JPH07230620A - Substrate for magnetic disk and magnetic disk - Google Patents

Substrate for magnetic disk and magnetic disk

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JPH07230620A
JPH07230620A JP1923994A JP1923994A JPH07230620A JP H07230620 A JPH07230620 A JP H07230620A JP 1923994 A JP1923994 A JP 1923994A JP 1923994 A JP1923994 A JP 1923994A JP H07230620 A JPH07230620 A JP H07230620A
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JP
Japan
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magnetic disk
substrate
roughness
magnetic
range
Prior art date
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Pending
Application number
JP1923994A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshitaka Kimura
至孝 木村
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
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Publication of JPH07230620A publication Critical patent/JPH07230620A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a substrate for magnetic disks having an excellent floating characteristic, attraction characteristic and contact start-stop characteristic and a magnetic disk. CONSTITUTION:The surface of the substrate after texturing has roughness of Ra within a range of 20 to 55Angstrom and both of [max. projection height (Rp)/Ra] and [max. valley depth (Rv)/Ra] within a range of 1.0 to 4.2. Further, Pc2 (100Angstrom ) is below 100 pieces and Pc2 (50Angstrom ) is >=100 pieces when the number per roughness curve 0.25m of the projections of the height X (Angstrom ) or above on the bases of the center line of the roughness curve of the texture is defined as Pc2 (XAngstrom ).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、浮上特性、吸着特性及
びCSS特性に優れた磁気ディスク用基板及び磁気ディ
スクに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk substrate and a magnetic disk having excellent floating characteristics, adsorption characteristics and CSS characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータ等の情報処理技術の
発達に伴い、その外部記憶装置として磁気ディスク等の
磁気記録媒体が用いられている。従来、磁気記録媒体と
してはアルミニウム合金基板にアルマイト処理やNi−
Pメッキ等の非磁性メッキ処理を施した後に、Cr等の
下地層を被覆し、次いでCo系合金の磁性薄膜層を被覆
し、更に炭素質の保護膜が被覆されたものが使用されて
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of information processing technology for computers and the like, magnetic recording media such as magnetic disks have been used as external storage devices. Conventionally, as a magnetic recording medium, an aluminum alloy substrate is subjected to alumite treatment or Ni-
A non-magnetic plating treatment such as P plating is applied, followed by coating an underlayer such as Cr, then a magnetic thin film layer of a Co-based alloy, and a carbonaceous protective film. .

【0003】上記磁気記録媒体(磁気ディスク)の高密
度化に伴ない、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隔、即
ち浮上量は益々小さくなっており、最近では0.1μm
程度になっている。磁気ディスクの低浮上特性について
は、磁気ディスクの基板表面に微細な溝を形成するテク
スチャー加工後の、基板の表面平均粗さ(Ra)との相
関が指摘されており、表面平均粗さを小さくすればヘッ
ドの低浮上化は可能である。しかし、ただ単純に表面平
均粗さを小さくするだけでは、磁気ヘッドと基板表面と
の摩擦係数が大きくなり、極端な場合には吸着現象が発
生し、両者の接触摺動により摺動面を著しく損傷するこ
とがある。さらに、磁気ディスクは大容量化、高密度化
と並行して小型化も進められており、スピンドル回転用
のモーター等も益々小さくなっている。このため、モー
ターのトルクが不足し、磁気ヘッドが磁気ディスク面に
固着したまま浮上しないという現象が生じやすい。ま
た、吸着現象を回避するために表面平均粗さを大きくす
ると、ヘッドの低浮上化が困難になるだけでなく、テク
スチャー加工後の異常突起部分が増加するため、この異
常突起にヘッドが衝突した場合には吸着状態と同様、ヘ
ッド・ディスク両者の摺動面が著しく損傷する等の問題
点がある。
As the density of the magnetic recording medium (magnetic disk) increases, the distance between the magnetic disk and the magnetic head, that is, the flying height, is becoming smaller and smaller, and recently, 0.1 μm.
It has become a degree. Regarding the low flying characteristics of the magnetic disk, a correlation with the surface average roughness (Ra) of the substrate after texture processing for forming fine grooves on the substrate surface of the magnetic disk is pointed out, and the surface average roughness is small. By doing so, it is possible to reduce the flying height of the head. However, simply reducing the average surface roughness will increase the coefficient of friction between the magnetic head and the substrate surface, and in extreme cases an adsorption phenomenon will occur, causing the sliding surface to remarkably move due to contact sliding between the two. May be damaged. Furthermore, magnetic disks are being miniaturized in parallel with the increase in capacity and density, and the motors for spindle rotation are becoming smaller and smaller. For this reason, the torque of the motor is insufficient, and the phenomenon that the magnetic head does not fly while being fixed to the magnetic disk surface is likely to occur. In addition, if the average surface roughness is increased to avoid the adsorption phenomenon, it is difficult to reduce the flying height of the head, and the number of abnormal protrusions after texture processing increases, so the head collides with this abnormal protrusion. In this case, similar to the suctioned state, there is a problem that the sliding surfaces of both the head and the disk are significantly damaged.

