JPH07210254A - ガス質量流量制御装置 - Google Patents

ガス質量流量制御装置

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JPH07210254A
JPH07210254A JP31407194A JP31407194A JPH07210254A JP H07210254 A JPH07210254 A JP H07210254A JP 31407194 A JP31407194 A JP 31407194A JP 31407194 A JP31407194 A JP 31407194A JP H07210254 A JPH07210254 A JP H07210254A
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JP
Japan
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flow rate
mass flow
section
gas
sensor
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Application number
JP31407194A
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English (en)
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Yoichiro Kazama
洋一郎 風間
Makoto Tanaka
田中  誠
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Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ケーシング側壁にデジタル用とアナログ用の
2系統のコネクタ部を設けることにより、高クリーン度
が必要とされる配管筐体空間の大きさを極力小さくした
ガス質量流量制御装置を提供する。 【構成】 ガス体の流れるセンサ管44を有する質量流
量検出センサ部42と、流量制御弁20と、これを駆動
するアクチュエータ部46と、制御回路を搭載した制御
基板50と、全体を被うケーシング48と、外部との信
号通信を行うデジタル信号用コネクタ部52及びアナロ
グ信号用コネクタ部54とを有するガス質量流量制御装
置において、上記制御基板を複数に分割して設並し、且
つ上記センサ部におけるセンサ管44の流路長を短くす
ることによりこの高さを小さく設定し、この上方の空間
スペースを大きく取る。そして、この空間に2つのコネ
クタ部を収容してケーシング側壁48Bに取り付ける。
これにより、ケーシング側方からのケーブルの着脱を可
能とし、従来必要とされたケーシング上方のケーブル着
脱用空間を不要にして配管筐体の容積を小さくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス等の比較的小流量
の流体の質量流体を精密に制御するガス質量流量制御装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体製品等を製造するために
は、例えば成膜処理やエッチング処理等を精度良く行う
ために微量の処理ガスを精度良く制御しながら流す必要
があるが、この流量制御を行うために例えばガス質量流
量制御装置が用いられている。
【0003】この種のガス質量流量制御装置は、微量ガ
スの質量流量を検出するセンサ部と、流量制御弁と、こ
の制御弁を駆動するアクチュエータ部と、これらを制御
する制御回路部とにより主に構成されている。センサ部
は、全ガス量の僅かな比率の流量が通過するセンサ管に
電熱コイルを巻回してなるセンサを有しており、大部分
のガスはバイパスを流れるようになっている。そして、
このセンサ部での検出値に基づいて制御回路部は制御弁
の弁開度を制御し、ガスの流量を制御する。そして、弁
開度を制御するには、全体のガス流量自体が非常に少な
いことから例えば数10μm程度のストローク範囲内で
制御が行われることになり、そのために、一般的にはア
クチュエータ部として小さなストローク範囲内で大きな
推力変化を生ぜしめることができることから積層型圧電
素子体等が用いられている。
【0004】ここで従来のガス質量流量制御装置を図1
1に基づいて説明すると、流体通路2のバイパス4の上
流側及び下流側端部近傍に全ガス流量の僅かな比率の流
量を流す例えば直径0.5mm程度で長さが60mm程
度のU字状に形成されたセンサ管8の両端部がそれぞれ
接続され、これに1対の電熱コイル10が巻回されてセ
ンサ部6を構成している。この1対の電熱コイル10
は、例えば5000PPM/度程度の高い抵抗温度係数
を有し、これと2つの抵抗(図示せず)と組み合わせた
ブリッジ回路を形成し、これに定電流回路12から電流
を流すようになっている。そして、ガス流の上流側のヒ
ータはセンサ管8を通るガス流によって熱が奪われて温
度が下がる。これに対して下流側のヒータは上流側で温
まったガス流が流れるために逆に熱が上がる傾向となっ
て熱移動が生ずると平衡状態のブリッジ回路が不平衡と
なり、この時発生する電位差が流量信号となる。
【0005】この信号は増幅回路14により増幅された
後、比較制御回路16へ入力され、ここでこの入力信号
と基準流量を示す基準信号と比較して所定の流量を維持
するように積層型圧電素子体等のアクチュエータ部18
を伸縮させて制御弁20のダイヤフラム22を適正な弁
開度になるように上下動させる。
【0006】このような構造の装置を実装する場合に
は、図12に示すように例えばステンレススチール等よ
りなる流体通路2上に方形状のケーシング24を設け、
このケーシング24内に上記センサ管8を有するセンサ
