JPH07207444A - Vacuum deposition device - Google Patents

Vacuum deposition device

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Publication number
JPH07207444A
JPH07207444A JP146594A JP146594A JPH07207444A JP H07207444 A JPH07207444 A JP H07207444A JP 146594 A JP146594 A JP 146594A JP 146594 A JP146594 A JP 146594A JP H07207444 A JPH07207444 A JP H07207444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
vapor deposition
substrate
expander
vacuum
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP146594A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuyoshi Nakaishi
信義 中石
Yasutaka Mori
康孝 守
Toshio Taguchi
俊夫 田口
Kenji Shinya
謙治 新屋
Hajime Okita
肇 沖田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP146594A priority Critical patent/JPH07207444A/en
Publication of JPH07207444A publication Critical patent/JPH07207444A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a vacuum deposition device in which safe and good vacuum deposition can be performed. CONSTITUTION:The vacuum deposition device has a vapor deposition chamber in a vacuum vessel equipped with a cooling roll 4 on which a substrate 1 is wound and travelled from an expander roll 9 and a vapor deposition device 17 to perform vacuum deposition on the substrate while travelling. The distance from the end position of winding on the expander roll 9 to the initial position of winding on the cooling roll 4 is specified to <=500mm so that vacuum deposition is performed while proper tensile state is kept.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックフィル
ム、紙等の走行基板に、金属材料または非金属材料を真
空蒸着する装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for vacuum-depositing a metallic material or a non-metallic material on a running substrate such as a plastic film or paper.

【0002】[0002]

【従来の技術】真空容器内で、走行する基板にアルミ等
の金属を真空蒸着により成膜する装置の一例を図3に示
す。
2. Description of the Related Art FIG. 3 shows an example of an apparatus for depositing a metal such as aluminum on a moving substrate in a vacuum container by vacuum deposition.

【0003】基板1は払出しリール105から払い出さ
れた後、ガイドロール103を通り、冷却ロール104
に巻回しながらるつぼ115及び加熱コイル116より
成る蒸着装置107により蒸着材117が真空蒸着され
た後、再びガイドロール103を経て巻取りリール10
6に巻き取られる。
After the substrate 1 is delivered from the delivery reel 105, it passes through a guide roll 103 and a cooling roll 104.
The vapor deposition material 117 is vacuum-deposited by the vapor deposition device 107 composed of the crucible 115 and the heating coil 116 while being wound around, and then the winding reel 10 is passed through the guide roll 103 again.
Take up to 6.

【0004】基板1は、エキスパンダロール109を通
過する際に幅方向に少し緊張されて、冷却ロール104
下面側を通過する間に真空蒸着される。尚、図中114
は真空排気装置である。
When the substrate 1 passes through the expander roll 109, the substrate 1 is slightly tensioned in the width direction, and the cooling roll 104
It is vacuum-deposited while passing through the lower surface side. Incidentally, in the figure, 114
Is an evacuation device.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、基板
1は蒸着される前、幅方向の緩みを除くため、エキスパ
ンダロール109によって幅方向に緊張される。
As described above, the substrate 1 is tensioned in the width direction by the expander rolls 109 in order to remove the looseness in the width direction before vapor deposition.

【0006】図4は、そのエキスパンダロール109の
構造を示したもので、エキスパンダロール109は固定
軸120に複数の軸受118を取り付け、その外周にゴ
ムなどの可撓性材料の外輪119を嵌合したもので、ロ
ール幅長が周方向に緩く変化している(最長幅=l1
平均幅=l3 ,最短幅=l2 )。
FIG. 4 shows the structure of the expander roll 109. In the expander roll 109, a plurality of bearings 118 are attached to a fixed shaft 120, and an outer ring 119 made of a flexible material such as rubber is provided on the outer periphery thereof. They are fitted together, and the roll width changes loosely in the circumferential direction (longest width = l 1 ,
Average width = l 3 , shortest width = l 2 ).

【0007】このため、外輪119は1回転する間に平
均幅m-m より最長幅k-k 側で伸張し、逆に最短幅n-n 側
で収縮する。
Therefore, the outer ring 119 expands on the longest width kk side of the average width mm during one rotation, and conversely contracts on the shortest width nn side.

