JP2009068973A - Electron beam irradiation equipment - Google Patents

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JP2009068973A
JP2009068973A JP2007237216A JP2007237216A JP2009068973A JP 2009068973 A JP2009068973 A JP 2009068973A JP 2007237216 A JP2007237216 A JP 2007237216A JP 2007237216 A JP2007237216 A JP 2007237216A JP 2009068973 A JP2009068973 A JP 2009068973A
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Keigo Uchiyama
圭吾 内山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide electron beam irradiation equipment which improves the workability in the replacement of electron generating members of an electron beam source and also to reduce the space required for the electron beam irradiation equipment including replacement work. <P>SOLUTION: The electron beam irradiation equipment 1A includes an accommodation section 2 and the electron beam source 3. The accommodation section 2 has a main body 22 and a lid 24 mounted on the section 2 so that the lid 24 can be opened and closed and stores an object A to be irradiated in an electron beam irradiation chamber 21. The electron beam source 3 has a vacuum container 13, which includes a base end 14 and a point end 15. The point end 15 is fixed onto the lid 24. An irradiation window section 12 which is so constituted that it can be attached to and detached from the side of the electron beam irradiation chamber 21 is mounted on the point end 15. A door 25 for carrying in and out the object A to be irradiated is installed at the front of the main body 22. The vacuum container 13 can be opened and closed by using a hinge 18 placed on the back side as a supporting point. The lid 24 can be opened and closed by using a hinge 23 placed on the back side as a supporting point. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子線照射装置に関するものである。   The present invention relates to an electron beam irradiation apparatus.

この種の電子線照射装置として、例えば次のようなものが知られている。特許文献1に開示された電子線照射装置は、電子銃を収容する真空容器を備えており、この真空容器には真空ポンプが取り付けられている。また、電子透過窓が真空容器に対して着脱可能に構成されており、真空容器を大気開放して電子銃及び電子透過窓を交換することが記載されている。   As this type of electron beam irradiation apparatus, for example, the following is known. The electron beam irradiation apparatus disclosed in Patent Document 1 includes a vacuum container that houses an electron gun, and a vacuum pump is attached to the vacuum container. Further, it is described that the electron transmission window is configured to be detachable from the vacuum container, and the electron gun and the electron transmission window are exchanged by opening the vacuum container to the atmosphere.

また、特許文献2に開示された電子線照射装置は、照射対象物を収容して電子線を照射するための電子線照射室を備えており、電子線照射装置本体(すなわち電子線源)が電子線照射室に付設されている。そして、電子線照射室内にトレイを設け、このトレイによって照射対象物を搬入・搬出することが記載されている。   Moreover, the electron beam irradiation apparatus disclosed in Patent Document 2 includes an electron beam irradiation chamber for accommodating an irradiation object and irradiating an electron beam, and an electron beam irradiation apparatus body (that is, an electron beam source) is provided. It is attached to the electron beam irradiation room. And it describes that a tray is provided in the electron beam irradiation chamber, and the irradiation object is carried in and out by this tray.

また、特許文献3に開示された電子線照射装置では、電子線を照射するための空間を構成する遮蔽体の一部を開閉可能な扉とし、この扉の内側に、被照射体を搬送するためのロールが配置されている。   Moreover, in the electron beam irradiation apparatus disclosed in Patent Document 3, a part of a shield that constitutes a space for irradiating an electron beam is used as a door that can be opened and closed, and the irradiated object is conveyed inside the door. A roll for is arranged.

また、特許文献4にも、電子線照射室を備える電子線照射装置が記載されている。特許文献4に記載された電子線照射装置では、電子線照射室に照射対象物を搬入・搬出するための扉と照射対象物を載せる試料台の一端とが互いに固定されている。
特開2004−170353号公報 特開2005−331417号公報 実公平7−33199号公報 特開昭60−80799号公報
Patent Document 4 also describes an electron beam irradiation apparatus including an electron beam irradiation chamber. In the electron beam irradiation apparatus described in Patent Document 4, a door for loading / unloading an irradiation object into / from an electron beam irradiation chamber and one end of a sample stage on which the irradiation object is placed are fixed to each other.
JP 2004-170353 A JP 2005-331417 A No. 7-33199 Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-80799

電子線照射装置においては、装置外部への電子線やX線の漏洩を防止するため、例えば特許文献2〜4に記載された構成のように、照射対象物を収容して電子線を照射するための電子線照射室が設けられる。他方、電子線照射装置に用いられる電子線源には、特許文献1に記載された構成のように照射窓部(電子透過窓)の交換やフィラメント等の電子発生部材の交換が可能ないわゆる開放型のものがある。従来、このような電子線照射装置において電子発生部材や照射窓部を交換する際には、電子線照射室を構成する部分から電子線源を一旦取り外す必要があった。従って、交換後の再調整(電子線源と電子線照射室内の照射対象物との位置合わせなど)が必要となり、作業効率を低下させる一因となっていた。   In the electron beam irradiation apparatus, in order to prevent leakage of electron beams and X-rays to the outside of the apparatus, for example, as in the configurations described in Patent Documents 2 to 4, the irradiation object is accommodated and irradiated with the electron beam. An electron beam irradiation chamber is provided. On the other hand, the electron beam source used in the electron beam irradiation apparatus is a so-called opening capable of exchanging an irradiation window (electron transmission window) or an electron generating member such as a filament as in the configuration described in Patent Document 1. There is a type. Conventionally, when exchanging an electron generating member and an irradiation window in such an electron beam irradiation apparatus, it has been necessary to temporarily remove the electron beam source from a portion constituting the electron beam irradiation chamber. Therefore, readjustment after replacement (positioning of the electron beam source and the irradiation object in the electron beam irradiation chamber, etc.) is required, which is a cause of lowering work efficiency.

また、広さが限られた作業場内に電子線照射装置を設置するために、電子線照射装置が占めるスペースは小さいほど好ましい。しかし、電子線源を取り外して電子発生部材や照射窓部の交換作業を行う場合、取り外された電子線源を置いて交換作業を行うスペースが別途必要となり、作業場内に電子線照射装置を設置する際の制約となる。   Moreover, in order to install an electron beam irradiation apparatus in the work space where space is limited, it is preferable that the space occupied by the electron beam irradiation apparatus is smaller. However, when removing the electron beam source and replacing the electron generating member and the irradiation window, a space for replacing the removed electron beam source is required, and an electron beam irradiation device is installed in the workplace. It becomes a restriction when doing.

本発明は、上記した問題点を鑑みてなされたものであり、電子線源の電子発生部材および照射窓部を交換する際の作業性を向上でき、且つ交換作業を含めた電子線照射装置の必要スペースを小さくできる電子線照射装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and can improve the workability when exchanging the electron generating member and the irradiation window portion of the electron beam source, and the electron beam irradiation apparatus including the replacement work can be improved. It aims at providing the electron beam irradiation apparatus which can make a required space small.

上記した課題を解決するために、本発明による第1の電子線照射装置は、開口部を有する本体部、および開口部に開閉可能に取り付けられた蓋部を有し、本体部及び蓋部によって構成される電子線照射室に照射対象物を収容する収容部と、基端部、及び基端部と蓋部との間に配置されて蓋部に固定された先端部を有し、先端部と基端部との結合部分が開閉可能となっている筒状の真空容器、基端部に保持され電子線を放出する電子銃、先端部に保持されて電子線を電子線照射室に向けて透過するとともに、電子線照射室側から着脱可能に構成された照射窓部、並びに真空容器の内部を排気する真空ポンプを有する電子線源とを備え、照射対象物を搬入及び搬出するための第1の扉が本体部の正面側に取り付けられており、真空容器は、該真空容器の背面側に設けられた第1のヒンジを支点として開閉可能となっており、蓋部は、収容部の背面側に設けられた第2のヒンジを支点として開閉可能となっていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a first electron beam irradiation apparatus according to the present invention includes a main body having an opening and a lid attached to the opening so as to be openable and closable. An electron beam irradiation chamber configured to have an accommodating portion for accommodating an irradiation object, a proximal end portion, and a distal end portion disposed between the proximal end portion and the lid portion and fixed to the lid portion; A cylindrical vacuum vessel in which a joint portion between the base end and the base end portion can be opened and closed, an electron gun which is held at the base end portion and emits an electron beam, and held at the front end portion to direct the electron beam toward the electron beam irradiation chamber An electron beam source having an irradiation window portion configured to be detachable from the electron beam irradiation chamber side and a vacuum pump for exhausting the inside of the vacuum vessel, and for carrying in and out an irradiation object The first door is attached to the front side of the main body, and the vacuum vessel is The first hinge provided on the back side of the container can be opened and closed with a fulcrum, and the lid can be opened and closed with the second hinge provided on the back side of the housing as a fulcrum. Features.

