JPH0722735A - Printed wiring board - Google Patents
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- JPH0722735A JPH0722735A JP16577293A JP16577293A JPH0722735A JP H0722735 A JPH0722735 A JP H0722735A JP 16577293 A JP16577293 A JP 16577293A JP 16577293 A JP16577293 A JP 16577293A JP H0722735 A JPH0722735 A JP H0722735A
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、アディティブ法によっ
て導体パターンが形成されたプリント配線板に関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board having a conductor pattern formed by an additive method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、電子機器の小型化、高性能化及び
多機能化が進められており、これに使用されるプリント
配線板においてもファインパターンによる高密度化及び
高信頼性が要求されている。2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have been downsized, improved in performance and multifunctional, and printed wiring boards used therein have been required to have high density and high reliability by fine patterns. There is.
【0003】従来、プリント配線板に導体回路を形成す
る方法としては、絶縁基板に銅箔を積層した後、フォト
エッチングすることにより導体パターンを形成するサブ
トラクティブ法が広く行われている。この方法によれば
絶縁基板との密着性に優れた導体パターンを形成するこ
とができるが、エッチングでパターンを形成する際に必
要なエッチング深さが大きいため所謂アンダーカットが
生じてしまう。このため、高精度のファインパターンが
得難く、高密度化に対応することが難しいという問題が
ある。そこで、サブトラクティブ法に代わる方法とし
て、無電解銅メッキのみで導体パターンを形成するフル
アディティブ法が注目されている。Conventionally, as a method of forming a conductor circuit on a printed wiring board, a subtractive method in which a copper foil is laminated on an insulating substrate and then a conductor pattern is formed by photoetching has been widely used. According to this method, it is possible to form a conductor pattern having excellent adhesion to an insulating substrate, but so-called undercut occurs because the etching depth required when forming a pattern by etching is large. Therefore, there is a problem that it is difficult to obtain a highly accurate fine pattern and it is difficult to cope with high density. Therefore, as an alternative method to the subtractive method, a full additive method, in which a conductor pattern is formed only by electroless copper plating, is drawing attention.
【0004】従来のフルアディティブ法では基板(基
材)の表面に形成された接着剤層を粗化し、同粗化接着
剤層に無電解メッキ(銅)の最初の析出に必要な核触媒
(パラジウム)を付与する。次いで、接着剤層上の全面
に光硬化型のメッキレジストを施した後、露光・現像処
理を行って導体パターンを形成すべき部分以外の箇所に
メッキレジスト層を形成する。そして、基板をメッキ液
に浸漬して所定の箇所に無電解銅メッキ層を形成する。In the conventional full-additive method, the adhesive layer formed on the surface of the substrate (base material) is roughened, and the nuclear catalyst necessary for the first deposition of electroless plating (copper) on the roughened adhesive layer ( (Palladium) is added. Next, a photo-curable plating resist is applied to the entire surface of the adhesive layer, and then exposure / development processing is performed to form a plating resist layer on a portion other than the portion where the conductor pattern is to be formed. Then, the substrate is immersed in a plating solution to form an electroless copper plating layer at a predetermined position.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記したフ
ルアディティブ法によって形成される導体パターンにお
いては次のような問題がある。However, the conductor pattern formed by the above-mentioned full additive method has the following problems.
【0006】QFP等の表面実装部品を実装するため
の接続端子(パッド)を形成した場合、その部品実装の
際に半田付け等により熱あるいは外力が加わると剥離し
易くなるという問題がある。なぜならば、フルアディテ
ィブ法では接着剤層の粗化面に対してメッキを充填する
ことにより、接着剤層とメッキ層との密着力を得るよう
にしているが、現在使用されている接着剤や接着剤層の
粗化方法では、高温時における十分な密着強度が得られ
にくい。When a connection terminal (pad) for mounting a surface mounting component such as QFP is formed, there is a problem that peeling easily occurs when heat or external force is applied by soldering or the like when mounting the component. This is because in the full additive method, the roughened surface of the adhesive layer is filled with plating to obtain the adhesive force between the adhesive layer and the plated layer. With the roughening method of the adhesive layer, it is difficult to obtain sufficient adhesion strength at high temperature.
