JPH07211999A - Package for semiconductor chip - Google Patents

Package for semiconductor chip

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Publication number
JPH07211999A
JPH07211999A JP6006721A JP672194A JPH07211999A JP H07211999 A JPH07211999 A JP H07211999A JP 6006721 A JP6006721 A JP 6006721A JP 672194 A JP672194 A JP 672194A JP H07211999 A JPH07211999 A JP H07211999A
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JP
Japan
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power supply
wiring board
semiconductor chip
ceramic wiring
layer
Prior art date
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Application number
JP6006721A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukiharu Ono
幸春 大野
Yoshimitsu Arai
芳光 新井
Satoru Yamaguchi
悟 山口
Hisashi Tomimuro
久 冨室
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH07211999A publication Critical patent/JPH07211999A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation

Abstract

PURPOSE:To provide a package for semiconductor chip composed of a laminated ceramic wiring board, laminated ceramic wiring board on which a thin film wiring layer is formed, or laminated ceramic wiring board on which a resin wiring board is formed. CONSTITUTION:In a package for semiconductor chip composed of a laminated ceramic wiring board 1 on which a resin wiring layer 2 is formed, independent feeder lines are provided at every semiconductor chip 3 and the feeder lines are led out from the rear surface of the board 1 in the shortest distance through paired via holes 7 and 8 provided vertically below the feeder lines. Therefore, the resistance values of the feeding routes can be reduced and the high-speed multi-terminal semiconductor chips can be fed with electricity without generating any power supply noise.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、積層セラミック配線
板、または薄膜配線層を形成した積層セラミック配線板
あるいは樹脂配線層を形成した積層セラミック配線板の
いずれかよりなる半導体チップ用パッケージに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor chip package comprising a laminated ceramic wiring board, a laminated ceramic wiring board having a thin film wiring layer formed thereon, or a laminated ceramic wiring board having a resin wiring layer formed thereon.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、小形で高機能な高速電子回路モジ
ュールを実現するため、例えば、高分子樹脂を層間絶縁
膜とし、その内部に複数の配線層と、多層セラミック配
線板とで構成される樹脂配線層に、1個あるいは複数の
半導体素子を搭載するシングルチップパッケージ、ある
いはマルチチップパッケージが開発されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to realize a compact and highly functional high-speed electronic circuit module, for example, a polymer resin is used as an interlayer insulating film, and a plurality of wiring layers and a multilayer ceramic wiring board are formed therein. A single-chip package or a multi-chip package in which one or a plurality of semiconductor elements are mounted on a resin wiring layer has been developed.

【0003】これらパッケージモジュールの入出力電源
端子構造について、図9に示す樹脂配線層を搭載した構
成を例に説明する。
The input / output power supply terminal structure of these package modules will be described by taking as an example the configuration in which the resin wiring layer shown in FIG. 9 is mounted.

【0004】図9に示すように、半導体チップ63表面
に配置された電源端子64(a,b,c,d)は、接続
用導電性ボール65(a,b,c,d)により樹脂配線
層62表面の電源用端子6(a,b,c,d)と接続さ
れた後、樹脂配線層62内のヴィアホール67(a,
b,c,d)に接続された後、セラミック配線板61の
表面のランド68(a,b,c,d)にヴィアホール6
7(a,b,c,d)を介して接続され、セラミック配
線板61の表面において展開用配線を経由し、セラミッ
ク配線板61内のヴィアホールV6(a,b,c,d)
に接続され、セラミック内層の電源層P61(a,b,
c,d)に接続され、セラミック配線板61内のヴィア
ホールV6(a,b,c,d)の位置まで電源層P61
(a,b,c,d)内を経由して展開されて、ヴィアホ
ールV6(a,b,c,d)を介してパッケージの電源
端子T61(a,b,c,d)と接続されている。
As shown in FIG. 9, the power supply terminals 64 (a, b, c, d) arranged on the surface of the semiconductor chip 63 are connected to the resin wiring by the conductive balls 65 (a, b, c, d) for connection. After being connected to the power supply terminals 6 (a, b, c, d) on the surface of the layer 62, the via holes 67 (a,
b, c, d), the via hole 6 is formed on the land 68 (a, b, c, d) on the surface of the ceramic wiring board 61.
7 (a, b, c, d), via the development wiring on the surface of the ceramic wiring board 61, and via holes V6 (a, b, c, d) in the ceramic wiring board 61.
Connected to the power supply layer P61 (a, b,
c, d) and the power supply layer P61 up to the position of the via hole V6 (a, b, c, d) in the ceramic wiring board 61.
It is expanded via (a, b, c, d) and connected to the power supply terminal T61 (a, b, c, d) of the package through the via hole V6 (a, b, c, d). ing.

【0005】従来、半導体チップの電源端子とパッケー
ジの電源端子との接続においては、電気的な特性は考慮
されておらず、パッケージの電源端子が配置されている
面に半導体チップの電源端子を鉛直に投影した位置から
離れた位置のパッケージの電源端子と半導体チップの電
源端子とが接続されていた。
Conventionally, in the connection between the power supply terminal of the semiconductor chip and the power supply terminal of the package, the electrical characteristics are not taken into consideration, and the power supply terminal of the semiconductor chip is vertically arranged on the surface on which the power supply terminal of the package is arranged. The power supply terminal of the package and the power supply terminal of the semiconductor chip at a position apart from the position projected on the board were connected.

【0006】また、構造を簡略化するため複数チップに
対して、同種電源をまとめて共通の電源層を介して給電
していた。例えば、半導体チップ63のチップ電源端子
64dは、接続用導電性ボール65dにより樹脂配線層
62表面の電源用端子66dと接続された後、樹脂配線
層62内のヴィアホール67dに接続された後、セラミ
ック配線板表面のランド68dにヴィアホール67dを
介して接続され、セラミック配線板61の表面において
展開用配線を経由し、セラミック配線基板61内のヴィ
アホールV60dに接続される。
Further, in order to simplify the structure, the same kind of power supplies are collectively supplied to a plurality of chips through a common power supply layer. For example, the chip power supply terminal 64d of the semiconductor chip 63 is connected to the power supply terminal 66d on the surface of the resin wiring layer 62 by the conductive balls 65d for connection, and then connected to the via hole 67d in the resin wiring layer 62, It is connected to a land 68d on the surface of the ceramic wiring board via a via hole 67d, and is connected to a via hole V60d in the ceramic wiring board 61 via a development wiring on the surface of the ceramic wiring board 61.

【0007】さらに、ヴィアホールV60dは電源層P
61d内を経由して展開されて、ヴィアホールV60d
(図面右端)を介してパッケージの電源端子T61dと
接続されている。また、電源層P61dには他の半導体
パッケージ631および632の給電用ヴィアV61d
およびV62dも接続されており、ヴィアホールV60
dを共用して電源端子T61dに接続される。この場
合、ヴィアホールV60dと電源端子T61dは複数設
けられる場合もある。
Further, the via hole V60d is a power source layer P.
The via hole V60d is deployed via 61d.
It is connected to the power supply terminal T61d of the package via (right end in the drawing). In addition, the power supply layer P61d includes vias V61d for feeding the other semiconductor packages 631 and 632.
And V62d are also connected, via hole V60
d is shared and connected to the power supply terminal T61d. In this case, a plurality of via holes V60d and power supply terminals T61d may be provided.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】前述した図9に示す従
来構造では、以下の欠点があった。
The above-mentioned conventional structure shown in FIG. 9 has the following drawbacks.