また、本発明による第2の電子線照射装置は、開口部を有する本体部、および開口部に開閉可能に取り付けられた蓋部を有し、本体部及び蓋部によって構成される電子線照射室に照射対象物を収容する収容部と、基端部、及び基端部と蓋部との間に配置されて蓋部に固定された先端部を有し、先端部と基端部との結合部分が開閉可能となっている筒状の真空容器、基端部に保持され電子線を放出する電子銃、先端部に保持されて電子線を電子線照射室に向けて透過するとともに、電子線照射室側から着脱可能に構成された照射窓部、並びに真空容器の内部を排気する真空ポンプを有する電子線源とを備え、照射対象物を搬入及び搬出するための第1の扉が本体部の正面側に取り付けられており、真空容器は、該真空容器の一方の側面側に設けられた第1のヒンジを支点として開閉可能となっており、蓋部は、収容部の一方の側面と同じ側に設けられた第2のヒンジを支点として開閉可能となっていることを特徴とする。   Moreover, the 2nd electron beam irradiation apparatus by this invention has the main-body part which has an opening part, and the cover part attached to the opening part so that opening and closing was possible, and the electron beam irradiation chamber comprised by a main-body part and a cover part And a proximal end portion, and a distal end portion disposed between the proximal end portion and the lid portion and fixed to the lid portion, and coupling between the distal end portion and the proximal end portion. A cylindrical vacuum container whose part can be opened and closed, an electron gun that is held at the base end and emits an electron beam, and held at the tip to transmit the electron beam toward the electron beam irradiation chamber, and an electron beam An irradiation window configured to be detachable from the irradiation chamber side, and an electron beam source having a vacuum pump for exhausting the inside of the vacuum vessel, and a first door for carrying in and out the irradiation object is a main body The vacuum vessel is provided on one side of the vacuum vessel. The lid can be opened and closed with the first hinge as a fulcrum, and the lid can be opened and closed with the second hinge provided on the same side as the one side of the housing portion as a fulcrum. To do.

上記した第1及び第2の電子線照射装置が備える電子線源は、真空容器の基端部と先端部とが第1のヒンジを支点として開閉可能となっており、また、真空容器には真空ポンプが設けられており、電子発生部材を交換可能ないわゆる開放型の構成を備えている。そして、各電子線照射装置においては、電子線源の真空容器の先端部が収容部(蓋部)に固定されている。従って、電子発生部材を交換する際には、先端部を収容部に固定したまま、電子線源を収容部から取り外すことなく基端部を開いて電子発生部材を交換することができる。また、電子線源の先端部が蓋部に固定されており、照射窓部が電子線照射室側から着脱可能に構成されているので、作業者は蓋部を開けることにより照射窓部に容易にアクセスでき、電子線源を収容部から取り外すことなく照射窓部を交換できる。このように、上記した第1及び第2の電子線照射装置によれば、電子発生部材や照射窓部を交換する際に、電子線照射室を構成する収容部から電子線源を取り外す必要がない。したがって、交換後の再調整が不要となり作業性を向上できると共に、交換作業を行うスペースを省くことができる。   The electron beam source included in the first and second electron beam irradiation apparatuses described above can be opened and closed with the first hinge as a fulcrum at the proximal end and the distal end of the vacuum vessel. A vacuum pump is provided, which has a so-called open type configuration in which the electron generating member can be replaced. And in each electron beam irradiation apparatus, the front-end | tip part of the vacuum vessel of an electron beam source is being fixed to the accommodating part (lid part). Therefore, when exchanging the electron generating member, it is possible to replace the electron generating member by opening the base end portion without removing the electron beam source from the accommodating portion while the distal end portion is fixed to the accommodating portion. In addition, since the tip of the electron beam source is fixed to the lid, and the irradiation window is configured to be removable from the electron beam irradiation chamber side, the operator can easily access the irradiation window by opening the lid. The irradiation window can be replaced without removing the electron beam source from the housing. As described above, according to the first and second electron beam irradiation apparatuses described above, it is necessary to remove the electron beam source from the accommodating portion constituting the electron beam irradiation chamber when replacing the electron generating member and the irradiation window portion. Absent. Therefore, readjustment after replacement becomes unnecessary, and workability can be improved, and space for performing replacement work can be saved.

また、上記した第1の電子線照射装置では、照射対象物を搬入及び搬出するための第1の扉が取り付けられた正面に対して、真空容器(電子線源)及び蓋部(収容部)の双方が、各々の背面側に設けられたヒンジを支点として開閉可能となっている。また、上記した第2の電子線照射装置では、真空容器(電子線源)及び蓋部(収容部)の双方が、各々の一方の側面側に設けられたヒンジを支点として開閉可能となっている。このように、真空容器及び蓋部を互いに同じ方向に開閉するよう構成することにより、これらの開閉のために必要なスペースを小さくでき、ひいては電子線照射装置の設置面積を小さくできる。すなわち、第1の電子線照射装置は真空容器及び蓋部を後方(背面方向)に開くので装置の横幅を小さくでき、第2の電子線照射装置は真空容器及び蓋部を一の側方に開くので装置の奥行きを小さくできる。また、第1及び第2の電子線照射装置では、真空容器及び蓋部を後方または一の側方に開くので、正面側のスペースは狭くてもよい。したがって、収容部および電子線源を正面側に寄せて配置できるので、作業性をより向上できる。   Further, in the first electron beam irradiation apparatus described above, a vacuum container (electron beam source) and a lid part (accommodating part) with respect to the front surface to which the first door for carrying in and out the irradiation object is attached. Both of them can be opened and closed with a hinge provided on the back side of each as a fulcrum. Further, in the above-described second electron beam irradiation apparatus, both the vacuum container (electron beam source) and the lid part (accommodating part) can be opened and closed with a hinge provided on one side surface of each as a fulcrum. Yes. Thus, by configuring the vacuum vessel and the lid to open and close in the same direction, the space required for opening and closing them can be reduced, and the installation area of the electron beam irradiation apparatus can be reduced. That is, since the first electron beam irradiation device opens the vacuum container and the lid rearward (backward direction), the lateral width of the device can be reduced, and the second electron beam irradiation device has the vacuum container and the lid portion on one side. Since it opens, the depth of the device can be reduced. In the first and second electron beam irradiation apparatuses, the vacuum container and the lid are opened rearward or one side, so that the space on the front side may be narrow. Therefore, since the accommodating portion and the electron beam source can be arranged close to the front side, workability can be further improved.

また、第1の電子線照射装置は、電子線照射室内の雰囲気を置換する雰囲気置換装置を更に備え、雰囲気置換装置と電子線照射室とを繋ぐ配管の電子線照射室側の一端が収容部の背面側に取り付けられていることを特徴としてもよい。また、第2の電子線照射装置は、電子線照射室内の雰囲気を置換する雰囲気置換装置を更に備え、雰囲気置換装置と電子線照射室とを繋ぐ配管の電子線照射室側の一端が収容部の一方の側面側に取り付けられていることを特徴としてもよい。これらのように、電子線照射装置が雰囲気置換装置を備える場合、配管の電子線照射室側の一端を、第1及び第2のヒンジと同じ側(背面側または一方の側面側)に取り付けるとよい。これにより、真空容器及び収容部の開閉スペースと配管スペースとを共通にすることができ、電子線照射装置の設置面積を更に小さくできる。   The first electron beam irradiation device further includes an atmosphere replacement device that replaces the atmosphere in the electron beam irradiation chamber, and one end of the piping connecting the atmosphere replacement device and the electron beam irradiation chamber on the electron beam irradiation chamber side is a housing portion. It is good also as being characterized by being attached to the back side. The second electron beam irradiation device further includes an atmosphere replacement device that replaces the atmosphere in the electron beam irradiation chamber, and one end of the piping connecting the atmosphere replacement device and the electron beam irradiation chamber on the electron beam irradiation chamber side is a housing portion. It may be characterized by being attached to one of the side surfaces. As described above, when the electron beam irradiation apparatus includes an atmosphere replacement device, when one end of the piping on the electron beam irradiation chamber side is attached to the same side as the first and second hinges (the back side or one side). Good. Thereby, the open / close space and the piping space of the vacuum vessel and the accommodating portion can be made common, and the installation area of the electron beam irradiation apparatus can be further reduced.

また、第1の電子線照射装置は、真空ポンプが真空容器の背面側に配置されていることを特徴としてもよい。また、第2の電子線照射装置は、真空ポンプが真空容器の一方の側面と同じ側に配置されていることを特徴としてもよい。これらにより、真空容器や収容部を開放した際に、ヒンジより上部の構造体の重心を下げ、安定した開放状態を実現できる。   Further, the first electron beam irradiation apparatus may be characterized in that a vacuum pump is disposed on the back side of the vacuum container. Further, the second electron beam irradiation apparatus may be characterized in that the vacuum pump is disposed on the same side as one side surface of the vacuum container. Accordingly, when the vacuum container and the housing are opened, the center of gravity of the structure above the hinge is lowered, and a stable open state can be realized.