【0007】ファインパターン化により導体パターン
のピッチを狭くした(例えば、100μ)場合、絶縁抵
抗値が低下するという問題がある。すなわち、メッキレ
ジスト層は互いに独立した導体パターン間の絶縁性を確
保する役割を果たす必要がある。しかし、メッキレジス
ト層と接着剤層との間には、導電性を有する触媒核(図
示しない)が存在している。このため、導体パターンの
ピッチを狭くすると、メッキレジスト層の幅すなわち絶
縁距離が短くなって絶縁抵抗値が低下してしまう。When the pitch of the conductor pattern is narrowed (for example, 100 μm) by fine patterning, there is a problem that the insulation resistance value is lowered. That is, the plating resist layer needs to play a role of ensuring insulation between conductor patterns independent of each other. However, a conductive catalyst nucleus (not shown) exists between the plating resist layer and the adhesive layer. Therefore, if the pitch of the conductor patterns is narrowed, the width of the plating resist layer, that is, the insulation distance is shortened, and the insulation resistance value is reduced.
【0008】小型のチップ部品を実装するための電極
(ランド)を形成した場合、クリーム半田を使用した部
品の実装の際に部品が立ち上がるツームストーン現象と
いわれる半田付け不良が発生し易いという問題がある。
すなわち、フルアディティブ法では基材上の接着剤層に
形成されるメッキ層(導体パターン)は、メッキレジス
ト層よりも低くなっている。このため、ランドに実装さ
れるチップ部品は、両ランド間に存在するメッキレジス
ト層上に載置されることになる。従って、この状態でク
リーム半田を溶融させてチップ部品を実装するときに、
各ランドにおけるクリーム半田の硬化にばらつきが生じ
ると、チップ部品はバランスを崩して、高さの低いラン
ド側に傾き、ついには立ち上がってしまう。When an electrode (land) for mounting a small chip component is formed, there is a problem that a soldering defect called a tombstone phenomenon in which a component rises when mounting a component using cream solder is likely to occur. is there.
That is, in the full additive method, the plating layer (conductor pattern) formed on the adhesive layer on the base material is lower than the plating resist layer. Therefore, the chip components mounted on the lands are placed on the plating resist layer existing between the lands. Therefore, when melting the cream solder in this state and mounting the chip parts,
If the hardening of the cream solder in each land varies, the chip component loses its balance, tilts toward the land having a lower height, and finally rises.
【0009】本発明は上記の問題点に鑑みてなされたも
のでありその目的は、メッキレジスト層を複数層形成す
ることにより、接着剤層とメッキ層との密着強度の向
上、導体パターンをファインパターン化したときの絶縁
抵抗値の低下防止、あるいは、チップ部品の実装時にお
けるツームストーン現象の発生防止を図ることができる
プリント配線板を提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems. An object of the present invention is to improve the adhesion strength between an adhesive layer and a plating layer and to form a fine conductor pattern by forming a plurality of plating resist layers. It is an object of the present invention to provide a printed wiring board capable of preventing a decrease in insulation resistance value when patterned or a tombstone phenomenon when mounting a chip component.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明はアディティブ法によって導体パターンが
形成されたプリント配線板であって、メッキレジストを
複数層形成し、各メッキレジスト層の開口部の形状を異
なる形状とした。In order to solve the above problems, the present invention is a printed wiring board in which a conductor pattern is formed by an additive method, in which a plurality of plating resist layers are formed and each of the plating resist layers is formed. The shape of the opening is different.
【0011】なお、前記各メッキレジスト層の互いに対
応する開口部は接着剤層に近いメッキレジスト層ほど幅
広に形成されていてもよく、逆に、前記各メッキレジス
ト層の互いに対応する開口部は接着剤層に遠いメッキレ
ジスト層ほど幅狭に形成されていてもよい。又、前記メ
ッキレジスト層は2層構造をなし、接着剤層上に積層さ
れた第一のメッキレジスト層はチップ部品実装用のラン
ド形成用開口部を有し、第一のメッキレジスト層上に積
層された第二のメッキレジスト層は両ランド形成用開口
部間をまたがるような開口部を有し、且つメッキ層が第
一のメッキレジスト層と同じ高さに形成されていてもよ
い。The corresponding openings of the plating resist layers may be formed wider as the plating resist layer closer to the adhesive layer is formed. Conversely, the openings of the plating resist layers corresponding to each other may be formed wider. The plating resist layer farther from the adhesive layer may be formed narrower. The plating resist layer has a two-layer structure, and the first plating resist layer laminated on the adhesive layer has a land forming opening for mounting a chip component, and is formed on the first plating resist layer. The laminated second plating resist layer may have an opening extending over both the land forming openings, and the plating layer may be formed at the same height as the first plating resist layer.