【0004】そのため、吸着を起こさない程度の表面平
均粗さを保ちつつ、ヘッドの低浮上化を達成するため
に、最大突起高さ(Rp)に代表される突起部分を制御
したり、平均表面粗さ(Ra)やRmax(最大高さ)
などテクスチャーの表面粗度のパラメーターをある範囲
内に規定した種々の基板が提案されている(特公平5−
765、特開平4−212714、特開平4−2142
24号、特開平5−151556号、特開平5−543
74号公報)。
Therefore, in order to achieve a low flying height of the head while maintaining the surface average roughness that does not cause adsorption, the protrusion portion represented by the maximum protrusion height (Rp) is controlled, and the average surface is controlled. Roughness (Ra) and Rmax (maximum height)
Various substrates have been proposed in which the surface roughness parameter of the texture is defined within a certain range (Japanese Patent Publication No.
765, JP-A-4-212714, JP-A-4-2142
24, JP-A-5-151556, and JP-A-5-543.
74 publication).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
公報に記載された基板においては、最大突起高さ(R
p)のみを制御しており、Rpを一定値以下にしても、
Raに対する最適Rp値の制御を行っていないため、R
aに対するRpの値が大きい場合には、異常突起にヘッ
ドが衝突し低浮上化が達成されないだけでなく、その衝
突に伴う突起の破損とC.S.S.(Contact
Start and Stop)テストにおけるヘッド
クラッシュが発生するという問題があった。
However, in the substrate described in the above publication, the maximum protrusion height (R
Only p) is controlled, and even if Rp is below a certain value,
Since the optimum Rp value for Ra is not controlled, R
When the value of Rp with respect to a is large, not only is the head impinging on the abnormal protrusion and the low flying height is not achieved, but also the protrusion is damaged due to the collision and C. S. S. (Contact
There is a problem that a head crash occurs in the Start and Stop) test.

【0006】また、ヘッドの安定浮上高さ(以下Gri
d Height:G.H.と呼ぶ)を低くすることが
できたとしても、最大谷深さ(Rv)に示される谷部分
をなんら考慮していないため、大きな谷の部分ではヘッ
ドとの間隔が大きくなり、その部分だけ情報の読み書き
が十分に行われない(以下スペーシングロスと呼ぶ)た
め、欠陥のあるディスクとなってしまい、低浮上化の効
果が十分に生かされないという問題があった。
Further, the stable flying height of the head (hereinafter referred to as Gri
d Height: G.D. H. Even if it is possible to lower the value of ()), since the valley portion indicated by the maximum valley depth (Rv) is not considered at all, the gap with the head becomes large in the large valley portion, and only that portion has information. Since the reading and writing of data is not performed sufficiently (hereinafter referred to as spacing loss), the disk becomes defective and there is a problem that the effect of lowering the flying height cannot be fully utilized.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記した
磁気ディスクにおける浮上特性をさらに改善すべく鋭意
検討した結果、基板に特定の形状のテクスチャーを施す
ことにより、基板表面特性が改善され、上記目的が達成
されることを見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive investigations by the present inventors to further improve the levitation characteristics of the above-mentioned magnetic disk, the substrate surface characteristics are improved by applying a texture of a specific shape to the substrate. The inventors have found that the above objects can be achieved and completed the present invention.