部6、制御弁20、アクチュエータ部18及び定電流回
路、増幅回路、比較制御回路等の電気部品を設けた基板
26がコンパクトに収容されている。
【0007】また、この種のガス質量流量制御装置は、
外部との制御用の通信を行うために上記各回路に電気的
に接続されるコネクタ部が設けられるが、従来はデジタ
ル信号用コネクタ部28とアナログ信号用コネクタ部3
0がそれぞれセンサ部上方のケーシング側壁32及びケ
ーシング天井壁34に設けられている。そして、デジタ
ル信号用コネクタ部28は、ケーブル36を介して例え
ばパーソナルコンピュータに接続され、アナログ信号用
コネクタ部30はケーブル38を介して例えば表示器等
に接続されることになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の流
量制御装置は、一般的には配管筐体内に多数個配列して
収容されることになるが、例えば半導体製造用のクリー
ンルームの建設コストが年々増加し、単位空間或いは面
積当たりの費用が高価になっているため、上記配管筐体
の小容量化、すなわち流量制御装置自体の小型化も強く
求められている。
【0009】このため、上述のようにケーシング24内
の各種部品は装置全体の高さができるだけ低くなるよう
にコンパクト化されて収容されるのであるが、センサ部
6の高さはアクチュエータ部18の高さよりも一般的に
は低いために装置全体の高さはアクチュエータ部18に
よって規定される。そのために2つのコネクタ部28、
30を、センサ部6の上方の空間部Sに取り付ける必要
がある。
【0010】この場合、センサ部6の内部にはセンサ管
8が収容されるが、このセンサ感度を十分に得るために
はコイル10を所定数巻回しなければならない。そし
て、配管距離が決められていることからこの距離では所
定の巻回数を得ることができず、そのため、センサ管8
を逆U字状に曲げてコイル巻回用の距離を稼いでいた。
一般的には、このセンサ管8は長さ60mm程度になり
このセンサ部6の高さが上記アクチュエータ部18より
は低いとはいえ比較的高いためにこの上方に形成される
空間部Sの体積は比較的少なくなる。そのために、前述
のように2系統の信号コネクタ部の内、一方、例えばデ
ジタル信号用コネクタ部28のみをケーシング側壁32
に設け、他方のアナログ信号用コネクタ部30をケーシ
ング天井壁34に設けている。
【0011】しかしながら、上述したような構成にあっ
ては、アナログ信号用コネクタ部30を天井壁30に設
けてあることから、このコネクタ部30へのケーブル3
8の着脱を行うための空間として天井壁34の上方へ更
に高さH1が60mm程度の着脱用空間を確保しなけれ
ばならず、装置全体の高さH2が例えば125mmとす
ると全体で185mmの高さの空間を占有してしまうこ
とになるのみならず、上記着脱用空間を確保するために
これを収容する配管筐体をかなり大型化しなければなら
ないという問題があった。また、配管筐体内は、パーテ
ィクル排除のために一般的には真空引きされるが、この
容量が大きいと、真空引きのエネルギも大きくならざる
を得なかった。また、上述した構成にあっては配線の引
き回し(特に電源部)が長くなり、しかも、デジタル信
号線とアナログ信号線が直交する可能性も多くなり、ノ
イズが発生する原因にもなる。
【0012】本発明は、以上のような問題点に着目し、
これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明
の目的は、ケーシング側壁に2系統のコネクタ部を設け
ることにより装置全体を含めて必要とされる空間の大き
さを極力小さくしたガス質量流量制御装置を提供するこ
とにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、この種の流量
制御装置の内、全高寸法が他の配管機器に比べて圧倒的
に大きく、従って、空間有効利用の見地より、この全高
寸法を低く抑制することが重要である、ということを見
出すことによりなされたものである。
【0014】本発明は、上記問題点を解決するために、
流体通路に流れるガス体の質量流量を検出すべくセンサ
管を有する質量流量検出センサ部と、前記ガス体の流量
を制御する流量制御弁と、この流量制御弁を駆動するア
クチュエータ部と、前記センサ部からの信号を処理する
と共に前記アクチュエータ部の動作を制御する制御回路
部を有する制御基板と、前記質量流量検出センサ部と前
記流量制御弁と前記アクチュエータ部と前記制御基板を
収容するケーシングと、このケーシングに取り付けられ
て前記制御回路部と外部との信号通信を行うためのデジ
タル信号用コネクタ部及びアナログ信号用コネクタ部と
を有するガス質量流量制御装置において、前記デジタル
信号用コネクタ部と前記アナログ信号用コネクタ部を収
容し得る大きさの空間を形成すべく前記制御基板は複数
に分割されて前記ケーシングの幅方向に並設されると共
に前記質量流量検出センサ部のセンサ管は、比較的短く
設定され、前記デジタル信号用コネクタ部と前記アナロ
グ信号用コネクタ部は、前記質量流量検出センサ部の上
方に位置されると共に前記ケーシングの側壁に設けるよ
うにしたものである。
【0015】
【作用】本発明は、上述のように質量流量検出センサ部
のセンサ管として比較的短いもの、例えば直管状のセン
サ管に複数層抵抗巻線を施すことによりその小型化を図
った定温度差方式によるセンサを使用し且つ制御基板を
複数に分割して並設するようにしたので、ケーシングの
幅を過度に大きくすることなくこのセンサ部の上方の空
間部に2系統のアナログ及びデジタル信号用のコネクタ
部を位置させると共にこれら2つのコネクタ部を共にケ
ーシング側壁に取り付け固定することができる。これに
より、ケーブルの着脱は装置の横方向から操作すること
ができ、ケーシング天井壁の上方に従来装置の場合に必
