JPH0720298A - Electron beam irradiator - Google Patents

Electron beam irradiator

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Publication number
JPH0720298A
JPH0720298A JP18673093A JP18673093A JPH0720298A JP H0720298 A JPH0720298 A JP H0720298A JP 18673093 A JP18673093 A JP 18673093A JP 18673093 A JP18673093 A JP 18673093A JP H0720298 A JPH0720298 A JP H0720298A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transfer chamber
electron beam
lower transfer
processed
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP18673093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinji Oyama
信次 大山
Suetoshi Ooizumi
末年 大泉
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Iwasaki Denki KK
Original Assignee
Iwasaki Denki KK
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Publication date
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Publication of JPH0720298A publication Critical patent/JPH0720298A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide an electron beam irradiator in which the interval between upper and lower transfer chambers can be kept constant through a simple structure. CONSTITUTION:The transfer chamber comprises an upper transfer chamber 32, a lower transfer chamber 34, a hinge 36, and a patching lock 38. The hinge 36 pivots the lower transfer chamber 34 rotatably at the left end thereof in the direction perpendicular to the transferring direction of an object. The patching lock 38 comprises a body 42 having a movable stop member 42a and a lever 42b, and a stopper 44 and engages with the upper and lower transfer chambers 32, 34, so that they can be opened or closed freely, at the right end of the transfer chamber in the direction perpendicular to the transferring direction. After the movable stop member 42a is stopped at the stopper 44, the lever 42b is turned down thus engaging the upper and lower transfer chambers 32, 34.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、被処理物にカーテン状
の電子線を照射する電子線照射装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam irradiation device for irradiating an object to be processed with a curtain-shaped electron beam.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は従来の電子線照射装置の概略構成
図、図5は被処理物の搬送方向に直角な方向における従
来の電子線照射装置の搬送室の概略断面図である。電子
線照射装置は、図4に示すように、電子線発生部110
と、照射窓部(不図示)と、被処理物が搬送される搬送
室130と、油圧シリンダ140とを備えるものであ
る。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a schematic block diagram of a conventional electron beam irradiation apparatus, and FIG. 5 is a schematic sectional view of a transfer chamber of the conventional electron beam irradiation apparatus in a direction perpendicular to the transfer direction of an object to be processed. As shown in FIG. 4, the electron beam irradiation apparatus includes an electron beam generator 110.
An irradiation window (not shown), a transfer chamber 130 in which the object to be processed is transferred, and a hydraulic cylinder 140.

【0003】電子線発生部110は、線状陰極(不図
示)に電流を通じて加熱することにより線状陰極から放
出された熱電子を加速し、カーテン状の電子線を発生さ
せるものである。この電子線発生部110は搬送室13
0の略中央上部に設けられている。尚、電子線発生部1
10の内部は、電子が気体分子と衝突してエネルギーを
失うことを防ぐため、拡散ポンプ等により真空に保たれ
ている。
The electron beam generator 110 accelerates the thermoelectrons emitted from the linear cathode by heating the linear cathode (not shown) with an electric current to generate a curtain-shaped electron beam. The electron beam generator 110 is installed in the transfer chamber 13
It is provided at the upper center of 0. The electron beam generator 1
The inside of 10 is kept vacuum by a diffusion pump or the like in order to prevent electrons from colliding with gas molecules and losing energy.

【0004】照射窓部は電子線発生部110と搬送室1
30との境界に設けられたもので、金属箔からなる窓箔
を有する。窓箔により、電子線発生部110内の真空雰
囲気と搬送室130内の照射雰囲気とが仕切られ、窓箔
を突き抜けた電子線が搬送室130内に取り出される。
The irradiation window is provided with the electron beam generator 110 and the transfer chamber 1.
It is provided at the boundary with 30, and has a window foil made of metal foil. The window foil separates the vacuum atmosphere in the electron beam generator 110 from the irradiation atmosphere in the transfer chamber 130, and the electron beam penetrating the window foil is taken out into the transfer chamber 130.

【0005】搬送室130は、図4及び図5に示すよう
に、上部搬送室132と、下部搬送室134とを有す
る。たとえばシート状の被処理物に電子線を照射する場
合には、被処理物は下部搬送室134に設けられたロー
ラ150等の搬送機構により、搬送室130内を図4に
おいて左側から右側に搬送される。また、図5に示すよ
うに下部搬送室134の両端で上方に折曲された折曲部
134a,134bの先端と上部搬送室132との間に
はパッキン134c,134cが設けられ、このパッキ
ン134c,134cにより上部搬送室132と下部搬
送室134とを密閉している。
As shown in FIGS. 4 and 5, the transfer chamber 130 has an upper transfer chamber 132 and a lower transfer chamber 134. For example, when irradiating a sheet-shaped object to be processed with an electron beam, the object to be processed is conveyed from the left side to the right side in FIG. 4 in the transfer chamber 130 by a transfer mechanism such as a roller 150 provided in the lower transfer chamber 134. To be done. Also, as shown in FIG. 5, packings 134c and 134c are provided between the upper transfer chamber 132 and the tips of the bent portions 134a and 134b that are bent upward at both ends of the lower transfer chamber 134. , 134c seal the upper transfer chamber 132 and the lower transfer chamber 134.

