JPH07216534A - 耐摩耗性皮膜及びその製造方法 - Google Patents
耐摩耗性皮膜及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH07216534A JPH07216534A JP2361894A JP2361894A JPH07216534A JP H07216534 A JPH07216534 A JP H07216534A JP 2361894 A JP2361894 A JP 2361894A JP 2361894 A JP2361894 A JP 2361894A JP H07216534 A JPH07216534 A JP H07216534A
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- JP
- Japan
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- chromium
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- chromium nitride
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 複数の金属クロム蒸発源を備えたイオンプレ
ーティング法において、個々の金属クロム蒸発源と被処
理物との間の距離を夫々異なるように選択し、窒素ガス
下でイオンプレーティングを行うことにより、金属クロ
ム及び窒化クロムとの混合物からなる複合組織である皮
膜を被処理物表面に形成する。 【効果】 耐摩耗性、密着性、柔軟性及び靭性にすぐれ
た皮膜であり、皮膜の剥離、亀裂を発生し難い。
ーティング法において、個々の金属クロム蒸発源と被処
理物との間の距離を夫々異なるように選択し、窒素ガス
下でイオンプレーティングを行うことにより、金属クロ
ム及び窒化クロムとの混合物からなる複合組織である皮
膜を被処理物表面に形成する。 【効果】 耐摩耗性、密着性、柔軟性及び靭性にすぐれ
た皮膜であり、皮膜の剥離、亀裂を発生し難い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐摩耗性、耐焼き付き
性に優れ、且つ密着性に優れた高硬度のイオンプレーテ
ィング皮膜及びその製造方法に関する。
性に優れ、且つ密着性に優れた高硬度のイオンプレーテ
ィング皮膜及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】内燃機関におけるピストンリングや圧縮
機のベーンのような摺動部材の摺動表面は高い摺動性能
が要求され、硬質クロムメッキが優れた性能を有するこ
とから、従来から用いられてきた。しかし、近年内燃機
関の高出力化や排気ガス対策、軽量化などから、これら
部材表面の受ける負荷は増大してきており、従来の硬質
クロムめっき皮膜では耐摩耗性が不足するようになり、
より過酷な条件下でも使用できる皮膜の開発が望まれて
いる。このような要望に応える発明として、実願昭５８
−２１６０４及び特願昭６２−３１６９６５号が開示さ
れている。実願昭５８−２１６０４号は、 CrN型の窒化
クロムからなる皮膜を設けたピストンリングに関するも
のであり、特願昭６２−３１６９６５号は、Cr2N型の窒
化クロムとCrN型の窒化クロムの複合組織の膜を有する
ことを特徴としたピストンリングに関するものである。
そして、これらピストンリングは、該窒化クロム膜の優
れた摺動性能により、硬質クロムめっきを施したピスト
ンリング以上の性能を得ている。
機のベーンのような摺動部材の摺動表面は高い摺動性能
が要求され、硬質クロムメッキが優れた性能を有するこ
とから、従来から用いられてきた。しかし、近年内燃機
関の高出力化や排気ガス対策、軽量化などから、これら
部材表面の受ける負荷は増大してきており、従来の硬質
クロムめっき皮膜では耐摩耗性が不足するようになり、
より過酷な条件下でも使用できる皮膜の開発が望まれて
いる。このような要望に応える発明として、実願昭５８
−２１６０４及び特願昭６２−３１６９６５号が開示さ
れている。実願昭５８−２１６０４号は、 CrN型の窒化
クロムからなる皮膜を設けたピストンリングに関するも
のであり、特願昭６２−３１６９６５号は、Cr2N型の窒
化クロムとCrN型の窒化クロムの複合組織の膜を有する
ことを特徴としたピストンリングに関するものである。