【0012】[0012]
【作用】メッキレジストを複数層形成し、各メッキレジ
スト層の互いに対応する開口部を接着剤層に近いメッキ
レジスト層ほど幅広に形成すれば、接着剤層上に形成さ
れるメッキ層の下部が上部よりも幅広になる。従って、
接着剤層とメッキ層との密着力が向上される。When a plurality of plating resist layers are formed and the corresponding openings of the plating resist layers are formed wider as the plating resist layer is closer to the adhesive layer, the lower part of the plating layer formed on the adhesive layer is Wider than the top. Therefore,
The adhesion between the adhesive layer and the plating layer is improved.
【0013】又、各メッキレジスト層の互いに対応する
開口部を接着剤層に遠いメッキレジスト層ほど幅狭に形
成すれば、接着剤層上に形成されるメッキレジスト層は
メッキ層間の絶縁性を確保できる幅広形状となる。従っ
て、導体パターンをファインパターン化したときの絶縁
抵抗値の低下が防止される。If the openings corresponding to each other of the plating resist layers are formed so as to be narrower as the plating resist layer is farther from the adhesive layer, the plating resist layer formed on the adhesive layer has insulation between the plating layers. A wide shape that can be secured. Therefore, it is possible to prevent a decrease in insulation resistance value when the conductor pattern is formed into a fine pattern.
【0014】更に、第一のメッキレジスト層をチップ部
品実装用のランド形成用開口部を有し、第二のメッキレ
ジスト層を両ランド形成用開口部間にまたがるような開
口部を有するようにすれば、メッキ層を第一のメッキレ
ジスト層と同じ高さに形成することができる。従って、
チップ部品は第一のメッキレジスト層及び両メッキ層
(ランド)上に載置されることになり、半田付けによる
実装の際に、各ランドにおいてクリーム半田の硬化にば
らつきが生じても、傾くことはなくツームストーン現象
の発生が防止される。Further, the first plating resist layer has an opening for forming a land for mounting a chip component, and the second plating resist layer has an opening extending over both the openings for forming a land. Then, the plating layer can be formed at the same height as the first plating resist layer. Therefore,
The chip parts will be placed on the first plating resist layer and both plating layers (lands), and when mounting by soldering, even if the curing of the cream solder varies among the lands, it will tilt. The occurrence of the tombstone phenomenon is prevented.
【0015】[0015]
【実施例】〔実施例1〕以下、本発明をフルアディティ
ブ法により導体パターンが形成されたプリント配線板に
具体化した実施例1について図面に基づき詳細に説明す
る。この実施例ではQFP等の表面実装部品を実装する
ためのパッドのように基材との大きな密着強度が要求さ
れる部分の密着強度を高めるようにした。[Embodiment 1] Embodiment 1 in which the present invention is embodied in a printed wiring board on which a conductor pattern is formed by a full additive method will be described in detail with reference to the drawings. In this embodiment, the adhesion strength of a portion such as a pad for mounting a surface mounting component such as QFP, which requires a large adhesion strength with the base material, is increased.