【0006】電子線発生部110及び搬送室130に
は、電子線照射時に二次的に発生するX線が外部へ漏出
しないように、鉛遮蔽が施されている。たとえば、搬送
室130の上部搬送室132及び下部搬送室134は、
内側が鉛Pで、外側がステンレス鋼Sである二層構造と
されている。また、下部搬送室134の両端の折曲部1
34a,134bが上部搬送室132の両端で下方に折
曲された折曲部132a,132bと上部搬送室132
に設けた突起部132c,132cとの間に差し込める
ように搬送室130を形成することにより、搬送室13
0をX線が外部に漏出しにくい構造としている。
The electron beam generator 110 and the transfer chamber 130 are lead-shielded so that X-rays that are secondarily generated during electron beam irradiation do not leak outside. For example, the upper transfer chamber 132 and the lower transfer chamber 134 of the transfer chamber 130 are
It has a two-layer structure in which the inside is lead P and the outside is stainless steel S. In addition, the bent portions 1 at both ends of the lower transfer chamber 134
Bent portions 132a and 132b in which 34a and 134b are bent downward at both ends of the upper transfer chamber 132 and the upper transfer chamber 132
By forming the transfer chamber 130 so as to be inserted between the protrusions 132c and 132c provided on the transfer chamber 13,
0 has a structure in which X-rays do not easily leak to the outside.

【0007】油圧シリンダ140は下部搬送室134を
昇降することにより、搬送室130を開閉するものであ
る。窓箔、ローラ150又は搬送室130等の保守点検
を行う場合には、油圧シリンダ140により下部搬送室
134を図4の点線で示す位置に降下させる。また、搬
送室130の開閉機構としては、油圧シリンダ140を
用いる機構のほか、たとえばモータも利用されている。
従来、このような搬送室130の開閉機構を用いる場合
には、下部搬送室134の停止位置の制御は、リミット
スイッチを用いて行われている。
The hydraulic cylinder 140 opens and closes the transfer chamber 130 by moving up and down the lower transfer chamber 134. When performing maintenance and inspection of the window foil, the roller 150, the transfer chamber 130, etc., the lower transfer chamber 134 is lowered to the position shown by the dotted line in FIG. 4 by the hydraulic cylinder 140. Further, as the opening / closing mechanism of the transfer chamber 130, in addition to the mechanism using the hydraulic cylinder 140, for example, a motor is also used.
Conventionally, when such an opening / closing mechanism for the transfer chamber 130 is used, the stop position of the lower transfer chamber 134 is controlled using a limit switch.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、たとえば9
0〜300kVの加速電圧で電子線を加速する低エネル
ギータイプの電子線照射装置では、制動X線の発生が少
なく、自己遮蔽を簡素化することができる。このため、
かかる低エネルギータイプの電子線照射装置では、高エ
ネルギータイプの電子線照射装置に比べて、搬送室13
0に使用する鉛の厚さを薄くしたりして搬送室130等
のX線遮蔽構造を簡単にすることができる。しかしなが
ら、従来は、低エネルギータイプの電子線照射装置であ
っても、搬送室130の開閉機構として、依然として高
価な油圧シリンダ140等を用いていたため、低コスト
化を図ることができないという問題があった。しかも、
油圧シリンダ140等を用いて下部搬送室134を上昇
させる場合、下部搬送室134の停止位置の制御をリミ
ットスイッチで行っているので、下部搬送室134を上
部搬送室132に対して毎回同じ位置に正確に停止させ
ることは困難であり、したがって下部搬送室134をパ
ッキン134c,134cを介して隙間なく上部搬送室
132に当接することが難しいという問題があった。
By the way, for example, 9
In a low energy type electron beam irradiation apparatus that accelerates an electron beam with an accelerating voltage of 0 to 300 kV, braking X-rays are less likely to occur, and self-shielding can be simplified. For this reason,
In such a low energy type electron beam irradiation apparatus, as compared with the high energy type electron beam irradiation apparatus, the transfer chamber 13
It is possible to simplify the X-ray shielding structure such as the transfer chamber 130 by reducing the thickness of lead used for 0. However, conventionally, even in a low-energy type electron beam irradiation apparatus, since the expensive hydraulic cylinder 140 or the like is still used as the opening / closing mechanism of the transfer chamber 130, there is a problem that cost reduction cannot be achieved. It was Moreover,
When the lower transfer chamber 134 is raised using the hydraulic cylinder 140 or the like, the stop switch is controlled by the limit switch so that the lower transfer chamber 134 is set to the same position with respect to the upper transfer chamber 132 each time. It is difficult to stop it accurately, and it is therefore difficult to contact the lower transfer chamber 134 with the upper transfer chamber 132 via the packings 134c and 134c without a gap.

