JPH07223926A - ネイルエナメル - Google Patents
ネイルエナメルInfo
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- JPH07223926A JPH07223926A JP1672694A JP1672694A JPH07223926A JP H07223926 A JPH07223926 A JP H07223926A JP 1672694 A JP1672694 A JP 1672694A JP 1672694 A JP1672694 A JP 1672694A JP H07223926 A JPH07223926 A JP H07223926A
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- Japan
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- ammonium salt
- quaternary ammonium
- nail enamel
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 人体への悪影響がない（無公害）上、従来の
ネイルエナメル同様、或いはそれ以上に粘性、分散安定
性、塗膜光沢性、塗布性等に優れ、爪表面の白化、割れ
や罅による剥離、二枚爪などの爪へのダメージをなくし
たネイルエナメルを提供することにある。 【構成】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４級ア
ンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、或いは第４
級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３〜
６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸収
剤とを配合してなる。
ネイルエナメル同様、或いはそれ以上に粘性、分散安定
性、塗膜光沢性、塗布性等に優れ、爪表面の白化、割れ
や罅による剥離、二枚爪などの爪へのダメージをなくし
たネイルエナメルを提供することにある。 【構成】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４級ア
ンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、或いは第４
級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３〜
６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸収
剤とを配合してなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、メーキャップ化粧品の
マニキュア用品のうち、特に無害、且つ乾燥性や塗布性
に非常に優れたネイルエナメルに関する。
マニキュア用品のうち、特に無害、且つ乾燥性や塗布性
に非常に優れたネイルエナメルに関する。
【０００２】
【従来の技術】ネイルエナメルの原料は、塗膜を作るニ
トロセルロース、該塗膜の爪への接着を良好にする接着
性樹脂、前記塗膜に柔軟性、持続性を保持させるための
可塑剤、これらを溶解して塗布しやすくし、且つ均一の
皮膜を形成可能とするための溶剤、顔料、パール剤、該
顔料とパール剤との沈澱、分離を防止するためのゲル化
剤などが配合されたものである。
トロセルロース、該塗膜の爪への接着を良好にする接着
性樹脂、前記塗膜に柔軟性、持続性を保持させるための
可塑剤、これらを溶解して塗布しやすくし、且つ均一の
皮膜を形成可能とするための溶剤、顔料、パール剤、該
顔料とパール剤との沈澱、分離を防止するためのゲル化
剤などが配合されたものである。
【０００３】前記ゲル化剤としては、従来から有機変性
モンモリロナイトクレーが使用されているが、該有機変
性モンモリロナイトクレーにチキソトロピー性（かき混
ぜたり、振り混ぜたりすることによってゲルが流動性の
ゾルに変化し、これを放置しておくと再度ゲルにもどる
性質）をもたらすための溶剤として、主にトルエン等の
芳香族炭化水素溶液が利用されており、該溶剤は顔料，
パール剤の分散性安定性上、不可欠なものであった。
モンモリロナイトクレーが使用されているが、該有機変
性モンモリロナイトクレーにチキソトロピー性（かき混
ぜたり、振り混ぜたりすることによってゲルが流動性の
ゾルに変化し、これを放置しておくと再度ゲルにもどる
性質）をもたらすための溶剤として、主にトルエン等の
芳香族炭化水素溶液が利用されており、該溶剤は顔料，
パール剤の分散性安定性上、不可欠なものであった。
【０００４】また、前記芳香族炭化水素溶液のうち、特
にトルエンに関しては、ネイルエナメルの主塗膜成分で
あるニトロセルロースの希釈溶剤としても機能し、該ネ
イルエナメルの塗布時に塗膜乾燥性、平滑性などの非常
に良好な塗布性を与える性質を有する。
にトルエンに関しては、ネイルエナメルの主塗膜成分で
あるニトロセルロースの希釈溶剤としても機能し、該ネ
イルエナメルの塗布時に塗膜乾燥性、平滑性などの非常
に良好な塗布性を与える性質を有する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記溶
剤としてのトルエンは爪ケラチン層間の脂質を溶解する
作用が大きく、該トルエンを使用したネイルエナメル
は、爪ダメージ、即ち、爪表面の白化、割れや罅による
剥離、二枚爪などを生じることが多かった。
剤としてのトルエンは爪ケラチン層間の脂質を溶解する
