JPH07218364A - Semiconductor pressure gage - Google Patents

Semiconductor pressure gage

Info

Publication number
JPH07218364A
JPH07218364A JP1161394A JP1161394A JPH07218364A JP H07218364 A JPH07218364 A JP H07218364A JP 1161394 A JP1161394 A JP 1161394A JP 1161394 A JP1161394 A JP 1161394A JP H07218364 A JPH07218364 A JP H07218364A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
semiconductor pressure
diaphragm
silicon semiconductor
detecting element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1161394A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Aga
敏夫 阿賀
Toshiyuki Sarutani
敏之 猿谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
Priority to JP1161394A priority Critical patent/JPH07218364A/en
Publication of JPH07218364A publication Critical patent/JPH07218364A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce a size and sealed substance amount, to scarcely allow influence of an environmental temperature and to improve temperature characteristics by so providing a diaphragm of an elastic material near a silicon semiconductor pressure detector as to cover the detector. CONSTITUTION:A silicon semiconductor pressure detector 62 is provided in contact with one surface of a board 61. The detector 62 forms a diaphragm, and detects a pressure by a strain detecting sensor. A diaphragm 63 made of synthetic resin having elasticity so provided near the detector 62 as to cover the detector 62, and a sealed chamber 64 is formed of the diaphragm 63, the detector 62 and the board 61. When a measuring pressure Pm is applied to the diaphragm 63, the pressure Pm is applied to the diaphragm of the detector 62 via sealed substance 65, and a differential pressure from the atmospheric pressure of an atmospheric reference chamber 69 is detected by the sensor of the detector 62. In this case, an entire apparatus is reduced by providing the diaphragm 63 near the detector 62, and temperature characteristics of the apparatus are improved by reducing an amount of the substrate 64 and scarcely allowing influence of an ambient temperature.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、小型化が図れ、温度特
性が良好な半導体圧力計に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor pressure gauge which can be miniaturized and has good temperature characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、従来より一般に使用されている
従来例の構成説明図で、例えば、実開平2―60045
号に示されている。図において、1は半導体よりなるセ
ンサチップである。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a structural explanatory view of a conventional example which has been generally used, for example, an actual flat plate 2-60045.
No. In the figure, 1 is a sensor chip made of a semiconductor.

【0003】11は、センサチップ1に設けられ、セン
サチップ1に、ダイアフラム12を形成する凹部であ
る。13はダイアフラム12に設けられた歪検出センサ
である。2はセンサチップ1に一面が固定され凹部11
と大気圧基準室21を構成する基板である。
Reference numeral 11 is a recess provided in the sensor chip 1 and forming a diaphragm 12 in the sensor chip 1. Reference numeral 13 is a strain detection sensor provided on the diaphragm 12. One side of the reference numeral 2 is fixed to the sensor chip 1
And a substrate forming the atmospheric pressure reference chamber 21.

【0004】22は、基板2を貫通し大気圧基準室21
に連通する貫通孔である。3は基板2の他面に一端が接
続され貫通孔22と連通し他端が大気に開放される大気
導通パイプである。
Reference numeral 22 denotes an atmospheric pressure reference chamber 21 penetrating the substrate 2.
Is a through hole communicating with. Reference numeral 3 is an atmosphere conducting pipe, one end of which is connected to the other surface of the substrate 2 and which communicates with the through hole 22 and whose other end is open to the atmosphere.

【0005】4は、大気導通パイプが固定されるベース
である。5は,ベース4に固定され、センサチップ1と
測定室51を構成し、接液ダイアフラム52と接液ダイ
アフラム室53を構成するボディである。54は、測定
室51と接液ダイアフラム室53とを連通する連通孔で
ある。
Reference numeral 4 is a base to which the atmosphere conducting pipe is fixed. Reference numeral 5 denotes a body which is fixed to the base 4, constitutes the sensor chip 1 and the measurement chamber 51, and constitutes the liquid contact diaphragm 52 and the liquid contact diaphragm chamber 53. Reference numeral 54 is a communication hole that connects the measurement chamber 51 and the liquid contact diaphragm chamber 53.

【0006】55は測定室51と接液ダイアフラム室5
3と連通孔54とを満たす封入液である。56はベース
4を覆うケースである。57はボディ5を覆うケースで
ある。
Reference numeral 55 designates a measurement chamber 51 and a liquid contact diaphragm chamber 5
3 is a fill liquid that fills 3 and the communication hole 54. Reference numeral 56 is a case that covers the base 4. A case 57 covers the body 5.