【0009】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、簡易な構成により上部搬送室と下部搬送室との
間隔を常に一定とすることができる電子線照射装置を提
供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an electron beam irradiation apparatus capable of keeping a constant distance between an upper transfer chamber and a lower transfer chamber with a simple structure. To do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明は、電子線を発生する電子線発生部と、上部
搬送室及び下部搬送室を有し被処理物が搬送される搬送
室と、前記電子線発生部で発生した電子線を前記搬送室
内に取り出す窓部とを備え、前記搬送室内を移動する被
処理物に電子線を照射する電子線照射装置において、被
処理物の搬送方向に直角な方向における前記搬送室の一
方の端部に前記下部搬送室を回動自在に枢着する枢着手
段を設けると共に、被処理物の搬送方向に直角な方向に
おける前記搬送室の他方の端部に前記上部搬送室と前記
下部搬送室とを開閉自在に係着する係着手段を設けたこ
とを特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION To achieve the above object, the present invention provides an electron beam generating section for generating an electron beam, an upper transfer chamber and a lower transfer chamber for transferring an object to be processed. An electron beam irradiating apparatus that irradiates an object to be processed that moves in the transfer chamber with an electron beam, the chamber including a chamber and a window that takes out an electron beam generated by the electron beam generator into the transfer chamber. A pivoting means for pivotally pivoting the lower transfer chamber is provided at one end of the transfer chamber in a direction perpendicular to the transfer direction, and the transfer chamber in the direction perpendicular to the transfer direction of the object to be processed is provided. The other end is provided with an engaging means for engaging the upper transfer chamber and the lower transfer chamber in an openable and closable manner.

【0011】また、前記上部搬送室及び前記下部搬送室
は、ステンレス鋼の間に鉛が挟まれた構造を有するもの
であることが望ましい。
Further, it is preferable that the upper transfer chamber and the lower transfer chamber have a structure in which lead is sandwiched between stainless steels.

【0012】更に、前記下部搬送室に衝撃軽減手段を設
けることが望ましい。
Further, it is desirable to provide a shock reducing means in the lower transfer chamber.

【0013】[0013]

【作用】本発明は前記の構成によって、被処理物の搬送
方向に直角な方向における搬送室の一方の端部に下部搬
送室を回動自在に枢着する枢着手段を設けると共に、被
処理物の搬送方向に直角な方向における搬送室の他方の
端部に上部搬送室と下部搬送室とを開閉自在に係着する
係着手段を設けたことにより、搬送室を開閉する機構が
極めて簡易になるので、従来の油圧シリンダを用いる開
閉機構に比べて低コスト化を図ることができる。しか
も、枢着手段及び係着手段を用いることにより、搬送室
を閉じるときに上部搬送室と下部搬送室との間隔を常に
一定にすることができる。また、枢着手段及び係着手段
が取り着けられる位置を調整することにより、上部搬送
室と下部搬送室との間隔を調整することも可能である。
According to the present invention, according to the above construction, pivoting means for pivotally pivoting the lower transfer chamber is provided at one end of the transfer chamber in the direction perpendicular to the transfer direction of the object to be processed, and the object to be processed is provided. The mechanism for opening and closing the transfer chamber is extremely simple by providing the attachment means for opening and closing the upper transfer chamber and the lower transfer chamber at the other end of the transfer chamber in the direction perpendicular to the transfer direction of the article. Therefore, the cost can be reduced as compared with the conventional opening / closing mechanism using the hydraulic cylinder. Moreover, by using the pivoting means and the engaging means, it is possible to always keep the interval between the upper transfer chamber and the lower transfer chamber constant when closing the transfer chamber. It is also possible to adjust the distance between the upper transfer chamber and the lower transfer chamber by adjusting the positions where the pivotal attachment means and the engagement means are attached.

【0014】また、上部搬送室及び下部搬送室をステン
レス鋼の間に鉛が挟まれた構造とすることにより、上部
搬送室や下部搬送室の表面に鉛が露出していないので、
たとえば搬送室を開けて保守点検を行う場合、鉛が作業
者の手に直接触れることがなくなり、したがって作業者
にとって保健・衛生上の改善を図ることができる。
Since the upper transfer chamber and the lower transfer chamber have a structure in which lead is sandwiched between stainless steels, the lead is not exposed on the surfaces of the upper transfer chamber and the lower transfer chamber.
For example, when the transfer chamber is opened for maintenance and inspection, lead does not come into direct contact with the worker's hand, and therefore, the worker can be improved in health and hygiene.