作用が大きく、該トルエンを使用したネイルエナメル
は、爪ダメージ、即ち、爪表面の白化、割れや罅による
剥離、二枚爪などを生じることが多かった。
【０００６】また、最近では前記ネイルエナメルを塗布
する際に発生する揮発トルエンが呼気より吸入されると
いう人体への有害性が大きな問題となっている。
する際に発生する揮発トルエンが呼気より吸入されると
いう人体への有害性が大きな問題となっている。
【０００７】本発明は、前記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、ネイルエナメルにおける有機変性モ
ンモリロナイトクレーのチキソトロピー性を利用した、
顔料，パール剤の沈澱や分散を防止して安定性を図り、
更に塗布性に優れ、且つ人体への安全性の確保が充分可
能なネイルエナメルを提供することを課題とする。
されたものであり、ネイルエナメルにおける有機変性モ
ンモリロナイトクレーのチキソトロピー性を利用した、
顔料，パール剤の沈澱や分散を防止して安定性を図り、
更に塗布性に優れ、且つ人体への安全性の確保が充分可
能なネイルエナメルを提供することを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係るネイルエナ
メルは、少なくとも０．５〜３．０重量％の第４級アン
モニウム塩変性モンモリロナイトクレー、或いは第４級
アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３〜
６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸収
剤とを配合してなることを特徴としている。
メルは、少なくとも０．５〜３．０重量％の第４級アン
モニウム塩変性モンモリロナイトクレー、或いは第４級
アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３〜
６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸収
剤とを配合してなることを特徴としている。
【０００９】また、本発明に係るネイルエナメルは、少
なくとも０．５〜３．０重量％の第４級アンモニウム塩
変性モンモリロナイトクレー、或いは０．５〜３．０重
量％の第４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレー
と、０．３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持
つ紫外線吸収剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシ
エチレンアルキルフェニルエーテルとを配合してなるこ
とを特徴としている。
なくとも０．５〜３．０重量％の第４級アンモニウム塩
変性モンモリロナイトクレー、或いは０．５〜３．０重
量％の第４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレー
と、０．３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持
つ紫外線吸収剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシ
エチレンアルキルフェニルエーテルとを配合してなるこ
とを特徴としている。
【００１０】更に、少なくとも０．５〜３．０重量％の
第４級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、或
いは第４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、
０．３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫
外線吸収剤とを配合してなるゲル化剤と、エステル系溶
剤（トルエンを除く）とからなることを特徴とするもの
である。
第４級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、或
いは第４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、
０．３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫
外線吸収剤とを配合してなるゲル化剤と、エステル系溶
剤（トルエンを除く）とからなることを特徴とするもの
である。
【００１１】また、少なくとも０．５〜３．０重量％の
第４級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、或
いは第４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、
０．３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫
外線吸収剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテルとを配合してなるゲル化
剤と、エステル系溶剤（トルエンを除く）とからなるこ
とを特徴とするものである。
第４級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、或
いは第４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、
０．３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫
外線吸収剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテルとを配合してなるゲル化
