JP7355519B2 - Winding type film forming equipment and vacuum processing method - Google Patents

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Description

本発明は、成膜用フィルム、巻取式成膜装置、及び真空処理方法に関する。 The present invention relates to a film for film formation, a winding type film formation apparatus, and a vacuum processing method.

巻取式成膜装置では、巻出ローラから成膜用フィルム(web)が繰り出され、その成膜面に成膜処理がなされた後、成膜用フィルムが巻取ローラに巻き取られる。但し、成膜用フィルムは、帯状で長尺であるため、巻取ローラに巻き取られる成膜用フィルムに皺が発生する場合がある。 In a winding type film forming apparatus, a film forming film (web) is unwound from an unwinding roller, a film forming process is performed on the film forming surface thereof, and then the film forming film is wound up by a winding roller. However, since the film for film formation is long and strip-shaped, wrinkles may occur in the film for film formation taken up by the take-up roller.

このような状況の中、成膜用フィルムに印加される張力、熱等の成膜条件を調整して、成膜用フィルムの皺発生を抑制する試みがなされている(例えば、特許文献1参照)。 Under these circumstances, attempts have been made to suppress the occurrence of wrinkles in the film for film formation by adjusting film formation conditions such as tension and heat applied to the film for film formation (for example, see Patent Document 1). ).

特開2009-228014号公報Japanese Patent Application Publication No. 2009-228014

しかしながら、成膜中に発生する成膜用フィルムの皺発生を成膜条件で抑制しても、成膜用フィルムが巻取ローラに巻き取られる巻取開始時に、成膜用フィルムに既に皺が発生している場合には、続けて巻き取られる成膜用フィルムに該皺が転写される可能性がある。この場合、成膜条件で調整しても、成膜用フィルムに皺が残存することになる。 However, even if the formation of wrinkles in the film for film formation during film formation is suppressed by the film forming conditions, the film for film for film formation already has wrinkles at the start of winding when the film for film formation is wound around the take-up roller. If wrinkles have occurred, there is a possibility that the wrinkles will be transferred to the film forming film that is subsequently wound up. In this case, wrinkles will remain in the film for film formation even if the film formation conditions are adjusted.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、より確実に皺発生が抑制される成膜用フィルム、巻取式成膜装置、及び真空処理方法を提供することにある。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a film-forming film, a winding-type film-forming apparatus, and a vacuum processing method that more reliably suppress the occurrence of wrinkles.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る成膜用フィルムは、巻出ローラから繰り出され、成膜面に真空処理がなされ、巻取ローラに巻き取られる帯状の成膜用フィルムである。
上記成膜用フィルムの両端は、第1端と第2端とで構成される。
上記成膜用フィルムが上記巻出ローラ及び上記巻取ローラに支持され、上記成膜用フィルムが上記第1端を始点として上記巻取ローラに巻回され始めるときに、上記第1端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第1領域は、上記第1領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数の領域を有する。
In order to achieve the above object, a film-forming film according to one embodiment of the present invention is a belt-shaped film-forming film that is unwound from an unwinding roller, subjected to vacuum treatment on the film-forming surface, and then wound around a take-up roller. be.
Both ends of the film for film formation are comprised of a first end and a second end.
The film-forming film is supported by the unwinding roller and the take-up roller, and when the film-forming film starts to be wound around the take-up roller starting from the first end, at least The first region including the length region up to the unwinding roller has a surface friction coefficient different from the surface friction coefficient of the other regions.

このような成膜用フィルムであれば、巻取ローラに巻き取られる開始直後に成膜用フィルムが巻取ローラの軸心方向に滑りやすくなり、成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。 With such a film-forming film, the film-forming film easily slides in the axial direction of the take-up roller immediately after it starts being wound up on the take-up roller, and wrinkles are less likely to occur in the film-forming film.

上記の成膜用フィルムにおいては、上記成膜用フィルムは、上記成膜面である第1面と、上記第1面とは反対側の第2面とを有し、上記第2面において、上記第1領域の少なくとも一部が上記第1領域以外の領域における上記表面摩擦係数よりも小さく構成されてもよい。 In the above-mentioned film-forming film, the film-forming film has a first surface that is the film-forming surface and a second surface opposite to the first surface, and in the second surface, At least a portion of the first region may be configured to have a smaller coefficient of surface friction than the surface friction coefficient in regions other than the first region.

このような成膜用フィルムであれば、上記第2面において、上記第1領域の少なくとも一部が上記第1領域以外の領域における上記表面摩擦係数よりも小さく構成されているため、巻取ローラに巻き取られる成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。 With such a film-forming film, on the second surface, at least a part of the first region is configured to be smaller than the surface friction coefficient in the region other than the first region, so that the take-up roller Wrinkles are less likely to occur in the deposition film that is wound up.

上記の成膜用フィルムにおいては、上記成膜用フィルムが上記第2端を始点として上記巻取ローラに巻回され始めるときに、上記第2端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第2領域は、上記第2領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有してもよい。 In the above-mentioned film-forming film, when the film-forming film starts to be wound around the take-up roller starting from the second end, the length region from the second end to at least the unwinding roller is The included second region may have a surface friction coefficient different from that of the other regions.