そして、これらピストンリングは、該窒化クロム膜の優
れた摺動性能により、硬質クロムめっきを施したピスト
ンリング以上の性能を得ている。
【０００３】しかしながら、該窒化クロム皮膜は所謂セ
ラミック皮膜であり非常に硬質で脆く、ベーン等の摺動
部品の耐摩耗性皮膜として用いた場合に、その使用中に
欠けや剥離を生じ易く、時には相手材を異常に摩耗させ
るという問題を生じる。
ラミック皮膜であり非常に硬質で脆く、ベーン等の摺動
部品の耐摩耗性皮膜として用いた場合に、その使用中に
欠けや剥離を生じ易く、時には相手材を異常に摩耗させ
るという問題を生じる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、窒化クロム
皮膜が有する前記のような問題点を解消し、ベーン等の
摺動部品の摺動に於いても、良好な耐摩耗性を有し、且
つ剥離や欠けを生じない皮膜とその製造方法を提供する
ことを課題としている。
皮膜が有する前記のような問題点を解消し、ベーン等の
摺動部品の摺動に於いても、良好な耐摩耗性を有し、且
つ剥離や欠けを生じない皮膜とその製造方法を提供する
ことを課題としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】上記の課題を解
決するため、本発明は摺動部材の摺動面に、例えばイオ
ンプレーティング法により耐摩耗性皮膜を形成させるに
あたり、その皮膜が金属クロム、Cr2N型窒化クロム及び
CrN型窒化クロムの混合物よりなり、かつ金属クロムが
皮膜各部に分散されている複合組織である皮膜、又は金
属クロム及び CrN型窒化クロムの混合物よりなり、かつ
金属クロムが皮膜各部に分散されている複合組織である
皮膜及びそれらの皮膜を形成するため、金属クロム蒸発
源を複数個備えたイオンプレーティング法を使用し、反
応ガス分圧及び各金属クロム蒸発源と被処理物表面との
距離を異なる様調整することにより、蒸発クロムと反応
ガスとの反応速度を制御し、目的とする耐摩耗性皮膜を
形成させる皮膜製造方法を提供するものである。反応ガ
ス分圧及び金属クロム蒸発源と被処理物表面との距離を
調整することにより皮膜各部に分散している金属クロム
Cr2N及び CrNの量を適宜調整することが可能である。
決するため、本発明は摺動部材の摺動面に、例えばイオ
ンプレーティング法により耐摩耗性皮膜を形成させるに
あたり、その皮膜が金属クロム、Cr2N型窒化クロム及び
CrN型窒化クロムの混合物よりなり、かつ金属クロムが
皮膜各部に分散されている複合組織である皮膜、又は金
属クロム及び CrN型窒化クロムの混合物よりなり、かつ
金属クロムが皮膜各部に分散されている複合組織である
皮膜及びそれらの皮膜を形成するため、金属クロム蒸発
源を複数個備えたイオンプレーティング法を使用し、反
応ガス分圧及び各金属クロム蒸発源と被処理物表面との
距離を異なる様調整することにより、蒸発クロムと反応
ガスとの反応速度を制御し、目的とする耐摩耗性皮膜を
形成させる皮膜製造方法を提供するものである。反応ガ
ス分圧及び金属クロム蒸発源と被処理物表面との距離を
調整することにより皮膜各部に分散している金属クロム
Cr2N及び CrNの量を適宜調整することが可能である。
【０００６】本発明の各皮膜は軟質の金属クロムが含ま
れているので、窒化クロムのみからなる皮膜に較べ靭性
にすぐれ、密着性及び欠け易さが改善されているので使
用時に於いても、欠けや剥離が発生しにくく、相手材を
異常摩耗させることがない。また、本発明の皮膜中の金
属クロム量は低く押さえられるので、腐食にも強く、従
ってディーゼルエンジンのピストンリング等の腐食環境
下での摩耗にも強く用いることができる。
れているので、窒化クロムのみからなる皮膜に較べ靭性
にすぐれ、密着性及び欠け易さが改善されているので使
用時に於いても、欠けや剥離が発生しにくく、相手材を
異常摩耗させることがない。また、本発明の皮膜中の金
属クロム量は低く押さえられるので、腐食にも強く、従
ってディーゼルエンジンのピストンリング等の腐食環境
下での摩耗にも強く用いることができる。
【０００７】また、本発明の該皮膜は、複数個有する各
蒸発源と被処理物の被処理表面との間の距離を異にし、
イオンプレーティングを行なうことによって得られるの
で容易にえられ、且つ再現性にすぐれる。従来のイオン
プレーティング法に於いては、イオンプレーティング時
の条件である窒素濃度を変化させることによって、金属
