JPH0720308A - カラーフィルタ基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 カラーフィルタ層、トップコート層、透明導
電膜などの薄膜形成時に、ごみや異物によって発生した
突起などのいわゆる欠点を修正する際に、除去した部分
が周囲に飛び散って付着し、洗浄工程で除去できずに新
たな突起になり品位の低下を防止するカラーフィルタ基
板の製造方法を提供する。 【構成】 カラーフィルタ基板６の製造過程のカラーフ
ィルタ層２、トップコート層４、電極５に発生した突起
などのいわゆる欠点の部分に、ポリビニールアルコール
を塗布して薄膜の保護膜を形成する。保護膜の形成後に
レーザ装置などで突起を修正し、修正後にポリビニール
アルコールの保護膜を剥離する。欠点除去時に突起の破
片などが飛散しても保護膜上に付着し、保護膜を剥離す
ることにより飛散したものも除去できるので、突起など
の修正時に付着した異物を簡単に除去でき、品位が向上
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板の欠点を修
正するカラーフィルタ基板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルタ基板は、一般には、図１
に示すように、ガラス基板１に、赤（Ｒ）、青（Ｂ）お
よび緑（Ｇ）などの色を顔料分散法、電着法などによっ
て被着させた後、フォトリソグラフィー技術などを用い
て、たとえばストライプ状などのカラーフィルタ層２を
形成する。また、各赤、青および緑の各色の間には、ブ
ラック部３を配置し、隣接する色が混ざり合わないよう
に、あるいは、光源からの不要な光を遮断し、色純度を
上げるようにしている。なお、このブラック部３はカラ
ーフィルタ層２を形成する前に、フォトリソグラフィー
によって作成する方法、あるいは、隣接する色を重ね合
わせ、透過率を下げて構成する方法が採られている。

【０００３】そして、このようにして構成されたカラー
フィルタ層２の上に、カラーフィルタ層２を保護し表面
平坦度を向上させる目的でトップコート層４を形成し、
さらに、このトップコート層４上に透明導電膜の電極５
を形成して、カラーフィルタ基板６を製造している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述のカラーフィルタ
基板６では、ガラス基板１の汚れやごみなどの異物の付
着などが原因で、製造工程などにおいてガラス基板１上
にカラーフィルタ層２やトップコート層４、電極５など
を塗布形成した時に、カラーフィルタ層２などの薄膜に
突起などのいわゆる欠点が生じることがある。

【０００５】そして、従来はこの突起などの欠点をレー
ザ装置などを使用して修正していたが、レーザ装置で除
去する際に突起部が散乱して飛び散って周囲に付着し、
この付着したものが洗浄工程で除去できずに新たな突起
部となることがある問題を有している。

【０００６】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、カラーフィルタ層、トップコート層、透明導電膜な
どの薄膜形成時に、ごみや異物によって発生した突起な
どのいわゆる欠点を修正する際に、除去した部分が周囲
に飛び散って付着し、洗浄工程で除去できずに新たな突
起になり品位が低下することを防止するカラーフィルタ
基板の製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基板上
にカラーフィルタ層を形成し、このカラーフィルタ層の
上にトップコート層を形成し、このトップコート層の上
に透明導電膜による電極を順次形成したカラーフィルタ
基板の製造方法において、前記ガラス基板上に前記カラ
ーフィルタ層、トップコート層および透明導電膜による
電極の内少なくとも一層を形成した後に欠点の上方に保
護膜を形成し、この保護膜の形成後に前記ガラス基板上
の欠点をこの保護膜の上から修正し、この修正後に前記
保護膜を剥離するものである。

【０００８】

【作用】本発明は、ガラス基板上にカラーフィルタ層、
トップコート層および透明導電膜による電極を形成する
際に欠点が生ずると、欠点が生じた部分の上方に保護膜
を形成し、この保護膜の形成後にガラス基板上の欠点を
この保護膜の上から修正し、この修正後に保護膜を剥離
するため、欠点修正の際に除去した部分が飛び散って
も、保護膜上に飛散するので、保護膜を剥離することに
より飛散したものも除去され品位が向上する。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。