【0009】 半導体チップの電源端子からパッケー
ジの電源端子までの経路が長くなり、経路の抵抗による
電圧降下が大きく、また、半導体チップの電源端子毎に
経路の長さが異なることから、電源端子間での電位のバ
ラツキが生じて誤動作の原因となる。さらには、経路の
自己インダクタンスが大きく、同時スイッチングノイズ
が発生し、高速動作が困難となる。
Since the path from the power supply terminal of the semiconductor chip to the power supply terminal of the package is long, the voltage drop due to the resistance of the path is large, and the length of the path is different for each power supply terminal of the semiconductor chip. Potential variations occur at the and cause malfunctions. Furthermore, the self-inductance of the path is large, and simultaneous switching noise occurs, making high-speed operation difficult.

【0010】 また、電流経路を構成する往路電源用
ヴィアホールと帰路ヴィアホール、往路電源層と帰路電
源層、パッケージの往路電源端子と帰路電源端子のそれ
ぞれにおいて特に電気的特性を考慮した構造となってお
らず、信号の高速化、モジュールの大規模化に伴って電
源系のノイズ等が問題となってきている。
Further, the forward power supply via hole and the return power supply via hole forming the current path, the forward power supply layer and the return power supply layer, and the forward power supply terminal and the return power supply terminal of the package respectively have a structure in which electrical characteristics are particularly taken into consideration. However, noise in the power supply system has become a problem as the speed of signals increases and the scale of modules increases.

【0011】本発明は、上記問題に鑑み、高速な伝送特
性を有する半導体チップ用パッケージを提供することを
目的とするものである。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a semiconductor chip package having high speed transmission characteristics.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係る第1の半導体チップ用パッケージの構成は、積
層セラミック配線板よりなる半導体チップ用パッケージ
において、各半導体チップ毎に独立した給電線を設け、
該給電線を鉛直下方に設けたヴィアを経由して最短距離
で基板の裏面から引き出すことを特徴とする。
The structure of a first semiconductor chip package according to the present invention which achieves the above-mentioned object is a semiconductor chip package made of a laminated ceramic wiring board, wherein each semiconductor chip has an independent power supply line. Is provided
It is characterized in that the power supply line is pulled out from the back surface of the substrate at the shortest distance via a via provided vertically below.

【0013】上記構成の半導体チップ用パッケージにお
いて、積層セラミック配線板に、薄配線層又は樹脂配線
層を形成してなることを特徴とする。
In the semiconductor chip package having the above structure, a thin wiring layer or a resin wiring layer is formed on the laminated ceramic wiring board.

【0014】すなわち、第1の発明は、積層セラミック
配線板よりなり、1個、あるいは複数の半導体チップを
搭載するパッケージにおいて、半導体チップの電源端子
とパッケージの少なくとも1つの電源端子との間の接続
に用いる配線経路を製造できる最短距離、好ましくは鉛
直に、なるべくは展開部分の距離を小さく、基板裏面に
設けた電源端子から給電する構造を特徴としており、給
電経路の抵抗値を低減できる。その結果、高速・多端子
な半導体チップに電源ノイズを発生させることなく給電
することを可能とした点が、従来とは異なる。
That is, the first invention is a package comprising a laminated ceramic wiring board and having one or a plurality of semiconductor chips mounted therein, and the connection between the power supply terminal of the semiconductor chip and at least one power supply terminal of the package. The shortest distance that can produce the wiring path used in (1), preferably the vertical distance, preferably the distance of the developed portion is small, and the structure is such that power is supplied from the power supply terminal provided on the back surface of the substrate, and the resistance value of the power supply path can be reduced. As a result, it is different from the conventional one in that it is possible to supply power to a high-speed, multi-terminal semiconductor chip without generating power supply noise.

【0015】また本発明に係る半導体チップ用パッケー
ジの第2の構成は、積層セラミック配線板よりなる半導
体チップ用パッケージにおいて、各積層セラミック配線
板内部に設けた電流ループを構成する往路電源層と帰路
電源層とを少なくとも一対に隣接させ、且つ狭間隔に設
けたことを特徴とする。
A second structure of the semiconductor chip package according to the present invention is, in a semiconductor chip package composed of a laminated ceramic wiring board, a forward power supply layer and a return path which form a current loop provided inside each laminated ceramic wiring board. At least one pair is adjacent to the power supply layer and is provided at a narrow interval.

【0016】上記半導体チップ用パッケージにおいて、
積層セラミック配線板に、薄配線層又は樹脂配線層を形
成してなることを特徴とする。
In the above semiconductor chip package,
A thin wiring layer or a resin wiring layer is formed on a laminated ceramic wiring board.

【0017】半導体チップ用パッケージにおいて、上記
電流ループを構成する往路電源層と帰路電源層との狭間
隔が400μm以下であることを特徴とする。
In the semiconductor chip package, the narrow distance between the forward power supply layer and the return power supply layer forming the current loop is 400 μm or less.

【0018】すなわち、第2の発明は、積層セラミック
配線板よりなり、1個、あるいは複数の半導体チップを
搭載するパッケージにおいて、積層セラミック配線板内
に設けた電流ループを構成する往路電源層と帰路電源層
とを、少なくとも1対に隣接させ、かつ、それらを狭間
隔に設ける構成により、隣接電源層間の相互インダクタ
ンスが増大し、実行インダクタンスを低減できる。ま
た、狭間隔に設けた電源層は平行平板コンデンサを形成
しており、展開用配線部分のインダクタンスを容量で相
殺し、低減できる。以上の2つの効果により、高速・多
端子な半導体チップに電源ノイズを発生させることなく
給電することを可能とした点が従来とは異なる。
That is, the second aspect of the present invention is a package comprising a laminated ceramic wiring board and mounting one or a plurality of semiconductor chips, the forward power supply layer and the return path forming a current loop provided in the laminated ceramic wiring board. With the configuration in which at least one pair of power supply layers are adjacent to each other and they are provided at a narrow interval, the mutual inductance between adjacent power supply layers increases and the effective inductance can be reduced. Further, the power supply layers provided at a narrow interval form a parallel plate capacitor, and the inductance of the developing wiring portion can be canceled by the capacitance and reduced. Due to the above two effects, it is possible to supply power to a high-speed, multi-terminal semiconductor chip without generating power supply noise, which is different from the conventional case.

【0019】さらに、本発明に係る半導体チップ用パッ
ケージの第3の構成は、積層セラミック配線板よりなる
半導体チップ用パッケージにおいて、各積層セラミック
配線板及び該配線板上に形成した配線層内で電流ループ
を構成する往路電源用ヴィアと帰路電源用ヴィア、並び
に、パッケージの往路電源素子と帰路電源素子とを少な
くとも一対に隣接させ、且つ狭間隔に設けたことを特徴
とする。
Further, a third structure of the semiconductor chip package according to the present invention is a semiconductor chip package comprising a laminated ceramic wiring board, in which current is applied in each laminated ceramic wiring board and a wiring layer formed on the wiring board. At least one pair of forward path power supply vias and return path power supply vias forming the loop, and the package forward path power supply elements and return path power supply elements are adjacent to each other and are provided at a narrow interval.