【0007】以上の構成において、接液ダイアフラム5
2に測定圧Pmが加わると、封入液55を介して、ダイ
アフラム12に測定圧Pmが加わり、大気圧基準室21
の大気圧との差圧が歪検出センサ13により検出され
る。
In the above structure, the liquid contact diaphragm 5
When the measurement pressure Pm is applied to 2, the measurement pressure Pm is applied to the diaphragm 12 via the filled liquid 55, and the atmospheric pressure reference chamber 21
The differential pressure with respect to the atmospheric pressure is detected by the strain detection sensor 13.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な装置において、接液ダイアフラム52はボディ5の外
表面に設けられているので、装置が大型化してしまう。
また、封入液55も多くなり、周囲温度の影響を受けや
すく、温度特性が良好でない。本発明は、この問題点
を、解決するものである。
However, in such an apparatus, since the liquid contact diaphragm 52 is provided on the outer surface of the body 5, the apparatus becomes large in size.
In addition, the amount of the enclosed liquid 55 also increases and is easily affected by the ambient temperature, and the temperature characteristics are not good. The present invention solves this problem.

【0009】本発明の目的は、小型化が図れ、温度特性
が良好な半導体圧力計を提供するにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor pressure gauge which can be miniaturized and has good temperature characteristics.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、 (1)基板と、該基板の一面に一面が接して設けられた
シリコン半導体圧力検出素子と、該基板を挟持する第1
と第2のボディとを具備する半導体圧力計において、前
記シリコン半導体圧力検出素子に近接して該シリコン半
導体圧力検出素子を覆い該シリコン半導体圧力検出素子
と前記基板と封入室を構成する弾性材料からなる隔膜
と、前記封入室に封入されたゲル状物質或いは弾性を有
する樹脂或いは液状物質よりなる封入物質と、前記基板
の前記一面側に接して設けられ該隔膜と測定室を構成す
る第1のボディと、前記基板の他面側に接して設けられ
前記基板に設けられた導圧孔を介して前記シリコン半導
体圧力検出素子と基準室を構成する第2のボディとを具
備したことを特徴とする半導体圧力計。 (2)基板と、該基板の一面に一面が接して設けられた
シリコン半導体圧力検出素子と、該基板を挟持する第1
と第2のボディとを具備する半導体圧力計において、平
板状の基板と、前記シリコン半導体圧力検出素子に近接
して該シリコン半導体圧力検出素子を覆い該シリコン半
導体圧力検出素子と前記基板と封入室を構成し弾性を有
する合成樹脂あるいはゴムからなる隔膜と、前記封入室
に封入されたゲル状物質或いは弾性を有する樹脂或いは
液状物質よりなる封入物質と、前記基板の前記一面側に
接して設けられ該隔膜と測定室を構成する第1のボディ
と、前記基板の他面側に接して設けられ前記基板に設け
られた導圧孔を介して前記シリコン半導体圧力検出素子
と基準室を構成する第2のボディとを具備したことを特
徴とする半導体圧力計。 (3)基板と、該基板の一面に一面が接して設けられた
シリコン半導体圧力検出素子と、該基板を挟持する第1
と第2のボディとを具備する半導体圧力計において、凹
部を有する基板と、前記シリコン半導体圧力検出素子に
近接し且つ該シリコン半導体圧力検出素子と該基板の凹
部開口部を覆い該シリコン半導体圧力検出素子と前記基
板と封入室を構成し弾性を有する合成樹脂あるいはゴム
からなる平板状の弾性材からなる隔膜と、前記封入室に
封入されたゲル状物質或いは弾性を有する樹脂或いは液
状物質よりなる封入物質と、前記基板の前記一面側に接
して設けられ該隔膜と測定室を構成する第1のボディ
と、前記基板の他面側に接して設けられ前記基板に設け
られた導圧孔を介して前記シリコン半導体圧力検出素子
と基準室を構成する第2のボディとを具備したことを特
徴とする半導体圧力計。を構成したものである。
In order to achieve this object, the present invention provides (1) a substrate, a silicon semiconductor pressure detecting element provided in contact with one surface of the substrate, and the substrate being sandwiched. First to do
And a second body, wherein the silicon semiconductor pressure detecting element is close to the silicon semiconductor pressure detecting element, covers the silicon semiconductor pressure detecting element, the substrate, and the elastic material forming the enclosure chamber. A diaphragm, an encapsulating material composed of a gel-like substance or an elastic resin or liquid substance enclosed in the enclosing chamber, and a first chamber that is provided in contact with the one surface side of the substrate and constitutes the measuring chamber. And a second body that is in contact with the other surface side of the substrate and that forms a reference chamber with the silicon semiconductor pressure detecting element through a pressure guide hole provided in the substrate. Semiconductor pressure gauge. (2) A substrate, a silicon semiconductor pressure detection element provided on one surface of the substrate in contact with the first surface, and a first substrate for sandwiching the substrate
And a second body, a flat plate-shaped substrate, the silicon semiconductor pressure detecting element close to the silicon semiconductor pressure detecting element, and covering the silicon semiconductor pressure detecting element, the substrate, and a sealed chamber. Is provided in contact with the one surface side of the substrate, and a diaphragm made of an elastic synthetic resin or rubber that constitutes the A first body that constitutes the diaphragm and the measurement chamber, and a second chamber that constitutes the reference chamber and the silicon semiconductor pressure detection element through a pressure guide hole provided in contact with the other surface side of the substrate and provided in the substrate. A semiconductor pressure gauge having two bodies. (3) A substrate, a silicon semiconductor pressure detecting element provided in contact with one surface of the substrate, and a first substrate for sandwiching the substrate
And a second body, the substrate having a concave portion, the silicon semiconductor pressure detecting element that is close to the silicon semiconductor pressure detecting element and covers the silicon semiconductor pressure detecting element and the concave opening of the substrate. The element, the substrate, and the encapsulation chamber, and a diaphragm made of a flat elastic material made of synthetic resin or rubber having elasticity, and an encapsulation made of a gel-like substance or an elastic resin or liquid substance enclosed in the enclosure Through a substance, a first body provided in contact with the one surface side of the substrate and forming a diaphragm and a measurement chamber, and a pressure guide hole provided in contact with the other surface side of the substrate and provided in the substrate. A semiconductor manometer comprising the silicon semiconductor pressure detecting element and a second body forming a reference chamber. Is configured.