要とされた高さ60mm程の着脱用空間を必要とせず、
全体の占有空間すなわち配管筐体の大きさを大幅に減少
させることが可能となる。
【0016】この場合、デジタル信号用コネクタ部とア
ナログ信号用コネクタ部を1つのコネクタ部にまとめて
しまった構造のコネクタ部を用いた場合にも適用するこ
とができる。また、ガス質量流量制御装置の種類として
は、流体通路を設けたボディ部の高さ方向の一側に質量
流量検出センサ部、アクチュエータ部、制御基板、コネ
クタ部等を配置して装置自体は固定ベースに取り付けら
れる標準型のものや、ボディ部の高さ方向の上側と下側
にセンサ部、アクチュエータ部、制御基板、コネクタ部
等を配置して、装置自体はライン中に宙吊りに接続され
るインライン型のものにも適用することができる。
【0017】更に、装置自体の高さHとガス流体流れ方
向の装置自体の長さLとの比H/Lは、0.8≦H/L
≦1.2の範囲内であるのが望ましい。その理由は、標
準型の装置を例にとるとその長さLは124mmであ
り、高さHに関しては、ボディ部の高さ、センサの巻線
の高さ、センサ巻線とアクチュエータ部の駆動コイルと
の間の最小距離、この駆動コイルとケーシング天井部と
の最小距離等を考慮すると最小値が99mm程度であ
り、また、装置本体の取り付け時の取付け治具の作業空
間の確保や装置の付属品の全体高さ等を考慮すると最大
値が150mm程度である。従って、上述のようにH/
Lは好ましくは0.8〜1.2の範囲内に設定する。
【0018】
【実施例】以下に、本発明のガス質量流量制御装置の一
実施例を添付図面に基づいて詳述する。図1は本発明の
ガス質量流量制御装置の一実施例を示す縦断面図、図2
は図1に示す装置の横断面図、図3は図1に示す装置の
側面図、図4は図1に示す装置に用いられる質量流量検
出センサ部の構成を示す概略構成図、図5は図4に示す
センサ部の回路構成図である。尚、図11及び図12に
示す従来構造の構成と同一部分については同一符号を付
す。
【0019】本実施例においては、ボディ部の高さ方向
の一側(図中上方)に各部材を配置した標準型の装置を
例にとって説明する。図示するように2は例えばステン
レススチール等により成形された流体通路であり、この
両端には配管等に接続されるジョイント40が設けられ
る。この流体通路2の形成されたステンレススチール部
分はボディ部84として構成され、他の部分と比較して
熱容量が大きくなされている。この流体通路2のガス体
の流れ方向の上流側には大部分の流量を流すバイパス4
が設けられ、下流側にはガス体の流量を制御するために
弁体としてダイヤフラム22を備えた流量制御弁20が
設けられる。
【0020】上記バイパス4の両近傍側には、質量流量
検出センサ部42の一部を構成する流路長さの比較的短
い、例えば12mm程度に設定されたセンサ管44が接
続され、これにバイパス4と比較して小量のガス体を流
し得るようになっている。上記質量流量検出センサ部4
2としては後述するようにその小型化を図るために定温
度差方式によるセンサが使用され、且つ制御基板が複数
に分割されてケーシングの幅方向に並設され、この上方
の空間の大きさを十分広く確保し得るようになってい
る。
【0021】また、上記流量制御弁20を駆動するため
にこの制御弁20の図中上方には上記センサ部42と並
設させてアクチュエータ部46が起立されている。この
アクチュエータ部46としては、従来構造と同様に積層
型圧電素子を用いてもよいし、電磁アクチュエータ等を
用いてもよい。本実施例にあっては装置の小型化を推進
するために、例えば本出願人が特願平5−209868
号にて開示したような、駆動コイル82を含む電磁石を
利用した電磁アクチュエータとこのアクチュエータによ
る駆動力を適正に制御できる板状の皿バネを組み合わせ
てなる電磁アクチュエータを用い、その全体の高さの低
減を図っている。そして、これら全体は方形状のケーシ
ング48内に収容されている。
【0022】また、上記センサ部42からの信号を処理
すると共に上記アクチュエータ部46の動作を制御する
制御回路部を有する制御基板50は、本実施例にあって
はセンサ用基板50Aとサブ基板50Bとメイン基板5
0Cとに3つに分割されており、比較的小面積の上記セ
ンサ用基板50Aとサブ基板50Bとは上記センサ部4
2の上方の空間部に相互に並行に起立させて設けられて
いる。また、比較的大面積のメイン基板50Cは、ケー
シング48の幅広側壁部48Aの内側に沿って配置され
ている。尚、これら各基板50A、50B、50Cの配
列順序はこれに限定されず、例えば後述するコネクタ部
の配列に応じて配列順序を変えるようにしてもよい。上
記センサ用基板50Aは、主に上記センサ部42の動作
制御を行う回路を搭載するものであり、また、サブ基板
50Bは2系統の信号系の内の一系統、例えばデジタル
信号の入出力を行うための回路を搭載するものであり、
更に、メイン基板50Cは他方の系統、例えばアナログ
信号の入出力を行うと共に装置全体の制御を行うための
回路を搭載するものである。
【0023】このように小型のセンサ部42を用い且つ
制御基板50を複数に分割して並設することによりケー
シング48の幅方向すなわち厚さは僅かに大きくなり、
そして、ケーシング48の一方の幅狭側壁部48Bに
は、デジタル信号用コネクタ部52とアナログ信号用コ
ネクタ部54とが並設して取り付けられており、厚さ方
向が有効利用されている。そして、各コネクタ部52、
54には外部からデジタル用ケーブル56とアナログ用
ケーブル58を着脱可能に接続し得るようになってい
る。そして、上記デジタル用コネクタ部52の基端部は
上記サブ基板50Bに固定されて保持され、また、上記
アナログ用コネクタ部54の基端部は上記メイン基板5
0Cに固定されて保持される。
【0024】これら2つのコネクタ52、54間には、