【0008】即ち、本発明の要旨は、非磁性基板表面に
テクスチャー加工を施すことにより形成された磁気ディ
スク用基板において、テクスチャー加工後の基板表面
が、表面平均粗さ(Ra)が20〜55Åの範囲内、且
つ、〔最大突起高さ(Rp)/表面平均粗さ(R
a)〕、及び〔最大谷深さ(Rv)/表面平均粗さ(R
a)〕が共に1.0〜4.2の範囲内の粗さを備えるこ
とを特徴とする磁気ディスク用基板に存する。
That is, the gist of the present invention is that in a magnetic disk substrate formed by subjecting a non-magnetic substrate surface to texturing, the textured substrate surface has an average surface roughness (Ra) of 20 to 55Å. Within the range of, and [maximum protrusion height (Rp) / surface average roughness (R
a)], and [maximum valley depth (Rv) / surface average roughness (R)
a)] has a roughness within the range of 1.0 to 4.2.

【0009】以下、本発明につき更に詳細に説明する。
本発明における磁気記録媒体の非磁性基板としては、一
般にアルミニウム合金からなるディスク状基板を所定の
厚さに加工した後、その表面を鏡面加工してから、非磁
性金属、例えばNi−P合金、又はNi−Cu−P合金
等を無電解メッキ処理等により約5〜20μmの膜厚の
表面層として形成させたものが用いられる。
The present invention will be described in more detail below.
As the non-magnetic substrate of the magnetic recording medium in the present invention, a disk-shaped substrate generally made of an aluminum alloy is processed to a predetermined thickness, and then the surface is mirror-finished, and then a non-magnetic metal such as Ni-P alloy, Alternatively, a Ni-Cu-P alloy or the like formed as a surface layer having a thickness of about 5 to 20 μm by electroless plating is used.

【0010】上記基板の表面層上にポリッシュ加工を施
したものにテクスチャー加工を施すのが一般的である。
ポリッシュ加工は例えば、表面に遊離砥粒を付着してし
み込ませたポリッシュパッドの間に基板をはさみこみ、
界面活性剤水溶液等の研磨液を補給しながらポリッシュ
加工を行ない、通常2〜5μm程度ポリッシュしてその
表面を平均表面粗さRaが50Å以下、望ましくは30
Å以下に鏡面仕上げする。遊離砥粒としては、代表的に
は、アルミナ系スラリーのポリプラ700やポリプラ1
03(共に(株)フジミインコーポレーテッドの登録商
標)、ダイヤモンド系スラリー、SiC系スラリー等が
用いられる。ポリッシュパッドとしては、代表的には、
Surfin100やSurfinXXX−5(共に
(株)フジミインコーポレーテッドの登録商標)等の発
泡ウレタン等が用いられる。
It is general that the surface layer of the above-mentioned substrate is subjected to polishing and then textured.
Polishing process, for example, sandwich the substrate between the polishing pad impregnated with free abrasive grains on the surface,
Polishing is performed while supplying a polishing liquid such as an aqueous solution of a surfactant, and the polishing is usually performed for about 2 to 5 μm, and the surface thereof has an average surface roughness Ra of 50 Å or less, preferably 30.
Å Make a mirror finish below. As the loose abrasive grains, typically, alumina-based slurry polyplastics 700 and polyplastics 1 are used.
03 (both are registered trademarks of Fujimi Inc.), diamond-based slurry, SiC-based slurry and the like. As a polish pad, typically,
Urethane foams such as Surfin 100 and SurfinXXX-5 (both are registered trademarks of Fujimi Incorporated) are used.

【0011】本発明においては、基板表面の表面平均粗
さRaが20〜55Å、好ましくは25〜45Åの範囲
内であり、且つ、〔最大突起高さ(Rp)/Ra〕及び
〔最大谷深さ(Rv)/Ra〕が、共に1.0〜4.
2、好ましくは2.0〜3.8の範囲内となるように、
テクスチャー加工を施す。テクスチャー加工方法として
は、例えばアルミナ砥粒等を担持した研磨テープを用い
るテープ研削、又は、遊離砥粒を用いるスラリー研削に
より、上記ポリッシュ加工を施した基板表面に、微細な
溝もしくは凹凸を精度よく形成する。また、研磨テープ
を、ディスクの半径方向に振動させながらテクスチャー
加工を施して、クロスパターンの条痕を形成することが
好ましく、条痕の支差する角度が10〜40°、更に好
ましくは10〜30°となるように研磨することが、吸
着特性が改善されるという点で好ましい。
In the present invention, the surface average roughness Ra of the substrate surface is in the range of 20 to 55Å, preferably 25 to 45Å, and [maximum protrusion height (Rp) / Ra] and [maximum valley depth] (Rv) / Ra] are both 1.0 to 4.
2, preferably in the range of 2.0 to 3.8,
Textured. As the texture processing method, for example, tape grinding using a polishing tape carrying alumina abrasive particles or the like, or slurry grinding using free abrasive particles to precisely form fine grooves or irregularities on the surface of the substrate subjected to the polishing processing. Form. Further, it is preferable that the polishing tape is subjected to texture processing while vibrating in the radial direction of the disc to form striations in a cross pattern, and the angle of the striations is 10 to 40 °, more preferably 10 to 40 °. Polishing at 30 ° is preferable from the viewpoint of improving the adsorption property.