【0011】[0011]

【作用】以上の構成において、測定圧力が加わると、測
定ダイアフラムは測定圧力によって変位する。測定ダイ
アフラムの変位によって、測定圧力に対応した電気信号
出力が得られる。以下、実施例に基づき詳細に説明す
る。
In the above structure, when the measuring pressure is applied, the measuring diaphragm is displaced by the measuring pressure. The displacement of the measuring diaphragm gives an electrical signal output corresponding to the measured pressure. Hereinafter, detailed description will be given based on examples.

【0012】[0012]

【実施例】図1は本発明の一実施例の要部構成説明図で
ある。図において、図6と同一記号の構成は同一機能を
表わす。以下、図6と相違部分のみ説明する。61は平
板状の基板で、この場合は、プリント基板が使用されて
いる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view of the essential structure of an embodiment of the present invention. In the figure, the same symbols as those in FIG. 6 represent the same functions. Only parts different from FIG. 6 will be described below. Reference numeral 61 is a flat board, and in this case, a printed board is used.

【0013】62は、基板61の一面に一面が接して設
けられたシリコン半導体圧力検出素子である。この場合
は、センサチップ1に歪検出センサ13が設けられた素
子が使用されている。63は、シリコン半導体圧力検出
素子62に近接して、シリコン半導体圧力検出素子62
を覆い、シリコン半導体圧力検出素子62と基板61と
封入室64を構成し、弾性を有する合成樹脂あるいはゴ
ムからなる隔膜である。
Reference numeral 62 is a silicon semiconductor pressure detecting element which is provided so as to be in contact with one surface of the substrate 61. In this case, the element in which the strain detection sensor 13 is provided on the sensor chip 1 is used. 63 is close to the silicon semiconductor pressure detecting element 62,
Is a diaphragm that covers the above, forms the silicon semiconductor pressure detecting element 62, the substrate 61, and the sealed chamber 64, and is made of elastic synthetic resin or rubber.

【0014】この場合は、ゴムからなり、半球状をなし
ている。隔膜63の周囲は、この場合は、基板61と共
に、後述の第1のボディ66と第2のボディ68との締
め付けにより、固定とシールとが確保される。65は、
封入室64に封入されたゲル状物質或いは弾性を有する
樹脂或いは液状物質よりなる封入物質である。
In this case, it is made of rubber and has a hemispherical shape. In this case, the periphery of the diaphragm 63 is secured together with the substrate 61 by fixing a first body 66 and a second body 68, which will be described later, to fix and seal. 65 is
It is an encapsulating substance made of a gel-like substance, a resin having elasticity, or a liquid substance enclosed in the enclosure chamber 64.

【0015】この場合は、シリコンのゲル状物質が使用
されている。66は、基板61の一面側に接して設けら
れ、隔膜63と測定室67を構成する第1のボディであ
る。68は、基板61の他面側に接して設けられ、基板
61に設けられた導圧孔611を介して、シリコン半導
体圧力検出素子62と基準室69を構成する第2のボデ
ィである。
In this case, a silicon gel-like substance is used. Reference numeral 66 is a first body that is provided in contact with one surface side of the substrate 61 and forms the diaphragm 63 and the measurement chamber 67. Reference numeral 68 is a second body that is provided in contact with the other surface side of the substrate 61 and that constitutes the silicon semiconductor pressure detection element 62 and the reference chamber 69 via the pressure guiding hole 611 provided in the substrate 61.