ケーシングの高さをできるだけ小さくするために前記セ
ンサ用基板50Aが起立されており、上記各部品が上記
センサ部42の上方に確保された大きな空間に密集させ
て且つ整然と配置されている。また、各センサ用基板5
0A、50B、50Cは、例えば4層構造の基板が用い
られて表裏の両面に電気部品が実装されており、基板の
必要高さを一層低減している。
【0025】更には、上記ケーシング48は例えばプラ
スチック等の樹脂により成形され、その内面には、シー
ルド効果を発揮するために導電塗料が塗布されている。
そして、このケーシング48は図3(A)及び図3
(B)にも示すように一方のコネクタ部、例えばコネク
タ部52の中心付近を通って高さ方向に割り線70が入
って左右に2分割可能になされており、それぞれの基部
には、突起72及びこれに嵌め合う凹部74を設けて容
易に着脱できるようになっている。また、装置全体の大
きさは、高さをHとし、ガス流体流れ方向の長さをLと
した場合にこれらの比は、0.8≦H/L≦1.2の範
囲となるように設定する。このように上記比の最小値を
0.8と設定した理由はアクチュエータ46等の実装上
の制約から規定され、また最大値を1.2とした理由
は、装置取付時の取付治具、例えばスパナの回転を確保
し且つ装置の機械的安定性を確保するためである。
【0026】上記定温度差方式のセンサは、例えば図4
及び図5に示すように構成される。すなわちバイパス4
の両端に例えばステンレススチールよりなる一対のコマ
部材60、60を起立させて設けると共にこれらのコマ
部材60の内部にドリル等により流路62、62を形成
し、これらコマ部材60、60の流路62、62間に直
線状の短い、例えば12mm程度の前記センサ管44が
掛け渡されている。そして、これらセンサ管44には上
流側センサ巻線抵抗64Aと下流側センサ巻線抵抗64
Bが巻回されており、この全体は外部との間の熱の授受
を抑制するために断熱材66により被われている。セン
サ管44の直径は、従来0.5mm程度であったものを
本実施例では0.3mm程度としてこれに流れる流量を
少なくし、且つ各巻線抵抗64A、64Bは、それぞれ
複数層、例えば2層に巻回されており、センサ管44の
長さを短くしても所定の感度を得ることができるように
なっている。また、このコマ部材60及び断熱材66の
上部には熱的安定性を図るための2つのアルミニウムブ
ロック68、68が設けられ、このブロック68内に
は、上流側周囲温度検出用白金抵抗70A及び下流側周
囲温度検出用白金抵抗70Bがそれぞれ設けられてい
る。
【0027】このセンサ部42の電気回路は、図5に示
すように構成され、すなわち、上流側第1抵抗71A
と、上流側第2抵抗72Aと、上流側定温度差設定基準
抵抗74A及び上記上流側周囲温度検出用白金抵抗70
Aの直列回路と、上記上流側センサ巻線抵抗64Aとよ
りなる上流側ブリッジ76Aを有し、ポイントA1、A
2との間の電位差を上流側増幅器78Aで取って上流側
第1抵抗70Aと基準抵抗74Aの接続点へ出力する。
【0028】また、下流側においても同様なブリッジが
形成される。すなわち下流側ブリッジ76Bは、下流側
第1抵抗71Bと、下流側第2抵抗72Bと、下流側定
温度差設定基準抵抗74B及び上記下流側周囲温度検出
用白金抵抗70Bの直列回路と、上記下流側センサ巻線
抵抗64Bとにより構成され、ポイントB1、B2との
間の電位差を下流側増幅器78Bで取って下流側第1抵
抗70Bと基準抵抗74Bの接続点へ出力する。そし
て、上流側及び下流側ブリッジの対応する素子は、同じ
特性を有するものが使用されている。ここで、ガス体が
流れていない時には上流側と下流側の各センサ巻線抵抗
64A、64Bと周囲温度の温度差を同一に保持するエ
ネルギは略等しい。
【0029】そして、ガス体が流れると、上流側センサ
巻線抵抗64Aはガス体に熱が奪われ、この結果、ガス
体は温度上昇するが上記巻線抵抗64Aと周囲温度とを
所定の温度差に保持するためにはガス体が流れてない時
よりも大きいエネルギ、すなわち流れる電流を大きくす
る必要があり、上流側増幅器78Aがそのように制御す
る。
【0030】一方、下流側センサ巻線抵抗64Bは加熱
されたガス体を受けることにより、周囲温度と巻線抵抗
64Bとを所定の温度差に維持するにはガス体が流れて
いない時よりも小さいエネルギ、すなわち流れる電流を
小さくする必要があり、下流側増幅器78Bがそのよう
に制御する。そして、この時に生ずる両巻線抵抗64
A、64Bに供給されるエネルギの差はガス体の質量流
量に比例しており、従って、上流側ブリッジ76Aのポ
イントA2と下流側ブリッジ76BのポイントB2の電
位差を比較器80にて取ることによってガス体の質量流
量を測定することができる。このような定温度差方式に
よるセンサを用いることによりセンサ部6の高さ等を前
述のように小さく設定して、その上方の空間のエリアを
増加させることが可能となる。上述した操作を行う図5
に示す回路は、本実施例にあっては前述したようにセン
サ用基板50A(図2参照)に搭載されることになる。
【0031】このように構成された装置は、流体通路2
の形成されたボディ部84を、図示しないベースにネジ
等により締め付けることにより取り付け固定される。こ
のボディ部84は、例えばステンレススチールにより形
成されていることから熱容量が大きく、そのため装置内
部で発生した熱をベースを介して効率良く排出可能とな
る。
【0032】次に、上述のように構成された本実施例の
作用について説明する。流体通路2にガス体が流れる
と、この一部はセンサ部42のセンサ管44を流れ、大
部分はバイパス4を流れて行き、流量制御弁20により
その流量が制御されつつガス体使用系へ向かう。センサ
管44を流れるガス体の流量は前述した図4及び図5に
示すような定温度差方式のセンサ部42により検出され