【0012】また、基板表面の異常突起を除去するため
に、遊離砥粒を用いるスラリー研削による第2段テクス
チャーを施してもよい。本発明においては、研磨砥粒の
粒径、ディスク回転数、テープ押付圧力及び研磨時間等
の条件を組み合わせてテクスチャー加工することによ
り、上記特定の基板表面を形成する。
Further, in order to remove abnormal protrusions on the substrate surface, a second stage texture may be applied by slurry grinding using loose abrasive grains. In the present invention, the above-mentioned specific substrate surface is formed by performing texture processing by combining conditions such as the grain size of polishing abrasive grains, the number of revolutions of the disk, the tape pressing pressure and the polishing time.

【0013】本発明の特定の表面形状を有するディスク
状基板を用いることで、吸着現象を回避する程度のRa
を保ちつつ、Rp/Ra値を規定することにより、ヘッ
ドの低浮上化をさまたげる異常突起を除去し、Rv/R
a値を規定することにより、ヘッドとディスク間の部分
的なスペーシングロスをなくすことのできる磁気記録媒
体を提供することが可能となる。
By using the disk-shaped substrate having a specific surface shape according to the present invention, Ra of such an extent that the adsorption phenomenon can be avoided.
By maintaining the Rp / Ra value while maintaining the above value, the abnormal protrusion that obstructs the low flying height of the head is removed, and Rv / R
By defining the a value, it is possible to provide a magnetic recording medium that can eliminate a partial spacing loss between the head and the disk.

【0014】本発明においては、更に、テクスチャー加
工後の基板表面において、テクスチャーの粗さ曲線の中
心線を基準とした高さX(Å)以上の突起の、該粗さ曲
線0.25mm当たりの数をPc2(XÅ)とした場
合、Pc2(100Å)を100個未満、好ましくは5
0個未満であり、且つ、Pc2(50Å)を100個以
上、好ましくは250個以上とすることにより、磁気デ
ィスクに要求される高潤滑特性と低浮上特性を同時に実
現し、ヘッドの低浮上時におけるCSS特性の劣化を防
ぐことが可能となる。
In the present invention, further, on the surface of the substrate after the texture processing, protrusions having a height X (Å) or more based on the center line of the roughness curve of the texture per 0.25 mm of the roughness curve are used. When the number is Pc2 (XÅ), Pc2 (100Å) is less than 100, preferably 5
When less than 0 and Pc2 (50Å) is 100 or more, preferably 250 or more, high lubrication characteristics and low flying characteristics required for a magnetic disk can be realized at the same time, and when the head is flying low It is possible to prevent the deterioration of the CSS characteristics in.

【0015】なお、本発明における基板の表面形状(R
a,Rp,Rv,Pc2)については、JIS表面粗さ
(B0601)により規定された定義を用いることとす
る。本発明の磁気ディスク用基板を用いて製造された磁
気ディスクにより、記録・再生を行うことにより、ヘッ
ドの浮上高さを0.06μm以下、特に好ましくは0.
02μm以下とすることができ、記録密度を著しく向上
させることが可能となる。
The surface shape of the substrate (R
For a, Rp, Rv, Pc2), the definition defined by JIS surface roughness (B0601) is used. By performing recording / reproduction with a magnetic disk manufactured using the magnetic disk substrate of the present invention, the flying height of the head is 0.06 μm or less, particularly preferably 0.
The thickness can be set to 02 μm or less, and the recording density can be remarkably improved.