【0015】更に、下部搬送室に衝撃軽減手段を設ける
ことにより、たとえば係着手段を外したときに下部搬送
室が下方に急激に回動するのを防止することができる。
Further, by providing the impact reducing means in the lower transfer chamber, it is possible to prevent the lower transfer chamber from rapidly rotating downward when the engaging means is removed.

【0016】[0016]

【実施例】以下に、本発明の一実施例について図面を参
照して説明する。図1は本発明の一実施例である電子線
照射装置の概略断面図、図2は被処理物の搬送方向に直
角な方向における本実施例の電子線照射装置の搬送室の
概略側面図、図3はその電子線照射装置の搬送室の概略
断面図である。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a schematic sectional view of an electron beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic side view of a transfer chamber of the electron beam irradiation apparatus according to the present embodiment in a direction perpendicular to the transfer direction of an object to be processed, FIG. 3 is a schematic sectional view of a transfer chamber of the electron beam irradiation apparatus.

【0017】図1及び図2に示す電子線照射装置は、電
子線発生部10と、照射窓部20と、被処理物が搬送さ
れる搬送室30と、衝撃軽減手段としてのダンパ(damp
er)60と、搬送室30等を支持する脚部70とを備え
るものである。
The electron beam irradiation apparatus shown in FIGS. 1 and 2 has an electron beam generating section 10, an irradiation window section 20, a transfer chamber 30 in which an object to be processed is transferred, and a damper (damp) as a shock reducing means.
er) 60 and a leg portion 70 that supports the transfer chamber 30 and the like.

【0018】電子線発生部10は搬送室30の略中央上
部に設けられ、図1に示すように、電子線を発生するタ
ーミナル12と、ターミナル12で発生した電子線を加
速空間(真空空間)で加速する加速管14とを有するも
のである。また、電子線発生部10の内部は、電子が気
体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐため、図
示しない拡散ポンプ等により10-6〜10-7Torrの真空
に保たれている。ターミナル12は、熱電子を放出する
線状陰極としてのフィラメント12aと、フィラメント
12aを支持するガン構造体12bと、フィラメント1
2aで発生した熱電子をコントロールするグリッド12
cとを有する。
As shown in FIG. 1, the electron beam generator 10 is provided at a substantially central upper portion of the transfer chamber 30, and a terminal 12 for generating an electron beam and an electron beam generated at the terminal 12 are accelerated space (vacuum space). And an accelerating tube 14 that accelerates at. The inside of the electron beam generator 10 is kept in a vacuum of 10 −6 to 10 −7 Torr by a diffusion pump (not shown) or the like in order to prevent electrons from colliding with gas molecules and losing energy. The terminal 12 includes a filament 12a as a linear cathode that emits thermoelectrons, a gun structure 12b that supports the filament 12a, and a filament 1a.
Grid 12 for controlling thermoelectrons generated in 2a
with c and.

【0019】照射窓部20は、金属箔からなる窓箔22
と、窓箔22を冷却すると共に窓箔22を支持する窓枠
構造体24とを有するものである。窓箔22は、電子線
発生部10内の真空雰囲気と搬送室30内の照射雰囲気
とを仕切るものであり、また窓箔22を介して搬送室3
0内に電子線を取り出すものである。この窓箔22に
は、電子線発生部10内の真空雰囲気を十分維持できる
機械的強度があり、しかも耐熱性に優れたチタン箔が主
に使用されている。
The irradiation window portion 20 has a window foil 22 made of a metal foil.
And a window frame structure 24 that supports the window foil 22 while cooling the window foil 22. The window foil 22 separates a vacuum atmosphere in the electron beam generating unit 10 from an irradiation atmosphere in the transfer chamber 30, and the transfer chamber 3 is separated by the window foil 22.
The electron beam is taken out within 0. The window foil 22 is mainly made of titanium foil which has sufficient mechanical strength to maintain a vacuum atmosphere in the electron beam generator 10 and has excellent heat resistance.