て流体通路2全体に流れる質量流量が求められ、これが
外部から入力される基準流量と制御回路部にて比較され
る。この比較結果に基づいてアクチュエータ部46を駆
動することにより流量制御弁20のダイヤフラム22を
上下動して弁開度を調整し、ガス体の質量流量を設定値
に維持する。
【0033】さて、このように動作するガス質量流体制
御装置において、本実施例においては質量流量検出セン
サ部42として定温度差方式のセンサを用い且つ制御基
板50を複数に分割して寸法的に余裕のあるケーシング
幅方向に配列するようにしたので、ケーシング48の高
さを大幅に抑制することができる。従って、センサ部4
2の上方の空間も大きくなって且つケーシングの幅も僅
かに大きくなり、ケーシング側壁部に2つのコネクタ部
52、54を取り付けることができる。例えば、従来構
造のセンサ部の高さが50mm程度であったが、本実施
例のセンサ部42の高さは20mm程度まで大幅に小さ
くすることができる。
【0034】すなわち、制御基板50を複数に分割して
並設することにより、ケーシング48の高さを寸法的に
余裕のあるケーシング幅方向へと展開することにより、
センサ部42の上方に2つのコネクタ部52、54を収
容してこれらをケーシング幅狭側壁部48Bに並設して
取り付けることができる。
【0035】このようにして、2つのコネクタ部52、
54をケーシング幅狭側壁部48Bに取り付けるように
したので、対応するケーブル56、58の着脱は自由度
の大きい側方から行うことができ、従って、取り付け時
にケーシングの上方に従来必要とされた高さ60mm程
のケーブル着脱用空間を設ける必要がなく、これを収容
する配管筐体の天井をケーシング天井壁48Cに近接さ
せて設けることができ、しかも配管筐体の容量を小さく
することができる。例えば、従来装置にあっては装置全
体の高さが略125mmで更にその上方に高さ60mm
程のケーブル着脱用空間を設けなければならなかった
が、本実施例にあっては装置全体の高さを略80mm程
度まで小さく設定でき、しかもその上方にケーブル着脱
用空間を設ける必要がないので、装置全体として小型化
できるのみならず、これを収容する配管筐体の占有空間
も大幅に小さくすることができる。
【0036】また、配管筐体の体積を小さくすることに
より、パーティクル排除のためにこの内部を真空引きす
るポンプ類のエネルギも節約することが可能となる。ま
た、装置の高さHと流体流れ方向の長さLとの比H/L
を0.8以上で1.2以下に抑制したので、装置取付け
治具の回転角を十分に確保できるのみならず、高さもそ
れ程高くはならず機械的安定性も増すことができる。
【0037】ここで高さの比H/Lを上述のように限定
した理由を詳述する。図6は装置本体の取り付け治具、
例えばモンキレンチを用いてガスの流路であるパイプに
接続する時の状態を示す模式図であり、図6(A)はモ
ンキレンチを使ってパイプに装置本体を接続する作業工
程を示す図、図6(B)は接続後に流路に開閉バルブを
取り付けた状態を示す側面図、図6(C)は図6(B)
の平面図である。
【0038】まず、制御装置の高さHの最大値は以下の
ように設定される。この図6(A)に示すようにガス質
量流量制御装置のボディ部84とガス流路であるパイプ
86とを接続する場合、ボディ部84のジョイント40
は食い込み継手の構造になっており、ここに袋ナット8
8を取り付け治具、例えばモンキレンチ90によって締
め付ける。この場合、モンキレンチ90の寸法L1は2
10mm程度であるが、モンキレンチ90を握る柄の部
分90Aが制御装置の高さH以上に上方に突き出て握り
を確保すると共にこの回転角をも確保できる状態となっ
ていなければならない。従って、モンキレンチ90の柄
の部分90Aを作業者が手で握るためのスペースとして
例えば60mm程度のスペースを確保するために、高さ
Hの最大値は略150mm程度となる。
【0039】また、図6(B)及び図6(C)に示すよ
うにパイプ86の開閉を行うためにパイプ86には、例
えばエアーで駆動する周知のメタルダイアフラムバルブ
(MDV)92を介設し、これに圧縮エアーを供給する
例えばナイロンフレキシブルチューブ94を接続したワ
ンタッチ管継手96をバルブ頭頂部に取り付けている。
尚、図6(C)においては、2つの制御装置を並設した
状態を示している。この場合、制御装置やチューブ94
は、箱状の配管ユニット内に収容されることから、制御
装置の高さHは、ナイロンフレキシブルチューブ94の
高さと同等か、それ以下でなければならない。ここで、
メタルダイヤフラムバルブ92の高さH2は約85mm
程度、ワンタッチ管継手96の高さH3は約20mm程
度、フレキシブルチューブ94の最小曲げ半径H4は約
20mm程度、余裕長さαを約25mmとすると、制御
装置の高さHの最大値は前述と同様に略150mm(H
2+H3+H4+α)となる。
【0040】次に、制御装置の高さの最小値は以下のよ
うに設定される。図7は制御装置の高さHの最小値を設
定するための説明図であり、ここで示される各部の最小
値を積み上げることにより制御装置の高さ最小値が決定
される。まず、ボディ部84の高さH10の最小値は、
この中に流体通路を形成する必要から約26mmの寸法
は必要であり、巻線抵抗64の高さH11に関しては実
用上製作可能な最小の高さは約3mmである。また、ア
クチュエータ部46の駆動コイル46の実用上の最小の
高さ寸法の1/2の高さH13は略15mm程度であ
り、この駆動コイル46の上端とケーシング48の天井
壁48Cとの間の最小のクリアランスH14は略10m
m程度である。
【0041】最後に、巻線抵抗64と駆動コイル82の
高さ方向の中央部との間の距離H12は、駆動コイル8
2からの発熱により巻線抵抗64が熱的悪影響を受けな
いような距離をとらなければならない。すなわち、前述