【0016】なお、第1のボディ66と第2のボディ6
8とは、この場合は、プラスチックが使用されている
が、金属でも良いことは勿論である。71は、第1のボ
ディ66に設けられた取付ねじ、72は第1のボディ6
6に設けられたOリングである。
The first body 66 and the second body 6
In this case, 8 is made of plastic, but of course metal may be used. 71 is a mounting screw provided on the first body 66, and 72 is the first body 6.
6 is an O-ring.

【0017】73は、基板61に取付られたプリントに
搭載された電気回路部品で構成された信号処理回路であ
る。シリコン半導体圧力検出素子62で発生した電気信
号は、細いリード線によって、基板61に送られ、基板
61上のスルーホールで信号処理回路73に伝えられ
る。信号処理回路73において、必要な信号処理がなさ
れ、測定圧Pmに比例した電気信号が出力される。
Reference numeral 73 is a signal processing circuit composed of electric circuit parts mounted on the print attached to the substrate 61. The electrical signal generated by the silicon semiconductor pressure detecting element 62 is sent to the substrate 61 by a thin lead wire and is transmitted to the signal processing circuit 73 through the through hole on the substrate 61. In the signal processing circuit 73, necessary signal processing is performed and an electric signal proportional to the measured pressure Pm is output.

【0018】以上の構成において、隔膜63に測定圧P
mが加わると、封入物質65を介して、ダイアフラム1
2に測定圧Pmが加わり、大気圧基準室21の大気圧と
の差圧が歪検出センサ13により検出される。而して、
隔膜63は第1のボディ66内にシリコン半導体圧力検
出素子に近接
In the above structure, the measuring pressure P is applied to the diaphragm 63.
When m is added, the diaphragm 1
The measurement pressure Pm is added to 2, and the differential pressure from the atmospheric pressure of the atmospheric pressure reference chamber 21 is detected by the strain detection sensor 13. Therefore,
The diaphragm 63 is located inside the first body 66 and is close to the silicon semiconductor pressure detecting element.

【0019】して設けられている。この結果、装置が小
型化できる。また、封入物質65の量も少なくでき、周
囲温度の影響を受けにくくなり、温度特性が向上でき
る。
Is provided. As a result, the device can be downsized. In addition, the amount of the encapsulating substance 65 can be reduced, the influence of the ambient temperature is reduced, and the temperature characteristics can be improved.

【0020】図2は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。本実施例においては、隔膜81をベローズで
構成したものである。隔膜81の変位量を大きく取るこ
とができる。
FIG. 2 is an explanatory view of the essential structure of another embodiment of the present invention. In this embodiment, the diaphragm 81 is made of bellows. The displacement amount of the diaphragm 81 can be made large.

【0021】図3は本発明の別の実施例の要部構成説明
図である。本実施例においては、基板91に凹部92を
設け、この凹部92にシリコン半導体圧力検出素子62
と封入物質65が設けられたものである。平板状の隔膜
93が使用でき、隔膜93の製作が容易安価にすること
が出来る半導体圧力計が得られる。
FIG. 3 is an explanatory view of the essential structure of another embodiment of the present invention. In this embodiment, a recess 92 is provided in the substrate 91, and the silicon semiconductor pressure detecting element 62 is provided in the recess 92.
And an encapsulating substance 65 is provided. A flat plate-shaped diaphragm 93 can be used, and a semiconductor pressure gauge can be obtained in which the diaphragm 93 is easy to manufacture and inexpensive.

【0022】図4は本発明の別の実施例の要部構成説明
図である。本実施例においては、基板61とセンサチッ
プ1との間にガラス基板95が設けられたものである。
この場合には、外部の振動や、熱変化等による機械的な
外乱が、このガラス基板により十分に減衰され、外乱ノ
イズ等の測定環境が悪い場合でも、S/N比が良好な信
号が得られるという特徴を有する。
FIG. 4 is an explanatory view of the essential structure of another embodiment of the present invention. In this embodiment, a glass substrate 95 is provided between the substrate 61 and the sensor chip 1.
In this case, mechanical disturbance due to external vibration or heat change is sufficiently attenuated by this glass substrate, and a signal with a good S / N ratio can be obtained even when the measurement environment such as disturbance noise is bad. It is characterized by being

【0023】図5は本発明装置の実際使用の一例を示す
図である。図において、Aは配管、Bは配管A内を流れ
る測定流体、Cは配管Aに取付ねじ71を介して取付ら
れた本発明の半導体圧力計である。
FIG. 5 is a diagram showing an example of actual use of the device of the present invention. In the figure, A is a pipe, B is a measurement fluid flowing in the pipe A, and C is a semiconductor pressure gauge of the present invention attached to the pipe A via a mounting screw 71.