このような成膜用フィルムであれば、上記第2端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第2領域は、上記第2領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有しているため、巻取ローラに巻き取られる成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。 In such a film-forming film, the second region including the length region from the second end to at least the unwinding roller has a surface friction coefficient different from that of the other regions. Therefore, wrinkles are less likely to occur in the film forming film that is wound up on the take-up roller.

上記の成膜用フィルムにおいては、上記第1面において、上記第2領域の少なくとも一部が上記第2領域以外の領域における上記表面摩擦係数よりも小さく構成されてもよい。 In the film for film formation, at least a portion of the second region on the first surface may be configured to have a smaller coefficient of surface friction than the surface friction coefficient of the region other than the second region.

このような成膜用フィルムであれば、上記第1面において、上記第2領域の少なくとも一部が上記第2領域以外の領域における上記表面摩擦係数よりも小さく構成されているため、巻取ローラに巻き取られる成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。 With such a film-forming film, on the first surface, at least a part of the second region is configured to be smaller than the surface friction coefficient in the region other than the second region, so that the take-up roller Wrinkles are less likely to occur in the deposition film that is wound up.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る巻取式成膜装置は、両端が第1端と第2端とで構成され、帯状の成膜用フィルムを巻出ローラから繰り出し、巻取ローラに巻き取りながら、上記成膜用フィルムの成膜面に真空処理する巻取式成膜装置である。
上記の巻取式成膜装置は、上記成膜用フィルムが上記第1端を始点として上記巻取ローラに巻回され始めるときに、上記第1端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第1領域に対して、上記第1領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有するように表面処理をする表面処理機構を具備する。
In order to achieve the above object, a winding type film forming apparatus according to one embodiment of the present invention has a first end and a second end, and unwinds a belt-shaped film forming film from an unwinding roller, and This is a winding-type film-forming apparatus that vacuum-processes the film-forming surface of the film-forming film while winding it around a take-up roller.
The above-mentioned winding-type film-forming apparatus has a length region from the first end to at least the unwinding roller when the film-forming film starts to be wound around the winding roller starting from the first end. A surface treatment mechanism is provided that performs surface treatment on the first area including the area so as to have a surface friction coefficient different from the surface friction coefficient of the area other than the first area.

このような巻取式成膜装置であれば、巻取ローラに巻き取られる開始直後に成膜用フィルムが巻取ローラの軸心方向に滑りやすくなり、成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。 With such a winding-type film-forming device, the film-forming film easily slides in the axial direction of the wind-up roller immediately after it starts being wound up on the wind-up roller, making it difficult for wrinkles to occur in the film-forming film. Become.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る真空処理方法は、両端が第1端と第2端とで構成され、帯状の成膜用フィルムを巻出ローラから繰り出し、巻取ローラに巻き取りながら、上記成膜用フィルムの成膜面に真空処理する真空処理方法である。
上記の真空処理方法では、上記成膜用フィルムが上記第1端を始点として上記巻取ローラに巻回され始めるときに、上記第1端から少なくとも上記巻出ローラまでの長さ領域を含む第1領域に対して、上記第1領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有するように表面処理がされる。
In order to achieve the above object, a vacuum processing method according to one embodiment of the present invention includes a belt-shaped film forming film whose both ends are composed of a first end and a second end, and which is unwound from an unwinding roller and placed on a take-up roller. This is a vacuum processing method in which the film-forming surface of the film for film-forming is vacuum-processed while being rolled up.
In the above-described vacuum processing method, when the film-forming film starts to be wound around the take-up roller starting from the first end, a first end that includes a length region from the first end to at least the unwinding roller is set. One area is surface-treated to have a surface friction coefficient different from that of the areas other than the first area.

このような真空処理方法であれば、巻取ローラに巻き取られる開始直後に成膜用フィルムが巻取ローラの軸心方向に滑りやすくなり、成膜用フィルムに皺が発生しにくくなる。 With such a vacuum processing method, the film-forming film easily slides in the axial direction of the take-up roller immediately after it starts being wound up on the take-up roller, and wrinkles are less likely to occur in the film-forming film.

以上述べたように、本発明によれば、より確実に皺発生が抑制される成膜用フィルム、巻取式成膜装置、及び真空処理方法が提供される。 As described above, according to the present invention, there are provided a film forming film, a winding type film forming apparatus, and a vacuum processing method in which the generation of wrinkles is more reliably suppressed.

図(a)は、本実施形態に係る成膜用フィルムの模式的斜視図である。図(b)、(c)は、本実施形態に係る成膜用フィルムが巻出ローラに巻き取られている様子を示す模式的斜視図である。Figure (a) is a schematic perspective view of a film-forming film according to this embodiment. Figures (b) and (c) are schematic perspective views showing how the film-forming film according to the present embodiment is wound around an unwinding roller. 本実施形態に係る巻取式成膜装置の模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a winding type film forming apparatus according to the present embodiment. 図(a)は、比較例に係る成膜用フィルムが巻取ローラに巻かれ始めた直後の様子を示す模式的斜視図である。図(b)は、本実施形態に係る成膜用フィルムが巻取ローラに巻かれ始めた直後の様子を示す模式的斜視図である。Figure (a) is a schematic perspective view showing the state immediately after the film-forming film according to the comparative example starts being wound around a take-up roller. Figure (b) is a schematic perspective view showing the state immediately after the film-forming film according to the present embodiment starts being wound around a take-up roller.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。各図面には、XYZ軸座標が導入される場合がある。また、同一の部材または同一の機能を有する部材には同一の符号を付す場合があり、その部材を説明した後には適宜説明を省略する場合がある。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each drawing, XYZ axis coordinates may be introduced. In addition, the same members or members having the same function may be given the same reference numerals, and the description may be omitted as appropriate after the member has been described.