【0020】搬送室30は、上部搬送室32及び下部搬
送室34と、枢着手段としての蝶番36と、係着手段と
してのパッチン錠38とを有し、下部搬送室34と上部
搬送室32とで囲まれた空間を被処理物が搬送される。
搬送室30内を移動する被処理物には、照射窓部20の
形成された部分に対応する搬送室30内の空間(照射空
間)Xにおいて、電子線が照射される。また、被処理物
は搬送室30内を、図示しない搬送機構により、図1に
おいては左側から右側に、また図2においては紙面に垂
直な方向に搬送される。かかる搬送機構には、被処理物
の種類に応じて主として二種類ある。被処理物が小さな
試料である場合には、被処理物をトレイ内に載置し、こ
のトレイを搬送用チェーン等により搬送する機構が用い
られる。また、被処理物がシート状のものである場合に
は、被処理物をローラ等により搬送する機構が用いられ
る。
The transfer chamber 30 has an upper transfer chamber 32 and a lower transfer chamber 34, a hinge 36 as a pivoting means, and a patch lock 38 as an engaging means, and the lower transfer chamber 34 and the upper transfer chamber 32 are provided. The object to be processed is conveyed in the space surrounded by.
An object to be processed moving in the transfer chamber 30 is irradiated with an electron beam in a space (irradiation space) X in the transfer chamber 30 corresponding to a portion where the irradiation window 20 is formed. Further, the object to be processed is conveyed from the left side to the right side in FIG. 1 and the direction perpendicular to the paper surface in FIG. There are mainly two types of such transport mechanisms depending on the type of the object to be processed. When the sample to be processed is a small sample, a mechanism is used in which the sample to be processed is placed in a tray and the tray is transported by a transport chain or the like. When the object to be processed is a sheet, a mechanism for conveying the object to be processed by rollers or the like is used.

【0021】蝶番36は、図3に示すように、被処理物
の搬送方向に直角な方向における搬送室30の左端に下
部搬送室34を回動自在に枢着するものである。蝶番3
6は、上部搬送室32の左側の下方折曲部32aの内側
に取り付けられたプレート52と、下部搬送室34の左
端底部とに取り着けられている。
As shown in FIG. 3, the hinge 36 pivotally attaches the lower transfer chamber 34 to the left end of the transfer chamber 30 in the direction perpendicular to the transfer direction of the object to be processed. Hinge 3
The plate 6 is attached to the plate 52 mounted inside the lower bent portion 32a on the left side of the upper transfer chamber 32 and the left end bottom of the lower transfer chamber 34.

【0022】パッチン錠38は、図3に示すように、被
処理物の搬送方向に直角な方向における搬送室30の右
端に上部搬送室32と下部搬送室34とを開閉自在に係
着するものである。パッチン錠38は、本体42と、係
止片44とを備えるものである。本体42は、可動係止
部材42aと、レバー42bとを有する。本体42は、
下部搬送室34の右側の下方折曲部34bに取り着けら
れ、係止片44は、上部搬送室32の右側の下方折曲部
32bの外側に取り着けられる。可動係止部材42aを
係止片44に係止させた後、レバー42bを下方に倒す
ことにより、上部搬送室32と下部搬送室34とを係着
する。
As shown in FIG. 3, the patch lock 38 has an upper transfer chamber 32 and a lower transfer chamber 34 which are openably and closably attached to the right end of the transfer chamber 30 in a direction perpendicular to the transfer direction of the object to be processed. Is. The patch lock 38 includes a main body 42 and a locking piece 44. The main body 42 has a movable locking member 42a and a lever 42b. The main body 42 is
It is attached to the lower bent portion 34b on the right side of the lower transfer chamber 34, and the locking piece 44 is attached to the outside of the lower bent portion 32b on the right side of the upper transfer chamber 32. After the movable locking member 42a is locked to the locking piece 44, the lever 42b is tilted downward to lock the upper transfer chamber 32 and the lower transfer chamber 34 together.

【0023】尚、蝶番36(又はプレート52)及びパ
ッチン錠38の搬送室30に取り着ける位置を調整する
ことにより、上部搬送室32と下部搬送室34との間隔
dを調整することが可能である。
The distance d between the upper transfer chamber 32 and the lower transfer chamber 34 can be adjusted by adjusting the positions where the hinge 36 (or the plate 52) and the patch lock 38 are attached to the transfer chamber 30. is there.

【0024】また、図3に示すように、下部搬送室34
の右端には、断面が左右逆のL字形で、長さが下部搬送
室34の紙面に垂直な方向の長さと略同じである起立端
部34cが取り付けられている。そして、下部搬送室3
4の左端の上方折曲部34aの内側及び右端の起立端部
34cの内側にはパッキン54,54が取り付けられ、
このパッキン54,54により上部搬送室32と下部搬
送室34とを密閉している。また、図2に示すように、
下部搬送室34の底面には補強部材56が設けられてい
る。ダンパ60の一端は補強部材56の略中央部に取り
付けられ、ダンパ60の他端は脚部70に取り付けられ
ている。このようにダンパ60を設けたことにより、た
とえばパッチン錠38を外したときに下部搬送室34が
下方に急激に回動するのを防止することができるので、
搬送室30を開閉する際の作業の安全を図ることができ
る。
Further, as shown in FIG. 3, the lower transfer chamber 34
A standing end portion 34c having an L-shaped cross section and having a length substantially the same as the length of the lower transfer chamber 34 in the direction perpendicular to the paper surface is attached to the right end of the. And the lower transfer chamber 3
The packings 54, 54 are attached to the inside of the upper bent portion 34a at the left end of 4 and the inside of the standing end portion 34c at the right end,
The packings 54, 54 seal the upper transfer chamber 32 and the lower transfer chamber 34. Also, as shown in FIG.
A reinforcing member 56 is provided on the bottom surface of the lower transfer chamber 34. One end of the damper 60 is attached to a substantially central portion of the reinforcing member 56, and the other end of the damper 60 is attached to the leg portion 70. By providing the damper 60 in this way, it is possible to prevent the lower transfer chamber 34 from rapidly rotating downward when the patch lock 38 is removed, for example.
It is possible to ensure the safety of work when opening and closing the transfer chamber 30.