したようにセンサ部は巻線抵抗64A、64B間の微妙
な熱移動の変化によって流れるガスの質量流量を検出し
ているようになっているので、駆動コイル82からの発
熱が両巻線抵抗64A、64B間に不均等に作用を及ぼ
すと検出質量流量に誤差が生じ、再現性精度が劣化して
しまうからである。このような熱による悪影響を排除す
るためには、両巻線抵抗64A、64Bは、等温度分布
領域に含まれることが必要である。そこで、本発明者等
は、数値計算による熱解析によりケーシング48内の空
気層の温度分布のシミュレーションを行った。
【0042】図8はケーシング内の空気層の温度分布の
シミュレーションの熱モデル図を示し、図8(A)は正
面図を、図8(B)は側面図をそれぞれ示す。図8中に
は各部の寸法がmm単位で示されており、ボディ部8
4、アクチュエータ部46及びベース98はそれぞれス
テンレススチールにより構成されているものとする。ま
た、シミュレーションにおける熱解析条件は以下の通り
である。
【0043】(1)駆動コイル82は、1Wの発熱量で
あるとする。 (2)制御装置は、ベース98に取り付けられ、ベース
温度は周囲の温度と同温(25℃)で一定とし、且つそ
の熱容量は十分に大きいものとする。 (3)制御装置内の熱源は駆動コイルだけとし、これ以
外からの熱は無視できるものとする。 (4)ケーシング48内の空気は、容積が小さいために
動かない、すなわち対流は生じないものとし、また輻射
による熱伝達はないものとし、熱伝導のみとした。 (5)ケーシング48から外部への放熱はないものとす
る。
【0044】以上のような熱解析条件を設定してシミュ
レーションを行った結果、図9に示すような等温度分布
曲線を得ることができた。この図から明らかなように発
熱源である駆動コイル82に近い位置になるほど等温度
曲線が密になって温度勾配が大となり、逆に駆動コイル
82から遠くなるほど等温度曲線が疎になって温度勾配
が小さくなる。
【0045】ここで前述のようにガス質量流量の検出
は、巻線抵抗64A、64B間の熱移動の変化によって
行われるので、巻線抵抗間の周囲の雰囲気温度に熱勾配
があるのは好ましくない。例えばポイントP1に巻線抵
抗64A、64Bを設定するとこの巻線抵抗は28.7
℃及び29.0℃の等温度曲線を横切ってしまって比較
的大きな熱勾配を受けることとなり、好ましくはない。
すなわちポイントP1は、駆動コイルに近過ぎる。
【0046】これに対して26℃と26.9℃の等温度
曲線に挟まれたポイントP2に巻線抵抗64A、64B
を設置すると仮定すると、巻線抵抗64A、64Bは略
等温度分布領域に含まれることとなって巻線抵抗間の温
度勾配は非常に少なくなる。従って、図から明らかなよ
うに巻線抵抗64A、64Bを略等温度分布領域に入れ
ることのできる最小の距離H12は略45mm程度とな
る。ここで図7に戻って、制御装置の高さHの最小値
は、各部分の最小値の総和(H10+H11+H12+
H13+H14)であることから略99mとなる。この
ようにして、制御装置の高さの最小値として99mm、
最大値として150mmを求めることができる。
【0047】ところで、制御装置には標準型とコンパク
ト型の2種類があり、流体通路の長さLは、主に用いら
れている標準型の場合は124mm、コンパクト型の場
合は106mmである。従って、主に用いられている標
準型装置の寸法を用いると、高さ比H/Lは、99/1
24(=0.798)よりも大きく、150/124
(=1.209)よりも小さい値となる。従って、高さ
比の関係は、前述したように0.8≦H/L≦1.2と
なるように設定するのが好ましいことが判明する。
【0048】上記実施例では、2つのコネクタ部52、
54をケーシング側壁に設けた結果、配線の引き回しの
長さを低減できるのみならず、デジタル用配線とアナロ
グ用配線が直交することがなくなり、ノイズが侵入する
ことを大幅に抑制することもできる。尚、上記実施例に
あってはアクチュエータ部として電磁アクチュエータを
用いた場合を例にとって説明したが、これに代えて積層
圧電素子を用いるようにしてもよい。
【0049】また、上記実施例にあっては、2つのコネ
クタ部52、54をケーシングの厚さ方向に左右に並設
して設けるようにしたが、これに限定されず、例えばこ
れらをケーシングの高さ方向に或いは斜め上下方向に配
列するようにしてもよい。更に、上記実施例では、外部
から制御用の信号を受け入れるコネクタ部としてアナロ
グ信号用コネクタ部54とデジタル信号用コネクタ部5
2とを別体として設けた場合を例にとって説明したが、
これに限定されず、例えば図10に示すようにデジタル
信号用の接続部とアナログ信号用の接続部とを1つのコ
ネクタ部に組み込んだものを用いるようにしてもよい。
すなわち、ケーシング48の幅狭側壁48Bに1つのコ
ネクタ部100を設け、このコネクタ部100はデジタ
ル信号用の接続部としてデジタルピン100Aと、アナ
ログ信号用の接続部としてアナログピン100Bと、デ
ジタルとアナログに共用される共用ピン100Cとを有
している。そして、このコネクタ部100に、1本のデ
ジアナ用ケーブル102を接続することになる。
【0050】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のガス質量
流量制御装置によれば、次のような優れた作用効果を発
揮することができる。制御基板を複数に分割してケーシ
ング幅方向に並設すると共にセンサ部を小型化したので
ケーシングの高さを減じてその幅方向へ展開することが
でき、従って、センサ部の上方に2系統のコネクタ部を
収容して共にケーシング側壁に固定することができ、そ
の側方からケーブルの着脱を行うようにすることができ
る。従って、装置取り付け時においてその上方に従来必
要とされてケーブル着脱用空間を不要にすることがで
き、配管筐体の占有スペースを大幅に減少させることが