また、第1及び第2の電子線照射装置は、電子線源からのX線や照射対象物に電子線が当たることにより副次的に発生するX線の外部への漏洩を防ぐため、収容部および電子線源を収容する筐体を更に備えるとよい。その場合、筐体の正面側に第2の扉が取り付けられており、第1及び第2の扉における互いに対向する位置にそれぞれ観察窓が設けられていると尚良い。上記した第1及び第2の電子線照射装置においては収容部を正面側に寄せて配置できるので、筐体の観察窓と収容部の観察窓とを近接配置でき、これらの観察窓を通して照射対象物を容易に観察できる。   Further, the first and second electron beam irradiation apparatuses are accommodated in order to prevent leakage of X-rays from the electron beam source and X-rays that are incidentally generated when the electron beam hits the irradiation object to the outside. It is preferable to further include a housing for housing the unit and the electron beam source. In that case, it is more preferable that the second door is attached to the front side of the housing, and the observation windows are respectively provided at positions facing each other in the first and second doors. In the first and second electron beam irradiation apparatuses described above, the housing portion can be arranged close to the front side, so that the observation window of the housing and the observation window of the housing portion can be arranged close to each other, and the irradiation target is passed through these observation windows. Things can be observed easily.

また、第1及び第2の電子線照射装置は、電子線源と電気的に接続されて電子線の放出制御を行う電子線制御部を更に備え、筐体が、収容部および電子線源を収容する電子線源収容室、電子線制御部を収容する制御部収容室、並びに電子線源収容室と制御部収容室とを互いに仕切る金属製の仕切り部材を有することを特徴としてもよい。これにより、電子線源収容室内に収容された電子線源や収容部から漏洩したX線が仕切り部材により遮蔽されるので、制御部収容室内に収容された電子線制御部に対するX線の影響を低減できる。   The first and second electron beam irradiation apparatuses further include an electron beam control unit that is electrically connected to the electron beam source and performs emission control of the electron beam, and the housing includes the housing unit and the electron beam source. An electron beam source accommodating chamber for accommodating, a control unit accommodating chamber for accommodating the electron beam control unit, and a metal partition member that partitions the electron beam source accommodating chamber and the control unit accommodating chamber from each other may be provided. As a result, the X-rays leaked from the electron beam source and the accommodation unit accommodated in the electron beam source accommodation chamber are shielded by the partition member, so that the influence of the X-rays on the electron beam control unit accommodated in the control unit accommodation chamber is reduced. Can be reduced.

本発明による電子線照射装置によれば、電子線源の電子発生部材および照射窓部を交換する際の作業性を向上でき、且つ交換作業を含めた電子線照射装置の必要スペースを小さくできる。   According to the electron beam irradiation apparatus of the present invention, it is possible to improve workability when exchanging the electron generating member and the irradiation window portion of the electron beam source, and it is possible to reduce the necessary space of the electron beam irradiation apparatus including replacement work.

以下、添付図面を参照しながら本発明による電子線照射装置の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、以下の説明において、正面とは、電子照射装置を操作する操作者と向かい合う面であって、具体的には、電子線の照射対象である照射対象物を搬入・搬出する扉や、照射状態を観察するための観察窓が配置された面を指すものとする。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of an electron beam irradiation apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, in the following description, the front is a surface facing an operator who operates the electron irradiation device, specifically, a door for carrying in / out an irradiation object that is an electron beam irradiation target, or irradiation. A surface on which an observation window for observing the state is arranged is indicated.

<第1の実施の形態>
図1は、本発明の第1実施形態として電子線照射装置1Aの構成を示す正面図である。図1において、筐体7の上半分(電子線源収容室72)については扉71が開いた状態の正面図を示しており、筐体7の下半分(制御部収容室73)については内部構成を示すために筐体7の正面パネルを省略して示している。また、図2は、図1に示した電子線照射装置1Aの側面図であり、収容部2及び筐体7については図1のII−II線に沿った側面断面を示している。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a front view showing a configuration of an electron beam irradiation apparatus 1A as a first embodiment of the present invention. 1, the front half of the housing 7 (electron beam source accommodation chamber 72) is shown in a front view with the door 71 open, and the lower half of the housing 7 (control unit accommodation chamber 73) is internal. In order to show the configuration, the front panel of the housing 7 is omitted. 2 is a side view of the electron beam irradiation apparatus 1A shown in FIG. 1, and the accommodating portion 2 and the housing 7 are shown in cross-section along the line II-II in FIG.

本実施形態による電子線照射装置1Aは、照射対象物Aに対して電子線を照射するための装置であり、例えばインキの乾燥やフィルムの改質、樹脂膜の硬化、半導体部材の改質等に好適に用いられる。図1及び図2を参照すると、電子線照射装置1Aは、収容部2、電子線源3、及び筐体7を備えている。   The electron beam irradiation apparatus 1A according to the present embodiment is an apparatus for irradiating an irradiation object A with an electron beam. For example, ink drying, film modification, resin film curing, semiconductor member modification, and the like. Is preferably used. Referring to FIGS. 1 and 2, the electron beam irradiation apparatus 1 </ b> A includes a housing 2, an electron beam source 3, and a housing 7.

収容部2は、照射対象物Aを収容する電子線照射室(照射チャンバー)21を有している。電子線照射室21には、XYステージ26が収容されている。XYステージ26は、照射対象物Aを支持するとともに、電子線の照射軸線と直交する平面内で照射対象物Aを位置決めするためのものである。また、XYステージ26上には、照射対象物Aの高さを調整するための調整台27が配置され、調整台27上に、照射対象物Aを載置するためのテーブル28が設けられている。電子線照射時には、電子線照射室21の内部雰囲気が窒素ガス等の不活性ガスに置換される。収容部2の正面には扉25(第1の扉)が設けられており、操作者はこの扉25を開けて照射対象物Aの搬入出を行う。扉25には、電子線照射室21の内部を観察するための観察窓25bが設けられている。   The accommodating part 2 has an electron beam irradiation chamber (irradiation chamber) 21 for accommodating the irradiation object A. An XY stage 26 is accommodated in the electron beam irradiation chamber 21. The XY stage 26 supports the irradiation object A and positions the irradiation object A in a plane orthogonal to the electron beam irradiation axis. An adjustment table 27 for adjusting the height of the irradiation object A is arranged on the XY stage 26, and a table 28 for placing the irradiation object A is provided on the adjustment table 27. Yes. During electron beam irradiation, the internal atmosphere of the electron beam irradiation chamber 21 is replaced with an inert gas such as nitrogen gas. A door 25 (first door) is provided in front of the housing portion 2, and the operator opens the door 25 to carry in and out the irradiation object A. The door 25 is provided with an observation window 25 b for observing the inside of the electron beam irradiation chamber 21.

電子線源3は、電子線照射室21内に収容された照射対象物Aに電子線を照射するための装置であり、収容部2に固定されている。電子線源3は、真空容器13を有しており、この真空容器13の内部に電子発生部材(フィラメント)が配置されている。電子発生部材から放出された電子線は、真空容器13の先端に取り付けられた照射窓部12を通過して、テーブル28上の照射対象物Aに照射される。   The electron beam source 3 is a device for irradiating the irradiation object A accommodated in the electron beam irradiation chamber 21 with an electron beam, and is fixed to the accommodating portion 2. The electron beam source 3 has a vacuum container 13, and an electron generating member (filament) is disposed inside the vacuum container 13. The electron beam emitted from the electron generating member passes through the irradiation window portion 12 attached to the tip of the vacuum vessel 13 and is irradiated onto the irradiation object A on the table 28.

筐体7は、収容部2及び電子線源3を収容し、電子線源3からのX線や照射対象物Aに電子線が当たることにより副次的に発生するX線の外部への漏洩を防ぐ。筐体7は高さ方向に長い直方体箱型形状を呈しており、筐体7の内部は、上部に設けられた電子線源収容室72と、下部に設けられた制御部収容室73とに仕切られている。電子線源収容室72には、収容部2及び電子線源3が収容されている。電子線源収容室72を構成する筐体7の壁面は、X線吸収率が極めて高い(すなわち、X線透過率が極めて低い)材料、例えばステンレス、鉛、鉄、タングステン等によって構成されている。電子線源収容室72の正面側には扉71(第2の扉)が取り付けられており、操作者は、電子線照射室21への照射対象物Aの搬入出や電子線源3のメンテナンスを、扉71を開けて行うことができる。扉71における観察窓25bと対向する位置には、観察窓71aが設けられている。これにより、操作者は扉71を閉じた状態で電子線照射室21の内部を観察することができる。なお、観察窓25b及び71aは、電子線照射室21内で二次的に発生するX線の漏洩を防止するため、例えば鉛ガラスといったX線吸収材からなることが好ましい。   The housing 7 accommodates the accommodating portion 2 and the electron beam source 3, and leakage of X-rays generated from the electron beam source 3 to the outside when the electron beam strikes the irradiation target A. prevent. The housing 7 has a rectangular parallelepiped box shape that is long in the height direction, and the inside of the housing 7 is divided into an electron beam source accommodation chamber 72 provided in the upper portion and a control portion accommodation chamber 73 provided in the lower portion. It is partitioned. The electron beam source accommodating chamber 72 accommodates the accommodating portion 2 and the electron beam source 3. The wall surface of the housing 7 constituting the electron beam source accommodation chamber 72 is made of a material having extremely high X-ray absorption rate (that is, extremely low X-ray transmittance), such as stainless steel, lead, iron, tungsten, or the like. . A door 71 (second door) is attached to the front side of the electron beam source accommodation chamber 72, and the operator carries the irradiation object A into and out of the electron beam irradiation chamber 21 and maintains the electron beam source 3. Can be performed by opening the door 71. An observation window 71a is provided at a position of the door 71 facing the observation window 25b. Thereby, the operator can observe the inside of the electron beam irradiation chamber 21 with the door 71 closed. The observation windows 25b and 71a are preferably made of an X-ray absorber such as lead glass in order to prevent leakage of X-rays that are secondarily generated in the electron beam irradiation chamber 21.