【0025】また、電子線発生部10及び搬送室30に
は、電子線照射時に二次的に発生するX線が外部へ漏出
しないように、鉛遮蔽が施されている。特に、搬送室3
0の上部搬送室32と下部搬送室34は、図3に示すよ
うに、ステンレス鋼Sの間に鉛Pが挟まれたサンドイッ
チ構造とされている。また、上部搬送室32の両端の下
方折曲部32a,32bと、下部搬送室34の左端の上
方折曲部34a及び右端の起立端部34cとにより、搬
送室30の両端部のX線シールを二重構造にして、搬送
室30をX線が外部に漏出しにくい構造としている。
The electron beam generator 10 and the transfer chamber 30 are lead-shielded so that X-rays that are secondarily generated during electron beam irradiation do not leak outside. In particular, the transfer chamber 3
The upper transfer chamber 32 and the lower transfer chamber 34 of No. 0 have a sandwich structure in which lead P is sandwiched between stainless steels S, as shown in FIG. Further, by the lower bent portions 32a and 32b at both ends of the upper transfer chamber 32, the upper bent portion 34a at the left end of the lower transfer chamber 34 and the standing end portion 34c at the right end, the X-ray seals at both ends of the transfer chamber 30 are formed. Is made into a double structure, and the transfer chamber 30 has a structure in which X-rays do not easily leak to the outside.

【0026】このように構成された電子線照射装置で
は、フィラメント12aに電流を通じて加熱するとフィ
ラメント12aは熱電子を放出し、この熱電子は、フィ
ラメント12aとグリッド12cとの間に印加された制
御電圧により四方八方に引き寄せられる。このうち、グ
リッド12cを通過したものだけが電子線として有効に
取り出される。そして、このグリッド12cから取り出
された電子線は、グリッド12cと窓箔32との間に印
加された加速電圧により加速管14内の加速空間で加速
された後、窓箔32を突き抜け、照射窓部30の下方の
照射室20内を搬送される被処理物に照射される。
In the electron beam irradiation apparatus constructed as described above, when the filament 12a is heated by applying an electric current, the filament 12a emits thermoelectrons, and the thermoelectrons emit a thermoelectric voltage applied between the filament 12a and the grid 12c. Will pull you in all directions. Of these, only those that have passed through the grid 12c are effectively extracted as electron beams. Then, the electron beam extracted from the grid 12c is accelerated in the acceleration space in the acceleration tube 14 by the acceleration voltage applied between the grid 12c and the window foil 32, then penetrates the window foil 32, and the irradiation window The object to be processed conveyed in the irradiation chamber 20 below the section 30 is irradiated.

【0027】今、たとえば、電子線を照射する処理が終
了した後、窓箔22、搬送機構又は搬送室30等の保守
点検を行うために搬送室30を開ける場合には、まずパ
ッチン錠38のレバー42bを上方に上げ、可動係止部
材42aを係止片44から外す。そして、下部搬送室3
4を図2の点線で示す位置までゆっくり回動する。この
ように、作業者は、搬送室30を簡単に開けることがで
きるので、直ちに保守点検を行うことができる。また、
上部搬送室32と下部搬送室34とはステンレス鋼Sの
間に鉛Pを挟んだ構造を有し、上部搬送室32と下部搬
送室34の表面には有害な鉛Pが露出していないので、
鉛が作業者の手に直接触れることがなくなり、作業者に
とって保健・衛生上も好ましいものとなる。
Now, for example, when the transfer chamber 30 is opened for maintenance and inspection of the window foil 22, the transfer mechanism, the transfer chamber 30, etc. after the process of irradiating the electron beam is completed, first of all, the patch lock 38 is opened. The lever 42b is raised and the movable locking member 42a is removed from the locking piece 44. And the lower transfer chamber 3
Slowly rotate 4 to the position shown by the dotted line in FIG. In this way, the operator can easily open the transfer chamber 30, and can immediately perform maintenance and inspection. Also,
The upper transfer chamber 32 and the lower transfer chamber 34 have a structure in which lead P is sandwiched between stainless steel S, and harmful lead P is not exposed on the surfaces of the upper transfer chamber 32 and the lower transfer chamber 34. ,
Lead will not come into direct contact with workers 'hands, which will be favorable for workers' health and hygiene.