できる。また、配管筐体の容量を小さくできることか
ら、この内部を真空引きするためのポンプエネルギを少
なくできる。更には、2つのコネクタ部を共にケーシン
グ側壁に設けたので配線の引き回しを低減でき、且つ直
交する配線もなくすことができることからノイズの低減
にも寄与することができる。また、請求項3に規定する
ようにコネクタ部としてアナログ信号用の接続部とデジ
タル信号用の接続部の双方を組み込んだコネクタ部を用
いた場合には、コネクタ部は1つで済むので全体の厚さ
を薄くでき、コンパクト化に寄与することができる。更
には、請求項5及び6に規定するように、ボディ部を装
置の高さ方向一端部側に設けてこれをベースに取り付け
るような構造の場合には、装置内で発生した熱を熱容量
の大きなボディ部を介してベース側へ効率的に排出する
ことができ、センサ部における検出誤差の発生を抑制す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のガス質量流量制御装置の一例を示す縦
断面図である。
【図2】図1に示す装置の横断面図である。
【図3】図1に示す装置の側面図である。
【図4】図1に示す装置に用いられる質量流量検出セン
サ部の構成を示す概略構成図である。
【図5】図4に示すセンサ部の回路構成図である。
【図6】本発明の装置を取り付けるための取り付け治具
を用いてパイプに接続する時の状態を示す模式図であ
る。
【図7】本発明の装置の高さを最小値を決定するための
説明図である。
【図8】本発明の装置内の空気層の温度分布のシミュレ
ーションの熱モデル図を示す。
【図9】シミュレーション結果の等温度分布曲線を示す
図である。
【図10】デジタル用とアナログ用を兼用する1つのコ
ネクタ部を有する本発明装置の外観を示す斜視図であ
る。
【図11】従来のガス質量流量制御装置を示す概略構成
図である。
【図12】従来のガス質量流量制御装置を示す縦断面図
である。
【符号の説明】
2 流体通路 4 バイパス 20 流量制御弁 42 質量流量検出センサ部 44 センサ管 46 アクチュエータ部 48 ケーシング 48A 幅広側壁部 48B 幅狭側壁部 50 制御基板 50A センサ用基板 50B サブ基板 50C メイン基板 52 デジタル信号用コネクタ部 54 アナログ信号用コネクタ部 56 デジタル用ケーブル 58 アナログ用ケーブル 82 駆動コイル 84 ボディ部 98 ベース 100 コネクタ部 102 デジタル用ケーブル

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流体通路に流れるガス体の質量流量を検
    出すべくセンサ管を有する質量流量検出センサ部と、前
    記ガス体の流量を制御する流量制御弁と、この流量制御
    弁を駆動するアクチュエータ部と、前記センサ部からの
    信号を処理すると共に前記アクチュエータ部の動作を制
    御する制御回路部を有する制御基板と、前記質量流量検
    出センサ部と前記流量制御弁と前記アクチュエータ部と
    前記制御基板を収容するケーシングと、このケーシング
    に取り付けられて前記制御回路部と外部との信号通信を
    行うためのデジタル信号用コネクタ部及びアナログ信号
    用コネクタ部とを有するガス質量流量制御装置におい
    て、前記デジタル信号用コネクタ部と前記アナログ信号
    用コネクタ部を収容し得る大きさの空間を形成すべく前
    記制御基板は複数に分割されて前記ケーシングの幅方向
    に並設されると共に前記質量流量検出センサ部のセンサ
    管は、比較的短く設定され、前記デジタル信号用コネク
    タ部と前記アナログ信号用コネクタ部は、前記質量流量
    検出センサ部の上方に位置されると共に前記ケーシング
    の側壁に設けられることを特徴とするガス質量流量制御
    装置。
  2. 【請求項2】 流体通路に流れるガス体の質量流量を検
    出すべくセンサ管を有する質量流量検出センサ部と、前
    記ガス体の流量を制御する流量制御弁と、この流量制御
    弁を駆動するアクチュエータ部と、前記センサ部からの
    信号を処理すると共に前記アクチュエータ部の動作を制
    御する制御回路部を有する制御基板と、前記質量流量検
    出センサ部と前記流量制御弁と前記アクチュエータ部と
    前記制御基板を収容するケーシングと、このケーシング
    に取り付けられて前記制御回路部と外部との信号通信を
    行うためのコネクタ部とを有するガス質量流量制御装置
    において、前記コネクタ部を収容し得る大きさの空間を
    形成すべく前記制御基板は複数に分割されて前記ケーシ
    ングの幅方向に並設されると共に前記質量流量検出セン
    サ部のセンサ管は、比較的短く設定され、前記コネクタ
    部は、前記質量流量検出センサ部の上方に位置されると
    共に前記ケーシングの側壁に設けられることを特徴とす
    るガス質量流量制御装置。
  3. 【請求項3】 前記コネクタ部は、1つであり、このコ
    ネクタ部はデジタル信号用の接続部とアナログ信号用の
    接続部の双方を含むことを特徴とする請求項2記載のガ
    ス質量流量制御装置。
  4. 【請求項4】 前記ガス質量流量制御装置の高さをH、
    前記装置のガス流体流れ方向の長さをLとした場合に、
    0.8≦H/L≦1.2の関係を有することを特徴とす
    る請求項1乃至3記載のガス質量流量制御装置。
  5. 【請求項5】 前記流体通路は比較的熱容量の大きなボ
    ディ部に形成され、このボディ部は前記ガス質量流量制
    御装置の高さ方向の一端部側に配置されていることを特
    徴とする請求項1乃至4記載のガス質量流量制御装置。