制御部収容室73には、各種制御装置(電子線源コントローラ74、排気ポンプ75、ステージコントローラ76、及び雰囲気調整コントローラ77)が収容されている。電子線源コントローラ74は、本実施形態における電子線制御部である。電子線源コントローラ74は、電子線源3と電気的に接続されて電子線の放出制御を行う。排気ポンプ75は、真空容器13の内部を排気する真空ポンプ33と配管を介して接続され、真空ポンプ33から排出されたガスを筐体7の外部へ排気する。ステージコントローラ76は、前述したXYステージ26および調整台27と電気的に接続されて照射対象物Aの位置制御を行う。雰囲気調整コントローラ77は、本実施形態における雰囲気置換装置である。雰囲気調整コントローラ77は、収容部2の電子線照射室21と配管77aを介して接続され、電子線照射室21の内部雰囲気を窒素ガス等の不活性ガスに置換するとともに、置換後の内部雰囲気を維持する。なお、電子線源コントローラ74、排気ポンプ75、ステージコントローラ76、及び雰囲気調整コントローラ77の操作は、例えばキーボードなどの入力手段を介して操作者により行われる。また、これらの動作状態は、筐体7に取り付けられた表示装置78により表示される。   Various control devices (electron beam source controller 74, exhaust pump 75, stage controller 76, and atmosphere adjustment controller 77) are accommodated in the control unit accommodation chamber 73. The electron beam source controller 74 is an electron beam controller in the present embodiment. The electron beam source controller 74 is electrically connected to the electron beam source 3 and controls the emission of the electron beam. The exhaust pump 75 is connected to the vacuum pump 33 that exhausts the inside of the vacuum vessel 13 through a pipe, and exhausts the gas exhausted from the vacuum pump 33 to the outside of the housing 7. The stage controller 76 is electrically connected to the XY stage 26 and the adjustment table 27 described above, and controls the position of the irradiation object A. The atmosphere adjustment controller 77 is an atmosphere replacement device in the present embodiment. The atmosphere adjustment controller 77 is connected to the electron beam irradiation chamber 21 of the housing portion 2 via the pipe 77a, and replaces the internal atmosphere of the electron beam irradiation chamber 21 with an inert gas such as nitrogen gas, and the internal atmosphere after replacement. To maintain. The operation of the electron beam source controller 74, the exhaust pump 75, the stage controller 76, and the atmosphere adjustment controller 77 is performed by an operator via an input means such as a keyboard. Further, these operation states are displayed by a display device 78 attached to the housing 7.

電子線源収容室72と制御部収容室73とは、金属製の仕切り部材79によって互いに仕切られている。仕切り部材79は、X線吸収率が極めて高い材料、例えばステンレス、鉛、鉄、タングステン等によって構成される。これにより、電子線源収容室72内に収容された電子線源3や電子線照射室21から発生したX線が仕切り部材79により遮蔽されるので、制御部収容室73内に収容された各種制御装置に対するX線の影響を低減できる。   The electron beam source accommodation chamber 72 and the control unit accommodation chamber 73 are partitioned from each other by a metal partition member 79. The partition member 79 is made of a material having an extremely high X-ray absorption rate, such as stainless steel, lead, iron, tungsten, or the like. As a result, the X-rays generated from the electron beam source 3 and the electron beam irradiation chamber 21 accommodated in the electron beam source accommodation chamber 72 are shielded by the partition member 79, so that various kinds of components accommodated in the control unit accommodation chamber 73 are stored. The influence of X-rays on the control device can be reduced.

続いて、本実施形態の収容部2及び電子線源3の構成について、図3〜図7を参照しつつ具体的に説明する。図3は、収容部2及び電子線源3の構成を示す正面図である。図3では、理解を容易にするため収容部2の一部を切り欠いて示している。図4は、収容部2及び電子線源3の側面図であり、収容部2については図3のIV−IV線に沿った側面断面を示している。図5は、収容部2及び電子線源3の上面図である。また、図6及び図7は、収容部2及び電子線源3の動作の様子を示す図である。   Then, the structure of the accommodating part 2 and the electron beam source 3 of this embodiment is demonstrated concretely, referring FIGS. 3-7. FIG. 3 is a front view showing the configuration of the accommodating portion 2 and the electron beam source 3. In FIG. 3, a part of the housing portion 2 is cut out for easy understanding. FIG. 4 is a side view of the housing part 2 and the electron beam source 3, and the housing part 2 shows a side cross-section along the line IV-IV in FIG. 3. FIG. 5 is a top view of the accommodating portion 2 and the electron beam source 3. 6 and 7 are diagrams showing the operation of the housing 2 and the electron beam source 3.

収容部2は、主に本体部22及び蓋部24によって構成され、内部が空洞(電子線照射室21)となった略直方体状のステンレス製箱形容器である。本体部22の上面には矩形の開口部22aが形成されており、蓋部24は開口部22aを塞ぐように配置されて電子線照射室21の天板の一部を構成している。本体部22と蓋部24とは収容部2の背面側に設けられたヒンジ(第2のヒンジ)23を介して互いに連結されており、このヒンジを支点として蓋部24が開閉可能となっている。   The accommodating portion 2 is a substantially rectangular parallelepiped stainless steel box-shaped container mainly composed of a main body portion 22 and a lid portion 24 and having a hollow (electron beam irradiation chamber 21) inside. A rectangular opening 22 a is formed on the upper surface of the main body 22, and the lid 24 is disposed so as to close the opening 22 a and constitutes a part of the top plate of the electron beam irradiation chamber 21. The main body portion 22 and the lid portion 24 are connected to each other via a hinge (second hinge) 23 provided on the back side of the housing portion 2, and the lid portion 24 can be opened and closed with this hinge as a fulcrum. Yes.

蓋部24は、電子線源3の真空容器13が挿通及び固定される電子線源取付部24aを有している。電子線源取付部24aは、真空容器13の長手方向に沿って延びる略円筒形状に形成されており、その内径は真空容器13の外径とほぼ同じである。なお、蓋部24には、蓋部24の開閉を容易にするための取手24bが、蓋部24の正面寄りの部分に取り付けられている。また、本体部22と蓋部24とが互いに接する部分は、互いに重なることで、電子線照射室21で電子線の照射により二次的に発生するX線の外部への漏洩を防止することが可能だが、より漏洩X線量を少なくするためには、鉛シートまたはタングステンシートといったX線遮蔽シートが設けられるとよい。   The lid portion 24 has an electron beam source mounting portion 24a into which the vacuum container 13 of the electron beam source 3 is inserted and fixed. The electron beam source mounting portion 24 a is formed in a substantially cylindrical shape extending along the longitudinal direction of the vacuum vessel 13, and the inner diameter thereof is substantially the same as the outer diameter of the vacuum vessel 13. Note that a handle 24 b for facilitating opening and closing of the lid portion 24 is attached to the lid portion 24 at a portion near the front surface of the lid portion 24. In addition, the portions where the main body portion 22 and the lid portion 24 are in contact with each other overlap each other, thereby preventing leakage of X-rays that are secondarily generated by the electron beam irradiation in the electron beam irradiation chamber 21 to the outside. Although possible, in order to further reduce the leakage X-ray dose, an X-ray shielding sheet such as a lead sheet or a tungsten sheet may be provided.