図1(a)は、本実施形態に係る成膜用フィルムの模式的斜視図である。図1(b)、(c)は、本実施形態に係る成膜用フィルムが巻出ローラに巻き取られている様子を示す模式的斜視図である。図2は、本実施形態に係る巻取式成膜装置の模式的断面図である。 FIG. 1(a) is a schematic perspective view of a film-forming film according to this embodiment. FIGS. 1(b) and 1(c) are schematic perspective views showing the film forming film according to the present embodiment being wound around an unwinding roller. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the winding type film forming apparatus according to this embodiment.

図1(a)、(b)に示す成膜用フィルム100は、巻取式成膜装置1(図2)に設置される帯状であって長尺のフィルム基材である。成膜用フィルム100としては、金属フィルム、樹脂フィルム、または金属膜がコーティングされた樹脂フィルム等があげられる。 The film-forming film 100 shown in FIGS. 1(a) and 1(b) is a strip-shaped and elongated film base material installed in the winding-type film-forming apparatus 1 (FIG. 2). Examples of the film-forming film 100 include a metal film, a resin film, a resin film coated with a metal film, and the like.

成膜用フィルム100の両端は、第1端101と第2端102とで構成される。また、成膜用フィルム100は、真空処理がされる第1面111と、第1面111とは反対側の第2面112とを有する。第1面111は、成膜面である。本実施形態では、第1面111のみが成膜面であるとは限らない。成膜用フィルム100に両面成膜を試みる場合には、第2面112も成膜面になる。 Both ends of the film-forming film 100 are comprised of a first end 101 and a second end 102. Further, the film-forming film 100 has a first surface 111 that is subjected to vacuum treatment, and a second surface 112 opposite to the first surface 111. The first surface 111 is a film formation surface. In this embodiment, the first surface 111 is not necessarily the only surface on which the film is formed. When attempting double-sided film formation on the film-forming film 100, the second surface 112 also becomes a film-forming surface.

成膜用フィルム100は、巻取式成膜装置1内では、巻出ローラ31及び巻取ローラ32に支持される。成膜用フィルム100は、巻出ローラ31から繰り出され、主ローラ10で所定の巻付角度で巻回され、主ローラ10上で、前処理、成膜処理等がなされる。この後、成膜用フィルム100は、巻取ローラ32に巻き取られる。 The film-forming film 100 is supported by an unwinding roller 31 and a winding roller 32 in the winding-type film-forming apparatus 1 . The film-forming film 100 is unwound from the unwinding roller 31, wound around the main roller 10 at a predetermined winding angle, and subjected to pretreatment, film-forming processing, etc. on the main roller 10. After this, the film-forming film 100 is wound up by the take-up roller 32.

ここで、成膜用フィルム100が第1端101を始点として巻取ローラ32に巻回され始めるときに、成膜用フィルム100における第1端101から少なくとも巻出ローラ31までの長さ領域を含む領域を第1領域110とする。 Here, when the film-forming film 100 starts to be wound around the take-up roller 32 starting from the first end 101, the length region of the film-forming film 100 from the first end 101 to at least the unwinding roller 31 is The area including the first area is referred to as a first area 110.

例えば、第1端101から成膜用フィルム100が巻出ローラ31から放れる位置Pまでの領域を通紙領域110aとした場合、第1領域110は、通紙領域110aと、通紙領域110aに連なる連通領域110bとを有する。 For example, when the area from the first end 101 to the position P where the film-forming film 100 is released from the unwinding roller 31 is set as the paper passing area 110a, the first area 110 is the paper passing area 110a and the paper passing area 110a. It has a communication area 110b that is connected to.

第1領域110には、選択的な表面処理が施され、成膜用フィルム100においては、第1領域110が第1領域110以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有している。つまり、第1領域110の少なくとも一部と、第1領域110以外とで、表面摩擦係数が異なっている。例えば、第2面112において、第1領域110の少なくとも一部における表面摩擦係数は、第1領域110以外の領域における表面摩擦係数よりも小さく構成されている。 The first region 110 is subjected to a selective surface treatment, and in the film-forming film 100, the first region 110 has a surface friction coefficient different from that of other regions. That is, at least a portion of the first region 110 and a region other than the first region 110 have different surface friction coefficients. For example, on the second surface 112, the surface friction coefficient in at least a portion of the first region 110 is configured to be smaller than the surface friction coefficient in regions other than the first region 110.

また、このような表面摩擦係数が領域によって異なる構成は、第2面112に限らず、第1面111において、第1領域110の少なくとも一部における表面摩擦係数が第1領域110以外の領域における表面摩擦係数よりも小さくてもよい。 Further, such a configuration in which the surface friction coefficient differs depending on the region is not limited to the second surface 112, but in the first surface 111, the surface friction coefficient in at least a part of the first region 110 is different from the surface friction coefficient in the region other than the first region 110. It may be smaller than the surface friction coefficient.