【0020】上記半導体チップ用パッケージにおいて、
積層セラミック配線板に、薄配線層又は樹脂配線層を形
成してなることを特徴とする。
In the above semiconductor chip package,
A thin wiring layer or a resin wiring layer is formed on a laminated ceramic wiring board.

【0021】上記半導体チップ用パッケージにおいて、
上記積層セラミック配線板に形成してなる電流ループを
構成する往路電源用ヴィアと帰路電源用ヴィアとの狭間
隔が400μであり、且つパッケージの往路電源素子と
帰路電源素子とを少なくとも一対に隣接してなる狭間隔
が1mm以下であることを特徴とする。
In the above semiconductor chip package,
The forward power supply via and the return power supply via forming the current loop formed on the multilayer ceramic wiring board have a narrow interval of 400 μ, and at least a pair of the forward power supply element and the return power supply element of the package are adjacent to each other. It is characterized in that the narrow interval is 1 mm or less.

【0022】上記半導体チップ用パッケージにおいて、
上記積層セラミック配線板に形成してなる電流ループを
構成する往路電源用ヴィアと帰路電源用ヴィアとの狭間
隔が400μであり、且つ上記積層セラミック配線板に
形成した薄配線層又は樹脂配線層の往路ヴィアと帰路ヴ
ィアとを少なくとも一対に隣接してなる狭間隔、並び
に、パッケージの往路電源素子と帰路電源素子とを少な
くとも一対に隣接してなる狭間隔が、共に1mm以下で
あることを特徴とする。
In the above semiconductor chip package,
The narrow interval between the forward power supply via and the return power supply via forming the current loop formed on the multilayer ceramic wiring board is 400 μ, and the thin wiring layer or the resin wiring layer formed on the multilayer ceramic wiring board is formed. It is characterized in that both a narrow space in which at least a pair of outward vias and a return via are adjacent to each other and a narrow interval in which at least one forward power supply element and a return power supply element of the package are adjacent to each other are both 1 mm or less. To do.

【0023】すなわち、第3の発明は、積層セラミック
配線板、または薄膜配線層を形成した積層セラミック配
線板、あるいは樹脂配線層を形成した積層セラミック配
線板のいずれかよりなり、1個、あるいは複数の半導体
チップを搭載するパッケージにおいて、電流ループを構
成する往路電源用ヴィアと帰路電源用ヴィア、ならび
に、パッケージの往路電源端子と帰路電源端子とを、少
なくとも1対に隣接させ、かつ、それらを狭間隔に設け
たことを特徴としており、この効果により、ヴィア部分
のインダクタンスを容量で相殺し、低減できる。また、
狭間隔に設ける構成により隣接ヴィア間の相互インダク
タンスが増大し、実行インダクタンスを低減できる。そ
の結果、高速・多端子な半導体チップに電源ノイズを発
生させることなく給電することを可能とした点が、従来
とは異なる。
That is, the third invention comprises one or more of a laminated ceramic wiring board, a laminated ceramic wiring board having a thin film wiring layer formed thereon, or a laminated ceramic wiring board having a resin wiring layer formed thereon. In a package having the semiconductor chip mounted therein, at least one pair of forward power supply vias and return power supply vias forming a current loop, and the forward power supply terminal and the return power supply terminal of the package are adjacent to each other, and they are narrowed. It is characterized in that they are provided at intervals, and due to this effect, the inductance of the via portion can be canceled by the capacitance and reduced. Also,
Due to the configuration provided at a narrow interval, the mutual inductance between adjacent vias increases, and the effective inductance can be reduced. As a result, it is different from the conventional one in that it is possible to supply power to a high-speed, multi-terminal semiconductor chip without generating power supply noise.

【0024】[0024]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0025】〔マルチチップパッケージの概念図〕図1
は本発明による、チップ毎に給電する新規な構造からな
る、マルチチップパッケージの概念図を示す。
[Conceptual diagram of multi-chip package] FIG.
FIG. 3 is a conceptual diagram of a multi-chip package having a novel structure for supplying power to each chip according to the present invention.

【0026】図1(a) はマルチチップモジュールの平面
図、図1(b) はその側断面図である。同図中、1は電源
層を構成する積層セラミック配線板、2は1の上に形成
した信号配線層を形成する樹脂配線層、3は半導体チッ
プ、4はチップ給電端子と樹脂配線層表面パッドとを電
気的、機械的に接続する接続用導電性ボール、5,6は
積層セラミック配線板1内に設けた電源層の対、7,8
は積層セラミック配線板1の底面に設けた給電用端子の
対、9は封止ケースを各々図示する。なお、封止ケース
9は必要に応じて設けても設けなくてもよい。
FIG. 1A is a plan view of the multichip module, and FIG. 1B is a side sectional view thereof. In the figure, 1 is a laminated ceramic wiring board constituting a power supply layer, 2 is a resin wiring layer forming a signal wiring layer formed on 1, 3 is a semiconductor chip, 4 is a chip power supply terminal and a resin wiring layer surface pad. And conductive balls for connecting electrically and mechanically, and 5 and 6 are pairs of power supply layers provided in the laminated ceramic wiring board 1, 7 and 8.
Is a pair of power supply terminals provided on the bottom surface of the laminated ceramic wiring board 1, and 9 is a sealing case. The sealing case 9 may or may not be provided as needed.

【0027】本構造の特徴は3つあり、チップ毎に鉛
直下方に設けたヴィアを経由して、好ましくは最短経路
で給電すること。これにより、電圧降下を低減できる。
電源層を対に形成し、給電経路のインダクタンスを逓
減すること。ヴィアならびにパッケージの電源端子を
対に形成し、給電経路のインダクタンスを低減できる。
、、により、電源ノイズの影響を小さくし、高速
で大規模なマルチチップパッケージが実現可能となる。
There are three features of this structure, and power is preferably supplied by the shortest path via vias provided vertically downward for each chip. Thereby, the voltage drop can be reduced.
Forming power supply layers in pairs and gradually reducing the inductance of the power supply path. By forming the via and the power supply terminal of the package in a pair, the inductance of the power feeding path can be reduced.
By using ,, the influence of power supply noise can be reduced, and a high-speed and large-scale multi-chip package can be realized.

【0028】以下、各種の実施例について説明する。Various embodiments will be described below.