【0016】図1に示すように、プリント配線板Pを構
成する絶縁基板1上には表面が粗化された接着剤層2が
形成され、接着剤層2上にはメッキレジスト3が等間隔
にて積層形成されている。メッキレジスト3は接着剤層
2上に積層され、パッド形成用開口部4aを有する第一
のメッキレジスト層4と、第一のメッキレジスト層4上
に積層され、パッド形成用開口部5aを有する第二のメ
ッキレジスト層5とから構成されている。第一及び第二
のメッキレジスト層4,5の互いに対応するパッド形成
用開口部4a,5aは、接着剤層2に近いほど幅広に形
成されている。パッド形成用開口部4a,5a内におけ
る接着剤層2上には、導体パターンを構成するパッド6
が形成されている。パッド6はその上部よりも下部が幅
広に形成されるとともに、図示しないQFPのリードと
の接着に必要な長さと幅(150μ)を有している。な
お、本実施例では、パッド6のピッチは300μで下部
の幅が250μとなっている。又、第一のメッキレジス
ト層4の幅は15μとなっており、隣接するパッド4間
の絶縁性が確保されている。As shown in FIG. 1, an adhesive layer 2 having a roughened surface is formed on an insulating substrate 1 which constitutes a printed wiring board P, and plating resists 3 are equally spaced on the adhesive layer 2. Are laminated. The plating resist 3 is laminated on the adhesive layer 2 and has a first plating resist layer 4 having a pad forming opening 4a and a first plating resist layer 4 having a pad forming opening 5a. It is composed of the second plating resist layer 5. The corresponding pad forming openings 4a and 5a of the first and second plating resist layers 4 and 5 are formed wider toward the adhesive layer 2. On the adhesive layer 2 in the pad forming openings 4a and 5a, a pad 6 forming a conductor pattern is formed.
Are formed. The pad 6 is formed such that its lower portion is wider than its upper portion and has a length and a width (150 μ) necessary for bonding with a lead of a QFP not shown. In this embodiment, the pad 6 has a pitch of 300 μ and a lower width of 250 μ. Further, the width of the first plating resist layer 4 is 15 μm, and the insulation between the adjacent pads 4 is secured.
【0017】上記のように構成されたプリント配線板P
においては、互いに対応するパッド形成用開口部4a,
5aのうち接着剤層2に近いパッド形成用開口部4aを
幅広に形成したことにより、接着剤層2上に形成される
パッド6の下部が幅広になる。従って、接着剤層2上に
形成されるパッド6の面積が大きくなって、接着剤層2
とパッド6との密着強度の向上を図ることができる。こ
の結果、パッド6はQFP等の表面実装部品を実装する
際の高温時における十分な密着強度を得ることができ
る。The printed wiring board P having the above structure
, The pad forming openings 4a,
By forming the pad forming opening 4a close to the adhesive layer 2 in 5a, the lower portion of the pad 6 formed on the adhesive layer 2 becomes wider. Therefore, the area of the pad 6 formed on the adhesive layer 2 is increased and the adhesive layer 2
The adhesion strength between the pad 6 and the pad 6 can be improved. As a result, the pad 6 can obtain sufficient adhesion strength at high temperature when mounting a surface mounting component such as QFP.
【0018】又、パッド6の下部の両側部が第二のメッ
キレジスト層5の下方に位置しているため、その第二の
メッキレジスト層5にてパッド6の引き剥がしに抗する
力が作用して、パッド6の剥離強度を高めることができ
る。Since both lower parts of the pad 6 are located below the second plating resist layer 5, the second plating resist layer 5 exerts a force against peeling of the pad 6. Thus, the peel strength of the pad 6 can be increased.
【0019】更に、第一のメッキレジスト層4はその上
面が第二のメッキレジスト層5に覆われるように形成さ
れているため、パッド6を形成する際に無電解銅メッキ
液に晒される部分が少ない。従って、第一のメッキレジ
スト層4を耐無電解銅メッキ液性(耐アルカリ性)に優
れたものでなくてもよく、接着剤追従性(密着性)にの
みに優れたものを使用することができる。Further, since the upper surface of the first plating resist layer 4 is formed so as to be covered with the second plating resist layer 5, the portion exposed to the electroless copper plating solution when the pad 6 is formed. Less is. Therefore, the first plating resist layer 4 does not have to have excellent resistance to electroless copper plating solution (alkali resistance), and it is possible to use a material having excellent adhesive followability (adhesion) only. it can.
