductive film 2.
2 reaches the photo-curable resin 6 after passing through the photo-curable resin 6, the photo-curable resin 6 is cured and the LSI is formed on the transparent film substrate 1.
11 is fixed.

【0028】ところで、実施例では、透明導電膜2端部
の接続部2aの近傍まで金属層3を設けているため、図
2に矢印で示したように、上方からも紫外線等の光16
を透明フィルム基板1のほぼ中央部に照射して、金属層
3の上の光硬化性樹脂6を硬化させる必要がある。しか
し、金属層3をさらに外側の位置に後退させて、光硬化
性樹脂6が金属層3の上にほとんど載らないようにすれ
ば、下方からの光16の照射のみで足りるものとなる。
By the way, in the embodiment, since the metal layer 3 is provided up to the vicinity of the connecting portion 2a at the end of the transparent conductive film 2, as shown by the arrow in FIG.
It is necessary to irradiate almost the central portion of the transparent film substrate 1 to cure the photocurable resin 6 on the metal layer 3. However, if the metal layer 3 is set back further outward so that the photocurable resin 6 is barely placed on the metal layer 3, it is sufficient to irradiate the light 16 from below.

【0029】また、実施例では、透明フィルム基板1に
光硬化性樹脂6を塗布してからLSI11を位置合わせ
するようにしたが、逆に、LSI11を透明フィルム基
板1上に位置合わせしてからその間に光硬化性樹脂6を
塗布して介在させるようにしてもよい。なお、搭載する
電子部品としては、LSIに限らず他のIC(Inte
grated Circuit:集積回路)等でもよ
い。
Further, in the embodiment, the photocurable resin 6 is applied to the transparent film substrate 1 and then the LSI 11 is aligned. However, conversely, after the LSI 11 is aligned on the transparent film substrate 1. The photocurable resin 6 may be applied and interposed between them. The electronic components to be mounted are not limited to LSIs, and other ICs (Inte
It may be a gated circuit (integrated circuit) or the like.

【0030】以上の通り、PETまたはPESからなる
透明フィルム基板1のITOによる透明導電膜2の接続
部2aを含むほぼ中央部に紫外線等の光硬化性樹脂6を
塗布して、接続部2aにLSI11のAuまたはAuメ
ッキによるバンプ12を接合し、透明フィルム基板1の
下方から紫外線等の光16を照射して、LSI11との
間に介在させた光硬化性樹脂6を硬化させることによ
り、LSI11を透明フィルム基板1に固定して、従来
のように熱をほとんど印加することなくLSI11を透
明フィルム基板1上に搭載できる。
As described above, the photo-curable resin 6 such as ultraviolet rays is applied to almost the central portion including the connecting portion 2a of the transparent conductive film 2 made of ITO of the transparent film substrate 1 made of PET or PES, and the connecting portion 2a is applied. The bumps 12 of Au or Au plating of the LSI 11 are joined, and light 16 such as ultraviolet rays is irradiated from below the transparent film substrate 1 to cure the photocurable resin 6 interposed between the LSI 11 and the LSI 11. Is fixed to the transparent film substrate 1, and the LSI 11 can be mounted on the transparent film substrate 1 with almost no heat applied as in the conventional case.

【0031】さらに、透明フィルム基板1上の配線パタ
ーン4,5の形成にITOによる透明導電膜2を用いて
薄膜なものとしたため、例えば、70μmピッチ以下の
パターニングも可能にして、実装形態の小型化が実現で
きる。また、実施例のように、透明導電膜2をメタライ
ズ化(金属層3の形成)することで、低インピーダンス
化も可能である。
Further, since the transparent conductive film 2 made of ITO is used to form the wiring patterns 4 and 5 on the transparent film substrate 1, it is possible to perform patterning with a pitch of 70 μm or less, for example. Can be realized. Further, as in the example, the transparent conductive film 2 is metallized (the metal layer 3 is formed), so that the impedance can be lowered.

【0032】その上、接続は、加熱する必要のない紫外
線等の光硬化性樹脂6を使用したため、安価なPETま
たはPESからなる透明フィルム基板1を使用でき、大
幅なコストダウンも期待できる。また、LSI11の接
続の信頼性についても、フレキシブルな透明フィルム基
板1を使用しているので、バンプ12の高さのバラツキ
等もある程度吸収し、信頼性が高い。
Moreover, since the connection uses the photocurable resin 6 such as ultraviolet rays which does not need to be heated, an inexpensive transparent film substrate 1 made of PET or PES can be used, and a significant cost reduction can be expected. Also, regarding the reliability of the connection of the LSI 11, since the flexible transparent film substrate 1 is used, variations in height of the bumps 12 are absorbed to some extent, and the reliability is high.