【0029】〔実施例1〕図2に本発明による、樹脂配
線層付き積層セラミック配線板用いた半導体用マルチチ
ップパッケージにチップ毎に給電する実施例1の拡大詳
細断面図を示す。図2において、21は電源層を構成す
る積層セラミック配線板、22は積層セラミック配線板
21上に形成した信号配線層を形成する樹脂配線層、2
3は半導体チップ、24(a,b,c,d)はチップ給
電端子、25(a,b,c,d)はチップ給電端子24
と樹脂配線層22表面パッドとを電気的、機械的に接続
する接続用導電性ボール、26(a,b,c,d)は樹
脂配線層22表面の電源用端子、V21,V22は積層
セラミック配線板21内に設けた電源層p21(a,
b)、p22(c,d)、及びマルチチップパッケージ
の電源端子T21(a,b)、T22(c,d)の対
を、各々図示する。なお、29はチップ信号端子であ
る。
[Embodiment 1] FIG. 2 shows an enlarged detailed sectional view of Embodiment 1 in which power is supplied to each chip in a semiconductor multi-chip package using a laminated ceramic wiring board with a resin wiring layer according to the present invention. In FIG. 2, reference numeral 21 is a laminated ceramic wiring board forming a power supply layer, 22 is a resin wiring layer forming a signal wiring layer formed on the laminated ceramic wiring board 21, and 2 is a resin wiring layer.
3 is a semiconductor chip, 24 (a, b, c, d) is a chip power supply terminal, and 25 (a, b, c, d) is a chip power supply terminal 24.
And conductive pads for electrically and mechanically connecting the surface pad with the resin wiring layer 22, 26 (a, b, c, d) are power supply terminals on the surface of the resin wiring layer 22, and V21 and V22 are laminated ceramics. A power supply layer p21 (a,
b), p22 (c, d), and a pair of power supply terminals T21 (a, b), T22 (c, d) of the multi-chip package are shown respectively. Reference numeral 29 is a chip signal terminal.

【0030】半導体チップ23表面に配置された電源端
子24(a,b,c,d)は、接続用導電性ボール25
(a,b,c,d)により樹脂配線層22表面の電源端
子26(a,b,c,d)と接続された後、少なくとも
パッケージの1つの電源端子T21(a)と接続され
る。
The power supply terminals 24 (a, b, c, d) arranged on the surface of the semiconductor chip 23 have conductive balls 25 for connection.
After being connected to the power supply terminal 26 (a, b, c, d) on the surface of the resin wiring layer 22 by (a, b, c, d), it is connected to at least one power supply terminal T21 (a) of the package.

【0031】例えば、チップ電源端子24aの給電経路
は、樹脂配線層22表面の電源用端子26aの、好まし
くは鉛直下方に最短経路となるように設けた、樹脂配線
層22内のヴィアホール27aに接続された後、セラミ
ック表面のランド28aにヴィアホール27aを介して
接続され、セラミック配線板21表面において、セラミ
ック配線板表面のランド28aの好ましくは鉛直下方に
最短経路となるように設けた、セラミック配線板内のヴ
ィアホールv21aに接続され、ヴィアホールv21a
を介してセラミック内層の電源層p21aに接続され、
積層セラミック配線板内のヴィアホールv21aの好ま
しくは鉛直下方に設けた、パッケージの電源端子T21
aと接続されている。以下、チップ電源端子24(b,
c,d)についても同様の接続経路をとる。
For example, the power supply path of the chip power supply terminal 24a is provided in a via hole 27a in the resin wiring layer 22, which is preferably provided vertically below the power supply terminal 26a on the surface of the resin wiring layer 22 so as to be the shortest path. After being connected, it is connected to the land 28a on the ceramic surface through the via hole 27a, and is provided on the surface of the ceramic wiring board 21 preferably vertically below the land 28a on the surface of the ceramic wiring board so as to have the shortest path. Connected to the via hole v21a in the wiring board, the via hole v21a
Is connected to the power supply layer p21a of the ceramic inner layer via
The power supply terminal T21 of the package, which is preferably provided vertically below the via hole v21a in the laminated ceramic wiring board.
It is connected to a. Hereinafter, the chip power supply terminal 24 (b,
Similar connection paths are taken for c and d).

【0032】また、電流ループを構成する往路電源層、
例えば、P21aと帰路電源層P21bとをそれぞれ、
隣接させ、かつ、狭間隔に設けている。好ましくは、往
路電源層と帰路電源層の間隔は、400μm以下の狭間
隔としてもよい。
Further, a forward power supply layer forming a current loop,
For example, P21a and return power supply layer P21b,
Adjacent to each other and at a narrow interval. Preferably, the distance between the forward power supply layer and the return power supply layer may be a narrow distance of 400 μm or less.

【0033】さらに、パッケージである積層セラミック
ス配線板21の往路電源端子T21aと帰路電源端子T
21b、および、セラミック配線板21内の往路ヴィア
ホールv21aと帰路ヴィアホールv21bとを隣接さ
せるだけでなく、樹脂多層配線層22内の往路ヴィアホ
ール27aと帰路ヴィアホール27bについても隣接さ
せ、かつ、狭間隔に設けている。好ましくは、往路ヴィ
アと帰路ヴィアの間隔は、1mm以下にするとよい。
Further, the forward power supply terminal T21a and the return power supply terminal T of the laminated ceramic wiring board 21 which is a package.
21b and not only the forward via hole v21a and the return via hole v21b in the ceramic wiring board 21 are adjacent to each other, but also the forward via hole 27a and the return via hole 27b in the resin multilayer wiring layer 22 are adjacent to each other, and They are provided at narrow intervals. Preferably, the distance between the outward via and the return via is set to 1 mm or less.

【0034】本構造により電源経路の相互インダクタン
スが自己インダクタンスを相殺して実効インダクタンス
が小さくなるとともに、バイパスコンデンサを形成する
ことになり、同時スイッチングノイズの低減、電源系ノ
イズの除去が図られる。
With this structure, the mutual inductance of the power supply paths cancels out the self-inductance to reduce the effective inductance, and a bypass capacitor is formed, so that simultaneous switching noise is reduced and power supply system noise is eliminated.

【0035】また、異なる種別の電源供給が必要な場合
には、例えば、セラミック基板21内の往路電源層P2
2cと復路電源層P22d、ならびに、パッケージの往
路電源端子T21cと帰路電源端子T21d、および、
セラミック配線板21内の往路ヴィアホールv21cと
帰路ヴィアホールv21dとを隣接させるだけでなく、
樹脂多層配線層22内の往路ヴィアホール27cと帰路
ヴィアホール27d、セラミック配線板21内の往路ヴ
ィアホールv21cとv21dとについても同様に隣接
させることから、電源経路の相互インダクタンスが自己
インダクタンスを相殺して実効インダクタンスが小さく
なるとともに、バイパスコンデンサを形成することにな
り、同時スイッチングノイズの低減、電源系ノイズの除
去が図られる。
When different types of power supply are required, for example, the forward power supply layer P2 in the ceramic substrate 21 is used.
2c and the return power supply layer P22d, the forward power supply terminal T21c and the return power supply terminal T21d of the package, and
Not only the forward via hole v21c and the return via hole v21d in the ceramic wiring board 21 are adjacent to each other,
The forward via hole 27c and the return via hole 27d in the resin multilayer wiring layer 22 and the forward via holes v21c and v21d in the ceramic wiring board 21 are also adjacent to each other in the same manner, so that the mutual inductance of the power supply path cancels the self-inductance. As a result, the effective inductance becomes small and a bypass capacitor is formed, so that simultaneous switching noise can be reduced and power system noise can be eliminated.

【0036】また、電源層の層数を増加して往路電源層
と帰路電源層を交互に重ねることによりさらに大きな効
果が得られる。また、電源ループを構成する電源層間を
可能な限り狭くし、他の電源層との間隔を広くすること
によって、他の電源層からのノイズを低減できる。
Further, a greater effect can be obtained by increasing the number of power supply layers and alternately stacking the forward power supply layers and the return power supply layers. Further, the noise from other power supply layers can be reduced by making the power supply layers forming the power supply loop as narrow as possible and widening the space between the power supply layers.