【0020】次に、プリント配線板Pの製造方法の一例
を簡単に説明する。絶縁基板1上にエポキシ樹脂を主成
分とする接着剤を塗布、硬化し、その表面を常法により
粗化した後、パラジウム等の触媒核を付与する。次い
で、接着剤層2上の全面に感光性樹脂からなるメッキレ
ジストを施した後、露光・現像処理を行ってパッド形成
用開口部4aを有する第一のメッキレジスト層4を形成
する(図2)。Next, an example of a method of manufacturing the printed wiring board P will be briefly described. An adhesive containing an epoxy resin as a main component is applied onto the insulating substrate 1 and cured, and the surface thereof is roughened by a conventional method, and then a catalyst nucleus such as palladium is provided. Next, a plating resist made of a photosensitive resin is applied to the entire surface of the adhesive layer 2, and then exposure / development processing is performed to form a first plating resist layer 4 having a pad forming opening 4a (FIG. 2). ).
【0021】次に、第一のメッキレジスト層4上に感光
性樹脂からなるメッキレジストを施した後、露光・現像
処理を行ってパッド形成用開口部4aよりも幅狭のパッ
ド形成用開口部5aを有する第二のメッキレジスト層5
を形成する。(図3)。続いて、無電解銅メッキを施し
てパッド(導体パターン)6を形成する(図1)。その
後、第二のメッキレジスト層5の表面及び導体パターン
の配線(図示せず)にソルダーレジストを施した後、外
形仕上げ等を行ってプリント配線板Pを得る。Next, after a plating resist made of a photosensitive resin is applied on the first plating resist layer 4, exposure / development processing is performed to make the pad forming opening portion 4a narrower in width than the pad forming opening portion 4a. Second plating resist layer 5 having 5a
To form. (Figure 3). Then, electroless copper plating is performed to form pads (conductor patterns) 6 (FIG. 1). After that, a solder resist is applied to the surface of the second plating resist layer 5 and the wiring (not shown) of the conductor pattern, and then the outer shape finish or the like is performed to obtain the printed wiring board P.
【0022】〔実施例2〕次に、実施例2について説明
する。この実施例では導体パターンの配線部のピッチを
狭くしたときに絶縁抵抗値の低下を防止できるようにし
た。[Second Embodiment] Next, a second embodiment will be described. In this embodiment, the insulation resistance value can be prevented from being lowered when the pitch of the wiring portions of the conductor pattern is narrowed.
【0023】図4に示すように、第一及び第二のメッキ
レジスト層4,5の互いに対応する配線形成用開口部4
b,5bは、接着剤層2に遠いほど幅狭に形成されてい
る。配線形成用開口部4b,5b内における接着剤層2
上には、導体パターンを構成する配線7が形成されてい
る。配線7はその上部よりも下部が幅狭に形成されてい
る。なお、本実施例では配線7のピッチは100μで上
部の幅が70μとなっている。又、第一のメッキレジス
ト層4の幅は10μとなっており、隣接する配線7間の
絶縁性が確保されている。As shown in FIG. 4, the corresponding wiring forming openings 4 of the first and second plating resist layers 4 and 5 are formed.
The widths b and 5b are formed so as to be farther from the adhesive layer 2. Adhesive layer 2 in wiring formation openings 4b and 5b
Wiring 7 forming a conductor pattern is formed on the top. The wiring 7 is formed such that its lower portion is narrower than its upper portion. In this embodiment, the wiring 7 has a pitch of 100 μ and an upper width of 70 μ. Further, the width of the first plating resist layer 4 is 10 μm, and the insulation between the adjacent wirings 7 is secured.
【0024】上記のように構成されたプリント配線板P
においては、配線形成用開口部4b,5bが、接着剤層
2に遠いほど幅狭に形成されているため、第一のメッキ
レジスト層4は配線7間の絶縁性を確保できる幅広形状
となる。従って、配線7間の絶縁距離が長くなって、配
線7をファインパターン化したときの絶縁抵抗値の低下
防止を図ることができる。The printed wiring board P constructed as described above
In the above, since the wiring forming openings 4b and 5b are formed so as to become narrower as they are farther from the adhesive layer 2, the first plating resist layer 4 has a wide shape capable of ensuring insulation between the wirings 7. . Therefore, the insulation distance between the wirings 7 becomes long, and it is possible to prevent the insulation resistance value from decreasing when the wirings 7 are formed into a fine pattern.
