JPH07211530A - 磁 心 - Google Patents
磁 心Info
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- JPH07211530A JPH07211530A JP6014020A JP1402094A JPH07211530A JP H07211530 A JPH07211530 A JP H07211530A JP 6014020 A JP6014020 A JP 6014020A JP 1402094 A JP1402094 A JP 1402094A JP H07211530 A JPH07211530 A JP H07211530A
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- magnetic core
- polymer film
- thin
- alloy ribbon
- magnetic
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15383—Applying coatings thereon
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄くても絶縁耐圧の高いコーティング層を有
する小型、薄型磁心の提供。 【構成】 平均粒径５００オングストローム以下のｂｃ
ｃ−Ｆｅ固溶体結晶粒が組織の５０％以上を占める軟磁
性合金薄帯を巻回してなるトロイダル磁心基体と、その
外周面を被覆するパラキシリレン重合膜またはクロロパ
ラキシリレン重合膜とからなる磁心。
する小型、薄型磁心の提供。 【構成】 平均粒径５００オングストローム以下のｂｃ
ｃ−Ｆｅ固溶体結晶粒が組織の５０％以上を占める軟磁
性合金薄帯を巻回してなるトロイダル磁心基体と、その
外周面を被覆するパラキシリレン重合膜またはクロロパ
ラキシリレン重合膜とからなる磁心。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はインターフェース用等の
パルストランスあるいはノイズフィルタ用チョーク等に
使用される小型、薄型の磁心に関するものである。
パルストランスあるいはノイズフィルタ用チョーク等に
使用される小型、薄型の磁心に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、表面実装技術の進歩により電子機
器の小型化、薄型化、高機能化が急速に進展している。
これに伴いコイル部品にも小型、薄型で高性能な表面実
装品が強く求められている。例えばＩＳＤＮのインター
フェース用パルストランスには、小型、薄型で高周波伝
送特性に優れることが要求される。すなわち、インダク
タンスが大きい、巻線間容量が小さい、入出力巻線間の
結合が高い等が要求される。また、過酷な使用環境に耐
えられるだけの十分な温度特性も必要とされる。
器の小型化、薄型化、高機能化が急速に進展している。
これに伴いコイル部品にも小型、薄型で高性能な表面実
装品が強く求められている。例えばＩＳＤＮのインター
フェース用パルストランスには、小型、薄型で高周波伝
送特性に優れることが要求される。すなわち、インダク
タンスが大きい、巻線間容量が小さい、入出力巻線間の
結合が高い等が要求される。また、過酷な使用環境に耐
えられるだけの十分な温度特性も必要とされる。
【０００３】現在、この用途には主にフェライトが使用
され、高さ3mm程度の小型、薄型パルストランスが実用
化されている。しかし、フェライトの透磁率は高々1000
0程度と小さいため、パルストランスに用いた場合、所
定のインダクタンスを得るために巻線数が多くなり巻線
間容量が増大し、十分な伝送特性が得られないばかりで
なく、透磁率の温度特性が悪いため伝送特性が不安定と
なりやすいことや、小型、薄型で高透磁率のフェライト
を製造することが困難である等の問題があった。
され、高さ3mm程度の小型、薄型パルストランスが実用
化されている。しかし、フェライトの透磁率は高々1000