  6. 【請求項6】 前記流体通路は、比較的熱容量の大きな
    ボディ部に形成され、このボディ部の高さ方向の一側
    に、前記質量流量検出センサ部と、アクチュエータ部
    と、制御基板と、コネクタ部とを配置するように構成し
    たことを特徴とする請求項1乃至5記載のガス質量流量
    制御装置。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000013957A (ko) * 1998-08-14 2000-03-06 윤종용 반도체장치 제조설비의 가스유량조절기
JP2005514613A (ja) * 2001-12-21 2005-05-19 エムケーエス インスツルメント,インコーポレーテッド 質量流量制御装置の熱管理のための装置及び方法
JP2006072510A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd 流体制御装置
KR100684874B1 (ko) * 2004-11-23 2007-02-20 삼성전자주식회사 질량 유량 제어기 및 그것의 동작방법
CN103392158A (zh) * 2010-12-23 2013-11-13 林肯环球股份有限公司 具有多条气体流道的气体流量调节器
KR20150145699A (ko) 2014-06-20 2015-12-30 가부시키가이샤 호리바 에스텍 중계기
JP2016102807A (ja) * 2016-02-15 2016-06-02 株式会社堀場エステック 流体制御用機器
JP2017508119A (ja) * 2014-02-28 2017-03-23 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated パイロット弁構造およびマスフローコントローラ
JP2017182337A (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 株式会社堀場エステック 流体制御装置
JP2020091107A (ja) * 2018-12-03 2020-06-11 株式会社堀場エステック 流体制御装置、流体制御装置用制御方法、及び、流体制御装置用プログラム
JP2021134880A (ja) * 2020-02-28 2021-09-13 株式会社フジキン ガスボックス、ガスボックスシステムおよび半導体製造装置
WO2023228555A1 (ja) * 2022-05-26 2023-11-30 株式会社フジキン 流体制御装置、流体制御システムおよびバルブ制御装置
TWI835017B (zh) * 2020-10-31 2024-03-11 日商富士金股份有限公司 流體控制器用框體及具備該框體的流體控制器

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000013957A (ko) * 1998-08-14 2000-03-06 윤종용 반도체장치 제조설비의 가스유량조절기
JP2005514613A (ja) * 2001-12-21 2005-05-19 エムケーエス インスツルメント,インコーポレーテッド 質量流量制御装置の熱管理のための装置及び方法
KR101225488B1 (ko) * 2001-12-21 2013-01-23 엠케이에스 인스트루먼츠 인코포레이티드 열 질량 유동 제어기
JP2006072510A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd 流体制御装置
KR100684874B1 (ko) * 2004-11-23 2007-02-20 삼성전자주식회사 질량 유량 제어기 및 그것의 동작방법
CN103392158A (zh) * 2010-12-23 2013-11-13 林肯环球股份有限公司 具有多条气体流道的气体流量调节器
JP2017508119A (ja) * 2014-02-28 2017-03-23 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated パイロット弁構造およびマスフローコントローラ
KR20150145699A (ko) 2014-06-20 2015-12-30 가부시키가이샤 호리바 에스텍 중계기
US10216162B2 (en) 2014-06-20 2019-02-26 Horiba Stec, Co., Ltd. Fluid control and measurement system with a relay
JP2016102807A (ja) * 2016-02-15 2016-06-02 株式会社堀場エステック 流体制御用機器
JP2017182337A (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 株式会社堀場エステック 流体制御装置
JP2020091107A (ja) * 2018-12-03 2020-06-11 株式会社堀場エステック 流体制御装置、流体制御装置用制御方法、及び、流体制御装置用プログラム
JP2021134880A (ja) * 2020-02-28 2021-09-13 株式会社フジキン ガスボックス、ガスボックスシステムおよび半導体製造装置
TWI835017B (zh) * 2020-10-31 2024-03-11 日商富士金股份有限公司 流體控制器用框體及具備該框體的流體控制器
WO2023228555A1 (ja) * 2022-05-26 2023-11-30 株式会社フジキン 流体制御装置、流体制御システムおよびバルブ制御装置

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