蓋部24を開いた様子を図6に示す。蓋部24は、ヒンジ23を支点として上方に開く。このとき、蓋部24に固定された電子線源3も蓋部24と共にヒンジ23を支点として移動する。後述するように、本実施形態では電子線源3の照射窓部12が電子線照射室21側から着脱可能に構成されており、蓋部24がこのように開くことによって、照射窓部12へのアクセスを容易にし、作業者は照射窓部12を容易に交換することができる。なお、本実施形態のように蓋部24を上方へ開く場合、重量物である蓋部24及び電子線源3によって蓋部24が急激に閉じてしまうことを防ぐため、図6に示すように、蓋部24と本体部22との間にショックアブソーバー(緩衝部材)34が設けられることが好ましい。   FIG. 6 shows a state where the lid portion 24 is opened. The lid portion 24 opens upward with the hinge 23 as a fulcrum. At this time, the electron beam source 3 fixed to the lid portion 24 also moves with the lid portion 24 using the hinge 23 as a fulcrum. As will be described later, in the present embodiment, the irradiation window portion 12 of the electron beam source 3 is configured to be detachable from the electron beam irradiation chamber 21 side. Thus, the operator can easily replace the irradiation window 12. As shown in FIG. 6, when the lid portion 24 is opened upward as in this embodiment, the lid portion 24 and the electron beam source 3, which are heavy objects, are prevented from closing suddenly. A shock absorber (buffer member) 34 is preferably provided between the lid 24 and the main body 22.

図3〜図5を再び参照すると、本体部22の正面は照射対象物Aを搬入及び搬出するための矩形の開口部22b(図4参照)となっており、開口部22bには、ヒンジ25cを介して扉25が開閉可能に取り付けられている。扉25には、扉25の開閉を容易にするための取手25aが取り付けられている。本実施形態では、ヒンジ25cは扉25の下端に取り付けられ、取手25aは扉25の上端に取り付けられている。また、電子線照射時には、電子線照射室21の内部を窒素ガス等の不活性ガスにて置換するため、本体部22の裏面には、雰囲気調整コントローラ77(図1,2参照)から延びる配管77aの一端が取り付けられている。そして、電子線照射室21の内部雰囲気を維持するため、開口部22aや開口部22b、電子線源取付部24aには、蓋部24や扉25、真空容器13との間に気密封止部材が設けられる。   Referring to FIGS. 3 to 5 again, the front surface of the main body 22 is a rectangular opening 22b (see FIG. 4) for carrying in and out the irradiation object A, and the opening 22b includes a hinge 25c. A door 25 is attached to be openable and closable. A handle 25 a for facilitating opening and closing of the door 25 is attached to the door 25. In the present embodiment, the hinge 25 c is attached to the lower end of the door 25, and the handle 25 a is attached to the upper end of the door 25. Further, at the time of electron beam irradiation, in order to replace the inside of the electron beam irradiation chamber 21 with an inert gas such as nitrogen gas, a pipe extending from the atmosphere adjustment controller 77 (see FIGS. 1 and 2) is provided on the back surface of the main body portion 22. One end of 77a is attached. In order to maintain the internal atmosphere of the electron beam irradiation chamber 21, an airtight sealing member is provided between the lid portion 24, the door 25, and the vacuum container 13 in the opening portion 22 a, the opening portion 22 b, and the electron beam source mounting portion 24 a. Is provided.

前述したように、収容部2の電子線照射室21には、XYステージ26、調整台27、及びテーブル28が設けられている。図7に示すように、XYステージ26、調整台27、及びテーブル28は、開口部22bへ向けて平行移動(スライド)可能となっており、扉25が開かれる際には、テーブル28が電子線照射室21の外部に移動できるしくみになっている。このしくみによって、作業者は、照射対象物Aをテーブル28上にセットする作業を容易にできる。なお、電子線がテーブル28に照射されることによるX線の発生を低減するため、テーブル28は、カーボン等の軽元素素材で構成されることが好ましい。或いは、テーブル28の表面をカーボン等の軽元素素材からなる膜やシートで覆ってもよい。   As described above, the electron beam irradiation chamber 21 of the storage unit 2 is provided with the XY stage 26, the adjustment table 27, and the table 28. As shown in FIG. 7, the XY stage 26, the adjustment table 27, and the table 28 can be translated (slid) toward the opening 22b. When the door 25 is opened, the table 28 is electronic. It is structured to be able to move to the outside of the beam irradiation chamber 21. By this mechanism, the operator can easily perform the operation of setting the irradiation object A on the table 28. In addition, in order to reduce generation | occurrence | production of the X-ray by irradiating the electron beam to the table 28, it is preferable that the table 28 is comprised with light element materials, such as carbon. Alternatively, the surface of the table 28 may be covered with a film or sheet made of a light element material such as carbon.

次に、電子線源3の構成について詳細に説明する。図8は、電子線源3の内部構成を示す側面断面図である。電子線源3は、電子銃16を有する。電子銃16は、着脱可能なカソード端子部17を含み、カソード端子部17から所定方向に電子線Bを放出する。電子線源3は、更に、電子銃16からの電子線Bを透過する照射窓部12と、円筒形状の真空容器13と、真空容器13の内部を排気する真空ポンプ33(図1〜図5参照。図8では省略)とを有する。   Next, the configuration of the electron beam source 3 will be described in detail. FIG. 8 is a side sectional view showing the internal configuration of the electron beam source 3. The electron beam source 3 has an electron gun 16. The electron gun 16 includes a detachable cathode terminal portion 17 and emits an electron beam B from the cathode terminal portion 17 in a predetermined direction. The electron beam source 3 further includes an irradiation window portion 12 that transmits the electron beam B from the electron gun 16, a cylindrical vacuum vessel 13, and a vacuum pump 33 that exhausts the inside of the vacuum vessel 13 (FIGS. 1 to 5). Reference: omitted in FIG.

本実施形態の電子線源3は、開放型であり、使い捨てに供される閉鎖型と異なり、真空状態を任意に作り出すことができ、電子発生部材であるフィラメント17aを含むカソード端子部17や照射窓部12の交換を可能にしている。すなわち、真空容器13は、動作時に真空状態になるステンレス鋼製の容器であって、電子線Bの照射方向の一端側(収容部2とは反対側)に位置する基端部14と、他端側(収容部2側)に位置する先端部15とに二分割されている。基端部14は電子銃16のフィラメント17aを含むカソード端子部17を収容し、電子銃16を保持する。また、先端部15は照射窓部12を保持する。基端部14と先端部15とは、真空容器13の背面側に配置されたヒンジ18(第1のヒンジ)によって互いに連結されており、ヒンジ18を支点として開閉可能となっている。先端部15は蓋部24の電子線源取付部24aに固定されており、図7に示したように、基端部14がヒンジ18を支点にして横倒しになるように回動することで、基端部14を開放させることができ、基端部14内に収容されているカソード端子部17へのアクセスを可能にする。   The electron beam source 3 according to the present embodiment is an open type, and unlike a closed type for disposable use, a vacuum state can be arbitrarily created, and a cathode terminal portion 17 including a filament 17a that is an electron generating member or irradiation. The window part 12 can be replaced. That is, the vacuum container 13 is a stainless steel container that is in a vacuum state during operation, and a base end part 14 positioned on one end side (opposite side of the housing part 2) in the irradiation direction of the electron beam B, and the like It is divided into a front end portion 15 located on the end side (accommodating portion 2 side). The base end portion 14 accommodates the cathode terminal portion 17 including the filament 17 a of the electron gun 16 and holds the electron gun 16. Further, the distal end portion 15 holds the irradiation window portion 12. The proximal end portion 14 and the distal end portion 15 are connected to each other by a hinge 18 (first hinge) disposed on the back side of the vacuum vessel 13 and can be opened and closed with the hinge 18 as a fulcrum. The distal end portion 15 is fixed to the electron beam source mounting portion 24a of the lid portion 24, and as shown in FIG. 7, the base end portion 14 is rotated so as to lie down with the hinge 18 as a fulcrum. The base end part 14 can be opened, and access to the cathode terminal part 17 accommodated in the base end part 14 is made possible.

先端部15内には、電磁偏向レンズとして機能する筒状のコイル部15aが設けられると共に、コイル部15aの中心を通るよう、真空容器13の長手方向に電子通路15eが延在している。また、先端部15の基端部14側の端部にはディスク板31が蓋をするように固定され、このディスク板31の中心には、電子通路15eと連通する電子導入孔31aが形成されている。   A cylindrical coil portion 15 a that functions as an electromagnetic deflection lens is provided in the distal end portion 15, and an electron passage 15 e extends in the longitudinal direction of the vacuum vessel 13 so as to pass through the center of the coil portion 15 a. A disk plate 31 is fixed to the end of the distal end portion 15 on the base end portion 14 side so as to cover it, and an electron introduction hole 31a communicating with the electron passage 15e is formed at the center of the disk plate 31. ing.