【0037】以上本実施例での、特徴的な構造として
は、次の3つがある。 給電経路が可能な限り最短距離となるように、セラミ
ック配線板21の裏面から給電ヴィアおよび電源層を通
じて給電する。なおこの場合、電源層は適宜、半導体チ
ップ間で接続することも、接続しないことも可能であ
る。 積層セラミック配線板21内に設けた電源層は、往路
および帰路をp21(a,b)およびp22(c,d)
で狭間隔で対に構成してある。 積層セラミック配線板21内に設けたヴィアは往路お
よび帰路をv21(a,b)およびv22(c,d)で
狭間隔で対に構成してある。さらに、マルチチップパッ
ケージの電源端子も同様に、往路および帰路をT21
(a,b)およびT22(a,b)で狭間隔で対に構成
してある。
There are the following three characteristic structures in this embodiment. Power is supplied from the back surface of the ceramic wiring board 21 through the power supply vias and the power supply layer so that the power supply path is as short as possible. In this case, the power supply layer may or may not be connected between the semiconductor chips as appropriate. The power supply layer provided in the laminated ceramic wiring board 21 has p21 (a, b) and p22 (c, d) for the forward path and the return path.
It is made up of a pair at narrow intervals. The vias provided in the laminated ceramic wiring board 21 are constituted by v21 (a, b) and v22 (c, d) in pairs at narrow intervals on the outward path and the return path. In addition, the power supply terminals of the multi-chip package are also T21 on the forward and return paths.
(A, b) and T22 (a, b) are paired at a narrow interval.

【0038】以下に、電気的特性について説明する。The electrical characteristics will be described below.

【0039】先ず、の構成とすることにより、樹脂配
線層表面の電源用端子26aから電源端子T21aに至
る給電経路は、抵抗値の総和がほぼ最小経路となる最短
経路のヴィアホールによる給電構造を実現できる。
First, by adopting the above structure, the power feeding path from the power source terminal 26a on the surface of the resin wiring layer to the power source terminal T21a has a shortest path via hole in which the sum of resistance values is almost the minimum. realizable.

【0040】次に、の構成とすることにより、電源層
間の相互インダクタンスが増大する効果により電源層間
の自己インダクタンスを減少させることができる。
With the above structure, the self-inductance between the power supply layers can be reduced due to the effect of increasing the mutual inductance between the power supply layers.

【0041】さらに、の構成とすることにより、電源
ヴィア、ならびに電源端子間の相互インダクタンスが増
大する効果により電源ヴィア間の自己インダクタンスを
減少させることができる。
Further, with the above configuration, the self-inductance between the power supply vias can be reduced due to the effect of increasing the mutual inductance between the power supply vias and the power supply terminals.

【0042】〜の結果より、配線板の部位にかかわ
ることなく給電経路がほぼ基板の厚さ程度に短縮でき、
半導体チップ表面の多数の電源端子に接続される各電源
層、電源経路のヴィアホール、電源端子等も含めた抵
抗、自己インダクタンスがほぼ最小となるだけでなく、
ほぼ均一となり、半導体の各電源端子に供給される電位
がほぼ均一で電圧降下も小さく、また、インダクタンス
に起因する同時スイッチングノイズ等の電源等ノイズを
抑制でき、電源の影響を大幅に低減できる。
From the results of ~, the power feeding path can be shortened to about the thickness of the substrate, regardless of the part of the wiring board.
Not only does each power supply layer connected to a large number of power supply terminals on the surface of the semiconductor chip, via holes in the power supply path, resistance including power supply terminals, and self-inductance become almost minimum,
The voltage is substantially uniform, the potentials supplied to the power supply terminals of the semiconductor are substantially uniform, the voltage drop is small, and noise such as simultaneous switching noise due to inductance such as power supply noise can be suppressed, and the influence of the power supply can be significantly reduced.

【0043】本実施例では、セラミック配線板21内の
電源層p21a、p21bを介して1種の電源に対して
複数個のパッケージの電源端子から給電しているが、1
個の給電端子で充分な電流が供給できる場合や電源系ノ
ズルを抑制できる場合には、1個のパッケージの電源端
子から給電しても良く、また、電源層p21(a,b)
を用いなくても良い。また、端子展開を樹脂配線層表
面、セラミック配線板表面、電源層のそれぞれで行なっ
たが、不要な場合は端子展開しなくても良い。
In this embodiment, one type of power is supplied from the power supply terminals of a plurality of packages through the power supply layers p21a and p21b in the ceramic wiring board 21.
When a sufficient current can be supplied by one power supply terminal or when the power supply system nozzle can be suppressed, power may be supplied from the power supply terminal of one package, and the power supply layer p21 (a, b)
Does not have to be used. Further, although the terminals are expanded on the surface of the resin wiring layer, the surface of the ceramic wiring board, and the power supply layer, the terminals may not be expanded if unnecessary.

【0044】尚、本実施例ではLSIチップの電源端子
と樹脂配線層表面の端子とをボールで接続しているが、
ワイヤ、TAB(Tape Automated Bonding)等により接続
しても良い。
In this embodiment, the power supply terminals of the LSI chip and the terminals on the surface of the resin wiring layer are connected by balls.
You may connect with a wire, TAB (Tape Automated Bonding), etc.

【0045】〔実施例2〕次に、図3を用いて本発明に
係る半導体チップ用パッケージの実施例2を説明する。
図3は、樹脂配線層付き積層セラミック配線板用いた半
導体用マルチチップパッケージに、チップ毎に給電する
実施例2の拡大詳細断面図を示す。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the semiconductor chip package according to the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 3 is an enlarged detailed sectional view of a second embodiment in which power is supplied to each chip in a semiconductor multi-chip package using a laminated ceramic wiring board with a resin wiring layer.

【0046】図3の基本的な構成は、前記の図2と全く
同様であるので省略するが、樹脂配線層で、配線を展開
している構造が特徴である。本図では、この樹脂配線層
での配線展開について説明する。
The basic configuration of FIG. 3 is omitted because it is completely the same as that of FIG. 2, but is characterized by a structure in which wiring is developed in a resin wiring layer. In this figure, the wiring development in this resin wiring layer will be described.