また、成膜用フィルム100の第1面111に成膜処理がなされて、成膜用フィルム100が巻取ローラ32に巻き終えられた後、成膜用フィルム100の第2面112に成膜を試みる場合は、成膜用フィルム100を巻き取った巻取ローラ32が巻出ローラ31として転用される。 Further, after the film forming process is performed on the first surface 111 of the film forming film 100 and the film forming film 100 is finished being wound around the take-up roller 32, a film is formed on the second surface 112 of the film forming film 100. When attempting to do so, the take-up roller 32 that took up the film-forming film 100 is used as the unwinding roller 31.

例えば、図1(c)に示すように、第2面112を成膜面として成膜用フィルム100を巻出ローラ31から繰り出す場合は、第2端102を始点として成膜用フィルム100が巻取ローラ32に巻回される。 For example, as shown in FIG. 1(c), when the film-forming film 100 is fed out from the unwinding roller 31 with the second surface 112 as the film-forming surface, the film-forming film 100 is wound with the second end 102 as the starting point. It is wound around the take-up roller 32.

ここで、成膜用フィルム100が第2端102を始点として巻取ローラ32に巻回され始めるときに、成膜用フィルム100における第2端101から少なくとも巻出ローラ31までの長さ領域を含む領域を第2領域120とする。 Here, when the film-forming film 100 starts to be wound around the take-up roller 32 starting from the second end 102, the length region from the second end 101 of the film-forming film 100 to at least the unwinding roller 31 is The area including this will be referred to as a second area 120.

例えば、第2端102から成膜用フィルム100が巻出ローラ31から放れる位置Pまでの領域を通紙領域120aとした場合、第2領域120は、通紙領域120aと、通紙領域120aに連なる連通領域120bとを有する。 For example, when the area from the second end 102 to the position P where the film-forming film 100 is released from the unwinding roller 31 is defined as the paper passing area 120a, the second area 120 is the paper passing area 120a and the paper passing area 120a. It has a communication area 120b that is connected to.

第2領域110に選択的な表面処理が施され、成膜用フィルム100においては、第2領域120が第2領域120以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有している。つまり、第2領域120の少なくとも一部と、第2領域120以外とで、表面摩擦係数が異なっている。例えば、第1面111において、第2領域120の少なくとも一部における表面摩擦係数は、第2領域120以外の領域における表面摩擦係数よりも小さい。 A selective surface treatment is performed on the second region 110, and in the film-forming film 100, the second region 120 has a surface friction coefficient different from that of other regions. That is, at least a portion of the second region 120 and a region other than the second region 120 have different surface friction coefficients. For example, on the first surface 111, the surface friction coefficient in at least a portion of the second region 120 is smaller than the surface friction coefficient in the region other than the second region 120.

また、このような表面摩擦係数が領域によって異なる構成は、第1面111に限らず、第2面112において、第2領域120の少なくとも一部における表面摩擦係数が第2領域120以外の領域における表面摩擦係数よりも小さくてもよい。 Further, such a configuration in which the surface friction coefficient differs depending on the region is not limited to the first surface 111, but also in the second surface 112, where the surface friction coefficient in at least a part of the second region 120 is different from the surface friction coefficient in the region other than the second region 120. It may be smaller than the surface friction coefficient.

成膜用フィルム100において、第1端101から第2端102までの長さをL0とした場合、長さL0は、10m以上10000m以下に構成されている。また、第1領域110の長さL1、または第2領域120の長さL2は、特に限ることなく、例えば、第1端101から巻出ローラ31までの長さ領域の1倍以上1.5倍以下とされてよく、1m以上50m以下である。また、成膜用フィルム100の厚みは、4μm以上数100μm以下である。 In the film-forming film 100, when the length from the first end 101 to the second end 102 is L0, the length L0 is configured to be 10 m or more and 10000 m or less. Further, the length L1 of the first region 110 or the length L2 of the second region 120 is not particularly limited, and is, for example, 1.5 times or more the length region from the first end 101 to the unwinding roller 31. It may be twice or less, and is 1 m or more and 50 m or less. Moreover, the thickness of the film-forming film 100 is 4 μm or more and several 100 μm or less.

成膜用フィルム100の材料は、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、ステンレス箔、樹脂フィルムの少なくともいずれかを含む。樹脂としては、PET樹脂、OPP樹脂、CPP樹脂、PE樹脂、PEN樹脂、PI樹脂、PP樹脂等のいずれかを含む。 The material of the film-forming film 100 includes at least one of copper foil, aluminum foil, nickel foil, stainless steel foil, and resin film. The resin includes any one of PET resin, OPP resin, CPP resin, PE resin, PEN resin, PI resin, PP resin, and the like.

また、通紙領域110aにおいては、第1端101から1m以上20m以下の領域が表面処理されていない未処理領域であってもよい。また、通紙領域120aにおいては、第2端102から1m以上20m以下の領域が表面処理されていない未処理領域であってもよい。このような未処理領域は、巻取ローラ32に成膜用フィルム100を取り付け支持するための係止領域となる。 Further, in the paper passing area 110a, an area extending from 1 m to 20 m from the first end 101 may be an untreated area where the surface is not treated. Further, in the paper passing area 120a, an area extending from 1 m to 20 m from the second end 102 may be an untreated area where the surface is not treated. Such an unprocessed area becomes a locking area for attaching and supporting the film-forming film 100 to the take-up roller 32.