【0028】本実施例の電子線照射装置では、被処理物
の搬送方向に直角な方向における搬送室の一方の端部に
下部搬送室を回動自在に枢着する蝶番を設けると共に、
被処理物の搬送方向に直角な方向における搬送室の他方
の端部に上部搬送室と下部搬送室とを開閉自在に係着す
るパッチン錠を設けたことより、搬送室を開閉する機構
が極めて簡易になるので、搬送室を容易に開閉すること
ができると共に、従来の油圧シリンダを用いる開閉機構
に比べて低コスト化を図ることができる。また、潤滑油
等の油は必要なく、衛生的である。更に、搬送室を閉じ
るときには機械的な蝶番及びパッチン錠を用いることに
より、上部搬送室と下部搬送室との間隔を常に一定にで
き、したがって下部搬送室をパッキンを介して隙間なく
上部搬送室に確実に当接することができる。また、蝶番
及びパッチン錠が取り着けられる位置を調整することに
よって上部搬送室と下部搬送室との間隔を調整すること
も可能である。したがって、本実施例の電子線照射装置
は、特に、制動X線の発生が少なく、自己遮蔽を簡素化
できる低エネルギータイプのものに好適である。
In the electron beam irradiation apparatus of this embodiment, a hinge for pivotally rotatably pivoting the lower transfer chamber is provided at one end of the transfer chamber in the direction perpendicular to the transfer direction of the workpiece.
A mechanism for opening and closing the transfer chamber is extremely provided by providing a patch lock that opens and closes the upper transfer chamber and the lower transfer chamber at the other end of the transfer chamber in the direction perpendicular to the transfer direction of the workpiece. Since it is simple, the transfer chamber can be easily opened and closed, and the cost can be reduced as compared with the conventional opening and closing mechanism using the hydraulic cylinder. Further, oil such as lubricating oil is not necessary, which is hygienic. Furthermore, by using a mechanical hinge and a patch lock when closing the transfer chamber, the interval between the upper transfer chamber and the lower transfer chamber can always be made constant, and therefore the lower transfer chamber can be placed in the upper transfer chamber without any gap via the packing. The contact can be ensured. It is also possible to adjust the distance between the upper transfer chamber and the lower transfer chamber by adjusting the position where the hinge and the patch lock are attached. Therefore, the electron beam irradiation apparatus of the present embodiment is particularly suitable for a low energy type in which the generation of braking X-rays is small and self-shielding can be simplified.

【0029】尚、本発明は、上記の実施例に限定される
ものではなく、その要旨の範囲内において種々の変形が
可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications can be made within the scope of the invention.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、被
処理物の搬送方向に直角な方向における搬送室の一方の
端部に下部搬送室を回動自在に枢着する枢着手段を設け
ると共に、被処理物の搬送方向に直角な方向における搬
送室の他方の端部に上部搬送室と下部搬送室とを開閉自
在に係着する係着手段を設けたことにより、搬送室を開
閉する機構が極めて簡易になるので、従来の油圧シリン
ダを用いる開閉機構に比べて低コスト化を図ることがで
きると共に、搬送室を閉じるときに上部搬送室と下部搬
送室との間隔を常に一定にすることができる電子線照射
装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention, the pivoting means for pivotally pivoting the lower transfer chamber is provided at one end of the transfer chamber in the direction perpendicular to the transfer direction of the object to be processed. The transfer chamber is opened and closed by providing an attachment means for opening and closing the upper transfer chamber and the lower transfer chamber at the other end of the transfer chamber in the direction perpendicular to the transfer direction of the object to be processed. Since the mechanism to operate is extremely simple, the cost can be reduced compared to the opening / closing mechanism using the conventional hydraulic cylinder, and the interval between the upper transfer chamber and the lower transfer chamber is always constant when the transfer chamber is closed. It is possible to provide an electron beam irradiation device capable of performing the above.

【0031】また、上部搬送室及び下部搬送室をステン
レス鋼の間に鉛が挟まれた構造とすることにより、上部
搬送室や下部搬送室の表面に鉛が露出していないので、
たとえば搬送室を開けて保守点検を行う場合、鉛が作業
者の手に直接触れることがなくなり、作業者にとって保
健・衛生上の改善を図ることができる電子線照射装置を
提供することができる。
Since the upper transfer chamber and the lower transfer chamber have a structure in which lead is sandwiched between stainless steels, lead is not exposed on the surfaces of the upper transfer chamber and the lower transfer chamber.
For example, when the carrier chamber is opened for maintenance and inspection, lead does not come into direct contact with the operator's hand, and it is possible to provide an electron beam irradiation apparatus capable of improving the operator's health and hygiene.