【0008】そこで、走行する基板1を最短幅n-n 位置
から最長幅k-k 位置に至る間に外輪119と接するよう
にエキスパンダロール109を調整、設置することによ
り、基板1は常に幅方向の緊張力が付与された状態で、
連続して冷却ロール104へ送られるようになる。
Therefore, by adjusting and installing the expander roll 109 so that the traveling substrate 1 is in contact with the outer ring 119 from the position of the shortest width nn to the position of the longest width kk, the substrate 1 is always tensioned in the width direction. With is attached,
It is continuously fed to the cooling roll 104.

【0009】ところが、エキスパンダロール109の設
置位置が適切でなく、基板1のエキスパンダロール10
9との巻付終了位置と、冷却ロール104との巻付開始
位置との距離が遠すぎる場合には、基板1に対する幅方
向緊張効果が薄れて蒸着時に基板1には熱による変形、
変質などが発生するようになり、逆に近すぎる場合に
は、蒸着装置117からの高熱の影響が強くなってエキ
スパンダロール109が損傷したり、基板1に対する事
前の冷却処理が悪いと上記同様の熱変形、熱変質が生じ
るようになるなどの問題があった。
However, the installation position of the expander roll 109 is not appropriate, and the expander roll 10 of the substrate 1 is not installed.
If the distance between the winding end position with 9 and the winding start position with the cooling roll 104 is too large, the effect of tension in the width direction on the substrate 1 is weakened and the substrate 1 is deformed by heat during vapor deposition.
If the deterioration occurs, and if it is too close, on the contrary, the influence of high heat from the vapor deposition device 117 becomes strong and the expander roll 109 is damaged, or if the cooling process in advance for the substrate 1 is bad, the same as above. There was a problem such as the thermal deformation and thermal deterioration of.

【0010】そこで、本発明は、安全かつ良好な真空蒸
着を行える真空蒸着装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a vacuum vapor deposition apparatus which can perform safe and excellent vacuum vapor deposition.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の、本発明に係る真空蒸着装置は、真空容器内において
基板がエキスパンダロールを経て巻回・走行する冷却ロ
ール及び同冷却ロールを通過中の基板に真空蒸着を行う
蒸着装置を内設した蒸着室を備えた真空蒸着装置におい
て、前記エキスパンダロールとの巻付終了位置から前記
冷却ロールとの巻付開始位置までの距離を500mm以内
に設定するようにしたことを特徴とする。また、前記エ
キスパンダロールと前記冷却ロールとの間に、同冷却ロ
ールに接するようにタッチロールを設けると好適であ
る。
To achieve the above object, in a vacuum vapor deposition apparatus according to the present invention, a substrate passes through a cooling roll in which a substrate is wound / run through an expander roll and the cooling roll. In a vacuum vapor deposition apparatus having a vapor deposition chamber in which a vapor deposition apparatus for performing vacuum vapor deposition on a substrate is provided, a distance from a winding end position with the expander roll to a winding start position with the cooling roll is within 500 mm. It is characterized in that it is set to. Further, it is preferable to provide a touch roll between the expander roll and the cooling roll so as to be in contact with the cooling roll.

【0012】[0012]

【作用】前記構成によれば、蒸着室内に搬入された基板
は、エキスパンダロールを通過する際に幅方向に緊張さ
れて緩みが除かれ、またタッチロールによって冷却ロー
ルへ確実に巻き付けられ、適正な緊張状態を保持して真
空蒸着される。
According to the above construction, the substrate carried into the vapor deposition chamber is tensioned in the width direction to remove looseness when passing through the expander roll, and is reliably wound around the cooling roll by the touch roll, so It is vacuum-deposited while maintaining a perfect tension.

【0013】[0013]

【実施例】以下添付図面に基づいて、本発明の一実施例
を説明する。図1は本発明に係る真空蒸着装置の要部構
成図を示すもので、払出装置、巻取装置及び蒸着室は図
3と同様であるので、図3を参照してここでは省略す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic view of a main part of a vacuum vapor deposition device according to the present invention. Since a payout device, a winding device and a vapor deposition chamber are the same as those in FIG. 3, they are omitted here with reference to FIG.