【0047】上記樹脂配線層222表面の展開用配線A
は、半導体チップ223の給電端子ピッチと樹脂配線層
内のヴィアホールピッチが異なる場合に両者を接続する
配線である。通常、半導体チップの端子ピッチは数百μ
mであり、また、樹脂配線層のヴィアピッチも数百μm
と同等であるため、両者のピッチが等しい場合は展開用
配線Aを用いずに半導体チップの電源端子24の直下に
樹脂配線層222内のヴィアホールを配置して接続する
ことが可能であり、好ましい(これについては図2に示
す実施例1で説明した。)。しかし、積層セラミック配
線板21のヴィアホールピッチは現在の製造技術では約
1mm弱程度が高密度化の限界であり、樹脂配線層22
2のヴィアピッチ数百μmに比べ大きいため、樹脂配線
層の表面に設けた展開用配線A、又は内層に設けた展開
用配線Bにより双方のヴィアホールピッチの整合をとっ
ている。
Development wiring A on the surface of the resin wiring layer 222
Is a wiring that connects the power supply terminal pitch of the semiconductor chip 223 and the via hole pitch in the resin wiring layer when the pitch is different. Normally, the semiconductor chip terminal pitch is several hundred μ
m, and the via pitch of the resin wiring layer is several hundred μm.
Therefore, if the pitches of the two are the same, it is possible to arrange the via holes in the resin wiring layer 222 directly below the power supply terminals 24 of the semiconductor chip without using the development wiring A, and to connect them. Preferred (this was described in Example 1 in FIG. 2). However, the via hole pitch of the laminated ceramic wiring board 21 is less than about 1 mm in the current manufacturing technology, which is the limit of high density.
Since the via pitch of 2 is several hundred μm, which is larger than the via pitch, both via hole pitches are matched by the development wiring A provided on the surface of the resin wiring layer or the development wiring B provided on the inner layer.

【0048】次に、電気的特性について説明する。上記
で説明した樹脂配線層表面の電源用端子から電源端子T
221aに至る給電経路は、抵抗値の総和がほぼ最小経
路となるヴィアホールによる給電構造となっている。ま
た、図2と同様に電源層p221(a,b)、および、
電源ヴィアを狭間隔に1対に構成している。このため、
配線板の部位にかかわることなく給電経路がほぼ基板の
厚さ程度に短縮でき、半導体チップ表面の多数の電源端
子に接続くされる各電源経路のヴィアホールも含めた抵
抗、自己インダクタンスがほぼ最小となるだけでなく、
ほぼ均一となり、半導体の各電源端子に供給される電位
がほぼ均一で電圧降下も小さく、また、インダクタンス
に起因する同時スイッチングノイズ等の電源系ノイズを
抑制でき、電源の影響を大幅に低減できる。
Next, the electrical characteristics will be described. From the power supply terminal on the surface of the resin wiring layer described above to the power supply terminal T
The power supply path to 221a has a via-hole power supply structure in which the total sum of resistance values is substantially the minimum path. Further, similarly to FIG. 2, the power supply layers p221 (a, b), and
The power supply vias are arranged in pairs at narrow intervals. For this reason,
The power supply path can be shortened to almost the thickness of the substrate without regard to the part of the wiring board, and the resistance and self-inductance including the via holes of each power supply path connected to many power supply terminals on the surface of the semiconductor chip are almost minimum. not only,
The voltage is substantially uniform, the potentials supplied to the power supply terminals of the semiconductor are substantially uniform, the voltage drop is small, and power system noise such as simultaneous switching noise due to the inductance can be suppressed, and the influence of the power supply can be significantly reduced.

【0049】〔実施例3〕次に、図4を用いて本発明に
係る半導体チップ用パッケージの実施例3を説明する。
図4は樹脂配線層付き積層セラミック配線板用いた半導
体マルチチップパッケージに、チップ毎に給電する実施
例3の拡大詳細断面図を示す。図4の基本的な構成は、
前記の図3と全く同様であるので省略するが、セラミッ
ク配線板表面で配線を展開している構造が特徴である。
本図では、このセラミック配線板表面での配線展開につ
いて説明する。
[Third Embodiment] Next, a third embodiment of the semiconductor chip package according to the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 4 is an enlarged detailed cross-sectional view of a third embodiment in which power is supplied to each chip in a semiconductor multichip package using a laminated ceramic wiring board with a resin wiring layer. The basic configuration of FIG.
Although the description is omitted because it is exactly the same as that in FIG. 3, the structure is characterized in that the wiring is developed on the surface of the ceramic wiring board.
In this figure, the development of wiring on the surface of this ceramic wiring board will be described.

【0050】上記セラミック配線板231表面の展開用
配線Cは、半導体チップ223の給電端子ピッチと樹脂
配線層内のヴィアホールピッチが異なる場合に、図3に
示した実施例2と同様の目的で両者を接続する配線であ
る。なお、右端のチップは実施例2で説明した樹脂配線
層での展開と併用した場合の例を示す。構成、電気的特
性については、図3に示す実施例2と同様であるので省
略する。
The development wiring C on the surface of the ceramic wiring board 231 has the same purpose as that of the second embodiment shown in FIG. 3 when the pitch of the power supply terminals of the semiconductor chip 223 and the pitch of the via holes in the resin wiring layer are different. It is a wiring that connects both. The rightmost chip shows an example in which it is used together with the development in the resin wiring layer described in the second embodiment. The structure and electrical characteristics are the same as those of the second embodiment shown in FIG.

【0051】〔実施例4〕次に、図5を用いて本発明に
係る半導体チップ用パッケージの実施例4を説明する。
図5は、樹脂配線層付き積層セラミック配線板用いた半
導体マルチチップパッケージに、チップ毎に給電する実
施例4の拡大詳細断面図を示す。図5の基本的な構成
は、前記の図2と全く同様であるので省略するが、樹脂
配線層、およびセラミック配線板内層で配線を展開して
いる構造が特徴である。本図では、このセラミック配線
板表面での配線展開について説明する。
[Fourth Embodiment] Next, a fourth embodiment of the semiconductor chip package according to the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 5 is an enlarged detailed cross-sectional view of a fourth embodiment in which power is supplied to each chip in a semiconductor multi-chip package using a laminated ceramic wiring board with a resin wiring layer. The basic configuration in FIG. 5 is omitted because it is completely the same as that in FIG. 2 described above, but is characterized by a structure in which wiring is developed in a resin wiring layer and a ceramic wiring board inner layer. In this figure, the development of wiring on the surface of this ceramic wiring board will be described.

【0052】パッケージの電源端子T241(a,
b),T242(c,d)のピッチは、通常数mmであ
り、積層セラミック配線板241のヴィアホールピッチ
に比べてさらに大きいことから、積層セラミック配線板
241内の電源層p241(a,b),p242(c,
d)内で展開用配線D、および展開用配線Eのように展
開される。構成、電気的特性については、図3に示す実
施例2と同様であるので省略する。
The power supply terminal T241 (a,
The pitch of b) and T242 (c, d) is usually several mm, which is larger than the via hole pitch of the laminated ceramic wiring board 241, so that the power supply layers p241 (a, b) in the laminated ceramic wiring board 241 are large. ), P242 (c,
In the d), the development wiring D and the development wiring E are developed. The structure and electrical characteristics are the same as those of the second embodiment shown in FIG.

【0053】〔実施例5〕次に、図6を用いて本発明に
係る半導体チップ用パッケージの実施例5を説明する。
図6は、樹脂配線層付き積層セラミック配線板用いた半
導体マルチチップパッケージに、チップ毎に給電する実
施例5の拡大詳細断面図を示す。図6の基本的な構成
は、前記の図2と全く同様であるので省略するが、各種
展開方法を組み合わせて適用した構造が特徴である。各
構造に関しては、実施例2(ストレート)、実施例3
(樹脂配線層、セラミック基板表面で展開)、実施例4
(樹脂配線層、セラミック基板内で展開)において、説
明したものを用いている。
[Fifth Embodiment] Next, a fifth embodiment of the semiconductor chip package according to the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 6 is an enlarged detailed cross-sectional view of a fifth embodiment in which power is supplied to each chip in a semiconductor multi-chip package using a laminated ceramic wiring board with a resin wiring layer. The basic structure of FIG. 6 is omitted because it is completely the same as that of FIG. 2 described above, but is characterized by a structure in which various developing methods are applied in combination. Regarding each structure, Example 2 (straight), Example 3
(Development on resin wiring layer, ceramic substrate surface), Example 4
(Expanded in resin wiring layer, ceramic substrate), the same as described above is used.