0程度と小さいため、パルストランスに用いた場合、所
定のインダクタンスを得るために巻線数が多くなり巻線
間容量が増大し、十分な伝送特性が得られないばかりで
なく、透磁率の温度特性が悪いため伝送特性が不安定と
なりやすいことや、小型、薄型で高透磁率のフェライト
を製造することが困難である等の問題があった。
【０００４】近年、超微結晶軟磁性合金等に代表される
液体急冷法により作製される磁性合金薄帯を用いたトロ
イダル磁心が注目され、各種インダクタンス素子として
使用されている。
液体急冷法により作製される磁性合金薄帯を用いたトロ
イダル磁心が注目され、各種インダクタンス素子として
使用されている。
【０００５】特開平２−２９５１０１号にはフェライト
に比べ透磁率の高い超微結晶軟磁性合金を用いた、ＩＳ
ＤＮのインターフェース変成器用磁心が開示されてい
る。ここでは、液体急冷法により製造された幅６ｍｍの
超微結晶軟磁性合金薄帯を外径１４ｍｍ、内径７ｍｍ、
高さ６ｍｍに巻回した、伝送特性に優れる磁心が開示さ
れている。しかし、磁心のインダクタンスおよび薄型化
の点で不十分である。特に薄型化に関しては、高さ１〜
２ｍｍ程度の要求がなされている。
に比べ透磁率の高い超微結晶軟磁性合金を用いた、ＩＳ
ＤＮのインターフェース変成器用磁心が開示されてい
る。ここでは、液体急冷法により製造された幅６ｍｍの
超微結晶軟磁性合金薄帯を外径１４ｍｍ、内径７ｍｍ、
高さ６ｍｍに巻回した、伝送特性に優れる磁心が開示さ
れている。しかし、磁心のインダクタンスおよび薄型化
の点で不十分である。特に薄型化に関しては、高さ１〜
２ｍｍ程度の要求がなされている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】一般に、金属磁性合金
薄帯から構成されたトロイダル磁心を用いたコイル部品
では磁心と巻線間を電気的に絶縁する必要があり、ＩＳ
ＤＮのインターフェースパルストランス用磁心の場合、
最もきびしいヨーロッパにおける規格では４ｋＶ以上の
絶縁耐圧が要求されている。磁心と巻線間を電気的に絶
縁するためには、磁心を樹脂製のケースに収納し巻線を
施したケース品と、磁心外表面をコーティングし、巻線
を施したコーティング品が知られている。しかしなが
ら、ケース品の場合、０．２ｍｍ以下の薄肉形状のコア
ケースを作製することは事実上困難であり、機械的強度
も劣るため取扱いが難しい問題がある。一方、従来コー
ティング品としては専らエポキシ樹脂をコーティング材
として用いていたが、薄肉でピンホールのない均一なコ
ーティング膜を形成することが極めて困難であること、
また薄肉にした場合、磁心エッヂ部の肉厚が不均一で、
十分な絶縁耐圧が得られないこと等のため、高さ１〜２
ｍｍの薄型磁心に適用することはできない。
薄帯から構成されたトロイダル磁心を用いたコイル部品
では磁心と巻線間を電気的に絶縁する必要があり、ＩＳ
ＤＮのインターフェースパルストランス用磁心の場合、
最もきびしいヨーロッパにおける規格では４ｋＶ以上の
絶縁耐圧が要求されている。磁心と巻線間を電気的に絶
縁するためには、磁心を樹脂製のケースに収納し巻線を
施したケース品と、磁心外表面をコーティングし、巻線
を施したコーティング品が知られている。しかしなが
ら、ケース品の場合、０．２ｍｍ以下の薄肉形状のコア
ケースを作製することは事実上困難であり、機械的強度
も劣るため取扱いが難しい問題がある。一方、従来コー
ティング品としては専らエポキシ樹脂をコーティング材
として用いていたが、薄肉でピンホールのない均一なコ
ーティング膜を形成することが極めて困難であること、
また薄肉にした場合、磁心エッヂ部の肉厚が不均一で、
十分な絶縁耐圧が得られないこと等のため、高さ１〜２
ｍｍの薄型磁心に適用することはできない。
【０００７】そこで本発明は、薄くても絶縁耐圧の高い
コーティング層を有する小型、薄型磁心の提供を課題と
する。
コーティング層を有する小型、薄型磁心の提供を課題と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は前記課題を解