【0025】なお、実施例1のプリント配線板Pは前記
実施例1と同じ製造方法により得られる。 〔実施例3〕次に、実施例3について説明する。この実
施例ではチップ部品を実装する際にツームストーン現象
が発生するのを防止できるようにした。The printed wiring board P of Example 1 can be obtained by the same manufacturing method as that of Example 1. [Third Embodiment] Next, a third embodiment will be described. In this embodiment, it is possible to prevent the tombstone phenomenon from occurring when the chip component is mounted.
【0026】図5に示すように、第一のメッキレジスト
層4は第二のメッキレジスト層5よりも肉厚に形成され
ている。第一のメッキレジスト層4は一対のチップ部品
実装用のランド形成用開口部4cを有しており、第二の
メッキレジスト層5は両ランド形成用開口部4c間をま
たがるような開口部5cを有している。又、ランド形成
用開口部4c内における接着剤層2上には、導体パター
ンを構成するチップ部品実装用のランド8が第一のメッ
キレジスト層4と同じ高さに形成されている。なお、本
実施例では、第一のメッキレジスト層4及びランド8の
高さは25μとなっている。As shown in FIG. 5, the first plating resist layer 4 is formed to be thicker than the second plating resist layer 5. The first plating resist layer 4 has a pair of land forming openings 4c for mounting chip parts, and the second plating resist layer 5 has an opening 5c that extends between both land forming openings 4c. have. On the adhesive layer 2 in the land forming opening 4c, a chip component mounting land 8 forming a conductor pattern is formed at the same height as the first plating resist layer 4. In this embodiment, the height of the first plating resist layer 4 and the land 8 is 25 μm.
【0027】上記したプリント配線板Pにおいては、第
一及び第二のメッキレジスト層4,5の2層構造とした
ことにより、ランド8を第一のメッキレジスト層4と同
じ高さに形成することができる。従って、両ランド8上
に実装されるチップ部品(二点鎖線にて図示)9は、第
一のメッキレジスト層4及び両ランド8上に載置され
る。従って、チップ部品9を半田付けにより実装すると
きに、各ランド8においてクリーム半田(二点鎖線にて
図示)10の硬化にばらつきが生じても、チップ部品が
傾くことはないため、ツームストーン現象の発生を防止
することができる。In the above-mentioned printed wiring board P, the land 8 is formed at the same height as the first plating resist layer 4 by having the two-layer structure of the first and second plating resist layers 4 and 5. be able to. Therefore, the chip component (illustrated by the chain double-dashed line) 9 mounted on both lands 8 is placed on the first plating resist layer 4 and both lands 8. Therefore, when the chip component 9 is mounted by soldering, even if the curing of the cream solder (illustrated by the chain double-dashed line) 10 in each land 8 varies, the chip component does not tilt, and the tombstone phenomenon occurs. Can be prevented.
【0028】又、チップ部品9は実装の際に第二のメッ
キレジスト5に囲まれた状態となるため、ランド8から
はみ出たりすることが少なくなる。又、クリーム半田1
0の余分なはみ出しも防止できる。Further, since the chip component 9 is surrounded by the second plating resist 5 during mounting, the chip component 9 is less likely to protrude from the land 8. Also, cream solder 1
It is possible to prevent the extra protrusion of 0.
【0029】実施例3のプリント配線板Pは、第一のメ
ッキレジスト層4を肉厚に形成し、第二のメッキレジス
ト層5の開口部5cを両ランド形成用開口部4c間をま
たがるように形成する点が前記実施例1の製造方法と異
なる。In the printed wiring board P according to the third embodiment, the first plating resist layer 4 is formed to have a large thickness, and the opening 5c of the second plating resist layer 5 extends across both land forming openings 4c. It is different from the manufacturing method of the first embodiment in that it is formed.
【0030】なお、本発明は上記実施例のみに限定され
ることはなく、以下のように変更すしてもよい。 (1)メッキレジスト3を3層以上の構成としてもよ
い。The present invention is not limited to the above embodiment, but may be modified as follows. (1) The plating resist 3 may have three or more layers.