【0016】上記テクスチャー加工を施した基板表面上
に下地層としてクロムをスパッタリングにより形成す
る。該クロム下地層の膜厚としては通常50〜2000
Åの範囲である。このような基板のCr下地層上に形成
される金属磁性薄膜層としては、Co−Cr,Co−N
i,Co−Cr−X,Co−Ni−X,Co−W−X等
で表わされるCo系合金の磁性薄膜層が好適である。こ
こでXとしてはLi,Si,Ca,Ti,V,Cr,N
i,As,Y,Zr,Nb,Mo,Ru,Rh,Ag,
Sb,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,A
u,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm、及び、Eu
よりなる群から選ばれた1種又は2種以上の元素が挙げ
られる。
On the surface of the textured substrate, chromium is formed as an underlayer by sputtering. The thickness of the chromium underlayer is usually 50 to 2000.
It is in the range of Å. As the metal magnetic thin film layer formed on the Cr underlayer of such a substrate, Co--Cr and Co--N are available.
A magnetic thin film layer of a Co-based alloy represented by i, Co-Cr-X, Co-Ni-X, Co-W-X, or the like is preferable. Here, X is Li, Si, Ca, Ti, V, Cr, N
i, As, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Ag,
Sb, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, A
u, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, and Eu
One or more elements selected from the group consisting of

【0017】このようなCo系合金からなる金属磁性薄
膜層は、通常スパッタリング等の手段によって基板の下
地層上に被着形成される。該金属磁性薄膜層の膜厚とし
ては、通常100〜1000Åの範囲とされる。上記金
属磁性薄膜層上に形成される保護薄膜層としては炭素質
膜が好ましく、炭素質保護薄膜層は、通常、アルゴン、
ヘリウム等の希ガスの雰囲気下、又は少量の水素の存在
下で、カーボンをターゲットとしてスパッタリングによ
りアモルファス状カーボン膜や水素化カーボン膜等が被
着形成される。該保護薄膜層の膜厚は、通常50〜50
0Åの範囲とされる。また、保護薄膜層上に、摩擦係数
を小さくするために、更に潤滑膜を形成させてもよい。
The metal magnetic thin film layer made of such a Co-based alloy is usually deposited on the underlayer of the substrate by means such as sputtering. The film thickness of the metal magnetic thin film layer is usually in the range of 100 to 1000Å. The protective thin film layer formed on the metal magnetic thin film layer is preferably a carbonaceous film, and the carbonaceous protective thin film layer is usually argon,
In a rare gas atmosphere such as helium or in the presence of a small amount of hydrogen, an amorphous carbon film, a hydrogenated carbon film or the like is deposited by sputtering with carbon as a target. The thickness of the protective thin film layer is usually 50 to 50.
It is set in the range of 0Å. Further, a lubricating film may be further formed on the protective thin film layer in order to reduce the coefficient of friction.

【0018】[0018]

【実施例】次に、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例によって限定されるものではない。 実施例1〜2及び比較例1〜2 直径が3.5インチのアルミニウム合金基板に、Ni−
Pめっき処理を行い、鏡面研磨後洗浄した基板12枚を
用意した。これらの基板の両面に、表1に示した条件を
用いて、テープ研削によるテクスチャー1段加工を施
し、次いで、スラリー研削によるテクスチャー2段加工
を施すことで、各基板の表面形状(Ra,Rp,Rv,
Pc2)の平均値が表2に示すような実施例1〜2及び
比較例1〜2の4通りの値となるディスク基板を各々3
枚製造した。各表面形状(Ra,Rp,Rv,Pc2)
は、以下に示す条件により測定した。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically by way of examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist. Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 Ni-
Twelve substrates that had been subjected to P plating treatment and cleaned after mirror polishing were prepared. The surface shape (Ra, Rp) of each substrate was obtained by performing a one-step texture processing by tape grinding on both surfaces of these substrates and then a two-step texture processing by slurry grinding. , Rv,
Three disk substrates each having an average value of Pc2) having four values as shown in Table 2 of Examples 1-2 and Comparative Examples 1-2
One sheet was manufactured. Each surface shape (Ra, Rp, Rv, Pc2)
Was measured under the following conditions.