【0054】以上、樹脂配線層を形成した積層セラミッ
ク配線板よりなる半導体チップ用パッケージについて説
明したが、積層セラミック配線板、あるいは、薄膜配線
層を形成した積層セラミック配線板よりなる半導体チッ
プ用パッケージについても同様に適用できる。これらに
ついて、以下に説明する。
The semiconductor chip package made of the laminated ceramic wiring board having the resin wiring layer formed thereon has been described above. However, the semiconductor chip package made of the laminated ceramic wiring board or the laminated ceramic wiring board formed with the thin film wiring layer has been described. Can be similarly applied. These will be described below.

【0055】〔実施例6〕次に、図7を用いて本発明に
係る半導体チップ用パッケージの実施例6を説明する。
図7は、積層セラミック配線板用いた半導体用マルチチ
ップパッケージに、チップ毎に給電する実施例6の拡大
詳細断面図を示す。図7の基本的な構成は、前記の図2
と全く同様であるので省略するが、積層セラミック配線
板に対しての適用例を示す。なお、各種展開方法を組み
合わせて適用した場合の例を示す。各構造に関しては、
実施例5に準ずるので省略する。
[Sixth Embodiment] Next, a sixth embodiment of the semiconductor chip package according to the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 7 is an enlarged detailed cross-sectional view of a sixth embodiment in which power is supplied to each chip in a semiconductor multi-chip package using a laminated ceramic wiring board. The basic configuration of FIG. 7 is similar to that of FIG.
Since it is exactly the same as the above, the description thereof is omitted, but an application example to a laminated ceramic wiring board is shown. An example in which various development methods are applied in combination is shown. For each structure,
Since it is similar to the fifth embodiment, the description thereof is omitted.

【0056】〔実施例7〕次に、図8を用いて本発明に
係る半導体チップ用パッケージの実施例7を説明する。
図8は、積層セラミック配線板用いた半導体用マルチチ
ップパッケージに、チップ毎に給電する実施例7の拡大
詳細断面図を示す。図8の基本的な構成は、前記図2と
全く同様であるので省略するが、薄膜配線層を形成した
積層セラミック配線板に対しての適用例を示す。なお、
各種展開方法を組み合わせて適用した場合の例を示す。
各構造に関しては、実施例1に準ずるので省略する。
[Seventh Embodiment] Next, a seventh embodiment of the semiconductor chip package according to the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 8 shows an enlarged detailed cross-sectional view of a seventh embodiment in which power is supplied to each chip in a semiconductor multi-chip package using a laminated ceramic wiring board. The basic configuration of FIG. 8 is the same as that of FIG. 2 and is omitted here, but an example of application to a laminated ceramic wiring board having a thin film wiring layer is shown. In addition,
An example is shown in which various development methods are applied in combination.
Since each structure is similar to that of the first embodiment, the description thereof will be omitted.

【0057】[0057]

【発明の効果】積層セラミック配線板等を用いた半導体
チップ用パッケージにおいて、半導体チップの各電源端
子に給電する経路の少なくとも1つの給電経路は、搭載
した半導体チップの電源端子の鉛直投影面、あるいは、
その直近のセラミック配線板裏面に設けた給電端子か
ら、セラミック配線板の内層に設けられた給電ヴィア、
および必要に応じ、配線板内に設けた電源層を介して、
各々の半導体チップにほぼ最短距離で給電する構造とす
ることにより、配線板の部位にかかわることなく給電経
路が基板の厚さ程度に短縮できる。
In a semiconductor chip package using a laminated ceramic wiring board or the like, at least one power feeding path for feeding power to each power supply terminal of the semiconductor chip is a vertical projection surface of the power supply terminal of the mounted semiconductor chip, or ,
From the power supply terminal provided on the back surface of the ceramic wiring board in the immediate vicinity, to the power supply via provided on the inner layer of the ceramic wiring board,
And, if necessary, via the power layer provided in the wiring board,
By adopting a structure in which power is supplied to each semiconductor chip at almost the shortest distance, the power supply path can be shortened to about the thickness of the substrate regardless of the part of the wiring board.

【0058】さらに、電源層、ならびに電源ヴィアの往
路および岐路を1対に隣接させ、かつ、挾間隔に配置し
たことにより、電源層間に発生する実行インダクタンス
を大幅に低減できるだけでなく、両者の容量性結合によ
り高周波ノイズを低減できる。したがって、電源ノイズ
の影響を大幅に低減できる。
Further, by arranging the power supply layer and the outward and branch paths of the power supply via adjacent to each other in a pair and arranged at intervals, it is possible not only to significantly reduce the execution inductance generated between the power supply layers but also to reduce the capacitance of both. High frequency noise can be reduced by sexual coupling. Therefore, the influence of power supply noise can be significantly reduced.

【0059】この結果、高速・高周波で信号歪みが小さ
くできることから、大形基板の使用および多端子化が可
能になり、大規模、高速半導体チップ用パッケージが実
現できる。
As a result, since signal distortion can be reduced at high speed and high frequency, it is possible to use a large substrate and increase the number of terminals, and it is possible to realize a large-scale, high-speed semiconductor chip package.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のチップ毎に給電する新規な構造からな
るマルチチップモジュールの概念図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram of a multi-chip module having a novel structure for supplying power to each chip of the present invention.

【図2】本発明のチップ毎に給電する実施例1:樹脂配
線層付きストレートヴィア給電する構造の拡大詳細側断
面図である。
FIG. 2 is an enlarged detailed side sectional view of a structure for supplying power to each chip of the present invention in a straight via power supply with a resin wiring layer.

【図3】本発明のチップ毎に給電する実施例2:樹脂配
線層付き樹脂配線層で展開して給電する構造の拡大詳細
側断面図である。
FIG. 3 is an enlarged detailed side cross-sectional view of a structure in which power is supplied to each chip of the present invention: a structure for developing and supplying power with a resin wiring layer with a resin wiring layer.

【図4】本発明のチップ毎に給電する実施例3:樹脂配
線層付きセラミック配線板表面で展開して給電する構造
の拡大側断面図である。
FIG. 4 is an enlarged side cross-sectional view of a third embodiment of supplying power to each chip of the present invention: a structure for developing and supplying power on the surface of a ceramic wiring board with a resin wiring layer.

【図5】本発明のチップ毎に給電する実施例4:樹脂配
線層付き樹脂配線層、セラミック配線板内層で展開して
給電する構造の拡大詳細側断面図である。
FIG. 5 is an enlarged detailed side cross-sectional view of a structure in which power is supplied to each chip of the present invention: a structure is developed in which a resin wiring layer with a resin wiring layer and a ceramic wiring board inner layer are used to supply power.