とその窒化物からなる複合組織の皮膜を得ている（例え
ば、特願昭５９−２０７９８６号）ので、窒化クロムの
ような２種類の窒化物が存在する金属においては、金属
クロムとCr2N型の窒化クロムからなる複合皮膜やCr2N型
の窒化クロムとCrN型の窒化クロムとからなる複合皮膜
のみしか得られなかった。本方法では、金属の複数の蒸
発源と被処理物表面との距離を変化させることにより、
同じ窒素ガス圧の条件のもとで、蒸発金属粒子の窒素分
子との反応確率を異ならせることによって、金属のまま
析出する蒸発粒子と高度に窒化した窒化物の複合組織を
得ることができる。
蒸発源と被処理物の被処理表面との間の距離を異にし、
イオンプレーティングを行なうことによって得られるの
で容易にえられ、且つ再現性にすぐれる。従来のイオン
プレーティング法に於いては、イオンプレーティング時
の条件である窒素濃度を変化させることによって、金属
とその窒化物からなる複合組織の皮膜を得ている（例え
ば、特願昭５９−２０７９８６号）ので、窒化クロムの
ような２種類の窒化物が存在する金属においては、金属
クロムとCr2N型の窒化クロムからなる複合皮膜やCr2N型
の窒化クロムとCrN型の窒化クロムとからなる複合皮膜
のみしか得られなかった。本方法では、金属の複数の蒸
発源と被処理物表面との距離を変化させることにより、
同じ窒素ガス圧の条件のもとで、蒸発金属粒子の窒素分
子との反応確率を異ならせることによって、金属のまま
析出する蒸発粒子と高度に窒化した窒化物の複合組織を
得ることができる。
【０００８】
【実施例】以下に実施例を示して具体的に本発明を説明
する。図１に本発明に用いられるイオンプレーティング
装置の一例を示す。この装置は反応ガス（窒素ガス、ア
ンモニアガス等）入口１２、排気口１３を有する真空容
器１４を備え、真空容器１４内に、アーク電源１５の陽
極に接続された第一ターゲット１６とアーク電源１７の
陽極に接続された第二ターゲット１８が配置されてい
る。第一、及び第二ターゲットには金属クロムがセット
されている。尚、第一ターゲットと第二ターゲットは被
処理物体表面よりの距離が異なって設置されている。さ
らに、真空容器１４内にはバイアス電源１９に接続され
た回転テーブル２０が配置され、回転テーブル２０上に
は、被処理物本体２１が設置されている。
する。図１に本発明に用いられるイオンプレーティング
装置の一例を示す。この装置は反応ガス（窒素ガス、ア
ンモニアガス等）入口１２、排気口１３を有する真空容
器１４を備え、真空容器１４内に、アーク電源１５の陽
極に接続された第一ターゲット１６とアーク電源１７の
陽極に接続された第二ターゲット１８が配置されてい
る。第一、及び第二ターゲットには金属クロムがセット
されている。尚、第一ターゲットと第二ターゲットは被
処理物体表面よりの距離が異なって設置されている。さ
らに、真空容器１４内にはバイアス電源１９に接続され
た回転テーブル２０が配置され、回転テーブル２０上に
は、被処理物本体２１が設置されている。
【０００９】次に、このイオンプレーティング装置を用
いて、被処理物２１に本発明皮膜を形成する方法につい
て説明する。上述のように、第一ターゲット、第二ター
ゲット及び被処理物本体２１を配置したあと、排気口１
３より排気して、真空容器１４内を3.０×１０3 torr以
下の真空状態にする。そしてターゲット１６、１８にア
ーク放電を発生させ、金属クロムを蒸発させると共に、
被処理物本体２１にバイアス電圧を約−８００Ｖ印加し
て、クロムイオンによるボンバードクリーニング及び加
熱を行なう。其の後反応ガスである窒素ガスを１２より
導入して、皮膜の形成を行なう。尚この時、被処理物２
１のバイアス電圧を−２００Ｖへと変化させる。
いて、被処理物２１に本発明皮膜を形成する方法につい
て説明する。上述のように、第一ターゲット、第二ター
ゲット及び被処理物本体２１を配置したあと、排気口１
３より排気して、真空容器１４内を3.０×１０3 torr以
下の真空状態にする。そしてターゲット１６、１８にア
ーク放電を発生させ、金属クロムを蒸発させると共に、
被処理物本体２１にバイアス電圧を約−８００Ｖ印加し
て、クロムイオンによるボンバードクリーニング及び加
熱を行なう。其の後反応ガスである窒素ガスを１２より
導入して、皮膜の形成を行なう。尚この時、被処理物２
１のバイアス電圧を−２００Ｖへと変化させる。
【００１０】この皮膜形成時において、第一ターゲット
から蒸発した金属イオン粒子は、被処理物表面との距離