【0033】図3は以上のようにしてLSI11を搭載
した透明フィルム基板1を液晶表示パネル31に接続し
てなる液晶表示モジュール30の一例を示したものであ
る。液晶表示パネル31は、ガラスまたはフィルムから
なる上下の透明基板32,33間に液晶34を周囲に形
成されたシール材35により封止して、図示例では、下
側の透明基板33の上面にITOによる液晶表示駆動用
の透明導電膜36がパターニングされている。この透明
導電膜36の端部が接続端子36aとなっている。
FIG. 3 shows an example of a liquid crystal display module 30 in which the transparent film substrate 1 on which the LSI 11 is mounted is connected to the liquid crystal display panel 31 as described above. The liquid crystal display panel 31 seals the liquid crystal 34 between the upper and lower transparent substrates 32 and 33 made of glass or film with a seal material 35 formed around the upper and lower transparent substrates 32 and 33. A transparent conductive film 36 for driving a liquid crystal display made of ITO is patterned. The end of the transparent conductive film 36 serves as the connection terminal 36a.

【0034】このような液晶表示パネル31に対して、
その下側の透明基板33上面のITOによる液晶表示駆
動用の透明導電膜36の接続端子36aに、ドライバー
基板としての前記透明フィルム基板1のスリット1aか
ら先の配線パターン5の端部を異方導電性接着剤37を
介して接続している。
For such a liquid crystal display panel 31,
An end portion of the wiring pattern 5 ahead of the slit 1a of the transparent film substrate 1 as the driver substrate is anisotropically connected to the connection terminal 36a of the transparent conductive film 36 for driving the liquid crystal display made of ITO on the upper surface of the lower transparent substrate 33. It is connected via a conductive adhesive 37.

【0035】この異方導電性接着剤37は、導電性粒子
37a,37a,…を熱硬化性樹脂によるバインダー3
7bに混入してなるもので、加圧を伴って加熱すること
により、導電性粒子37a,37a,…を介して液晶表
示パネル31の透明導電膜36の接続端子36aと、透
明フィルム基板1の配線パターン5とを電気的に接続す
るとともに、バインダー37bが硬化して互いの固定が
行われる。
In this anisotropic conductive adhesive 37, the conductive particles 37a, 37a, ...
7b, and by heating with pressure, the connection terminals 36a of the transparent conductive film 36 of the liquid crystal display panel 31 and the transparent film substrate 1 of the transparent film substrate 1 via the conductive particles 37a, 37a ,. The binder 37b is hardened and fixed to each other while electrically connecting to the wiring pattern 5.

【0036】こうして、液晶表示パネル31に対して透
明フィルム基板1をスリット1aでほぼ直角に折り曲げ
た状態で接続して、液晶表示モジュール30を構成して
いる。なお、透明フィルム基板1の他方の配線パターン
4は、図示しないコントロール用の回路基板側に接続さ
れる。
In this way, the transparent film substrate 1 is connected to the liquid crystal display panel 31 in a state where the transparent film substrate 1 is bent at a substantially right angle through the slits 1a to form the liquid crystal display module 30. The other wiring pattern 4 of the transparent film substrate 1 is connected to the control circuit board side (not shown).

【0037】このように、液晶表示モジュール30にお
いて、液晶表示パネル31の側辺部に接合して備えるド
ライバー基板として、ITOによる透明導電膜2の接続
部2aにAuまたはAuメッキによるバンプ12を接合
したLSI11を紫外線等の光硬化性樹脂6を介して固
定したPETまたはPESからなる透明フィルム基板1
を用いたことで、大幅なコストダウンに寄与できるもの
となる。
As described above, in the liquid crystal display module 30, as a driver substrate provided by being joined to the side portion of the liquid crystal display panel 31, the bump 12 made of Au or Au plating is joined to the connecting portion 2a of the transparent conductive film 2 made of ITO. A transparent film substrate 1 made of PET or PES in which the LSI 11 is fixed via a photocurable resin 6 such as ultraviolet rays.
By using, it is possible to contribute to a significant cost reduction.