【0024】なお、前述の実施例においては、封入物質
65はゲル状物質と説明したが、これに限ることはな
く、例えば、弾性を有する樹脂或いは液状物質でも良
い。要するに、測定圧力Pmが伝達出来るものであれば
よい。
Although the encapsulating substance 65 has been described as a gel-like substance in the above-mentioned embodiments, the encapsulating substance 65 is not limited to this and may be, for example, an elastic resin or a liquid substance. In short, it is sufficient that the measured pressure Pm can be transmitted.

【0025】但し、例えば、液状物質としてのシリコン
オイルに対して、ゲル状物質或いは弾性を有する樹脂と
してのシリコンは、体積膨張係数が約1/2である。一
般的に、体積膨張係数は液状物質に対して、ゲル状物質
或いは弾性を有する樹脂は小さいと考えられるので、封
入物質65が液状物質に対して、ゲル状物質或いは弾性
を有する樹脂の場合は、より温度特性が向上し得る。
However, for example, in contrast to silicone oil as a liquid substance, gel material or silicon as an elastic resin has a volume expansion coefficient of about 1/2. Generally, the volume expansion coefficient is considered to be smaller for a liquid substance than a gel-like substance or a resin having elasticity. Therefore, when the encapsulating substance 65 is a gel-like substance or a resin having elasticity for a liquid substance, Therefore, the temperature characteristics can be further improved.

【0026】なお、前述の実施例においては、隔膜63
はゴムと説明したが、これに限ることはなく、例えば、
弾性を有する樹脂或いは金属でも良い。要するに、測定
室67と封入室64とを分け、圧力Pmが伝達出来るも
のであればよい。
In the above embodiment, the diaphragm 63 is used.
Was explained as rubber, but it is not limited to this, for example,
Resin or metal having elasticity may be used. In short, the measurement chamber 67 and the enclosure chamber 64 may be separated so that the pressure Pm can be transmitted.

【0027】但し、例えば、衝撃的な測定圧に対して、
金属の隔膜63の場合、シリコン半導体圧力検出素子6
2にぶつかった場合に、シリコン半導体圧力検出素子6
2を破壊する恐れがある。これに対して、ゴムや弾性を
有する樹脂の場合は、その恐れがない。
However, for example, for shocking measurement pressure,
In the case of the metal diaphragm 63, the silicon semiconductor pressure detecting element 6
When it hits 2, the silicon semiconductor pressure detection element 6
2 may be destroyed. On the other hand, in the case of rubber or resin having elasticity, there is no such fear.