が短いので、反応ガスの窒素分子と衝突する確率は低
く、従って、ガス圧と距離の選択によっては、金属のま
ま被処理物上に析出させることが可能である。また、第
二ターゲットより蒸発した金属イオン粒子は該第一ター
ゲットより被処理物表面との距離が離れているので、反
応ガスの窒素分子と衝突する確率は高く、ガス圧と距離
との選択によって、Cr2N型の窒化クロム、Cr2N型の窒化
クロムと CrN型の窒化クロムの混合物あるいは CrN型の
窒化クロムと各種の窒化クロムを析出させることができ
る。すなわち、ガス圧を選択し、第二ターゲットの距離
を、前記各種窒化クロムのできる距離に固定し、また第
一ターゲットを金属クロムが析出する距離に固定した状
態で、イオンプレーティングを行なうことにより、金属
クロムと各種の窒化クロムからなる複合組織の皮膜を作
成することができる。
から蒸発した金属イオン粒子は、被処理物表面との距離
が短いので、反応ガスの窒素分子と衝突する確率は低
く、従って、ガス圧と距離の選択によっては、金属のま
ま被処理物上に析出させることが可能である。また、第
二ターゲットより蒸発した金属イオン粒子は該第一ター
ゲットより被処理物表面との距離が離れているので、反
応ガスの窒素分子と衝突する確率は高く、ガス圧と距離
との選択によって、Cr2N型の窒化クロム、Cr2N型の窒化
クロムと CrN型の窒化クロムの混合物あるいは CrN型の
窒化クロムと各種の窒化クロムを析出させることができ
る。すなわち、ガス圧を選択し、第二ターゲットの距離
を、前記各種窒化クロムのできる距離に固定し、また第
一ターゲットを金属クロムが析出する距離に固定した状
態で、イオンプレーティングを行なうことにより、金属
クロムと各種の窒化クロムからなる複合組織の皮膜を作
成することができる。
【００１１】また、各ターゲットに流すアーク電流の比
を適宜選択することにより金属クロムと窒化クロムの複
合比を変えた複合組織の皮膜を得ることもできる。さら
に、同様に各ターゲットに流すアーク電流比を時間と共
に連続的に変化させれば、被処理物表面より皮膜表面に
連続的に金属クロムと窒化クロムの割合が変化した皮膜
所謂傾斜組成の皮膜をも得ることができる。
を適宜選択することにより金属クロムと窒化クロムの複
合比を変えた複合組織の皮膜を得ることもできる。さら
に、同様に各ターゲットに流すアーク電流比を時間と共
に連続的に変化させれば、被処理物表面より皮膜表面に
連続的に金属クロムと窒化クロムの割合が変化した皮膜
所謂傾斜組成の皮膜をも得ることができる。
【００１２】以下に具体的な実施例によりその作用、効
果を説明する。前述した方法により、母材が１７％Crか
らなる SUS材の窒化処理済みのベーン本体の摺動面（１
０Ｒの円弧状表面）及びピストンリング外周摺動面（バ
レル状表面）に、各種の組成比の金属クロムと窒化クロ
ムからなる皮膜を作成した。第一ターゲットの被処理物
表面からの距離は約５０mmであり、これは予備実験の結
果、この窒素ガス圧では金属クロムのみが析出すること
を確認してある。また第二ターゲットの被処理物表面か
らの距離は約１００mm、約１３０mm、約１６０mmの３点
とした。この距離はやはり予備実験で夫々、Cr2N型窒化
クロムのみの皮膜、Cr2N型窒化クロムと CrN型窒化クロ
ムの混合した皮膜、 CrN型窒化クロムのみからなる皮膜
が析出することを確認した距離である。皮膜の組織はＸ
線解析により、窒素濃度はＥＰＭＡで、また硬度はマイ
クロビッカース硬度計より測定した。作成条件と測定結
果とを表１及び表２に示した。
果を説明する。前述した方法により、母材が１７％Crか
らなる SUS材の窒化処理済みのベーン本体の摺動面（１
０Ｒの円弧状表面）及びピストンリング外周摺動面（バ
レル状表面）に、各種の組成比の金属クロムと窒化クロ
ムからなる皮膜を作成した。第一ターゲットの被処理物
表面からの距離は約５０mmであり、これは予備実験の結
果、この窒素ガス圧では金属クロムのみが析出すること
を確認してある。また第二ターゲットの被処理物表面か
らの距離は約１００mm、約１３０mm、約１６０mmの３点
とした。この距離はやはり予備実験で夫々、Cr2N型窒化
クロムのみの皮膜、Cr2N型窒化クロムと CrN型窒化クロ
ムの混合した皮膜、 CrN型窒化クロムのみからなる皮膜
が析出することを確認した距離である。皮膜の組織はＸ
線解析により、窒素濃度はＥＰＭＡで、また硬度はマイ
クロビッカース硬度計より測定した。作成条件と測定結