剤と、エステル系溶剤（トルエンを除く）とからなるこ
とを特徴とするものである。
【００１２】
【作用】本発明のネイルエナメルは、そのゲル化剤の主
成分である有機変性モンモリロナイトクレーや有機変性
ベントナイトクレー（０．５〜３．０重量％）と共に、
分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸収剤（０．３〜
６．０重量％）が配合されているので、溶剤としてトル
エン等の芳香族炭化水素溶液を使用しなくとも、酢酸ブ
チル等の無害なエステル系溶剤を使用するだけで充分に
前記有機変性モンモリロナイトクレーや有機変性ベント
ナイトクレーの層間を広げ、全体的に膨潤させる、即ち
チキソトロピー性に優れたネイルエナメルとなり得る。
成分である有機変性モンモリロナイトクレーや有機変性
ベントナイトクレー（０．５〜３．０重量％）と共に、
分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸収剤（０．３〜
６．０重量％）が配合されているので、溶剤としてトル
エン等の芳香族炭化水素溶液を使用しなくとも、酢酸ブ
チル等の無害なエステル系溶剤を使用するだけで充分に
前記有機変性モンモリロナイトクレーや有機変性ベント
ナイトクレーの層間を広げ、全体的に膨潤させる、即ち
チキソトロピー性に優れたネイルエナメルとなり得る。
【００１３】また、前記成分に加えて、ポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル（０．２〜６．０重量
％）を配合したものであれば、更に前記有機変性モンモ
リロナイトクレーや有機変性ベントナイトクレーの層間
を広げることが可能となる。
レンアルキルフェニルエーテル（０．２〜６．０重量
％）を配合したものであれば、更に前記有機変性モンモ
リロナイトクレーや有機変性ベントナイトクレーの層間
を広げることが可能となる。
【００１４】
【実施例】本発明のネイルエナメルの原料は、従来から
周知の塗膜を作るニトロセルロース、該塗膜の爪への接
着を良好にするアルキッド樹脂やアクリル樹脂等の接着
性樹脂、前記塗膜に柔軟性、持続性を保持させるための
クエン酸エステルやジブチルフタレート等の可塑剤、こ
れらを溶解して塗布しやすくし、且つ均一の皮膜を形成
可能とするための酢酸ブチルや酢酸エチル、エチルアル
コール、ブチルアルコール等の溶剤、酸化鉄や二酸化チ
タンなどの顔料、パールエッセンス等のパール剤、該顔
料とパール剤との沈澱、分離を防止するためのゲル化剤
などが配合されたものである。
周知の塗膜を作るニトロセルロース、該塗膜の爪への接
着を良好にするアルキッド樹脂やアクリル樹脂等の接着
性樹脂、前記塗膜に柔軟性、持続性を保持させるための
クエン酸エステルやジブチルフタレート等の可塑剤、こ
れらを溶解して塗布しやすくし、且つ均一の皮膜を形成
可能とするための酢酸ブチルや酢酸エチル、エチルアル
コール、ブチルアルコール等の溶剤、酸化鉄や二酸化チ
タンなどの顔料、パールエッセンス等のパール剤、該顔
料とパール剤との沈澱、分離を防止するためのゲル化剤
などが配合されたものである。
【００１５】本発明のネイルエナメルには、前記ゲル化
剤の主成分として有機変性モンモリロナイトクレーや有
機変性ベントナイトクレーが使用されるが、これは一般
には無機の粘土であるモンモリロナイトやベントナイ
ト、ヘクトライト等にカチオン活性剤を反応（カチオン
交換）させて有機変性させたものである。
剤の主成分として有機変性モンモリロナイトクレーや有
機変性ベントナイトクレーが使用されるが、これは一般
には無機の粘土であるモンモリロナイトやベントナイ
ト、ヘクトライト等にカチオン活性剤を反応（カチオン
交換）させて有機変性させたものである。
【００１６】尚、前記有機変性モンモリロナイトクレー
や有機変性ベントナイトクレー，或いは該有機変性モン
モリロナイトクレーと有機変性ベントナイトクレーとの
混合組成の配合比は０．５〜３．０重量％である。
や有機変性ベントナイトクレー，或いは該有機変性モン
モリロナイトクレーと有機変性ベントナイトクレーとの
混合組成の配合比は０．５〜３．０重量％である。
【００１７】０．５重量％未満では良好なゲル成分を得
ることができず、また、３．０重量％を超えると粘度が
非常に高くなり、塗布性が悪く、爪への塗布後の表面光
沢性が悪くなる。
ることができず、また、３．０重量％を超えると粘度が
非常に高くなり、塗布性が悪く、爪への塗布後の表面光
沢性が悪くなる。
【００１８】前記有機変性モンモリロナイトクレーや有
機変性ベントナイトクレー，或いは該有機変性モンモリ
ロナイトクレーと有機変性ベントナイトクレーとの混合
組成に対して、本発明に係るゲル化剤には、分子内にベ
ンゼン構造を持つ紫外線吸収剤が混合されたり、更に界
面活性剤としてのポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテルが混合されている。
機変性ベントナイトクレー，或いは該有機変性モンモリ
ロナイトクレーと有機変性ベントナイトクレーとの混合
組成に対して、本発明に係るゲル化剤には、分子内にベ
ンゼン構造を持つ紫外線吸収剤が混合されたり、更に界
面活性剤としてのポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテルが混合されている。
【００１９】前記紫外線吸収剤や界面活性剤を使用する
ことにて、本発明のゲル化剤は、トルエンを含まない、
酢酸ブチル等の無害なエステル系溶剤であっても、有機
変性モンモリロナイトクレーや有機変性ベントナイトク
レーの膨潤を行うことができ、チキソトロピー性を充分
に引き出すことが可能となる。