【0019】[0019]

【表1】 〈表面形状の測定条件〉 表面粗さ計 : ランクテーラーホブソン社「タリス
テップ」 触針先端 : 0.2μm角 フィルター値 : 0.33Hz 測定長 : 0.25mm 針 圧 : 4mg 測定スピード : 0.025mm/s
[Table 1] <Surface shape measurement conditions> Surface roughness meter: Rank Taylor Hobson “Taristep” Stylus tip: 0.2 μm square Filter value: 0.33 Hz Measuring length: 0.25 mm Needle pressure: 4 mg Measuring speed : 0.025 mm / s

【0020】この基板上にスパッタリング法により、ま
ずCr下地層(1000Å程度)を形成し、次いでCo
CrTa磁性膜(500Å程度)を成膜する。さらに、
C保護層(200Å程度)を成膜した後、潤滑剤を塗布
(10Å程度)し、磁気ディスクを製造した。このよう
に製造された磁気ディスクについて、ヘッドの安定浮上
高さ(G.H.)、表面欠陥個数(CM個数)、ヘッド
吸着特性(μ)及びCSS特性(μ)を以下の方法によ
り評価し、結果を表2に示した。
A Cr underlayer (about 1000 Å) is first formed on this substrate by the sputtering method, and then Co is formed.
A CrTa magnetic film (about 500 Å) is formed. further,
After forming a C protective layer (about 200Å), a lubricant was applied (about 10Å) to manufacture a magnetic disk. With respect to the magnetic disk manufactured in this manner, the stable flying height of the head (GH), the number of surface defects (the number of CMs), the head adsorption characteristic (μ) and the CSS characteristic (μ) were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 2.

【0021】(1)ヘッドの安定浮上高さ(G.
H.):市販のグライドテスターにより測定を行い、ヘ
ッドが突起1個に衝突し始める高さをヘッドの安定浮上
高さとした。 (2)表面欠陥個数(CM個数):市販のサーティファ
イヤーにより、以下に示す測定条件にて測定した。評価
はコレクタブル・ミッシングエラー個数(CM個数)の
数が小さいほど良好である。
(1) Stable flying height of head (G.
H. ): Measurement was performed with a commercially available glide tester, and the height at which the head started to collide with one protrusion was defined as the stable flying height of the head. (2) Number of surface defects (number of CM): Measured by a commercially available certifier under the following measurement conditions. The smaller the number of collectable / missing errors (the number of CMs), the better the evaluation.

【0022】[0022]

【表2】 〈測定条件〉 回転数 : 5500rpm テストヘッド ギャップ幅 : 5.0μm ギャップ長 : 0.33μm テストピッチ : 5.0μm MB(ミッシングビット) : 70%以下 EB(エキストラビット) : 25%以上 周波数はゾーンビットにて実施した。[Table 2] <Measurement conditions> Rotation speed: 5500 rpm Test head Gap width: 5.0 μm Gap length: 0.33 μm Test pitch: 5.0 μm MB (missing bit): 70% or less EB (extra bit): 25% or more The frequency was measured by zone bits.

【0023】(3)ヘッド吸着特性(μ):温度25
℃、湿度80%の雰囲気中にヘッドと磁気ディスクを静
止接触状態で1時間放置し、起動時の摩擦係数を測定し
た。評価は、この値が小さいほど摩擦が小さく良好であ
る。 (4)CSS特性(μ):5.0g荷重のAlTiCヘ
ッドスライダーを使用し、2万回CSSを実施した後の
摩擦係数を測定した。評価は、この値が小さいほど耐摩
耗性が良好である。 また、ディスク基板の各表面形状と、得られた磁気ディ
スクの特性との関係をプロットしたものを、図1〜図6
に示した。
(3) Head adsorption characteristic (μ): temperature 25
The head and the magnetic disk were left in a static contact state for 1 hour in an atmosphere of 80 ° C. and 80% humidity, and the friction coefficient at the time of start-up was measured. The smaller the value, the smaller the friction and the better the evaluation. (4) CSS characteristics (μ): Using an AlTiC head slider with a load of 5.0 g, the friction coefficient after performing 20,000 CSS cycles was measured. The smaller the value, the better the abrasion resistance. In addition, plots of the relationship between each surface shape of the disk substrate and the characteristics of the obtained magnetic disk are shown in FIGS.
It was shown to.

【0024】[0024]

【表3】 [Table 3]

【0025】[0025]

【表4】 *( )内はHC(ヘッドクラッシュ)あるいは吸着を
おこしたものを除いた平均値
[Table 4] * Figures in parentheses are average values excluding those that have caused HC (head crush) or adsorption.