【0028】従って、ゴムや弾性を有する樹脂の場合
は、シリコン半導体圧力検出素子62により近接して隔
膜63を設けることが出来、より小型化、温度特性が向
上した半導体圧力計が得られる。
Therefore, in the case of rubber or resin having elasticity, the diaphragm 63 can be provided closer to the silicon semiconductor pressure detecting element 62, and a semiconductor pressure gauge having a smaller size and improved temperature characteristics can be obtained.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、 (1)基板と、該基板の一面に一面が接して設けられた
シリコン半導体圧力検出素子と、該基板を挟持する第1
と第2のボディとを具備する半導体圧力計において、前
記シリコン半導体圧力検出素子に近接して該シリコン半
導体圧力検出素子を覆い該シリコン半導体圧力検出素子
と前記基板と封入室を構成する弾性材料からなる隔膜
と、前記封入室に封入されたゲル状物質或いは弾性を有
する樹脂或いは液状物質よりなる封入物質と、前記基板
の前記一面側に接して設けられ該隔膜と測定室を構成す
る第1のボディと、前記基板の他面側に接して設けられ
前記基板に設けられた導圧孔を介して前記シリコン半導
体圧力検出素子と基準室を構成する第2のボディとを具
備したことを特徴とする半導体圧力計。 (2)基板と、該基板の一面に一面が接して設けられた
シリコン半導体圧力検出素子と、該基板を挟持する第1
と第2のボディとを具備する半導体圧力計において、平
板状の基板と、前記シリコン半導体圧力検出素子に近接
して該シリコン半導体圧力検出素子を覆い該シリコン半
導体圧力検出素子と前記基板と封入室を構成し弾性を有
する合成樹脂あるいはゴムからなる隔膜と、前記封入室
に封入されたゲル状物質或いは弾性を有する樹脂或いは
液状物質よりなる封入物質と、前記基板の前記一面側に
接して設けられ該隔膜と測定室を構成する第1のボディ
と、前記基板の他面側に接して設けられ前記基板に設け
られた導圧孔を介して前記シリコン半導体圧力検出素子
と基準室を構成する第2のボディとを具備したことを特
徴とする半導体圧力計。 (3)基板と、該基板の一面に一面が接して設けられた
シリコン半導体圧力検出素子と、該基板を挟持する第1
と第2のボディとを具備する半導体圧力計において、凹
部を有する基板と、前記シリコン半導体圧力検出素子に
近接し且つ該シリコン半導体圧力検出素子と該基板の凹
部開口部を覆い該シリコン半導体圧力検出素子と前記基
板と封入室を構成し弾性を有する合成樹脂あるいはゴム
からなる平板状の弾性材からなる隔膜と、前記封入室に
封入されたゲル状物質或いは弾性を有する樹脂或いは液
状物質よりなる封入物質と、前記基板の前記一面側に接
して設けられ該隔膜と測定室を構成する第1のボディ
と、前記基板の他面側に接して設けられ前記基板に設け
られた導圧孔を介して前記シリコン半導体圧力検出素子
と基準室を構成する第2のボディとを具備したことを特
徴とする半導体圧力計。を構成した。
As described above, according to the present invention, (1) a substrate, a silicon semiconductor pressure detecting element provided in contact with one surface of the substrate, and a first substrate for sandwiching the substrate
And a second body, wherein the silicon semiconductor pressure detecting element is close to the silicon semiconductor pressure detecting element, covers the silicon semiconductor pressure detecting element, the substrate, and the elastic material forming the enclosure chamber. A diaphragm, an encapsulant made of a gel-like substance or a resin or liquid substance having elasticity enclosed in the enclosure, and a first chamber which is provided in contact with the one surface side of the substrate and constitutes the measurement chamber. And a second body that is in contact with the other surface side of the substrate and that forms a reference chamber with the silicon semiconductor pressure detecting element through a pressure guide hole provided in the substrate. Semiconductor pressure gauge. (2) A substrate, a silicon semiconductor pressure detection element provided on one surface of the substrate in contact with the first surface, and a first substrate for sandwiching the substrate
And a second body, a flat plate-shaped substrate, the silicon semiconductor pressure detecting element close to the silicon semiconductor pressure detecting element, and covering the silicon semiconductor pressure detecting element, the substrate, and a sealed chamber. Is provided in contact with the one surface side of the substrate, and a diaphragm made of an elastic synthetic resin or rubber that constitutes the A first body that constitutes the diaphragm and the measurement chamber, and a second chamber that constitutes the reference chamber and the silicon semiconductor pressure detection element through a pressure guide hole provided in contact with the other surface side of the substrate and provided in the substrate. A semiconductor pressure gauge having two bodies. (3) A substrate, a silicon semiconductor pressure detecting element provided in contact with one surface of the substrate, and a first substrate for sandwiching the substrate
And a second body, the substrate having a concave portion, the silicon semiconductor pressure detecting element that is close to the silicon semiconductor pressure detecting element and covers the silicon semiconductor pressure detecting element and the concave opening of the substrate. The element, the substrate, and the encapsulation chamber, and a diaphragm made of a flat elastic material made of synthetic resin or rubber having elasticity, and an encapsulation made of a gel-like substance or an elastic resin or liquid substance enclosed in the enclosure Through a substance, a first body provided in contact with the one surface side of the substrate and forming a diaphragm and a measurement chamber, and a pressure guide hole provided in contact with the other surface side of the substrate and provided in the substrate. A semiconductor manometer comprising the silicon semiconductor pressure detecting element and a second body forming a reference chamber. Configured.

【0030】この結果、請求項1によれば、隔膜は第1
のボディ内にシリコン半導体圧力検出素子に近接して設
けられている。従って、装置が小型化できる。また、封
入物質の量も少なくでき、周囲温度の影響を受けにくく
なり、温度特性が向上できる。
As a result, according to claim 1, the diaphragm is the first
Is provided in the body of the device in proximity to the silicon semiconductor pressure detecting element. Therefore, the device can be downsized. In addition, the amount of the encapsulating substance can be reduced, the influence of the ambient temperature is reduced, and the temperature characteristics can be improved.

【0031】請求項2によれば、平板状の基板上にシリ
コン半導体圧力検出素子と封入物質と隔膜が構成された
ので基板の製作が容易で安価な半導体圧力計が得られ
る。
According to the second aspect, since the silicon semiconductor pressure detecting element, the encapsulating substance and the diaphragm are formed on the flat substrate, the substrate can be easily manufactured and the semiconductor pressure gauge can be obtained at a low cost.

【0032】請求項3によれば、基板に凹部を設け、こ
の凹部にシリコン半導体圧力検出素子と封入物質が設け
られたものである。平板状の隔膜が使用でき、隔膜の製
作が容易安価にすることが出来る半導体圧力計が得られ
る。
According to the third aspect of the present invention, the substrate is provided with a recess, and the recess is provided with the silicon semiconductor pressure detecting element and the encapsulating substance. A semiconductor pressure gauge can be obtained in which a flat diaphragm can be used and the diaphragm can be easily manufactured at low cost.