【0014】図示のように、蒸着室内には冷却ロール4
と、るつぼ15及び加熱コイル16より成る蒸着装置1
7とが設置され、また払出装置(図示せず)と冷却ロー
ル4との間(入側)にはガイドローラ3及びエキスパン
ダロール9が設置される。尚、エキスパンダロール9の
構成は図4と同様なので、図4を参照してここでは詳し
い説明は省略する。
As shown, a cooling roll 4 is provided in the vapor deposition chamber.
And a vapor deposition apparatus 1 comprising a crucible 15 and a heating coil 16.
7, and a guide roller 3 and an expander roll 9 are installed between the payout device (not shown) and the cooling roll 4 (on the input side). Since the expander roll 9 has the same configuration as that shown in FIG. 4, detailed description thereof will be omitted here with reference to FIG.

【0015】更に、エキスパンダロール9と冷却ロール
4との間にはタッチロール18が設置されるが、この
際、エキスパンダロール9は、基板1の同ロール9との
巻付終了位置から冷却ロール4との巻付開始位置までの
距離LがL=500mm以内になるように設置されてい
る。
Further, a touch roll 18 is installed between the expander roll 9 and the cooling roll 4. At this time, the expander roll 9 is cooled from the winding end position of the substrate 1 with the roll 9. It is installed so that the distance L to the winding start position with the roll 4 is within L = 500 mm.

【0016】このように構成されるため、払出装置から
払い出された基板1は、ガイドロール3を経てエキスパ
ンダロール9を通過する際、幅方向に所定の緊張力が付
与されて緩みが除去され、次いでタッチロール18によ
り冷却ロール4へ確実に巻き付けられて走行し、冷却ロ
ール4下面側を通過する間に蒸着装置17によって真空
蒸着された後、エキスパンダロール9及びガイドロール
(図示せず)を経て同じく図示しない巻取装置に巻き取
られる。
With this structure, when the substrate 1 dispensed from the dispenser passes through the guide roll 3 and the expander roll 9, a predetermined tension force is applied in the width direction to remove looseness. Then, the touch roll 18 is surely wound around the cooling roll 4 to run, and vacuum vapor deposition is performed by the vapor deposition device 17 while passing through the lower surface side of the cooling roll 4, and then the expander roll 9 and the guide roll (not shown). ) And is wound up by a winding device (not shown).

【0017】上述した基板1の走行動作の際、エキスパ
ンダロール9により基板1に付与された特定箇所の緊張
力は、その箇所がエキスパンダロール9を離れると次第
に減少する。
During the traveling operation of the substrate 1 described above, the tension force applied to the substrate 1 by the expander roll 9 gradually decreases when the portion leaves the expander roll 9.

【0018】図2は、この基板1に付与された幅方向緊
張力(基板幅の伸び)の減少状況を調査したグラフで、
縦軸に基板幅(特定箇所の)変化率(%)、横軸に同じ
く走行距離(mm)を示す。ここで、点a−bはエキスパ
ンダロール9との巻付長さを示す。
FIG. 2 is a graph in which the reduction state of the tension force in the width direction (extension of the substrate width) applied to the substrate 1 is investigated.
The vertical axis shows the change rate (%) of the board width (at a specific location), and the horizontal axis shows the travel distance (mm). Here, points a-b indicate the winding length with the expander roll 9.

【0019】このグラフより解るように、基板幅の変化
率はエキスパンダロール9との巻付終点bで最高値(1
%)に達した後、エキスパンダロール9から離れるとほ
ぼ直線的に減少し、b点から500mm以上離れると変化
率はほぼ0%になっている。この傾向は、エキスパンダ
ロール9との巻付長さ(ロール径、基板の巻付入射角に
関係する)を多少変えても殆ど変らないことが確認され
ている。
As can be seen from this graph, the rate of change of the substrate width is the maximum value (1) at the end point b of winding with the expander roll 9.
%), It decreases almost linearly away from the expander roll 9, and the rate of change is almost 0% at a distance of 500 mm or more from point b. It has been confirmed that this tendency hardly changes even if the winding length with respect to the expander roll 9 (related to the roll diameter and the winding incident angle of the substrate) is slightly changed.