決するために種々のコーティング材について検討を行っ
た結果、パラキシリレン重合膜またはクロロパラキシリ
レン重合膜は、従来用いられていたエポキシ樹脂よりも
薄い膜厚であっても高い絶縁耐圧が得られることを見い
だした。すなわち本発明磁心は、平均粒径５００オング
ストローム以下のｂｃｃ−Ｆｅ固溶体結晶粒が組織の５
０％以上を占める軟磁性合金薄帯を巻回してなるトロイ
ダル磁心基体と、その外表面を被覆するパラキシリレン
重合膜またはクロロパラキシリレン重合膜とからなるこ
とを特徴とする。
決するために種々のコーティング材について検討を行っ
た結果、パラキシリレン重合膜またはクロロパラキシリ
レン重合膜は、従来用いられていたエポキシ樹脂よりも
薄い膜厚であっても高い絶縁耐圧が得られることを見い
だした。すなわち本発明磁心は、平均粒径５００オング
ストローム以下のｂｃｃ−Ｆｅ固溶体結晶粒が組織の５
０％以上を占める軟磁性合金薄帯を巻回してなるトロイ
ダル磁心基体と、その外表面を被覆するパラキシリレン
重合膜またはクロロパラキシリレン重合膜とからなるこ
とを特徴とする。
【０００９】以下本発明を詳述する。本発明に用るパラ
キシリレン重合膜またはクロロパラキシリレン重合膜と
は、例えば米国ユニオン・カーバイド社製の熱可塑性樹
脂パリレン（商標名）があり、より具体的にはパリレン
Ｎ（ポリパラキシリレン）、パリレンＣ（ポリモノクロ
ロパラキシリレン）、パリレンＤ（ポリジクロロパラキ
シリレン）の３種がある。以上のパリレン皮膜は、米国
ユニオン・カーバイド社製のパリレン蒸着装置を用い真
空蒸着により形成することができる。パラキシリレン重
合膜またはクロロパラキシリレン重合膜は、数μｍの膜
厚で４ｋＶ以上の絶縁耐圧を有する。しかも、膜中にピ
ンホールが発生することは極めてまれであり、本来有す
る絶縁耐圧を十分に保証することができる。
キシリレン重合膜またはクロロパラキシリレン重合膜と
は、例えば米国ユニオン・カーバイド社製の熱可塑性樹
脂パリレン（商標名）があり、より具体的にはパリレン
Ｎ（ポリパラキシリレン）、パリレンＣ（ポリモノクロ
ロパラキシリレン）、パリレンＤ（ポリジクロロパラキ
シリレン）の３種がある。以上のパリレン皮膜は、米国
ユニオン・カーバイド社製のパリレン蒸着装置を用い真
空蒸着により形成することができる。パラキシリレン重
合膜またはクロロパラキシリレン重合膜は、数μｍの膜
厚で４ｋＶ以上の絶縁耐圧を有する。しかも、膜中にピ
ンホールが発生することは極めてまれであり、本来有す
る絶縁耐圧を十分に保証することができる。
【００１０】磁心の外表面のコーティング肉厚は５〜５
０μｍの範囲が望ましい。５μｍ未満では磁心エッヂ部
のコーティング肉厚が不均一になるおそれがあり、５０
μｍで要求される絶縁耐圧は十分に満足できるからであ
る。特に１０〜２０μmにすることで超薄型、高インダ
クタンスで絶縁耐圧に優れる磁心が得られる。
０μｍの範囲が望ましい。５μｍ未満では磁心エッヂ部
のコーティング肉厚が不均一になるおそれがあり、５０
μｍで要求される絶縁耐圧は十分に満足できるからであ
る。特に１０〜２０μmにすることで超薄型、高インダ
クタンスで絶縁耐圧に優れる磁心が得られる。
【００１１】本発明磁心の磁心基体を構成する軟磁性合
金としては、例えば、本発明者等が先に提案した特開昭
６３−３０２５０４号、特開昭６４−３９３４７号、特
開平１−１４２０４９号、特開平１−１４９９４０号、
特開平１−１５６４５２号、特開平１−２４２７５５
号、特開平１−２４２７５６号等に開示される合金が適
用できる。具体的には、 （Ｆｅ1-aＭa）100-x1-x2-x3-x4-x5-x6Ａx1Ｓｉx2Ｂx3
Ｍ’x4Ｍ”x5Ｘx6（at%） 但し、Ｍ：ＣｏおよびＮｉの１種または２種 Ａ：ＣｕおよびＡｕの１種または２種 Ｍ’：Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｗの
１種または２種以上 Ｍ”：Ｃｒ，Ｍｎ，Ａｌ，白金族元素，Ｓｃ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｒｅの１種または２種以上 Ｘ：Ｃ，Ｇｅ，Ｐ，Ｇａの１種または２種以上 ０≦ａ≦０．５，０．１≦ｘ１≦１０，０≦ｘ２≦３
０，０≦ｘ３≦３０ ０．１≦ｘ４≦３０，０≦ｘ５≦２０，０≦Ｘ６≦２
０，０≦ｘ２＋ｘ３≦３０ で表される組成を有し、平均粒径５００オングストロー
ム以下のｂｃｃ−Ｆｅ固溶体結晶粒が組織の５０％以上
を占める合金である。この合金のうち、パルストランス
あるいはノイズフィルタ用磁心には、特に０≦ａ≦０．
５，０．２≦ｘ２≦３，１０≦ｘ２≦２０，５≦ｘ３≦
２０，０．５≦ｘ４≦１０，０≦ｘ５≦１０，０≦Ｘ６
≦１０，１０≦ｘ２＋ｘ３≦３０の組成の合金が望まし
い。
金としては、例えば、本発明者等が先に提案した特開昭
６３−３０２５０４号、特開昭６４−３９３４７号、特
開平１−１４２０４９号、特開平１−１４９９４０号、
特開平１−１５６４５２号、特開平１−２４２７５５
号、特開平１−２４２７５６号等に開示される合金が適
用できる。具体的には、 （Ｆｅ1-aＭa）100-x1-x2-x3-x4-x5-x6Ａx1Ｓｉx2Ｂx3
Ｍ’x4Ｍ”x5Ｘx6（at%） 但し、Ｍ：ＣｏおよびＮｉの１種または２種 Ａ：ＣｕおよびＡｕの１種または２種 Ｍ’：Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｗの
１種または２種以上 Ｍ”：Ｃｒ，Ｍｎ，Ａｌ，白金族元素，Ｓｃ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｒｅの１種または２種以上 Ｘ：Ｃ，Ｇｅ，Ｐ，Ｇａの１種または２種以上 ０≦ａ≦０．５，０．１≦ｘ１≦１０，０≦ｘ２≦３
０，０≦ｘ３≦３０ ０．１≦ｘ４≦３０，０≦ｘ５≦２０，０≦Ｘ６≦２
０，０≦ｘ２＋ｘ３≦３０ で表される組成を有し、平均粒径５００オングストロー
ム以下のｂｃｃ−Ｆｅ固溶体結晶粒が組織の５０％以上
を占める合金である。この合金のうち、パルストランス
あるいはノイズフィルタ用磁心には、特に０≦ａ≦０．
５，０．２≦ｘ２≦３，１０≦ｘ２≦２０，５≦ｘ３≦
２０，０．５≦ｘ４≦１０，０≦ｘ５≦１０，０≦Ｘ６
≦１０，１０≦ｘ２＋ｘ３≦３０の組成の合金が望まし
い。
【００１２】トロイダル磁心に使用される磁性合金薄帯
の幅は、磁心の薄型化のためには３ｍｍ以下が望ましい
が、幅が０．５ｍｍ未満の薄帯を製造することは実用上
困難であるため、０．５〜３ｍｍの範囲が好ましい。特
に０．５〜２ｍｍの範囲が望ましい。
の幅は、磁心の薄型化のためには３ｍｍ以下が望ましい
が、幅が０．５ｍｍ未満の薄帯を製造することは実用上
困難であるため、０．５〜３ｍｍの範囲が好ましい。特
に０．５〜２ｍｍの範囲が望ましい。
【００１３】また、磁性合金薄帯の板厚は、液体急冷
法、例えば単ロール法により通常製造可能な５〜３０μ
ｍの範囲が望ましく、特に１０〜２０μｍの範囲が容易
に薄帯を製造できるため好ましい。薄帯の板厚は、例え
ば、重量換算により以下の式によって求められる。採取
する薄帯の長さは５０ｃｍ程度とすることで、再現良く
板厚が求められる。平均板厚＝重量／（密度×長さ×
幅）
法、例えば単ロール法により通常製造可能な５〜３０μ
ｍの範囲が望ましく、特に１０〜２０μｍの範囲が容易
に薄帯を製造できるため好ましい。薄帯の板厚は、例え
ば、重量換算により以下の式によって求められる。採取
する薄帯の長さは５０ｃｍ程度とすることで、再現良く
板厚が求められる。平均板厚＝重量／（密度×長さ×
幅）
【００１４】次に本発明磁心の好適な製造方法について
説明する。先ず、単ロール法により幅０．５〜３ｍｍ、
板厚５〜３０μｍの非晶質合金薄帯を巻回しトロイダル
磁心を作製する。次に、非晶質合金の結晶化温度以上の
４５０〜６５０℃の温度で、１０分〜２０時間、アルゴ
ンガスや窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中、あるいは真
空中で熱処理することにより、粒径５００オングストロ
ーム以下の超微細なｂｃｃ−Ｆｅ結晶粒を主体とした組