先端部15の収容部2側の端部には、電子通路15eの端に位置して電子線照射室21に向けて電子線Bを透過する照射窓部12が装着されている。この照射窓部12は、電子線照射室21に臨んで配置され、蓋部24の内面24cに対して電子線照射方向に突設されている。本実施形態では、電子線源取付部24aの電子線照射室21側の端部が蓋部24の内面24cに対して突き出ており、照射窓部12は電子線源取付部24aの端面に対して更に突き出ている。照射窓部12は、カソード端子部17(フィラメント17a)から発生して電子通路15eを通過した電子線Bを透過する窓材を含んで構成されており、先端部15に螺子等によって固定されている。従って、螺子の取り外しによって、消耗品である窓材を含む照射窓部12の交換も可能になる。   An irradiation window portion 12 that is located at the end of the electron passage 15e and transmits the electron beam B toward the electron beam irradiation chamber 21 is attached to the end portion of the distal end portion 15 on the accommodating portion 2 side. The irradiation window portion 12 is disposed so as to face the electron beam irradiation chamber 21, and projects from the inner surface 24 c of the lid portion 24 in the electron beam irradiation direction. In the present embodiment, the end portion of the electron beam source mounting portion 24a on the electron beam irradiation chamber 21 side protrudes from the inner surface 24c of the lid portion 24, and the irradiation window portion 12 faces the end surface of the electron beam source mounting portion 24a. It protrudes further. The irradiation window portion 12 includes a window material that is transmitted from the electron beam B that is generated from the cathode terminal portion 17 (filament 17a) and passes through the electron passage 15e, and is fixed to the tip portion 15 by a screw or the like. Yes. Therefore, by removing the screw, the irradiation window portion 12 including the window material which is a consumable item can be replaced.

真空ポンプ33(図1〜図5参照)は、基端部14に固定されている。真空ポンプ33は、真空容器13の内部を排気して高真空状態にするためのものである。すなわち、電子線源3が真空ポンプ33を装備することによって、消耗品であるカソード端子部17や照射窓部12の交換が可能になっている。また、本実施形態の真空ポンプ33は、図2や図4に示したように、真空容器13の背面側に配置されている。このように、重量物である真空ポンプ33を収容部2のヒンジ23や電子線源3のヒンジ18と同じ背面側に配置することによって、真空容器13や収容部2を開放した際に、ヒンジ18より上部の構造体の重心を下げ、安定した開放状態を実現できる。   The vacuum pump 33 (see FIGS. 1 to 5) is fixed to the base end portion 14. The vacuum pump 33 is for exhausting the inside of the vacuum vessel 13 to a high vacuum state. That is, when the electron beam source 3 is equipped with the vacuum pump 33, the cathode terminal portion 17 and the irradiation window portion 12 which are consumables can be replaced. Moreover, the vacuum pump 33 of this embodiment is arrange | positioned at the back side of the vacuum vessel 13, as shown in FIG.2 and FIG.4. Thus, by placing the vacuum pump 33, which is a heavy object, on the same back side as the hinge 23 of the storage unit 2 and the hinge 18 of the electron beam source 3, the hinge is opened when the vacuum container 13 or the storage unit 2 is opened. The center of gravity of the structure above 18 can be lowered, and a stable open state can be realized.

真空容器13の基端側には、電子銃16との一体化が図られたモールド電源部34が固定されている。このモールド電源部34は、電気絶縁性の樹脂(例えば、エポキシ樹脂)でモールド成形されたものであり、金属製のケース35内に収容されている。   A mold power supply unit 34 that is integrated with the electron gun 16 is fixed to the proximal end side of the vacuum vessel 13. The mold power source 34 is molded with an electrically insulating resin (for example, epoxy resin) and is housed in a metal case 35.

図9は、モールド電源部34の構成を示す側面断面図である。モールド電源部34は、電子線源3の基端側に位置して直方体形状をなすブロック状の電源本体部34aと、この電源本体部34aから電子線源3の先端側に向けて基端部14内へ突出する円柱状のネック部34bとからなる。電源本体部34a内には、高電圧(例えば、照射窓部12をアースさせる場合には最大−160kV)を発生させるようなトランスを構成させた高圧発生部34cが封入されている。   FIG. 9 is a side cross-sectional view showing the configuration of the mold power supply unit 34. The mold power supply unit 34 is located on the proximal end side of the electron beam source 3 and has a rectangular parallelepiped block-shaped power supply main body portion 34 a, and a proximal end portion from the power supply body portion 34 a toward the distal end side of the electron beam source 3. 14 and a cylindrical neck portion 34b protruding into the interior 14. In the power source main body 34a, a high voltage generator 34c that constitutes a transformer that generates a high voltage (for example, a maximum of −160 kV when the irradiation window 12 is grounded) is enclosed.

電子銃16は、ネック部34bの先端部に、電子通路15eを挟んで照射窓部12に対峙するよう配置されている。図10は、電子銃16の構成を詳細に示す側面断面図である。電子銃16は、図10に示すように、ネック部34bに装着させるグリッドベース37を有し、このグリッドベース37は、ネック部34bの先端面に埋め込まれたグリッド用端子38に対して螺子部37aを介して固定されている。   The electron gun 16 is disposed at the tip of the neck portion 34b so as to face the irradiation window portion 12 with the electron passage 15e interposed therebetween. FIG. 10 is a side sectional view showing the configuration of the electron gun 16 in detail. As shown in FIG. 10, the electron gun 16 has a grid base 37 to be attached to the neck portion 34b. The grid base 37 is a screw portion with respect to a grid terminal 38 embedded in the front end surface of the neck portion 34b. It is fixed via 37a.

また、ネック部34bには、その先端面にフィラメント用端子39が埋め込まれている。この端子39には、ヒータソケット40がねじ込まれており、このヒータソケット40の先端にカソード端子部17が着脱自在に取り付けられている。ここで、図11は、カソード端子部17及びその周辺の構成を示す側面断面図であり、図12は、図11に示したカソード端子部17の平面図であり、図13は、図12のXIII−XIII線に沿った部分断面図である。カソード端子部17は、図11〜図13に示すように、フィラメント17aと、フィラメント支持ピン41と、ベース部材42と、側壁部材43と、アパーチャ部材44とを含んでいる。   Further, a filament terminal 39 is embedded in the front end surface of the neck portion 34b. A heater socket 40 is screwed into the terminal 39, and the cathode terminal portion 17 is detachably attached to the tip of the heater socket 40. Here, FIG. 11 is a side sectional view showing the configuration of the cathode terminal portion 17 and its periphery, FIG. 12 is a plan view of the cathode terminal portion 17 shown in FIG. 11, and FIG. It is a fragmentary sectional view in alignment with the XIII-XIII line. As shown in FIGS. 11 to 13, the cathode terminal portion 17 includes a filament 17 a, a filament support pin 41, a base member 42, a side wall member 43, and an aperture member 44.

フィラメント17aは、電子を発生及び放出する電子発生部材であり、電子放出効率の良い材料(たとえば、W、Mo、Re、Nd、Ta、ThW線等)からなる。フィラメント17aの中央部はV字状またはU字状に曲げられており、この中央部から電子が放出される。また、フィラメント支持ピン41は、導電性の材料(たとえば、コバール(フェルニコ)等)からなる。フィラメント支持ピン41の先端部分にはフィラメント17aの端部が固着されており、フィラメント17aとフィラメント支持ピン41とが電気的に接続されている。フィラメント支持ピン41は、ヒータソケット40に対して取り外し可能に差し込まれる。ベース部材42は、絶縁性材料(たとえば、セラミックス等)からなり、フィラメント支持ピン41を固定する。   The filament 17a is an electron generating member that generates and emits electrons, and is made of a material having high electron emission efficiency (for example, W, Mo, Re, Nd, Ta, ThW line, etc.). The central portion of the filament 17a is bent into a V shape or a U shape, and electrons are emitted from this central portion. The filament support pin 41 is made of a conductive material (for example, Kovar (Fernico)). The end of the filament 17a is fixed to the tip of the filament support pin 41, and the filament 17a and the filament support pin 41 are electrically connected. The filament support pin 41 is detachably inserted into the heater socket 40. The base member 42 is made of an insulating material (for example, ceramics) and fixes the filament support pin 41.

側壁部材43は、略筒形状を呈した導電性の材料(たとえば、ステンレス鋼)からなり、フィラメント17aの電子放出方向側に開口43aを有している。側壁部材43は、フィラメント17aの周囲を取り囲むようベース部材42に設けられており、フィラメント17aは側壁部材43の内側に位置している。ベース部材42と側壁部材43とは、ビス45により固定されている。   The side wall member 43 is made of a conductive material having a substantially cylindrical shape (for example, stainless steel), and has an opening 43a on the electron emission direction side of the filament 17a. The side wall member 43 is provided on the base member 42 so as to surround the filament 17 a, and the filament 17 a is located inside the side wall member 43. The base member 42 and the side wall member 43 are fixed by screws 45.

アパーチャ部材44は、薄板状の導電性の材料(たとえば、ステンレス鋼)からなり、開口43aを被うよう側壁部材43にスポット溶接により固定されている。アパーチャ部材44は、フィラメント17aの電子放出方向前方に開口44aを有している。アパーチャ部材44の厚さは例えば0.1〜0.25mm程度に設定され、開口44aの直径は例えば1.0〜1.5mm程度に設定される。   The aperture member 44 is made of a thin plate-like conductive material (for example, stainless steel), and is fixed to the side wall member 43 by spot welding so as to cover the opening 43a. The aperture member 44 has an opening 44a in front of the filament 17a in the electron emission direction. The thickness of the aperture member 44 is set to about 0.1 to 0.25 mm, for example, and the diameter of the opening 44a is set to about 1.0 to 1.5 mm, for example.