ことにて、本発明のゲル化剤は、トルエンを含まない、
酢酸ブチル等の無害なエステル系溶剤であっても、有機
変性モンモリロナイトクレーや有機変性ベントナイトク
レーの膨潤を行うことができ、チキソトロピー性を充分
に引き出すことが可能となる。
【００２０】従って、顔料，パール剤の分散性安定性と
共に、該ネイルエナメルの塗布時における塗布性や塗膜
乾燥性、平滑性（均一の塗膜形成）等においても良好な
ものとなり得る。
共に、該ネイルエナメルの塗布時における塗布性や塗膜
乾燥性、平滑性（均一の塗膜形成）等においても良好な
ものとなり得る。
【００２１】前記油溶性の紫外線吸収剤としては、オキ
シベンゾン、サリチル酸ホモメンチル、４−メトキシケ
イ皮酸−２−エトキシエチル、ジパラメトキシケイ皮酸
モノ−２−エチルヘキ酸グリセリン、ドロキシジメトキ
シベンゾフェノン、ジヒドロキシベンゾフェノン、テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、パラアミノ安息香酸、パ
ラアミノ安息香酸エチル、パラアミノ安息香酸グリセリ
ン、パラアミノ安息香酸エステル、パラアミノ安息香酸
ベンジル、パラジメチルアミノ安息香酸アミル、パラジ
メチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、パラヒド
ロキシアニソール、パラメトキシケイ皮酸モノ−２−エ
チルヘキシル、４−tert−ブチル−４’−メトキシベン
ゾイルメタン等を挙げることができる。
シベンゾン、サリチル酸ホモメンチル、４−メトキシケ
イ皮酸−２−エトキシエチル、ジパラメトキシケイ皮酸
モノ−２−エチルヘキ酸グリセリン、ドロキシジメトキ
シベンゾフェノン、ジヒドロキシベンゾフェノン、テト
ラヒドロキシベンゾフェノン、パラアミノ安息香酸、パ
ラアミノ安息香酸エチル、パラアミノ安息香酸グリセリ
ン、パラアミノ安息香酸エステル、パラアミノ安息香酸
ベンジル、パラジメチルアミノ安息香酸アミル、パラジ
メチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、パラヒド
ロキシアニソール、パラメトキシケイ皮酸モノ−２−エ
チルヘキシル、４−tert−ブチル−４’−メトキシベン
ゾイルメタン等を挙げることができる。
【００２２】また、前記界面活性剤のポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエーテルは、具体的には、ポリオキ
シエチレン（Ｐ・Ｏ・Ｅ（２）〜（２０））ノニルフェ
ニルエーテルや、ポリオキシエチレン（Ｐ・Ｏ・Ｅ
（３）〜（３０））オクチルフェニルエーテル等が使用
されている。
ンアルキルフェニルエーテルは、具体的には、ポリオキ
シエチレン（Ｐ・Ｏ・Ｅ（２）〜（２０））ノニルフェ
ニルエーテルや、ポリオキシエチレン（Ｐ・Ｏ・Ｅ
（３）〜（３０））オクチルフェニルエーテル等が使用
されている。
【００２３】尚、前記紫外線吸収剤の配合比は０．３〜
６．０重量％である。
６．０重量％である。
【００２４】０．３重量％未満では前記有機変性モンモ
リロナイトクレーや有機変性ベントナイトクレーを充分
に膨潤させることができず、また、６．０重量％を超え
ると非常に塗膜性が悪くなる。
リロナイトクレーや有機変性ベントナイトクレーを充分
に膨潤させることができず、また、６．０重量％を超え
ると非常に塗膜性が悪くなる。
【００２５】また、前記界面活性剤の配合比は０．２〜
６．０重量％である。
６．０重量％である。
【００２６】０．２重量％未満では前記有機変性モンモ
リロナイトクレーや有機変性ベントナイトクレーのチキ
ソトロピー性を充分に引き出すことができず、また、
６．０重量％を超えると該チキソトロピー性には優れて
いるが、塗膜の乾燥性が非常に悪くなる。
リロナイトクレーや有機変性ベントナイトクレーのチキ
ソトロピー性を充分に引き出すことができず、また、
６．０重量％を超えると該チキソトロピー性には優れて
いるが、塗膜の乾燥性が非常に悪くなる。
【００２７】以下、本発明のネイルエナメルに係るゲル
化剤及び溶剤の成分の具体的実施例（比較例，従来例を
含む）を下記表１にて記載する。
化剤及び溶剤の成分の具体的実施例（比較例，従来例を
含む）を下記表１にて記載する。
【００２８】
【表１】
【００２９】また、前記ゲル成分を利用して構成される
ネイルエナメルの成分の具体的な実施例（比較例，従来
例を含む）を下記表２にて記載する。
ネイルエナメルの成分の具体的な実施例（比較例，従来
例を含む）を下記表２にて記載する。
【００３０】
【表２】
【００３１】更に、前記成分例（第１実施例〜第４実施
例及び比較例、従来例）よりなるネイルエナメルを使用
し、その粘性及び分散安定性、塗膜光沢性について比較
実験を行った結果を下記表３にて記載する。
例及び比較例、従来例）よりなるネイルエナメルを使用
し、その粘性及び分散安定性、塗膜光沢性について比較
実験を行った結果を下記表３にて記載する。
【００３２】尚、前記粘性の測定法としては、ＢＬ型粘
度計（Ｎｏ．２ ローター；6rpm）にて、２５°Ｃで１
分間測定する方法を使用した。
度計（Ｎｏ．２ ローター；6rpm）にて、２５°Ｃで１
分間測定する方法を使用した。
【００３３】この場合のゲル化率とは、前記粘度測定条
件での6rpmにおける測定粘度値を、60rpm における測定
粘度値で割った商のことである。
件での6rpmにおける測定粘度値を、60rpm における測定
粘度値で割った商のことである。
【００３４】また、分散安定性の測定法としては、試作
バルクをネイルエナメル用の容器に充填し、室温及び５
０°Ｃに調整された恒温槽にセットし、経時での沈降，
分離状態を肉眼にて観察し、評価する方法を使用した。