果とを表１及び表２に示した。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】尚比較例として、従来より公知である窒化
クロムのみからなる皮膜を作成し、その性質を上記と同
様に測定した。作成条件と測定結果とを表３に示した。
クロムのみからなる皮膜を作成し、その性質を上記と同
様に測定した。作成条件と測定結果とを表３に示した。
【００１６】
【表３】
【００１７】（１）摩耗実験 耐摩耗性について、科研式摩擦摩耗試験機を用い行なっ
た。前記実施例及び比較例のベーン材より試料を切り出
し、これをピンとし、相手ドラムをＦＣ２５材とし、荷
重２kg、摩擦速度0.２ m／sec 、潤滑液としてpH2.５の
硫酸水溶液を用いて行なった。試験結果を図２に示す。
同図より本皮膜は比較例１、２、３とも遜色無く、耐摩
耗性に優れていることが理解されよう。
た。前記実施例及び比較例のベーン材より試料を切り出
し、これをピンとし、相手ドラムをＦＣ２５材とし、荷
重２kg、摩擦速度0.２ m／sec 、潤滑液としてpH2.５の
硫酸水溶液を用いて行なった。試験結果を図２に示す。
同図より本皮膜は比較例１、２、３とも遜色無く、耐摩
耗性に優れていることが理解されよう。
【００１８】（２）密着性試験 皮膜の柔軟性、密着性及び欠け易さの評価をピストンリ
ングを用いて行なった。試料は実施例に記載のピストン
リングである。その外周摺動面には実施例１から６まで
の皮膜及び比較例１から３の皮膜がコーティングされて
いる。皮膜の評価は、図３に記載の様に、ピストンリン
グ合い口部を夫々９０度の方角へ移動させ、ピストンリ
ング合い口反対側に捩じりを発生させ、皮膜に欠け、剥
離又は亀裂が発生した時の、合い口部夫々の移動量を角
度で行なう。従って、数値が大きいほど、皮膜の密着
性、柔軟性、靭性が高いということができる。その結果
を表４に示す。本発明の皮膜は、金属クロムの含有され
ない比較例の窒化クロムのみからなる皮膜に較べ、密着
性、靭性に優れることが理解できよう。
ングを用いて行なった。試料は実施例に記載のピストン
リングである。その外周摺動面には実施例１から６まで
の皮膜及び比較例１から３の皮膜がコーティングされて
いる。皮膜の評価は、図３に記載の様に、ピストンリン
グ合い口部を夫々９０度の方角へ移動させ、ピストンリ
ング合い口反対側に捩じりを発生させ、皮膜に欠け、剥
離又は亀裂が発生した時の、合い口部夫々の移動量を角
度で行なう。従って、数値が大きいほど、皮膜の密着
性、柔軟性、靭性が高いということができる。その結果
を表４に示す。本発明の皮膜は、金属クロムの含有され
ない比較例の窒化クロムのみからなる皮膜に較べ、密着
性、靭性に優れることが理解できよう。
【００１９】
【表４】
【００２０】
【発明の効果】金属クロム及び窒化クロムの混合物から
なる複合組織である本願発明の耐摩耗性皮膜は、従来の
窒化クロムのみからなる耐摩耗性皮膜と比較し、同等の
耐摩耗性を示すとともに皮膜の密着性、柔軟性、靭性が
高く、皮膜の剥離、亀裂が発生し難いという利点を有し
ている。
なる複合組織である本願発明の耐摩耗性皮膜は、従来の
窒化クロムのみからなる耐摩耗性皮膜と比較し、同等の
耐摩耗性を示すとともに皮膜の密着性、柔軟性、靭性が
高く、皮膜の剥離、亀裂が発生し難いという利点を有し
ている。
【図１】本願発明に使用したイオンプレーティング装置
の１例を示した概略図である。
の１例を示した概略図である。
【図２】本願発明の実施例及び比較例による皮膜の摩耗
試験結果を示したグラフ図である。
試験結果を示したグラフ図である。
【図３】密着性試験に使用した評価法を示した図であ
る。
る。
【符号の説明】 １２ 反応ガス入口 １３ 排気口 １４ 真空容器 １５、１７ アーク電源 １６ 第一ターゲット １８ 第二ターゲット １９ バイアス電源 ２０ 回転テーブル ２１ 被処理物本体
Claims (3)
- 【請求項１】 金属クロム、Cr2N型の窒化クロム及び C
rN型の窒化クロムの混合物からなる複合組織でなること
を特徴とする耐摩耗性皮膜。 - 【請求項２】 金属クロム及び CrN型の窒化クロムの混
合物からなる複合組織でなることを特徴とする耐摩耗性
皮膜。 - 【請求項３】 複数個の蒸発源を用いるイオンプレーテ
ィング方法に於いて、被処理物と各蒸発源との間の距離
を異にすることを特徴とする請求項１又は２の耐摩耗性