カソード端子部17には、図10及び図11に示すように、ホルダ部材36が被せられる。そして、カソード端子部17は、押えリング46をホルダ部材36の内側に締め込むことにより、ホルダ部材36に固定される。また、カソード端子部17が固定されたホルダ部材36にはグリッド固定リング48が被され、グリッド固定リング48がグリッドベース37に螺合されることにより、グリッドベース37に固定される。このような構成によって、カソード端子部17(フィラメント17a)は、必要に応じて交換可能となっている。   As shown in FIGS. 10 and 11, the cathode terminal portion 17 is covered with a holder member 36. The cathode terminal portion 17 is fixed to the holder member 36 by tightening the presser ring 46 inside the holder member 36. The holder member 36 to which the cathode terminal portion 17 is fixed is covered with a grid fixing ring 48, and the grid fixing ring 48 is screwed to the grid base 37 to be fixed to the grid base 37. With such a configuration, the cathode terminal portion 17 (filament 17a) can be replaced as necessary.

ホルダ部材36は、導電性の材料(たとえば、ステンレス鋼)からなり、側壁部材43に対して位置決めされている。すなわち、ホルダ部材36の外側から螺入されたビス47の端部がホルダ部材36の内面から突出しており、ベース部材42の外周部には、ビス47の端部と係合可能なガイド溝42aが設けられている。そして、カソード端子部17がホルダ部材36に挿入される際に、ビス47の端部とガイド溝42aとが係合することにより、ホルダ部材36と側壁部材43(カソード端子部17)との位置決めがなされる。側壁部材43には、カソード端子部17に被せる際にビス47の端部と側壁部材43とが干渉しないように、ガイド溝42aに対応する位置にガイド溝43bが設けられている。   The holder member 36 is made of a conductive material (for example, stainless steel) and is positioned with respect to the side wall member 43. That is, the end of the screw 47 screwed from the outside of the holder member 36 protrudes from the inner surface of the holder member 36, and a guide groove 42 a that can be engaged with the end of the screw 47 is formed on the outer periphery of the base member 42. Is provided. When the cathode terminal portion 17 is inserted into the holder member 36, the end portion of the screw 47 and the guide groove 42a engage with each other, whereby the holder member 36 and the side wall member 43 (cathode terminal portion 17) are positioned. Is made. The side wall member 43 is provided with a guide groove 43b at a position corresponding to the guide groove 42a so that the end portion of the screw 47 and the side wall member 43 do not interfere when the cathode terminal portion 17 is covered.

ホルダ部材36は、アパーチャ部材44の開口44aに対応する位置に開口36aを有している。ホルダ部材36の開口36aの直径は、6mm程度に設定されており、アパーチャ部材44の直径(12mm程度)よりも小さく、開口44aの直径よりも大きい。従って、アパーチャ部材44は、ホルダ部材36と側壁部材43とに挟み込まれて固定される。   The holder member 36 has an opening 36 a at a position corresponding to the opening 44 a of the aperture member 44. The diameter of the opening 36a of the holder member 36 is set to about 6 mm, which is smaller than the diameter (about 12 mm) of the aperture member 44 and larger than the diameter of the opening 44a. Therefore, the aperture member 44 is sandwiched and fixed between the holder member 36 and the side wall member 43.

このような構成の電子銃16においては、グリッド用端子38に電気的に接続されたグリッドベース37、グリッド固定リング48、及びホルダ部材36によって、グリッド電極(集束電極)が構成される。また、ヒータソケット40を介してフィラメント用端子39に電気的に接続されたカソード端子部17(フィラメント17a)によって、カソード電極が構成される。   In the electron gun 16 having such a configuration, a grid electrode (focusing electrode) is configured by the grid base 37, the grid fixing ring 48, and the holder member 36 that are electrically connected to the grid terminal 38. A cathode electrode is constituted by the cathode terminal portion 17 (filament 17a) electrically connected to the filament terminal 39 via the heater socket 40.

図9に示すように、モールド電源部34の電源本体部34a内には、高圧発生部34cに電気的に接続された電子放出制御部34dが封入されている。そして、この電子放出制御部34dが、グリッド用端子38及びフィラメント用端子39に対し、グリッド接続配線49a及びフィラメント接続配線49bを介してそれぞれ接続され、各接続配線49a,49bは、供に高電圧に印加されるゆえにネック部34b内に封入される。   As shown in FIG. 9, an electron emission control unit 34 d that is electrically connected to the high voltage generation unit 34 c is enclosed in the power supply main body 34 a of the mold power supply unit 34. The electron emission control unit 34d is connected to the grid terminal 38 and the filament terminal 39 via the grid connection wiring 49a and the filament connection wiring 49b, respectively. Therefore, it is enclosed in the neck portion 34b.

すなわち、高圧発生部34cはもとより、グリッド電極に給電するグリッド接続配線49a、及びカソード端子部17(フィラメント17a)に給電するフィラメント接続配線49bは、高電圧化することになる。具体的には、照射窓部12がアースされる場合、最大−160kVを高圧発生部34cで作り出すことができる。このとき、高圧(−160kV)にフローティングされた状態で、グリッド接続配線49aには−数百Vが印加され、フィラメント接続配線49bには−2〜3Vが印加される。   In other words, not only the high voltage generator 34c but also the grid connection wiring 49a that supplies power to the grid electrode and the filament connection wiring 49b that supplies power to the cathode terminal portion 17 (filament 17a) are increased in voltage. Specifically, when the irradiation window 12 is grounded, a maximum of −160 kV can be generated by the high pressure generator 34c. At this time, in a state of floating at a high voltage (−160 kV), −hundreds of volts is applied to the grid connection wiring 49a, and −2 to 3V is applied to the filament connection wiring 49b.

また、図9に示すように、電源本体部34aは金属製のケース35内に収容され、電源本体部34aとケース35との間には隙間Cが設けられ、この隙間C内に高電圧制御部50が配置されている。このケース35には、外部電源に接続するための電源用端子51が固定され、高電圧制御部50はこの電源用端子51に接続されると共に、モールド電源部34内の高圧発生部34c及び電子放出制御部34dに対してそれぞれ配線49c,49dを介して接続されている。また、電子線源コントローラ74(図1、図2参照)からの制御信号に基づき、高電圧制御部50によって、高圧発生部34cにおいて発生する電圧が高電圧(例えば160kV)から低電圧(0V)までコントロールされる。更に、電子放出制御部34dにより、電子放出タイミングや管電流などがコントロールされる。なお、隙間Cには冷却ファン52が更に配置されてもよい。   As shown in FIG. 9, the power supply main body 34 a is accommodated in a metal case 35, and a gap C is provided between the power supply main body 34 a and the case 35, and high voltage control is performed in the gap C. Part 50 is arranged. A power source terminal 51 for connection to an external power source is fixed to the case 35, and the high voltage control unit 50 is connected to the power source terminal 51, and the high voltage generating unit 34c and the electron in the mold power source unit 34 are connected. The discharge control unit 34d is connected via wirings 49c and 49d, respectively. Further, based on a control signal from the electron beam source controller 74 (see FIGS. 1 and 2), the high voltage controller 50 changes the voltage generated in the high voltage generator 34c from a high voltage (for example, 160 kV) to a low voltage (0 V). Controlled until. Further, the electron emission control unit 34d controls the electron emission timing, tube current, and the like. A cooling fan 52 may be further disposed in the gap C.

続いて、本実施形態の照射窓部12の構成について詳細に説明する。図14(a)は、照射窓部12及びその付近の構成を示す側面断面図である。また、図14(b)は、図14(a)に示す照射窓部12の主要部の拡大断面図である。また、図15は、照射窓部12の構成を示す平面図である。照射窓部12は、図8に示した電子銃16から出射された電子線Bを透過して真空容器13の外部(電子線照射室21内)へ照射するための部分であり、真空容器13の先端部15の先端(電子通路15eの端部)に着脱可能に取り付けられる。   Then, the structure of the irradiation window part 12 of this embodiment is demonstrated in detail. FIG. 14A is a side sectional view showing the configuration of the irradiation window 12 and the vicinity thereof. Moreover, FIG.14 (b) is an expanded sectional view of the principal part of the irradiation window part 12 shown to Fig.14 (a). FIG. 15 is a plan view showing the configuration of the irradiation window 12. The irradiation window portion 12 is a portion for transmitting the electron beam B emitted from the electron gun 16 shown in FIG. 8 and irradiating it outside the vacuum vessel 13 (inside the electron beam irradiation chamber 21). It attaches to the front-end | tip (end part of the electronic channel | path 15e) of this front-end | tip part 15 so that attachment or detachment is possible.