バルクをネイルエナメル用の容器に充填し、室温及び５
０°Ｃに調整された恒温槽にセットし、経時での沈降，
分離状態を肉眼にて観察し、評価する方法を使用した。
【００３５】この際の評価基準は、 ○：沈降，分離が肉眼にて観察不可能である。 △：やや沈降，分離が肉眼にて認められる。 ×：沈降，分離が肉眼にて観察可能で、且つ非常に大き
い。 の３段階で行った。
い。 の３段階で行った。
【００３６】更に、塗膜光沢性の測定法としては、白板
の上にアプリケーターにて10mil の厚さの塗膜を作成
し、２時間以上放置乾燥後、村上色彩研究所光沢計（Ｇ
Ｘ２０２……６０°Ｃ）にて測定する方法を使用した。
この際、標準白板値を９５にて換算した。
の上にアプリケーターにて10mil の厚さの塗膜を作成
し、２時間以上放置乾燥後、村上色彩研究所光沢計（Ｇ
Ｘ２０２……６０°Ｃ）にて測定する方法を使用した。
この際、標準白板値を９５にて換算した。
【００３７】
【表３】
【００３８】上記表３から明らかなように、本発明に係
るゲル化剤を使用したネイルエナメルは、紫外線吸収剤
や界面活性剤を使用していないゲル化剤に比べて非常に
良好なものであることがわかる。
るゲル化剤を使用したネイルエナメルは、紫外線吸収剤
や界面活性剤を使用していないゲル化剤に比べて非常に
良好なものであることがわかる。
【００３９】また、従来のトルエンを使用したもの比較
すると従来同様、又はそれ以上に粘度が高い上にその保
存性も充分であることがわかる。
すると従来同様、又はそれ以上に粘度が高い上にその保
存性も充分であることがわかる。
【００４０】更に、分散安定性においても、従来のトル
エンを使用したものと同様、良好であるし、塗膜光沢性
においては、従来のトルエンを使用したもの以上に優れ
たものとなることが明白である。
エンを使用したものと同様、良好であるし、塗膜光沢性
においては、従来のトルエンを使用したもの以上に優れ
たものとなることが明白である。
【００４１】
【発明の効果】本発明のネイルエナメルは、少なくとも
０．５〜３．０重量％の第４級アンモニウム塩変性モン
モリロナイトクレー、或いは第４級アンモニウム塩変性
ベントナイトクレーと、０．３〜６．０重量％の分子内
にベンゼン構造を持つ紫外線吸収剤とを配合してなるも
のであるので、トルエン等の人体への有害性を有する溶
剤を使用することなく、充分に膨潤させることが可能で
ある。
０．５〜３．０重量％の第４級アンモニウム塩変性モン
モリロナイトクレー、或いは第４級アンモニウム塩変性
ベントナイトクレーと、０．３〜６．０重量％の分子内
にベンゼン構造を持つ紫外線吸収剤とを配合してなるも
のであるので、トルエン等の人体への有害性を有する溶
剤を使用することなく、充分に膨潤させることが可能で
ある。
【００４２】従って、人体への悪影響がない（無公害）
上、従来のネイルエナメル同様、或いはそれ以上の粘
性、分散安定性、塗膜光沢性、塗布性等に優れたものと
なり得、爪表面の白化、割れや罅による剥離、二枚爪な
どの爪へのダメージがなくなった。
上、従来のネイルエナメル同様、或いはそれ以上の粘
性、分散安定性、塗膜光沢性、塗布性等に優れたものと
なり得、爪表面の白化、割れや罅による剥離、二枚爪な
どの爪へのダメージがなくなった。
Claims (10)
- 【請求項１】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレーと、０．
３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線
吸収剤とを配合してなることを特徴とするネイルエナメ
ル。 - 【請求項２】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３〜
６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸収
剤とを配合してなることを特徴とするネイルエナメル。 - 【請求項３】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、及び第
４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３
〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸
収剤とを配合してなることを特徴とするネイルエナメ
ル。 - 【請求項４】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレーと、０．
３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線
吸収剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテルとを配合してなることを特徴
とするネイルエナメル。 - 【請求項５】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３〜
６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸収
剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシエチレンアル
キルフェニルエーテルとを配合してなることを特徴とす
るネイルエナメル。 - 【請求項６】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、及び第
４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３
〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸
収剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテルとを配合してなることを特徴と
するネイルエナメル。 - 【請求項７】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、又は第
４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３
〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸
収剤とを配合してなるゲル化剤と、エステル系溶剤（ト
ルエンを除く）とからなることを特徴とするネイルエナ
メル。 - 【請求項８】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、又は第
４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３
〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸
収剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシエチレンア
ルキルフェニルエーテルとを配合してなるゲル化剤と、
エステル系溶剤（トルエンを除く）とからなることを特
徴とするネイルエナメル。 - 【請求項９】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第４
級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、及び第
４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．３
〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線吸
収剤とを配合してなるゲル化剤と、エステル系溶剤（ト
ルエンを除く）とからなることを特徴とするネイルエナ
メル。 - 【請求項１０】 少なくとも０．５〜３．０重量％の第
４級アンモニウム塩変性モンモリロナイトクレー、及び
第４級アンモニウム塩変性ベントナイトクレーと、０．
３〜６．０重量％の分子内にベンゼン構造を持つ紫外線
吸収剤と、０．２〜６．０重量％のポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテルとを配合してなるゲル化剤
と、エステル系溶剤（トルエンを除く）とからなること
を特徴とするネイルエナメル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1672694A JPH07223926A (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | ネイルエナメル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1672694A JPH07223926A (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | ネイルエナメル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07223926A true JPH07223926A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=11924273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1672694A Pending JPH07223926A (ja) | 1994-02-10 | 1994-02-10 | ネイルエナメル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07223926A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002005756A1 (fr) * | 2000-07-13 | 2002-01-24 | Shiseido Co., Ltd. | Composition gel et embellisseur d'ongle |
| JP2009057324A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Kose Corp | 美爪料 |
-
1994
- 1994-02-10 JP JP1672694A patent/JPH07223926A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002005756A1 (fr) * | 2000-07-13 | 2002-01-24 | Shiseido Co., Ltd. | Composition gel et embellisseur d'ongle |
| US6814797B2 (en) | 2000-07-13 | 2004-11-09 | Shiseido Co., Ltd. | Gel composition and nail enamel |
| JP4643120B2 (ja) * | 2000-07-13 | 2011-03-02 | 株式会社資生堂 | ゲル組成物及び美爪料 |
| JP2009057324A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Kose Corp | 美爪料 |
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