成膜用フィルム100における、第1領域110または第2領域120の表面摩擦係数は、巻取式成膜装置1内に成膜用フィルム100を設置する事前に調整してもよく、後述する巻取式成膜装置1内で、第1領域110または第2領域120の表面摩擦係数を調整する表面処理を行ってもよい。 The surface friction coefficient of the first region 110 or the second region 120 in the film-forming film 100 may be adjusted before the film-forming film 100 is installed in the winding-type film-forming apparatus 1. Surface treatment for adjusting the surface friction coefficient of the first region 110 or the second region 120 may be performed within the transfer-type film forming apparatus 1 .

図2に示す巻取式成膜装置1は、真空容器70内で成膜用フィルム100が走行しながら、成膜用フィルム100の成膜面(第1面111または第2面112)に金属膜(例えば、リチウム膜)が形成される成膜装置である。巻取式成膜装置1は、例えば、主ローラ10と、成膜源20と、フィルム走行機構30と、仕切板40と、表面処理機構60と、真空容器70とを具備する。 In the winding type film forming apparatus 1 shown in FIG. 2, while the film forming film 100 is running in a vacuum container 70, metal is applied to the film forming surface (first surface 111 or second surface 112) of the film forming film 100. This is a film forming apparatus in which a film (for example, a lithium film) is formed. The winding type film forming apparatus 1 includes, for example, a main roller 10, a film forming source 20, a film traveling mechanism 30, a partition plate 40, a surface treatment mechanism 60, and a vacuum container 70.

主ローラ10は、鉄、ステンレス鋼、アルミニウム等の金属製の筒状ローラである。主ローラ10は、中心軸C1を中心に回転する。主ローラ10は、成膜用フィルム100と、成膜源20との間に配置される。主ローラ10の直径は、特に限定されることなく、巻出ローラ31及び巻取ローラ32のそれぞれの直径よりも小さく構成されている。 The main roller 10 is a cylindrical roller made of metal such as iron, stainless steel, or aluminum. The main roller 10 rotates around a central axis C1. The main roller 10 is arranged between the film-forming film 100 and the film-forming source 20. The diameter of the main roller 10 is not particularly limited, and is smaller than the respective diameters of the unwinding roller 31 and the winding roller 32.

巻取式成膜装置1の外部には、主ローラ10を回転駆動させる回転駆動機構が設けられている。あるいは、主ローラ10が回転駆動機構を有してもよい。あるいは、主ローラ10は、回転駆動機構によって回転されず、中心軸10cを中心に自由に回転するローラであってもよい。主ローラ10においては、その外周面10sがローラ面となり、外周面10sが成膜用フィルム100の成膜面とは反対側の成膜用フィルム100の面に当接する。 A rotational drive mechanism for rotationally driving the main roller 10 is provided outside the winding type film forming apparatus 1 . Alternatively, the main roller 10 may have a rotational drive mechanism. Alternatively, the main roller 10 may be a roller that is not rotated by a rotational drive mechanism but rotates freely around the central axis 10c. In the main roller 10, the outer circumferential surface 10s serves as a roller surface, and the outer circumferential surface 10s contacts the surface of the film-forming film 100 opposite to the film-forming surface of the film-forming film 100.

成膜用フィルム100が矢印Aの方向に走行しているとき、例えば、成膜用フィルム100に接する主ローラ10は、反時計回りに回転する。このとき、外周面10sが中心軸10cを中心に動く速度(接線速度)は、例えば、成膜用フィルム100の走行速度と同じ速度に設定される。これにより、成膜用フィルム100の走行中には、外周面10sと成膜用フィルム100との間でずれが起きにくく、成膜面に安定して膜を形成することができる。 When the film-forming film 100 is running in the direction of arrow A, the main roller 10 in contact with the film-forming film 100 rotates counterclockwise, for example. At this time, the speed at which the outer circumferential surface 10s moves around the central axis 10c (tangential speed) is set, for example, to the same speed as the traveling speed of the film-forming film 100. As a result, while the film-forming film 100 is running, misalignment between the outer circumferential surface 10s and the film-forming film 100 is less likely to occur, and a film can be stably formed on the film-forming surface.

本実施形態においては、主ローラ10の内部には、外周面10sの温度を調節する温調媒体循環系等の温調機構が設けられてもよい。温調機構は、例えば、温調媒体循環系等の温調機構である。 In this embodiment, a temperature control mechanism such as a temperature control medium circulation system may be provided inside the main roller 10 to adjust the temperature of the outer circumferential surface 10s. The temperature control mechanism is, for example, a temperature control medium circulation system.

成膜源20は、溶融容器21(坩堝)と、天板22と、噴出ノズル23とを有する。成膜源20は、主ローラ10の外周面10sに対向する。溶融容器21には、例えば、リチウム(Li)等の蒸着材料25が収容される。蒸着材料25は、例えば、溶融容器21内において抵抗加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱等の手法によって溶融される。 The film forming source 20 includes a melting container 21 (crucible), a top plate 22, and a spout nozzle 23. The film forming source 20 faces the outer peripheral surface 10s of the main roller 10. The melting container 21 houses a vapor deposition material 25 such as lithium (Li), for example. The vapor deposition material 25 is melted in the melting container 21 by, for example, resistance heating, induction heating, electron beam heating, or the like.