【0031】(2)2層構造のメッキレジストを構成す
る第一のメッキレジスト層4の各開口部4a〜4cと、
第二のメッキレジスト層5の各開口部5a〜5cの幅の
大きさを適宜変更してもよい。又、第一又は第二のメッ
キレジスト層4,5の厚さを適宜変更してもよい。(2) Each of the openings 4a to 4c of the first plating resist layer 4 constituting the plating resist having a two-layer structure,
The size of the width of each opening 5a to 5c of the second plating resist layer 5 may be changed as appropriate. Further, the thickness of the first or second plating resist layers 4 and 5 may be changed appropriately.
【0032】(3)第一又は第二のメッキレジスト層
4,5を感光性樹脂組成物以外の例えば熱硬化性樹脂組
成物等を使用してもよい。 (4)サブトラクティブ法による多層プリント配線板の
製造の一部にアディティブを適用する場合に具体化して
もよい。(3) For the first or second plating resist layers 4 and 5, for example, a thermosetting resin composition other than the photosensitive resin composition may be used. (4) It may be embodied when the additive is applied to a part of the manufacturing of the multilayer printed wiring board by the subtractive method.
【0033】(5)銅以外の金属の無電解メッキにより
導体パターンを形成する場合に適用してもよい。 (6)実施例3において、第二のメッキレジストの開口
部5cの幅をチップ部品と同じ幅に形成してもよい。こ
のようにすれば、チップ部品を確実にランド8上に位置
固定することができる。(5) It may be applied when a conductor pattern is formed by electroless plating of a metal other than copper. (6) In the third embodiment, the opening 5c of the second plating resist may be formed to have the same width as the chip part. By doing so, the chip component can be reliably fixed on the land 8 in position.
【0034】(7)プリント配線板Pを製造する場合に
おいて、第一のメッキレジスト層を形成した後、メッキ
層を形成し、続いて、第二のメッキレジスト層を形成し
た後、再びメッキ層を形成するようにしてもよい。(7) In the case of manufacturing the printed wiring board P, after forming the first plating resist layer, the plating layer is formed, then the second plating resist layer is formed, and then the plating layer is formed again. May be formed.
【0035】[0035]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明のプリント
配線板によれば、各メッキレジスト層の互いに対応する
開口部を接着剤層に近いメッキレジスト層ほど幅広に形
成することによりメッキ層の下部が上部よりも幅広にな
るので、接着剤層とメッキ層との密着強度の向上を図る
ことができる。As described above in detail, according to the printed wiring board of the present invention, the plating layer is formed by forming the openings corresponding to each other in the plating resist layer so as to be wider as the plating resist layer is closer to the adhesive layer. Since the lower part of the is wider than the upper part, it is possible to improve the adhesion strength between the adhesive layer and the plating layer.
【0036】又、各メッキレジスト層の互いに対応する
開口部を接着剤層に遠いメッキレジスト層ほど幅狭に形
成することにより、接着剤層上に形成されるメッキレジ
スト層はメッキ層間の絶縁性を確保できる幅広形状とな
るので、導体パターンをファインパターン化したときの
絶縁抵抗値の低下防止を図ることができる。Further, by forming openings corresponding to each other in each plating resist layer in the adhesive layer such that the farther the plating resist layer is from the adhesive layer, the plating resist layer formed on the adhesive layer has an insulating property between the plating layers. Since the width of the conductor pattern is wide, it is possible to prevent the insulation resistance value from decreasing when the conductor pattern is formed into a fine pattern.
【0037】更に、メッキレジスト層を2層構造とし、
接着剤層上に積層された第一のメッキレジスト層をチッ
プ部品実装用のランド形成用開口部を有し、第二のメッ
キレジスト層を両ランド形成用開口部間にまたがるよう
な開口部を有するようにすれば、メッキ層を第一のメッ
キレジスト層と同じ高さに形成することができ、チップ
部品は実装の際に第一のメッキレジスト層及び両メッキ
層(ランド)上に載置されるので、ツームストーン現象
の発生防止を図ることができるという優れた効果を奏す
る。Further, the plating resist layer has a two-layer structure,
The first plating resist layer laminated on the adhesive layer has an opening for land formation for chip component mounting, and the second plating resist layer has an opening extending over both openings for land formation. If so, the plating layer can be formed at the same height as the first plating resist layer, and the chip component is mounted on the first plating resist layer and both plating layers (lands) during mounting. Therefore, the excellent effect that the occurrence of the tombstone phenomenon can be prevented is achieved.