【0032】更に、下部搬送室に衝撃軽減手段を設ける
ことにより、たとえば係着手段を外したときに下部搬送
室が下方に急激に回動するのを防止することができるの
で、搬送室を開閉する際の作業の安全を図ることができ
る電子線照射装置を提供することができる。
Further, by providing an impact reducing means in the lower transfer chamber, it is possible to prevent the lower transfer chamber from rapidly rotating downward when the engaging means is removed, so that the transfer chamber can be opened and closed. It is possible to provide an electron beam irradiating device that can ensure the safety of work when performing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例である電子線照射装置の概略
断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an electron beam irradiation apparatus that is an embodiment of the present invention.

【図2】被処理物の搬送方向に直角な方向における本実
施例の電子線照射装置の搬送室の概略側面図である。
FIG. 2 is a schematic side view of a transfer chamber of the electron beam irradiation apparatus of the present embodiment in a direction perpendicular to the transfer direction of an object to be processed.

【図3】その電子線照射装置の搬送室の概略断面図であ
る。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a transfer chamber of the electron beam irradiation apparatus.

【図4】従来の電子線照射装置の概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a conventional electron beam irradiation apparatus.

【図5】被処理物の搬送方向に直角な方向における従来
の電子線照射装置の搬送室の概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a transfer chamber of a conventional electron beam irradiation apparatus in a direction perpendicular to the transfer direction of an object to be processed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 電子線発生部 12 ターミナル 12a フィラメント 12b ガン構造体 12c グリッド 14 加速管 20 照射窓部 22 窓箔 24 窓枠構造体 30 搬送室 32 上部搬送室 34 下部搬送室 36 蝶番 38 パッチン錠 42 本体 42a 可動係止部材 42b レバー 44 係止片 52 プレート 54 パッキン 56 補強部材 60 ダンパ 70 脚部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electron beam generation part 12 Terminal 12a Filament 12b Gun structure 12c Grid 14 Accelerator tube 20 Irradiation window part 22 Window foil 24 Window frame structure 30 Transfer chamber 32 Upper transfer chamber 34 Lower transfer chamber 36 Hinge 38 Patch lock 42 Main body 42a Movable Locking member 42b Lever 44 Locking piece 52 Plate 54 Packing 56 Reinforcing member 60 Damper 70 Leg

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子線を発生する電子線発生部と、上部
搬送室及び下部搬送室を有し被処理物が搬送される搬送
室と、前記電子線発生部で発生した電子線を前記搬送室
内に取り出す窓部とを備え、前記搬送室内を移動する被
処理物に電子線を照射する電子線照射装置において、 被処理物の搬送方向に直角な方向における前記搬送室の
一方の端部に前記下部搬送室を回動自在に枢着する枢着
手段を設けると共に、被処理物の搬送方向に直角な方向
における前記搬送室の他方の端部に前記上部搬送室と前
記下部搬送室とを開閉自在に係着する係着手段を設けた
ことを特徴とする電子線照射装置。
1. An electron beam generating section for generating an electron beam, a transfer chamber having an upper transfer chamber and a lower transfer chamber for transferring an object to be processed, and an electron beam generated by the electron beam generating section for transferring the electron beam. An electron beam irradiating device that irradiates an object to be processed that is moving in the transfer chamber with an electron beam, the window part being taken out into a room, wherein one end of the transfer chamber in a direction perpendicular to a direction of transferring the object to be processed. A pivoting means for pivotally pivoting the lower transfer chamber is provided, and the upper transfer chamber and the lower transfer chamber are provided at the other end of the transfer chamber in the direction perpendicular to the transfer direction of the object to be processed. An electron beam irradiating device, characterized in that it is provided with engaging means for engaging in opening and closing.
【請求項2】 前記上部搬送室及び前記下部搬送室は、
ステンレス鋼の間に鉛が挟まれた構造を有するものであ
る請求項1記載の電子線照射装置。
2. The upper transfer chamber and the lower transfer chamber,
The electron beam irradiation apparatus according to claim 1, which has a structure in which lead is sandwiched between stainless steels.
【請求項3】 前記下部搬送室に衝撃軽減手段を設けた
請求項1又は2記載の電子線照射装置。
3. The electron beam irradiation apparatus according to claim 1 or 2, wherein impact reducing means is provided in the lower transfer chamber.
JP18673093A 1993-06-30 1993-06-30 Electron beam irradiator Pending JPH0720298A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007532899A (en) * 2004-04-13 2007-11-15 テレダイン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド Improved source for high energy electrons
JP2009068973A (en) * 2007-09-12 2009-04-02 Hamamatsu Photonics Kk Electron beam irradiation equipment

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