フィルム走行機構30は、巻出ローラ31と、巻取ローラ32と、ガイドローラ33a、33b、33c、33dとを有する。巻出ローラ31及び巻取ローラ32のそれぞれの直径は、特に限定されることなく、ガイドローラ33a、33b、33c、33dの直径よりも小さく構成されている。巻取式成膜装置1の外部には、巻出ローラ31及び巻取ローラ32を回転駆動させる回転駆動機構が設けられている。あるいは、巻出ローラ31及び巻取ローラ32のそれぞれが回転駆動機構を有してもよい。 The film traveling mechanism 30 includes an unwinding roller 31, a take-up roller 32, and guide rollers 33a, 33b, 33c, and 33d. The diameters of each of the unwinding roller 31 and the winding roller 32 are not particularly limited, and are configured to be smaller than the diameters of the guide rollers 33a, 33b, 33c, and 33d. A rotational drive mechanism for rotationally driving the unwinding roller 31 and the winding roller 32 is provided outside the winding type film forming apparatus 1 . Alternatively, each of the unwinding roller 31 and the take-up roller 32 may have a rotational drive mechanism.

成膜用フィルム100は、予め巻出ローラ31に巻かれ、巻出ローラ31から繰り出される。この後、成膜用フィルム100には、成膜処理が施され、成膜用フィルム100は、巻取ローラ32によって巻き取られる。 The film-forming film 100 is wound around the unwinding roller 31 in advance and is unwound from the unwinding roller 31 . Thereafter, the film-forming film 100 is subjected to a film-forming process, and the film-forming film 100 is wound up by the winding roller 32.

例えば、巻出ローラ31から連続的に繰り出された成膜用フィルム100は、走行中にガイドローラ33a、33bによって支持されつつ、ガイドローラ33a、33bのそれぞれによって走行方向が変えられ、主ローラ10に巻回される。 For example, the film forming film 100 continuously fed out from the unwinding roller 31 is supported by the guide rollers 33a, 33b while running, and the running direction is changed by each of the guide rollers 33a, 33b, and the main roller 10 is wound around.

主ローラ10に巻回された成膜用フィルム100は、主ローラ10の外周面10sに接触しながら、主ローラ10によって支持されて、ガイドローラ33cに導かれる。 The film-forming film 100 wound around the main roller 10 is supported by the main roller 10 while contacting the outer peripheral surface 10s of the main roller 10, and guided to the guide roller 33c.

主ローラ10の外周面10sから離れた成膜用フィルム100は、走行中にガイドローラ33c、33dに支持されつつ、ガイドローラ33c、33dのそれぞれによって走行方向が変えられ、巻取ローラ32に連続的に巻き取られる。 The film forming film 100 separated from the outer circumferential surface 10s of the main roller 10 is supported by the guide rollers 33c and 33d while running, and the running direction is changed by each of the guide rollers 33c and 33d, and the film is continuously attached to the take-up roller 32. It is rolled up.

仕切板40は、成膜源20と主ローラ10との間に配置される。仕切板40には、成膜源20を主ローラ10の外周面10sに向けて開口する開口41が設けられている。 The partition plate 40 is arranged between the film forming source 20 and the main roller 10. The partition plate 40 is provided with an opening 41 that opens the film forming source 20 toward the outer peripheral surface 10s of the main roller 10.

表面処理機構60は、成膜用フィルム100の第1領域110に対して、第1領域110以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有するように表面処理をする。または、表面処理機構60は、成膜用フィルム100の第2領域120に対して、第2領域120以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数を有するように表面処理をする。 The surface treatment mechanism 60 performs a surface treatment on the first region 110 of the film-forming film 100 so that the first region 110 has a surface friction coefficient different from that of other regions. Alternatively, the surface treatment mechanism 60 performs a surface treatment on the second region 120 of the film-forming film 100 so that the second region 120 has a surface friction coefficient different from that of other regions.

例えば、表面処理としては、第1領域110または第2領域120の表面摩擦係数を選択的に減少する処理があげられる。例えば、成膜用フィルム100を走行させながら、表面処理機構60が第1領域110または第2領域120に対してコーティング剤の噴霧、プラズマクリーニング処理等を行う。コーティング剤としては、一例として、アルミナ、シリカ、チタニア、マグネシア等の無機フィラーが含まれた樹脂コート(例えば、アクリル系樹脂)を用いる。 For example, the surface treatment includes a treatment that selectively reduces the surface friction coefficient of the first region 110 or the second region 120. For example, while running the film-forming film 100, the surface treatment mechanism 60 performs spraying of a coating agent, plasma cleaning, etc. on the first region 110 or the second region 120. As the coating agent, for example, a resin coat (eg, acrylic resin) containing an inorganic filler such as alumina, silica, titania, or magnesia is used.