織を形成させる。熱処理は無磁界中、静磁界中、回転磁
界中いずれの条件で実施しても良い。また、特に高周波
で使用する場合は、磁心を作製する際に合金薄帯表面の
少なくとも一方の面にＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3等の層間絶縁
膜を０．１〜３μｍの厚さに形成することにより磁心の
インダクタンスが一層向上するため好ましい結果が得ら
れる。次に、熱処理した磁心の外表面に上述したコーテ
ィング材を用いてコーティングを施し、本発明磁心が得
られる。
説明する。先ず、単ロール法により幅０．５〜３ｍｍ、
板厚５〜３０μｍの非晶質合金薄帯を巻回しトロイダル
磁心を作製する。次に、非晶質合金の結晶化温度以上の
４５０〜６５０℃の温度で、１０分〜２０時間、アルゴ
ンガスや窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中、あるいは真
空中で熱処理することにより、粒径５００オングストロ
ーム以下の超微細なｂｃｃ−Ｆｅ結晶粒を主体とした組
織を形成させる。熱処理は無磁界中、静磁界中、回転磁
界中いずれの条件で実施しても良い。また、特に高周波
で使用する場合は、磁心を作製する際に合金薄帯表面の
少なくとも一方の面にＳｉＯ2やＡｌ2Ｏ3等の層間絶縁
膜を０．１〜３μｍの厚さに形成することにより磁心の
インダクタンスが一層向上するため好ましい結果が得ら
れる。次に、熱処理した磁心の外表面に上述したコーテ
ィング材を用いてコーティングを施し、本発明磁心が得
られる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を実施例にしたがって説明する
が本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例）原子％でＣｕ１％、Ｎｂ３％、Ｓｉ１３．５
％、Ｂ９％、残部実質的にＦｅからなる組成の合金溶湯
を単ロール法により急冷し、幅１ｍｍ、厚さ２０μｍの
非晶質合金薄帯を作製した。得られた非晶質合金薄帯を
外径１０ｍｍ、内径５ｍｍに巻回しトロイダル磁心を作
製した。次に、この磁心を窒素ガス雰囲気中で、５５０
℃で１ｈ磁界をかけずに熱処理し、室温まで空冷した。
熱処理後、磁心を構成する合金薄帯の形成相および組織
を観察したところ、大部分が１００〜２００オンク゛ストローム
程度のｂｃｃ−Ｆｅの超微結晶粒からなっていた。得ら
れた磁心の外表面をパラキシリレン重合膜またはクロロ
パラキシリレン重合膜（ユニオンカーバイド社のパリレ
ンＮ，Ｃ，Ｄ）でコーティングした。コーティング肉厚
は表１に示すとおりであるが、表１には磁心エッジ部の
コーティング膜厚も記載する。また、磁心に巻線を施し
て、絶縁耐圧試験器を用いてコイルの絶縁耐圧を測定し
た。
が本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例）原子％でＣｕ１％、Ｎｂ３％、Ｓｉ１３．５
％、Ｂ９％、残部実質的にＦｅからなる組成の合金溶湯
を単ロール法により急冷し、幅１ｍｍ、厚さ２０μｍの
非晶質合金薄帯を作製した。得られた非晶質合金薄帯を
外径１０ｍｍ、内径５ｍｍに巻回しトロイダル磁心を作
製した。次に、この磁心を窒素ガス雰囲気中で、５５０
℃で１ｈ磁界をかけずに熱処理し、室温まで空冷した。
熱処理後、磁心を構成する合金薄帯の形成相および組織
を観察したところ、大部分が１００〜２００オンク゛ストローム
程度のｂｃｃ−Ｆｅの超微結晶粒からなっていた。得ら
れた磁心の外表面をパラキシリレン重合膜またはクロロ
パラキシリレン重合膜（ユニオンカーバイド社のパリレ
ンＮ，Ｃ，Ｄ）でコーティングした。コーティング肉厚
は表１に示すとおりであるが、表１には磁心エッジ部の
コーティング膜厚も記載する。また、磁心に巻線を施し
て、絶縁耐圧試験器を用いてコイルの絶縁耐圧を測定し
た。
【００１６】（従来例）従来例として実施例１と同じ方
法で超微結晶軟磁性合金薄帯からなるトロイダル磁心を
作製した。得られた磁心の外表面をエポキシ系樹脂で被
覆し、肉厚０．３ｍｍ、および１．０ｍｍのコーティン