【0033】従って、本発明によれば、小型化が図れ、
温度特性が良好な半導体圧力計が得られる。
Therefore, according to the present invention, downsizing can be achieved,
A semiconductor pressure gauge having good temperature characteristics can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の要部構成説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a main part configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a main part configuration of another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の別の実施例の要部構成説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a main part configuration of another embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a main part configuration of another embodiment of the present invention.

【図5】本発明の装置の使用例の要部構成説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a main part configuration of a usage example of the device of the present invention.

【図6】従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of a configuration of a conventional example that is generally used from the past.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…センサチップ11…凹部 12…ダイアフラム 13…歪検出センサ 61…基板 62…シリコン半導体圧力検出素子 63…隔膜 64…封入室 65…封入物質 66…第1のボディ 67…測定室 68…第2のボディ 69…基準室 71…取付ねじ 72…Oリング 73…プリント板 81…隔膜 91…基板 92…凹部 93…隔膜 95…ガラス基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Sensor chip 11 ... Recess 12 ... Diaphragm 13 ... Strain detection sensor 61 ... Substrate 62 ... Silicon semiconductor pressure detection element 63 ... Diaphragm 64 ... Encapsulation chamber 65 ... Encapsulation material 66 ... First body 67 ... Measurement chamber 68 ... Second Body 69 ... Reference chamber 71 ... Mounting screw 72 ... O-ring 73 ... Printed board 81 ... Diaphragm 91 ... Substrate 92 ... Recessed portion 93 ... Diaphragm 95 ... Glass substrate

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板と、 該基板の一面に一面が接して設けられたシリコン半導体
圧力検出素子と、 該基板を挟持する第1と第2のボディとを具備する半導
体圧力計において、 前記シリコン半導体圧力検出素子に近接して該シリコン
半導体圧力検出素子を覆い該シリコン半導体圧力検出素
子と前記基板と封入室を構成する弾性材料からなる隔膜
と、 前記封入室に封入されたゲル状物質或いは弾性を有する
樹脂或いは液状物質よりなる封入物質と、 前記基板の前記一面側に接して設けられ該隔膜と測定室
を構成する第1のボディと、 前記基板の他面側に接して設けられ前記基板に設けられ
た導圧孔を介して前記シリコン半導体圧力検出素子と基
準室を構成する第2のボディとを具備したことを特徴と
する半導体圧力計。
1. A semiconductor pressure gauge comprising: a substrate; a silicon semiconductor pressure detecting element, one surface of which is in contact with one surface of the substrate; and a first and a second body for sandwiching the substrate. A diaphragm made of an elastic material that covers the silicon semiconductor pressure detecting element in close proximity to the semiconductor pressure detecting element, forms a sealing chamber with the silicon semiconductor pressure detecting element, and a gel-like substance or elasticity sealed in the sealing chamber. An encapsulating substance made of a resin or a liquid substance having: a first body provided in contact with the one surface side of the substrate to form the diaphragm and a measurement chamber; and the substrate provided in contact with the other surface side of the substrate. 2. A semiconductor pressure gauge, comprising: the silicon semiconductor pressure detecting element and a second body forming a reference chamber via a pressure guiding hole provided in.
【請求項2】基板と、 該基板の一面に一面が接して設けられたシリコン半導体
圧力検出素子と、 該基板を挟持する第1と第2のボディとを具備する半導
体圧力計において、 平板状の基板と、 前記シリコン半導体圧力検出素子に近接して該シリコン
半導体圧力検出素子を覆い該シリコン半導体圧力検出素
子と前記基板と封入室を構成し弾性を有する合成樹脂あ
るいはゴムからなる隔膜と、 前記封入室に封入されたゲル状物質或いは弾性を有する
樹脂或いは液状物質よりなる封入物質と、 前記基板の前記一面側に接して設けられ該隔膜と測定室
を構成する第1のボディと、 前記基板の他面側に接して設けられ前記基板に設けられ
た導圧孔を介して前記シリコン半導体圧力検出素子と基
準室を構成する第2のボディとを具備したことを特徴と
する半導体圧力計。
2. A semiconductor pressure gauge, comprising: a substrate; a silicon semiconductor pressure detecting element, one surface of which is in contact with one surface of the substrate; and a first and a second body for sandwiching the substrate. A substrate, a diaphragm that is close to the silicon semiconductor pressure detecting element, covers the silicon semiconductor pressure detecting element, forms a sealed chamber with the silicon semiconductor pressure detecting element, and is made of an elastic synthetic resin or rubber; An encapsulating substance made of a gel-like substance or an elastic resin or liquid substance enclosed in an enclosing chamber, a first body provided in contact with the one surface side of the substrate to form the diaphragm and a measurement chamber, the substrate And a second body forming a reference chamber via a pressure guide hole provided in contact with the other surface of the substrate and provided in the substrate. Semiconductor pressure gauge.
【請求項3】基板と、 該基板の一面に一面が接して設けられたシリコン半導体
圧力検出素子と、 該基板を挟持する第1と第2のボディとを具備する半導
体圧力計において、 凹部を有する基板と、 前記凹部に設けられ一面が前記凹部の底面に接して設け
られたシリコン半導体圧力検出素子と、 該シリコン半導体圧力検出素子に近接し且つ該シリコン
半導体圧力検出素子と該基板の凹部開口部とを覆い該シ
リコン半導体圧力検出素子と前記基板と封入室を構成し
弾性を有する合成樹脂あるいはゴムからなる平板状の弾
性材からなる隔膜と、 前記封入室に封入されたゲル状物質或いは弾性を有する
樹脂或いは液状物質よりなる封入物質と、 前記基板の前記一面側に接して設けられ該隔膜と測定室
を構成する第1のボディと、 前記基板の他面側に接して設けられ前記基板に設けられ
た導圧孔を介して前記シリコン半導体圧力検出素子と基
準室を構成する第2のボディとを具備したことを特徴と
する半導体圧力計。
3. A semiconductor pressure gauge comprising: a substrate; a silicon semiconductor pressure detecting element, one surface of which is in contact with one surface of the substrate; and a first and a second body for sandwiching the substrate. A substrate having the same, a silicon semiconductor pressure detecting element provided in the concave portion with one surface in contact with the bottom surface of the concave portion, a silicon semiconductor pressure detecting element close to the silicon semiconductor pressure detecting element, and a concave opening of the substrate A diaphragm made of a flat plate-like elastic material made of synthetic resin or rubber having elasticity to form the silicon semiconductor pressure detecting element, the substrate, and the enclosing chamber, and a gel-like substance or elasticity enclosed in the enclosing chamber. An encapsulating substance made of a resin or a liquid substance having: a first body which is provided in contact with the one surface side of the substrate to form the diaphragm and a measurement chamber; and the other surface side of the substrate. Semiconductor pressure gauge, characterized by comprising a second body constituting the silicon semiconductor pressure sensing element and the reference chamber through the pressure guide hole provided in the substrate provided in contact.
JP1161394A 1994-02-03 1994-02-03 Semiconductor pressure gage Pending JPH07218364A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1161394A JPH07218364A (en) 1994-02-03 1994-02-03 Semiconductor pressure gage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1161394A JPH07218364A (en) 1994-02-03 1994-02-03 Semiconductor pressure gage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07218364A true JPH07218364A (en) 1995-08-18