例えば、表面摩擦係数の調整は、一例として、成膜用フィルム100の表面粗さによって調整される。第1領域110以外の領域または第2領域120以外の領域の算術平均粗さRaが10nm以上500nm以下であるのに対し、第1領域110または第2領域120の算術平均粗さRaは、1000nm以上5000nm以下に調整される。 For example, the surface friction coefficient is adjusted by the surface roughness of the film-forming film 100, for example. The arithmetic mean roughness Ra of the regions other than the first region 110 or the second region 120 is 10 nm or more and 500 nm or less, whereas the arithmetic mean roughness Ra of the first region 110 or the second region 120 is 1000 nm. It is adjusted to 5000 nm or less.

真空容器70は、主ローラ10、成膜源20、フィルム走行機構30、仕切板40、表面処理機構60、及び成膜用フィルム100等を収容する。真空容器70は、減圧状態を維持することができ、例えば、真空ポンプ等の真空排気系(不図示)に接続された排気管71を通じて、その内部が所定の真空度に維持される。 The vacuum container 70 accommodates the main roller 10, the film forming source 20, the film traveling mechanism 30, the partition plate 40, the surface treatment mechanism 60, the film forming film 100, and the like. The vacuum container 70 can maintain a reduced pressure state, and its interior is maintained at a predetermined degree of vacuum through an exhaust pipe 71 connected to an evacuation system (not shown) such as a vacuum pump, for example.

または、真空容器70内には、ガス供給機構72によって乾燥空気、不活性ガス(Ar、He等)、二酸化炭素(CO)、窒素等の少なくともいずれかのガスが供給されてもよい。 Alternatively, the gas supply mechanism 72 may supply at least one of dry air, inert gas (Ar, He, etc.), carbon dioxide (CO 2 ), nitrogen, and the like into the vacuum container 70 .

また、本実施形態においては、リチウム以外に、インジウム(In)、亜鉛(Zn)、錫(Sn)、ガリウム(Ga)、ビスマス(Bi)、ナトリウム(Na)、及びカリウム(K)等の少なくともいずれかが溶融容器21内に収容されてもよい。 In this embodiment, in addition to lithium, at least one of indium (In), zinc (Zn), tin (Sn), gallium (Ga), bismuth (Bi), sodium (Na), and potassium (K) is used. Either one may be accommodated in the melting container 21.

[作用] [Effect]

図3(a)は、比較例に係る成膜用フィルムが巻取ローラに巻かれ始めた直後の様子を示す模式的斜視図である。図3(b)は、本実施形態に係る成膜用フィルムが巻取ローラに巻かれ始めた直後の様子を示す模式的斜視図である。 FIG. 3A is a schematic perspective view showing a state immediately after the film-forming film according to the comparative example starts being wound around a take-up roller. FIG. 3(b) is a schematic perspective view showing the state immediately after the film-forming film according to the present embodiment starts being wound around a take-up roller.

図3(a)に示す成膜用フィルム100は、第1領域110及び第2領域120を有していない。このため、成膜用フィルム100が巻取ローラ32に巻かれ始めると、成膜用フィルム100は、例えば、軸心32cの方向に逃げることができず、巻取ローラ32上で成膜用フィルム100に皺130が発生する可能性がある。 The film-forming film 100 shown in FIG. 3A does not have the first region 110 and the second region 120. Therefore, when the film-forming film 100 begins to be wound around the take-up roller 32, the film-forming film 100 cannot escape in the direction of the axis 32c, for example, and the film-forming film 100 cannot escape in the direction of the axis 32c. 100 may have wrinkles 130.

従って、この状態で成膜用フィルム100への成膜処理を続けると、皺130の上に巻回される成膜用フィルム100にも皺130が転写される可能性がある。 Therefore, if the film-forming process to the film-forming film 100 is continued in this state, the wrinkles 130 may also be transferred to the film-forming film 100 wound on the wrinkles 130.

これに対して、図3(b)に示す本実施形態では、成膜用フィルム100が第1領域110または第2領域120を有している。このため、成膜用フィルム100が巻取ローラ32に巻かれ始めると、例えば、成膜用フィルム100が軸心32cの方向に容易に逃げることができ、巻取ローラ32上で成膜用フィルム100に皺130が発生しにくい。 On the other hand, in this embodiment shown in FIG. 3(b), the film-forming film 100 has the first region 110 or the second region 120. Therefore, when the film-forming film 100 begins to be wound around the take-up roller 32, the film-forming film 100 can easily escape in the direction of the axis 32c, for example, and the film-forming film 100 can easily escape in the direction of the axis 32c. Wrinkles 130 are less likely to occur on the 100.

従って、この状態で成膜用フィルム100への成膜処理を続けても、皺130の上に巻回される成膜用フィルム100に皺130は転写されず、巻取ローラ32に巻回される成膜用フィルム100に皺が発生しにくくなる。 Therefore, even if the film forming process is continued on the film forming film 100 in this state, the wrinkles 130 will not be transferred to the film forming film 100 wound on the wrinkles 130 and will not be wound around the winding roller 32. Wrinkles are less likely to occur in the film-forming film 100.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。各実施形態は、独立の形態とは限らず、技術的に可能な限り複合することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiments and can be modified in various ways. Each embodiment is not necessarily an independent form, and can be combined to the extent technically possible.