グ層を形成したのち、実施例と同様の方法で絶縁耐圧を
測定した。結果を実施例とともに表１に示す。
法で超微結晶軟磁性合金薄帯からなるトロイダル磁心を
作製した。得られた磁心の外表面をエポキシ系樹脂で被
覆し、肉厚０．３ｍｍ、および１．０ｍｍのコーティン
グ層を形成したのち、実施例と同様の方法で絶縁耐圧を
測定した。結果を実施例とともに表１に示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】表１に示すように、従来のエポキシ樹脂は
パリレンと同等の絶縁耐圧を得るためには１．０ｍｍ程
度の膜厚の厚いコーティングが必要であるが、本願発明
では１０μｍの膜厚で十分である。しかも、膜厚が薄い
にもかかわらずエッジ部にも十分コーティングがなされ
ているため、高絶縁耐圧に寄与する。
パリレンと同等の絶縁耐圧を得るためには１．０ｍｍ程
度の膜厚の厚いコーティングが必要であるが、本願発明
では１０μｍの膜厚で十分である。しかも、膜厚が薄い
にもかかわらずエッジ部にも十分コーティングがなされ
ているため、高絶縁耐圧に寄与する。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、絶縁耐圧に優れる超薄
型磁心が得られるため、インターフェース用等のパルス
トランスあるいはノイズフィルタ用チョーク等に使用す
ることにより、従来よりも高性能な磁心を提供すること
が可能である。
型磁心が得られるため、インターフェース用等のパルス
トランスあるいはノイズフィルタ用チョーク等に使用す
ることにより、従来よりも高性能な磁心を提供すること
が可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒川俊介 埼玉県熊谷市三ヶ尻5200番地 日立金属株 式会社磁性材料研究所内 (72)発明者 三木裕彦 鳥取県鳥取市南栄町33番地12号日立フェラ イト株式会社鳥取工場内
Claims (4)
- 【請求項１】 平均粒径５００オングストローム以下の
ｂｃｃ−Ｆｅ固溶体結晶粒が組織の５０％以上を占める
軟磁性合金薄帯を巻回してなるトロイダル磁心基体と、
その外表面を被覆するパラキシリレン重合膜またはクロ
ロパラキシリレン重合膜とからなることを特徴とする磁
心。 - 【請求項２】 パラキシリレン重合膜またはクロロパラ
キシリレン重合膜の厚さが、５〜５０μｍである請求項
１に記載の磁心。 - 【請求項３】 平均粒径５００オングストローム以下の
ｂｃｃ−Ｆｅ固溶体結晶粒が組織の５０％以上を占める
軟磁性合金薄帯の化学組成が、 （Ｆｅ1-aＭa）100-x1-x2-x3-x4-x5-x6Ａx1Ｓｉx2Ｂx3
Ｍ’x4Ｍ”x5Ｘx6（at%） 但し、Ｍ：ＣｏおよびＮｉの１種または２種 Ａ：ＣｕおよびＡｕの１種または２種 Ｍ’：Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｗの
１種または２種以上 Ｍ”：Ｃｒ，Ｍｎ，Ａｌ，白金族元素，Ｓｃ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｒｅの１種または２種以上 Ｘ：Ｃ，Ｇｅ，Ｐ，Ｇａの１種または２種以上 ０≦ａ≦０．５，０．１≦ｘ１≦１０，０≦ｘ２≦３
０，０≦ｘ３≦３０ ０．１≦ｘ４≦３０，０≦ｘ５≦２０，０≦Ｘ６≦２
０，０≦ｘ２＋ｘ３≦３０ である請求項１または２に記載の磁心。 - 【請求項４】 軟磁性合金薄帯の幅が３ｍｍ以下である
請求項１〜３のいずれかに記載の磁心。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6014020A JPH07211530A (ja) | 1994-01-12 | 1994-01-12 | 磁 心 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6014020A JPH07211530A (ja) | 1994-01-12 | 1994-01-12 | 磁 心 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07211530A true JPH07211530A (ja) | 1995-08-11 |