【0026】表2から明らかなように、上記特定のテク
スチャー形状を全て満たした実施例1のディスクは、
G.H.、表面欠陥個数、吸着特性及びCSS特性の全
てに良好な結果を示すことがわかる。図1よりRp/R
aが小さくなる程、G.H.が低くなっており、1.0
〜4.2、好ましくは2.0〜3.8の範囲が、良好な
特性を得るために必要であることが示され、図2よりR
v/Raが小さくなるほどCM個数が少なくなってお
り、1.0〜4.2好ましくは2.0〜3.8の範囲
が、良好な特性を得るために必要であることがわかる。
As is clear from Table 2, the disk of Example 1 satisfying all of the above specific texture shapes,
G. H. It can be seen that good results are shown for all of the number of surface defects, adsorption characteristics and CSS characteristics. From Figure 1, Rp / R
The smaller a is G. H. Is low, 1.0
.About.4.2, preferably 2.0 to 3.8 is shown to be necessary for obtaining good characteristics, and FIG.
The smaller the v / Ra, the smaller the number of CMs, and it is understood that the range of 1.0 to 4.2, preferably 2.0 to 3.8 is necessary to obtain good characteristics.

【0027】図3よりRaが大きくなるほど吸着特性は
改善されており、Raは20Å以上好ましくは25Å以
上であることが良好な特性を得るために必要であること
がわかる。図4よりPc2(50Å)の個数が多くなる
ほど吸着特性は改善されており、Pc2(50Å)は1
00個以上、好ましくは250個以上が、良好な特性を
得るために必要であることがわかる。
It can be seen from FIG. 3 that the adsorption property is improved as Ra increases, and that Ra is preferably 20 Å or more, preferably 25 Å or more in order to obtain good properties. From FIG. 4, the adsorption property is improved as the number of Pc2 (50Å) increases, and Pc2 (50Å) is 1
It can be seen that 00 or more, preferably 250 or more are necessary to obtain good characteristics.

【0028】図5よりPc2(100Å)の個数が多く
なるほど吸着特性は改善されているが、多すぎるとヘッ
ドクラッシュが発生し、ヘッドクラッシュを発生させず
に良好な特性を得るためには、Pc2(100Å)が1
00個未満、好ましくは50個未満であることがわか
る。図6よりPc2(100Å)はRaに依存し、Pc
2(100Å)の個数が100個未満であるためには、
Raは55Å以下、好ましくは45Å以下である必要が
あることがわかる。
As shown in FIG. 5, the larger the number of Pc2 (100Å) is, the more the adsorption characteristic is improved. However, if the number is too large, head crush occurs, and in order to obtain good characteristics without causing head crush, Pc2 (100Å) is 1
It can be seen that the number is less than 00, preferably less than 50. From Figure 6, Pc2 (100 Å) depends on Ra,
If the number of 2 (100Å) is less than 100,
It can be seen that Ra needs to be 55 Å or less, preferably 45 Å or less.

【0029】以上、図1〜6に示されたように基板表面
のRaが20〜55Åであり、かつ、その時のRp/R
a,Rv/Raが共に0.1〜4.2の範囲を満たすテ
クスチャー形状が良好な特性を得るためには必要であ
り、さらにPc2(100Å)の個数が100個未満
で、且つPc2(50Å)の個数が100個以上である
基板はCSS特性が良好であるという点で好ましいこと
がわかる。
As described above, as shown in FIGS. 1 to 6, Ra on the substrate surface is 20 to 55Å, and Rp / R at that time is Rp / R.
a and Rv / Ra are both required to obtain good characteristics of the texture shape in the range of 0.1 to 4.2, and the number of Pc2 (100Å) is less than 100 and Pc2 (50Å). It can be seen that the substrate having the number of 100) is 100 or more is preferable in terms of good CSS characteristics.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明のテクスチャー形状を有する基板
を使用することで、浮上特性に優れ、テクスチャーの大
きな溝でのスペーシングロスによる表面欠陥を排除し、
さらに吸着特性を良好なレベルで維持しつつ、優れたC
SS特性を有する磁気ディスクを提供することができる
ため、工業的な利用価値が高い。
By using the substrate having the textured shape of the present invention, the surface defects due to the spacing loss in the groove having the excellent floating characteristics and the large texture can be eliminated,
Furthermore, while maintaining the adsorption property at a good level, excellent C
Since a magnetic disk having SS characteristics can be provided, it has high industrial utility value.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】ヘッドの安定浮上高さとディスク表面のPp/
Raとの関係を示す図である。
FIG. 1 Stable flying height of head and Pp / of disk surface
It is a figure which shows the relationship with Ra.