Family

ID=11782770

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1161394A Pending JPH07218364A (en) 1994-02-03 1994-02-03 Semiconductor pressure gage

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07218364A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000513447A (en) * 1996-06-28 2000-10-10 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト Pressure sensor device for mounting on the mounting surface of printed wiring board
WO2016137027A1 (en) * 2015-02-25 2016-09-01 (주)파트론 Pressure sensor package and manufacturing method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000513447A (en) * 1996-06-28 2000-10-10 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト Pressure sensor device for mounting on the mounting surface of printed wiring board
WO2016137027A1 (en) * 2015-02-25 2016-09-01 (주)파트론 Pressure sensor package and manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1149192A (en) Pressure sensor assembly
KR101332175B1 (en) Design of a wet/wet amplified differential pressure sensor based on silicon piezo resistive technology
US7024937B2 (en) Isolated pressure transducer
US5335549A (en) Semiconductor pressure sensor having double diaphragm structure
US11768122B2 (en) Liquid detection in a sensor environment and remedial action thereof
JP2003505664A (en) Sensor package having integral electrode plug member
US6313514B1 (en) Pressure sensor component
JPS62194431A (en) Pressure sensor unit
JP2504737B2 (en) Pressure sensor unit
JPH07218364A (en) Semiconductor pressure gage
US4682502A (en) Pressure sensor
JP2002286566A (en) Semiconductor pressure sensor, and regulation method thereof
JPH07260607A (en) Semiconductor pressure gauge
JPH07306103A (en) Semiconductor pressure gage
JPH04370727A (en) Manufacture of semiconductor pressure sensor
GB2148008A (en) Casing for pressure transducer
JPH04370726A (en) Semiconductor pressure sensor
JP2621636B2 (en) Manufacturing method of water pressure sensor
JPH07229804A (en) Semiconductor pressure gauge
JP2599307B2 (en) Liquidproof pressure detector
JPS62226031A (en) Pressure sensor unit
CN112897452B (en) Sensor chip, sensor and electronic device
CN215984997U (en) Medium isolation type pressure sensor
JP2695643B2 (en) Manufacturing method of pressure sensor unit
JPS6367537A (en) Semiconductor pressure sensor