Family
ID=11849514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6014020A Pending JPH07211530A (ja) | 1994-01-12 | 1994-01-12 | 磁 心 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07211530A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998008236A1 (de) * | 1996-08-19 | 1998-02-26 | Vacuumschmelze Gmbh | Schnittstellen-übertrager |
| WO1998008238A1 (de) * | 1996-08-22 | 1998-02-26 | Vacuumschmelze Gmbh | Bewicklungsschutz für bandkerne |
| US6773619B2 (en) | 2001-07-17 | 2004-08-10 | Tdk Corporation | Magnetic core for transformer, Mn-Zn based ferrite composition and methods of producing the same |
| US6849295B2 (en) | 1996-08-22 | 2005-02-01 | Vacuumschmelze Gmbh | Method for producing a winding protection for tape-wound cores |
| CN113066631A (zh) * | 2021-03-26 | 2021-07-02 | 福建尚辉润德新材料科技有限公司 | 一种Parylene粉末在铁基软磁复合材料中的应用方法 |
-
1994
- 1994-01-12 JP JP6014020A patent/JPH07211530A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998008236A1 (de) * | 1996-08-19 | 1998-02-26 | Vacuumschmelze Gmbh | Schnittstellen-übertrager |
| WO1998008238A1 (de) * | 1996-08-22 | 1998-02-26 | Vacuumschmelze Gmbh | Bewicklungsschutz für bandkerne |
| KR100307843B1 (ko) * | 1996-08-22 | 2001-09-29 | 베르너 하르바우어; 볼프-디이터 프라이부르크 | 권자심용 권선 보호물의 제조 방법 |
| US6849295B2 (en) | 1996-08-22 | 2005-02-01 | Vacuumschmelze Gmbh | Method for producing a winding protection for tape-wound cores |
| US6773619B2 (en) | 2001-07-17 | 2004-08-10 | Tdk Corporation | Magnetic core for transformer, Mn-Zn based ferrite composition and methods of producing the same |
| CN113066631A (zh) * | 2021-03-26 | 2021-07-02 | 福建尚辉润德新材料科技有限公司 | 一种Parylene粉末在铁基软磁复合材料中的应用方法 |
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