皮膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2361894A JP2809984B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | ピストンリング及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2361894A JP2809984B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | ピストンリング及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14107198A Division JP3305651B2 (ja) | 1998-05-22 | 1998-05-22 | 圧縮機用ベーン及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07216534A true JPH07216534A (ja) | 1995-08-15 |
| JP2809984B2 JP2809984B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=12115603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2361894A Expired - Fee Related JP2809984B2 (ja) | 1994-01-27 | 1994-01-27 | ピストンリング及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2809984B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001068936A1 (fr) * | 2000-03-13 | 2001-09-20 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Matiere composite et son procede de production |
| US6631907B1 (en) * | 1994-12-27 | 2003-10-14 | Nippon Piston Ring Co., Ltd. | Nitride-plated piston ring for internal combustion engines |
| JP2010163694A (ja) * | 1997-11-06 | 2010-07-29 | Dowa Holdings Co Ltd | 窒素含有Ｃｒ被膜およびこの被膜を有する機械部材 |
-
1994
- 1994-01-27 JP JP2361894A patent/JP2809984B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6631907B1 (en) * | 1994-12-27 | 2003-10-14 | Nippon Piston Ring Co., Ltd. | Nitride-plated piston ring for internal combustion engines |
| JP2010163694A (ja) * | 1997-11-06 | 2010-07-29 | Dowa Holdings Co Ltd | 窒素含有Ｃｒ被膜およびこの被膜を有する機械部材 |
| WO2001068936A1 (fr) * | 2000-03-13 | 2001-09-20 | Mitsui Mining & Smelting Co.,Ltd. | Matiere composite et son procede de production |
| KR100446563B1 (ko) * | 2000-03-13 | 2004-09-04 | 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 | 복합재료의 제조방법 및 그것에 의해 얻어지는 복합재료 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2809984B2 (ja) | 1998-10-15 |
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