【0038】なお、以上の実施例においては、低インピ
ーダンス化するために回路の一部をNiやAuでメタラ
イズしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、
必ずしもメタライズはしなくてもよい。また、本発明の
適用用途についても、実施例の液晶表示モジュールのみ
に限らず任意であり、その他、具体的な細部構造等につ
いても適宜に変更可能であることは勿論である。
In the above embodiments, part of the circuit is metallized with Ni or Au in order to lower the impedance, but the present invention is not limited to this.
It is not always necessary to perform metallization. Further, the application of the present invention is not limited to the liquid crystal display module of the embodiment, but is arbitrary, and it is needless to say that the specific detailed structure and the like can be appropriately changed.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上のように、請求項1および2記載の
発明に係る電子部品の接続構造および接続方法によれ
ば、透明フィルム基板に形成した透明導電膜の接続部に
電子部品の接続電極を接合し、且つこの電子部品と透明
フィルム基板との間に介在させた光硬化性樹脂に光を照
射して硬化させることにより、電子部品を透明フィルム
基板に固定できるため、熱をほとんど印加することなく
LSIなどの電子部品をフィルム基板上に搭載すること
ができる。
As described above, according to the connecting structure and the connecting method of the electronic parts according to the inventions of claims 1 and 2, the connecting part of the transparent conductive film formed on the transparent film substrate is connected to the connecting electrode of the electronic part. Since the electronic components can be fixed to the transparent film substrate by irradiating the photo-curable resin interposed between the electronic components and the transparent film substrate with light to cure it, almost all the heat is applied. It is possible to mount an electronic component such as an LSI on a film substrate without using it.

【0040】しかも、フィルム基板上の配線パターンの
形成にITOなどの透明導電材の薄膜を用いたため、例
えば、70μmピッチ以下のパターニングも可能にし
て、実装形態の小型化を実現することができる。そし
て、接続は、加熱する必要のない紫外線等の光硬化性樹
脂を使用したため、安価なPETなどのフィルム基板を
使用でき、従って、以上により大幅なコストダウンも達
成することができる。
Moreover, since the thin film of the transparent conductive material such as ITO is used for forming the wiring pattern on the film substrate, for example, the patterning of 70 μm pitch or less is also possible, and the miniaturization of the mounting form can be realized. Since the connection uses a photocurable resin such as ultraviolet light that does not need to be heated, an inexpensive film substrate such as PET can be used, and thus a significant cost reduction can be achieved.

【0041】また、請求項3記載の発明に係る液晶表示
モジュールによれば、液晶表示パネルの側辺部に接合し
て備えるドライバー基板として、透明導電膜の接続部に
接続電極を接合した集積回路を光硬化性樹脂を介して固
定した透明フィルム基板を用いたため、大幅なコストダ
ウンに寄与することができる。
According to the liquid crystal display module of the third aspect of the invention, an integrated circuit in which a connecting electrode is joined to the connecting portion of the transparent conductive film is provided as a driver substrate provided to be joined to the side portion of the liquid crystal display panel. Since a transparent film substrate in which is fixed via a photocurable resin is used, it is possible to contribute to a significant cost reduction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した一例としての電子部品を搭載
した透明フィルム基板を示す概略斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a transparent film substrate on which an electronic component as an example to which the present invention is applied is mounted.

【図2】図1の透明フィルム基板の縦断側面図である。FIG. 2 is a vertical sectional side view of the transparent film substrate of FIG.

【図3】図1の透明フィルム基板を液晶表示パネルに接
続してなる液晶表示モジュールの一例を示す縦断側面図
である。
FIG. 3 is a vertical side view showing an example of a liquid crystal display module in which the transparent film substrate of FIG. 1 is connected to a liquid crystal display panel.

【図4】透明フィルム基板に透明導電膜を形成した状態
を示す縦断側面図である。
FIG. 4 is a vertical sectional side view showing a state in which a transparent conductive film is formed on a transparent film substrate.

【図5】図4の透明導電膜の上に金属層を形成した状態
を示す縦断側面図である。
5 is a vertical cross-sectional side view showing a state in which a metal layer is formed on the transparent conductive film of FIG.