【００１０】カラーフィルタ基板は、図１に示すよう
に、ガラス基板１に、赤（Ｒ）、青（Ｂ）および緑
（Ｇ）などの色を顔料分散法、電着法などによって被着
させた後、フォトリソグラフィー技術などを用いて、た
とえばストライプ状などのカラーフィルタ層２を形成す
る。また、各赤、青および緑の各色の間には、ブラック
部３を配置し、隣接する色が混ざり合わないように、あ
るいは、光源からの不要な光を遮断し、色純度を上げる
ようにしている。なお、このブラック部３はカラーフィ
ルタ層２を形成する前に、フォトリソグラフィーによっ
て作成する方法、あるいは、隣接する色を重ね合わせ、
透過率を下げて構成する。

【００１１】そして、このようにして構成されたカラー
フィルタ層２の上に、カラーフィルタ層２を保護し表面
平坦度を向上させる目的でトップコート層４を形成し、
さらに、このトップコート層４上に透明導電膜の電極５
を形成して、カラーフィルタ基板６を製造している。

【００１２】また、カラーフィルタ基板６の製造過程で
あるカラーフィルタ層２、トップコート層４、電極５に
おいて発生した突起などのいわゆる欠点の部分に有機性
樹脂など、たとえばポリビニールアルコールを塗布して
薄膜の保護膜を形成する。そして、この保護膜の形成後
にレーザ装置などで突起を修正し、この修正後にポリビ
ニールアルコールの保護膜を剥離する。

【００１３】したがって、欠点除去時に突起の破片など
が飛散しても保護膜上に付着し、保護膜を剥離すること
により飛散したものも除去することができるので、突起
などの修正時に付着した異物を簡単に除去でき、品位が
向上する。

【００１４】また、図２に示すように、保護膜として金
属膜７を使用することができる。このように、金属膜７
を使用した場合には、カラーフィルタ層３の硬度が上が
るため金属膜７に生じた突起８を研磨機で修正除去する
ことができる。これは、金属膜７を設けたことでカラー
フィルタ層３の硬度が増し、カラーフィルタ層３の凹み
を防止することができるために、研磨機を使用して十分
圧力をかけて突起８を除去することができる。

【００１５】このため、上り均一で研磨むらのない表面
状態を得ることが可能となる。

【００１６】一例として、ガラス基板１に２００×１５
０ｍｍのカラーフィルタ層２を塗布し、カラーフィルタ
層２をそのまま研磨したものと、アルミニウムの金属膜
７を蒸着した後に研磨を行ないエッチングでアルミニウ
ムを剥離したものとで基板に存在する突起の数を比較す
る。

【００１７】アルミニウムを付けずに研磨したものは１
枚当りに存在する平均突起数が５．８個であるのに対
し、アルミニウムを付けてから研磨したものは１．２個
と非常に少なかった。

【００１８】

【表１】

【００１９】

【発明の効果】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法
によれば、欠点が生じた部分に保護膜を形成し、この保
護膜の形成後にガラス基板上の欠点をこの保護膜の上か
ら修正し、この修正後に保護膜を剥離するため、欠点修
正の際に除去した部分が飛び散っても、保護膜上に飛散
するので、保護膜を剥離することにより、高品位にでき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のカラーフィルタ基板を示す
断面図である。

【図２】同上他の実施例のカラーフィルタ基板を示す断
面図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ カラーフィルタ層 ４ トップコート層 ５ 電極 ６ カラーフィルタ基板 ７ 保護膜としての金属膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基板上にカラーフィルタ層を形成
   し、このカラーフィルタ層の上にトップコート層を形成
   し、このトップコート層の上に透明導電膜による電極を
   順次形成したカラーフィルタ基板の製造方法において、 前記ガラス基板上に前記カラーフィルタ層、トップコー
   ト層および透明導電膜による電極の内少なくとも一層を
   形成した後に欠点の上方に保護膜を形成し、 この保護膜の形成後に前記ガラス基板上の欠点をこの保
   護膜の上から修正し、 この修正後に前記保護膜を剥離することを特徴とするカ
   ラーフィルタ基板の製造方法。