【0020】本装置はこの調査データを基に、基板1の
エキスパンダロール9との巻付終了位置から、冷却ロー
ル4との巻付開始位置までの距離が500mm以内になる
ようにエキスパンダロール9を設置するので、基板1
は、エキスパンダロール9によって幅方向の緊張力が保
持された状態で冷却ロール4へ送られるようになり、更
に、タッチロール18の作用で冷却ロール4との巻付き
が確実となり、これによって安全かつ良好な真空蒸着が
行われる。
Based on this survey data, this apparatus uses an expander roll so that the distance from the winding end position of the substrate 1 with the expander roll 9 to the winding start position of the cooling roll 4 is within 500 mm. 9 is installed, so substrate 1
Is sent to the cooling roll 4 while the tension force in the width direction is held by the expander roll 9, and the action of the touch roll 18 ensures the winding around the cooling roll 4, thereby ensuring safety. And good vacuum deposition is performed.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、蒸
着室内に搬入された基板はエキスパンダロールを通過す
る際に幅方向に適正な緊張力が付与されて緩みが除去さ
れ、この緊張状態が保持されたまま冷却ロールへ送られ
るようになり、また、タッチロールによって冷却ロール
との巻付きが確実に行われる。これらによって、蒸着
時、基板に生じやすい熱変形、熱変質が抑制され、また
エキスパンダロール等の損傷も起こらず、安全かつ良好
な真空蒸着を行うことができる。
As described above, according to the present invention, when the substrate carried into the deposition chamber is passed through the expander roll, a proper tension force is applied in the width direction so that the looseness is removed and the tension is reduced. The state is maintained and the sheet is fed to the cooling roll, and the touch roll ensures the winding around the cooling roll. By these, thermal deformation and thermal alteration that are likely to occur on the substrate during vapor deposition are suppressed, and damage to the expander roll and the like does not occur, and safe and favorable vacuum vapor deposition can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る真空蒸着装置の一実施例の要部構
成図である。
FIG. 1 is a main part configuration diagram of an embodiment of a vacuum vapor deposition device according to the present invention.

【図2】本装置の効果を示すデータ図である。FIG. 2 is a data diagram showing an effect of this device.

【図3】従来の連続真空蒸着装置を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a conventional continuous vacuum deposition apparatus.

【図4】エキスパンダロールの構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of an expander roll.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 3 ガイドロール 4 冷却ロール 9 エキスパンダロール 17 蒸着装置 18 タッチロール 1 Substrate 3 Guide Roll 4 Cooling Roll 9 Expander Roll 17 Vapor Deposition Device 18 Touch Roll

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新屋 謙治 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 沖田 肇 広島県広島市西区観音新町四丁目6番22号 三菱重工業株式会社広島研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kenji Shinya 4-6-22 Kannon Shinmachi, Nishi-ku, Hiroshima City, Hiroshima Prefecture Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Hiroshima Research Institute (72) Hajime Okita 4-chome, Kannon Shinmachi, Nishi-ku, Hiroshima Prefecture 6-22 No. 22 Hiroshima Research Laboratory, Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空容器内において基板がエキスパンダ
ロールを経て巻回・走行する冷却ロール及び同冷却ロー
ルを通過中の基板に真空蒸着を行う蒸着装置を内設した
蒸着室を備えた真空蒸着装置において、前記エキスパン
ダロールとの巻付終了位置から前記冷却ロールとの巻付
開始位置までの距離を500mm以内に設定するようにし
たことを特徴とする真空蒸着装置。
1. A vacuum vapor deposition device comprising a cooling roll in which a substrate is wound and runs through an expander roll in a vacuum container, and a vapor deposition chamber internally provided with a vapor deposition device for performing vacuum vapor deposition on the substrate passing through the cooling roll. In the apparatus, the distance from the winding end position with the expander roll to the winding start position with the cooling roll is set within 500 mm, which is a vacuum vapor deposition device.
【請求項2】 前記エキスパンダロールと前記冷却ロー
ルとの間に、同冷却ロールに接するようにタッチロール
を設けた請求項1記載の真空蒸着装置。
2. The vacuum vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein a touch roll is provided between the expander roll and the cooling roll so as to be in contact with the cooling roll.
JP146594A 1994-01-12 1994-01-12 Vacuum deposition device Withdrawn JPH07207444A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP146594A JPH07207444A (en) 1994-01-12 1994-01-12 Vacuum deposition device

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JP146594A JPH07207444A (en) 1994-01-12 1994-01-12 Vacuum deposition device

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