【図6】図5の透明フィルム基板への本発明による電子
部品の搭載の仕方の一例を示す縦断側面図である。
6 is a vertical cross-sectional side view showing an example of how to mount the electronic component according to the present invention on the transparent film substrate of FIG.

【図7】図5の透明フィルム基板に電子部品を搭載して
加圧した状態の一例を示す縦断側面図である。
FIG. 7 is a vertical cross-sectional side view showing an example of a state where electronic components are mounted on the transparent film substrate of FIG. 5 and pressed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明フィルム基板 2 透明導電膜 2a 接続部 3 金属層 4,5 配線パターン 6 光硬化性樹脂 11 LSI 12 接続電極 16 光 30 液晶表示モジュール 31 液晶表示パネル 32,33 透明基板 34 液晶 35 シール材 36 透明導電膜 36a 接続端子 37 異方導電性接着剤 37a 導電性粒子 37b バインダー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 transparent film substrate 2 transparent conductive film 2a connection part 3 metal layer 4,5 wiring pattern 6 photocurable resin 11 LSI 12 connection electrode 16 light 30 liquid crystal display module 31 liquid crystal display panel 32, 33 transparent substrate 34 liquid crystal 35 sealant 36 Transparent conductive film 36a Connection terminal 37 Anisotropic conductive adhesive 37a Conductive particle 37b Binder

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フィルム基板に設けた配線パターンの接
続部に、接続電極が接合される電子部品の接続構造にお
いて、 透明フィルム基板に透明導電膜による前記配線パターン
を形成し、 この透明導電膜による配線パターンの前記接続部に前記
電子部品の前記接続電極を接合するとともに、 この電子部品を光硬化性樹脂を介して前記透明フィルム
基板に固定したことを特徴とする電子部品の接続構造。
1. In a connection structure of an electronic component, wherein a connection electrode is joined to a connection portion of a wiring pattern provided on a film substrate, the wiring pattern is formed by a transparent conductive film on a transparent film substrate, and the transparent conductive film is formed by the transparent conductive film. A connection structure for an electronic component, wherein the connection electrode of the electronic component is joined to the connection portion of a wiring pattern, and the electronic component is fixed to the transparent film substrate via a photocurable resin.
【請求項2】 フィルム基板に設けた配線パターンの接
続部に、電子部品の接続電極を接合するようにした電子
部品の接続方法において、 透明フィルム基板に形成した透明導電膜による前記配線
パターンの前記接続部に前記電子部品の前記接続電極を
接合するとともに、 この電子部品と前記透明フィルム基板との間に光硬化性
樹脂を介在させ、 この光硬化性樹脂に光を照射することにより硬化させ
て、 前記電子部品を前記透明フィルム基板に固定することを
特徴とする電子部品の接続方法。
2. A method of connecting an electronic component, wherein a connection electrode of an electronic component is joined to a connection portion of a wiring pattern provided on a film substrate, wherein the wiring pattern is formed of a transparent conductive film formed on a transparent film substrate. While joining the connection electrode of the electronic component to the connection portion, a photo-curable resin is interposed between the electronic component and the transparent film substrate, and the photo-curable resin is irradiated with light to be cured. A method for connecting electronic components, comprising fixing the electronic components to the transparent film substrate.
【請求項3】 液晶表示パネルの側辺部に、集積回路が
搭載されたドライバー基板を接合して備えた液晶表示モ
ジュールにおいて、 前記ドライバー基板は、透明導電膜による配線パターン
の接続部に前記集積回路の接続電極を接合し、且つこの
集積回路を光硬化性樹脂を介して固定した透明フィルム
基板であることを特徴とする液晶表示モジュール。
3. A liquid crystal display module comprising a driver substrate on which an integrated circuit is mounted, which is bonded to a side portion of a liquid crystal display panel, wherein the driver substrate is integrated at a connection portion of a wiring pattern made of a transparent conductive film. A liquid crystal display module, which is a transparent film substrate in which connecting electrodes of circuits are joined and the integrated circuit is fixed via a photocurable resin.
JP6043086A 1994-02-16 1994-02-16 Connection structure of electronic parts and connecting method therefor and liquid crystal display module Pending JPH07231009A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6819387B1 (en) 1999-01-04 2004-11-16 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid-crystal-panel driver IC package, and liquid crystal panel module
CN105892123A (en) * 2016-05-27 2016-08-24 龙川耀宇科技有限公司 Base color homogenizing method of flexible liquid crystal display

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