【図2】表面欠陥個数とディスク表面のRv/Raとの
関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the number of surface defects and Rv / Ra on the disk surface.

【図3】吸着特性とディスク表面のRaとの関係を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between an adsorption characteristic and Ra on a disk surface.

【図4】CSS特性とディスク表面のPc2(50Å)
との関係を示す図である。
[Fig. 4] CSS characteristics and Pc2 (50Å) on the disk surface
It is a figure which shows the relationship with.

【図5】CSS特性とディスク表面のPc2(100
Å)との関係を示す図である。
FIG. 5 shows CSS characteristics and Pc2 (100
It is a figure which shows the relationship with Å).

【図6】ディスク表面のPc2(100Å)とRaとの
関係を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the relationship between Pc2 (100Å) and Ra on the disk surface.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基板表面にテクスチャー加工を施
すことにより形成された磁気ディスク用基板において、
テクスチャー加工後の基板表面が、表面平均粗さ(R
a)が20〜55Åの範囲内、且つ、〔最大突起高さ
(Rp)/表面平均粗さ(Ra)〕、及び〔最大谷深さ
(Rv)/表面平均粗さ(Ra)〕が共に1.0〜4.
2の範囲内の粗さを備えることを特徴とする磁気ディス
ク用基板。
1. A magnetic disk substrate formed by subjecting a surface of a non-magnetic substrate to texturing,
The surface of the substrate after texture processing has an average surface roughness (R
a) is in the range of 20 to 55Å, and [maximum projection height (Rp) / surface average roughness (Ra)] and [maximum valley depth (Rv) / surface average roughness (Ra)] are both 1.0-4.
A magnetic disk substrate having a roughness within the range of 2.
【請求項2】 表面平均粗さ(Ra)が24〜45Åの
範囲内である請求項1に記載の磁気ディスク用基板。
2. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the average surface roughness (Ra) is in the range of 24 to 45Å.
【請求項3】 〔最大突起高さ(Rp)/表面平均粗さ
(Ra)〕が2.0〜3.8の範囲内である請求項1又
は2に記載の磁気ディスク用基板。
3. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the [maximum protrusion height (Rp) / surface average roughness (Ra)] is in the range of 2.0 to 3.8.
【請求項4】 〔最大谷深さ(Rv)/表面平均粗さ
(Ra)〕が2.0〜3.8の範囲内である請求項1か
ら3に記載の磁気ディスク用基板。
4. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the [maximum valley depth (Rv) / surface average roughness (Ra)] is in the range of 2.0 to 3.8.
【請求項5】 前記テクスチャー加工後の基板表面にお
いて、テクスチャーの粗さ曲線の中心線を基準とした高
さX(Å)以上の突起の、該粗さ曲線0.25mm当た
りの数をPc2(XÅ)とした場合、Pc2(100
Å)が100個未満であり、且つ、Pc2(50Å)が
100個以上である請求項1から4に記載の磁気ディス
ク用基板。
5. The number of protrusions having a height X (Å) or more based on the center line of the roughness curve of the texture on the surface of the substrate after the texture processing per Pc2 ( If XÅ), Pc2 (100
5. The magnetic disk substrate according to claim 1, wherein Å) is less than 100, and Pc2 (50Å) is 100 or more.
【請求項6】 Pc2(100Å)が50個未満である
請求項5に記載の磁気ディスク用基板。
6. The magnetic disk substrate according to claim 5, wherein the number of Pc2 (100Å) is less than 50.
【請求項7】 Pc2(50Å)が250個以上である
請求項5又は6に記載の磁気ディスク用基板。
7. The magnetic disk substrate according to claim 5, wherein the Pc2 (50Å) is 250 or more.
【請求項8】 請求項1〜7に記載の磁気ディスク用基
板を用いて製造された磁気ディスクにおいて、記録・再
生時の磁気ヘッドの浮上高さが0.02μm以下である
ことを特徴とする磁気ディスク。
8. A magnetic disk manufactured using the magnetic disk substrate according to claim 1, wherein the flying height of the magnetic head during recording / reproducing is 0.02 μm or less. Magnetic disk.
JP1923994A 1994-02-16 1994-02-16 Substrate for magnetic disk and magnetic disk Pending JPH07230620A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999045536A1 (en) * 1998-03-04 1999-09-10 Hitachi, Ltd. Magnetic recording medium, method of production thereof, and magnetic storage

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