【図6】本発明のチップ毎に給電する実施例5:樹脂配
線層付き各種展開方法を組み合わせて給電する構造の拡
大詳細側断面図である。
FIG. 6 is an enlarged detailed side sectional view of a structure for supplying power by combining various development methods with a resin wiring layer according to a fifth embodiment of supplying power to each chip of the present invention.

【図7】本発明のチップ毎に給電する実施例6:セラミ
ック配線板に給電する構造の拡大詳細側断面図である。
FIG. 7 is an enlarged detailed side sectional view of a structure for supplying power to a ceramic wiring board according to a sixth embodiment of the present invention.

【図8】本発明のチップ毎に給電する実施例7:薄膜配
線層付きセラミック配線板に給電する構造の拡大詳細側
断面図である。
FIG. 8 is an enlarged detailed side sectional view of a structure for supplying power to each chip of the present invention: a structure for supplying power to a ceramic wiring board with a thin film wiring layer.

【図9】従来技術である、複数チップに対して同種電源
をまとめて給電する樹脂配線層付き構造の拡大詳細側断
面図である。
FIG. 9 is an enlarged detailed side sectional view of a structure with a resin wiring layer, which is a conventional technique and collectively supplies power of the same type to a plurality of chips.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,21 積層セラミック配線板 2,22 樹脂配線層 3,3 半導体チップ 4 チップ給電端子に接続する導電性ボール 5,6 電源層の対 7,8 ヴィアの対 9 封止ケース 1,21 Multilayer ceramic wiring board 2,22 Resin wiring layer 3,3 Semiconductor chip 4 Chip conductive balls connected to chip power supply terminals 5,6 Power supply layer pair 7,8 Via pair 9 Encapsulation case

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 冨室 久 東京都千代田区内幸町一丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hisashi Tomomi 1-1-6 Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo Nihon Telegraph and Telephone Corporation

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 積層セラミック配線板よりなる半導体チ
ップ用パッケージにおいて、 各半導体チップ毎に独立した給電線を設け、該給電線を
鉛直下方に設けたヴィアを経由して最短距離で基板の裏
面から引き出してなることを特徴とする半導体チップ用
パッケージ。
1. In a semiconductor chip package comprising a laminated ceramic wiring board, an independent power supply line is provided for each semiconductor chip, and the power supply line is provided at the shortest distance from the back surface of the substrate via a via provided vertically downward. A semiconductor chip package characterized by being pulled out.
【請求項2】 請求項1記載の半導体チップ用パッケー
ジにおいて、 積層セラミック配線板に、薄配線層又は樹脂配線層を形
成してなることを特徴とする半導体チップ用パッケー
ジ。
2. The semiconductor chip package according to claim 1, wherein a thin wiring layer or a resin wiring layer is formed on the laminated ceramic wiring board.
【請求項3】 積層セラミック配線板よりなる半導体チ
ップ用パッケージにおいて、 各積層セラミック配線板内部に設けた電流ループを構成
する往路電源層と帰路電源層とを少なくとも一対に隣接
させ、且つ狭間隔に設けたことを特徴とする半導体チッ
プ用パッケージ。
3. A semiconductor chip package made of a laminated ceramic wiring board, wherein at least a pair of a forward power supply layer and a return power supply layer forming a current loop provided inside each laminated ceramic wiring board are adjacent to each other and at a narrow interval. A semiconductor chip package characterized by being provided.
【請求項4】 請求項3記載の半導体チップ用パッケー
ジにおいて、 積層セラミック配線板に、薄配線層又は樹脂配線層を形
成してなることを特徴とする半導体チップ用パッケー
ジ。
4. The semiconductor chip package according to claim 3, wherein a thin wiring layer or a resin wiring layer is formed on the laminated ceramic wiring board.
【請求項5】 請求項3記載の半導体チップ用パッケー
ジにおいて、 上記電流ループを構成する往路電源層と帰路電源層との
狭間隔が400μm以下であることを特徴とする半導体
チップ用パッケージ。
5. The semiconductor chip package according to claim 3, wherein a narrow gap between the forward power supply layer and the return power supply layer forming the current loop is 400 μm or less.
【請求項6】 積層セラミック配線板よりなる半導体チ
ップ用パッケージにおいて、 各積層セラミック配線板及び該配線板上に形成した配線
層内で電流ループを構成する往路電源用ヴィアと帰路電
源用ヴィア、並びに、パッケージの往路電源素子と帰路
電源素子とを少なくとも一対に隣接させ、且つ狭間隔に
設けたことを特徴とする半導体チップ用パッケージ。
6. A semiconductor chip package comprising a laminated ceramic wiring board, wherein a forward power supply via and a return power supply via forming a current loop in each laminated ceramic wiring board and a wiring layer formed on the wiring board, and A package for a semiconductor chip, characterized in that at least a pair of a forward power supply element and a return power supply element of the package are adjacently provided at a narrow interval.
【請求項7】 請求項6記載の半導体チップ用パッケー
ジにおいて、 積層セラミック配線板に、薄配線層又は樹脂配線層を形
成してなることを特徴とする半導体チップ用パッケー
ジ。
7. The semiconductor chip package according to claim 6, wherein a thin wiring layer or a resin wiring layer is formed on the laminated ceramic wiring board.
【請求項8】 請求項6記載の半導体チップ用パッケー
ジにおいて、 上記積層セラミック配線板に形成してなる電流ループを
構成する往路電源用ヴィアと帰路電源用ヴィアとの狭間
隔が400μであり、且つパッケージの往路電源素子と
帰路電源素子とを少なくとも一対に隣接してなる狭間隔
が1mm以下であることを特徴とする半導体チップ用パ
ッケージ。
8. The semiconductor chip package according to claim 6, wherein the distance between the forward power supply via and the return power supply via forming the current loop formed on the multilayer ceramic wiring board is 400 μm, and A package for a semiconductor chip, characterized in that at least a pair of a forward power supply element and a return power supply element of the package are adjacent to each other and a narrow interval is 1 mm or less.
【請求項9】 請求項7記載の半導体チップ用パッケー
ジにおいて、 上記積層セラミック配線板に形成してなる電流ループを
構成する往路電源用ヴィアと帰路電源用ヴィアとの狭間
隔が400μであり、 且つ上記積層セラミック配線板に形成した薄配線層又は
樹脂配線層の往路ヴィアと帰路ヴィアとを少なくとも一
対に隣接してなる狭間隔、並びに、パッケージの往路電
源素子と帰路電源素子とを少なくとも一対に隣接してな
る狭間隔が、共に1mm以下であることを特徴とする半
導体チップ用パッケージ。
9. The semiconductor chip package according to claim 7, wherein a narrow gap between the forward power supply via and the return power supply via forming a current loop formed on the multilayer ceramic wiring board is 400 μm, and A narrow space formed by adjoining at least a pair of forward vias and return vias of a thin wiring layer or a resin wiring layer formed on the multilayer ceramic wiring board, and adjoining at least a pair of forward power supply elements and return power supply elements of the package. The semiconductor chip package is characterized in that the narrow intervals thus formed are both 1 mm or less.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09283875A (en) * 1996-04-19 1997-10-31 Nec Corp Printed wiring substrate for mcm
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