【図1】本発明の実施例1のプリント配線板を示す部分
模式図である。FIG. 1 is a partial schematic view showing a printed wiring board of Example 1 of the present invention.
【図2】同じく、プリント配線板の製造工程において基
板に第一のメッキレジストを形成した状態を示す部分模
式図である。FIG. 2 is likewise a partial schematic view showing a state in which a first plating resist is formed on a substrate in a manufacturing process of a printed wiring board.
【図3】同じく、プリント配線板の製造工程において基
板に第二のメッキレジストを形成した状態を示す部分模
式図である。FIG. 3 is also a partial schematic view showing a state in which a second plating resist is formed on the substrate in the manufacturing process of the printed wiring board.
【図4】実施例2のプリント配線板を示す部分模式図で
ある。FIG. 4 is a partial schematic view showing a printed wiring board of Example 2.
【図5】実施例3のプリント配線板を示す部分模式図で
ある。FIG. 5 is a partial schematic view showing a printed wiring board of Example 3.
1…絶縁基板、2…接着剤層、3…メッキレジスト、4
…第一のメッキレジスト層、5…第二のメッキレジスト
層、4a,5a…パッド形成用開口部、4b,5b…配
線形成用開口部、4c…ランド形成用開口部、5c…開
口部、6…導体パターンを構成するパッド、7…導体パ
ターンを構成する配線、8…導体パターンを構成するチ
ップ部品実装用のランド、P…プリント配線板。1 ... Insulating substrate, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Plating resist, 4
... first plating resist layer, 5 ... second plating resist layer, 4a, 5a ... pad forming opening, 4b, 5b ... wiring forming opening, 4c ... land forming opening, 5c ... opening, 6 ... Pads forming the conductor pattern, 7 ... Wiring forming the conductor pattern, 8 ... Lands for mounting chip parts forming the conductor pattern, P ... Printed wiring board.
Claims (4)
形成されたプリント配線板であって、メッキレジストを
複数層形成し、各メッキレジスト層の開口部の形状を異
なる形状としたことを特徴とするプリント配線板。1. A printed wiring board on which a conductor pattern is formed by an additive method, wherein a plurality of layers of plating resist are formed and the openings of each plating resist layer have different shapes. Board.
る開口部は接着剤層に近いメッキレジスト層ほど幅広に
形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプリ
ント配線板。2. The printed wiring board according to claim 1, wherein the openings corresponding to each other in each of the plating resist layers are formed wider as the plating resist layer is closer to the adhesive layer.
る開口部は接着剤層に遠いメッキレジスト層ほど幅狭に
形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプリ
ント配線板。3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the openings corresponding to each other of the plating resist layers are formed so that the width of the plating resist layer farther from the adhesive layer is narrower.
し、接着剤層上に積層された第一のメッキレジスト層は
チップ部品実装用のランド形成用開口部を有し、第一の
メッキレジスト層上に積層された第二のメッキレジスト
層は両ランド形成用開口部間をまたがるような開口部を
有し、且つメッキ層が第一のメッキレジスト層と同じ高
さに形成されていることを特徴とする請求項1に記載の
プリント配線板。4. The first plating resist layer has a two-layer structure, and the first plating resist layer laminated on the adhesive layer has a land forming opening for mounting a chip component. The second plating resist layer laminated on the layer has an opening extending over both land forming openings, and the plating layer is formed at the same height as the first plating resist layer. The printed wiring board according to claim 1, wherein:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16577293A JPH0722735A (en) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | Printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16577293A JPH0722735A (en) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | Printed wiring board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0722735A true JPH0722735A (en) | 1995-01-24 |
Family
ID=15818749
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16577293A Pending JPH0722735A (en) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | Printed wiring board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0722735A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1993
- 1993-07-05 JP JP16577293A patent/JPH0722735A/en active Pending
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