1…巻取式成膜装置
10…主ローラ
10s…外周面
10c…中心軸
20…成膜源
21…溶融容器
22…天板
23…噴出ノズル
25…蒸着材料
30…フィルム走行機構
31…巻出ローラ
32…巻取ローラ
32c…軸心
33a、33b、33c、33d…ガイドローラ
40…仕切板
41…開口
60…表面処理機構
70…真空容器
71…排気管
72…ガス供給機構
100…成膜用フィルム
101…第1端
102…第2端
110…第1領域
120…第2領域
110a、120a…通紙領域
110b、120b…連通領域
111…第1面
112…第2面
130…皺
1... Winding type film forming device 10... Main roller 10s... Outer peripheral surface 10c... Central axis 20... Film forming source 21... Melting container 22... Top plate 23... Spout nozzle 25... Vapor deposition material 30... Film traveling mechanism 31... Unwinding Roller 32... Take-up roller 32c... Axis 33a, 33b, 33c, 33d... Guide roller 40... Partition plate 41... Opening 60... Surface treatment mechanism 70... Vacuum container 71... Exhaust pipe 72... Gas supply mechanism 100... For film formation Film 101...First end 102...Second end 110...First area 120...Second area 110a, 120a...Paper passing area 110b, 120b...Communication area 111...First surface 112...Second surface 130...Wrinkle

Claims (4)

両端が第1端と第2端とで構成され、帯状の成膜用フィルムを巻出ローラから繰り出し、巻取ローラに巻き取りながら、前記成膜用フィルムの成膜面に真空処理する巻取式成膜装置であって、
前記成膜用フィルムは、前記成膜面である第1面と、前記第1面とは反対側の第2面とを有し、
前記成膜用フィルムが前記第1端を始点として前記巻取ローラに巻回され始めるときに、前記第2面において、前記第1端から前記巻出ローラまでの長さの1倍以上1.5倍以下の領域であり前記第1端を始点とする第1領域の少なくとも一部に対して、前記第1領域以外の表面摩擦係数よりも小さい表面摩擦係数となるように表面処理をする表面処理機構を具備する巻取式成膜装置。
A winding device in which a strip-shaped film-forming film is unwound from an unwinding roller and is wound on a take-up roller, and the film-forming surface of the film-forming film is subjected to vacuum treatment. A type film forming apparatus,
The film for film formation has a first surface that is the film formation surface, and a second surface opposite to the first surface,
When the film for film formation starts to be wound around the take-up roller starting from the first end, on the second surface, the length from the first end to the unwinding roller is 1. Surface treatment is applied to at least a portion of the first region, which is an area of 5 times or less and starts from the first end, so that the surface friction coefficient is smaller than the surface friction coefficient of the area other than the first area. A winding type film forming apparatus equipped with a surface treatment mechanism.
両端が第1端と第2端とで構成され、帯状の成膜用フィルムを巻出ローラから繰り出し、巻取ローラに巻き取りながら、前記成膜用フィルムの成膜面に真空処理する真空処理方法であって、
前記成膜用フィルムは、前記成膜面である第1面と、前記第1面とは反対側の第2面とを有し、
前記成膜用フィルムが前記第1端を始点として前記巻取ローラに巻回され始めるときに、前記第2面において、前記第1端から前記巻出ローラまでの長さの1倍以上1.5倍以下の領域であり前記第1端を始点とする第1領域の少なくとも一部に対して、前記第1領域以外の表面摩擦係数よりも小さい表面摩擦係数となるように表面処理をする真空処理方法。
Vacuum treatment in which a belt-shaped film forming film, which has both ends consisting of a first end and a second end, is unwound from an unwinding roller and is wound up on a take-up roller, while vacuum processing is performed on the film forming surface of the film forming film. A method,
The film for film formation has a first surface that is the film formation surface, and a second surface opposite to the first surface,
When the film for film formation starts to be wound around the take-up roller starting from the first end, on the second surface, the length from the first end to the unwinding roller is 1. Surface treatment is applied to at least a portion of the first region, which is an area of 5 times or less and starts from the first end, so that the surface friction coefficient is smaller than the surface friction coefficient of the area other than the first area. Vacuum processing method.
請求項2に記載された真空処理方法であって、The vacuum processing method according to claim 2,
前記成膜用フィルムが前記第2端を始点として前記巻取ローラに巻回され始めるときに、前記第1面において、前記第2端から前記巻出ローラまでの長さの1倍以上1.5倍以下の領域であり前記第2端を始点とする第2領域の少なくとも一部が前記第2領域以外の表面摩擦係数とは異なる表面摩擦係数となるように表面処理をするWhen the film-forming film starts to be wound around the take-up roller starting from the second end, on the first surface, the length from the second end to the unwinding roller is 1. Surface treatment is performed so that at least a part of the second region, which is an area of 5 times or less and whose starting point is the second end, has a surface friction coefficient that is different from the surface friction coefficient of the area other than the second area.
真空処理方法。Vacuum processing method.
請求項3に記載された真空処理方法であって、The vacuum processing method according to claim 3,
前記第1面において、前記第2領域の少なくとも一部が前記第2領域以外の領域における前記表面摩擦係数よりも小さい表面摩擦係数となるように表面処理をするOn the first surface, surface treatment is performed so that at least a portion of the second region has a surface friction coefficient smaller than the surface friction coefficient in the region other than the second region.
真空処理方法。Vacuum processing method.
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