照射窓部12は、略円板状の外観を有しており、枠材61、窓材62、及び固定用部材63を有する。枠材61は、略円板状の部材であり、例えばステンレスといった金属からなる。枠材61は、先端部15の段差部15fの壁部に囲まれた平面上に配置される。枠材61には、窓材62及び固定用部材63を収容するための凹部61aと、電子線Bを通過させるための電子通過孔61cとが形成されている。このうち、電子通過孔61cは、電子線Bの出射方向に枠材61を貫通しており、枠材61の中心部分に形成されている。電子通過孔61cの真空容器13側の幅(内径)は、真空容器13の内部へ向けてテーパ状に拡大している。これに対し、真空容器13とは反対側の電子通過孔61cの幅(内径)は、電子線Bの出射方向に沿ってほぼ一定となっている。つまり電子通過孔61cは、電子出射側からほぼ一定の径を維持した部分と、その部分に連続するように、電子入射側(真空容器13側)から電子出射側に向けてテーパ状に縮径していく部分とからなる。   The irradiation window portion 12 has a substantially disk-like appearance, and includes a frame member 61, a window member 62, and a fixing member 63. The frame member 61 is a substantially disk-shaped member and is made of a metal such as stainless steel, for example. The frame member 61 is disposed on a plane surrounded by the wall portion of the step portion 15 f of the tip portion 15. The frame member 61 is formed with a recess 61a for accommodating the window member 62 and the fixing member 63 and an electron passage hole 61c for allowing the electron beam B to pass therethrough. Among these, the electron passage hole 61 c penetrates the frame member 61 in the emission direction of the electron beam B, and is formed in the central portion of the frame member 61. The width (inner diameter) of the electron passage hole 61 c on the side of the vacuum vessel 13 is increased in a tapered shape toward the inside of the vacuum vessel 13. On the other hand, the width (inner diameter) of the electron passage hole 61c on the side opposite to the vacuum container 13 is substantially constant along the emission direction of the electron beam B. That is, the electron passage hole 61c has a diameter that is tapered from the electron incident side (vacuum container 13 side) toward the electron emitting side so as to be continuous with the portion that maintains a substantially constant diameter from the electron emitting side. It consists of parts to do.

凹部61aは、電子通過孔61cの一端をその底面が含むように形成されており、照射窓部12の厚さ方向(すなわち電子線Bの出射方向)から見て円形状に形成されている。凹部61aの周囲には、複数のボルト穴61dが枠材61の周方向に並んで形成されており、枠材61は、ボルト穴61dにボルト64が挿通され、このボルト64が先端部15のネジ穴と螺合することにより、先端部15に装着される。なお、枠材61は、ボルト64が取り外されることによって先端部15から脱離することができる。また、枠材61には、ボルト穴61dとは別のネジ穴61eが形成されている。ネジ穴61eは、ボルト64を強く締めすぎて照射窓部12が先端部15に固着してしまい、先端部15から容易に外れなくなった場合に、適当な螺子をねじ込むことで照射窓部12を先端部15から引き離すために用いられる。   The concave portion 61a is formed so that the bottom surface includes one end of the electron passage hole 61c, and is formed in a circular shape when viewed from the thickness direction of the irradiation window portion 12 (that is, the emission direction of the electron beam B). Around the recess 61a, a plurality of bolt holes 61d are formed side by side in the circumferential direction of the frame member 61. In the frame member 61, a bolt 64 is inserted into the bolt hole 61d. It is attached to the tip portion 15 by being screwed into the screw hole. The frame member 61 can be detached from the distal end portion 15 by removing the bolt 64. The frame member 61 has a screw hole 61e different from the bolt hole 61d. The screw hole 61e tightens the bolt 64 too much so that the irradiation window portion 12 is fixed to the tip portion 15 and cannot be easily detached from the tip portion 15, so that the irradiation window portion 12 is screwed into the irradiation window portion 12 by screwing an appropriate screw. Used to pull away from the tip 15.

窓材62は、電子銃16から出射された電子線Bを透過して真空容器13の外部へ出射するための膜状の部材であり、電子線Bを透過する材料(例えばベリリウム、チタン、アルミニウムなど)からなる。窓材62は、例えば数μm〜10μmといった厚さに形成されており、例えばX線発生装置などに用いられる窓材と比較して極めて薄い。窓材62は、枠材61の電子通過孔61cの一端を覆うように、枠材61の凹部61aの底面上に配置されている。また、窓材62は、ロウ材65を用いて枠材61にロウ付けされることにより、電子通過孔61cを閉じるように枠材61に気密に接合されている。なお、窓材62は、ロウ付け以外にも例えば溶接によって枠材61に気密に接合されてもよい。窓材62の一方の面は真空容器13の外側に位置しており、大気に触れる。また、窓材62の他方の面は真空容器13の内側に位置している。   The window member 62 is a film-like member that transmits the electron beam B emitted from the electron gun 16 and emits the electron beam B to the outside of the vacuum vessel 13, and is a material that transmits the electron beam B (for example, beryllium, titanium, aluminum). Etc.). The window material 62 is formed to a thickness of, for example, several μm to 10 μm, and is extremely thin as compared with a window material used for an X-ray generator, for example. The window member 62 is disposed on the bottom surface of the recess 61 a of the frame member 61 so as to cover one end of the electron passage hole 61 c of the frame member 61. Further, the window material 62 is brazed to the frame material 61 by using the brazing material 65, and is thus airtightly joined to the frame material 61 so as to close the electron passage hole 61c. In addition to the brazing, the window member 62 may be airtightly joined to the frame member 61 by welding, for example. One surface of the window material 62 is located outside the vacuum vessel 13 and is exposed to the atmosphere. Further, the other surface of the window member 62 is located inside the vacuum vessel 13.

固定用部材63は、窓材62を枠材61に確実に固定するための部材である。固定用部材63は、中央部分に開口63aを有する円環状に形成されており、開口63aが枠材61の電子通過孔61cと連通するように、凹部61aの底面上且つ窓材62上に配設されることにより、枠材61との間に窓材62を挟んでいる。また、固定用部材63の外径は凹部61aの内径よりも小さく設定されており、固定用部材63の側面63bと凹部61aの側壁61bとの間には隙間があいている。この隙間は、部品の公差に起因して一般的に設けられる隙間よりも格段に大きな隙間であり、例えば凹部61aの内径の数パーセント〜数十パーセントといった大きさである。   The fixing member 63 is a member for securely fixing the window member 62 to the frame member 61. The fixing member 63 is formed in an annular shape having an opening 63a at the center, and is arranged on the bottom surface of the recess 61a and on the window member 62 so that the opening 63a communicates with the electron passage hole 61c of the frame member 61. By being provided, the window material 62 is sandwiched between the frame material 61. The outer diameter of the fixing member 63 is set smaller than the inner diameter of the recess 61a, and a gap is provided between the side surface 63b of the fixing member 63 and the side wall 61b of the recess 61a. This gap is a gap that is much larger than a gap that is generally provided due to component tolerances, and is, for example, several percent to several tens percent of the inner diameter of the recess 61a.

また、図14(b)に示すように、固定用部材63と枠材61との間にはロウ材65が充填されており、このロウ材65の一部は窓材62にも接している。このように、固定用部材63が窓材62及び枠材61にロウ付けされることにより、窓材62が枠材61に強固に接合されるとともに、枠材61と窓材62との間の気密性が増す。なお、固定用部材63は、図14に示すようなスポット溶接痕63cを有してもよい。このスポット溶接痕63cは、固定用部材63を枠材61にロウ付けする際に、固定用部材63を仮止めのために枠材61にスポット溶接した痕である。スポット溶接は窓材62を避けて行われるため、スポット溶接痕63cは窓材62の周囲に点在する。   Further, as shown in FIG. 14B, a brazing material 65 is filled between the fixing member 63 and the frame member 61, and a part of the brazing material 65 is also in contact with the window material 62. . In this manner, the fixing member 63 is brazed to the window material 62 and the frame material 61, whereby the window material 62 is firmly joined to the frame material 61 and between the frame material 61 and the window material 62. Airtightness increases. Note that the fixing member 63 may have a spot welding mark 63c as shown in FIG. The spot welding marks 63 c are marks that are spot-welded to the frame member 61 for temporarily fixing the fixing member 63 when the fixing member 63 is brazed to the frame member 61. Since spot welding is performed avoiding the window material 62, the spot welding marks 63 c are scattered around the window material 62.

また、図14(b)に示すように、ロウ材65に接する側の枠材61の表面(すなわち、枠材61の凹部61aの底面)には、ロウ材65の密着性を高めるための金属膜66aが形成されている。同様に、ロウ材65に接する側の固定用部材63の表面にも金属膜66bが形成されている。金属膜66a及び66bは、ロウ材65と相性が良い金属材料(例えば銅)からなり、蒸着等によって形成される。なお、本実施形態では固定用部材63の外径が凹部61aの内径よりも小さいので、固定用部材63の側面63bと凹部61aの側壁61bとの隙間から、金属膜66aが露出することとなる。   Further, as shown in FIG. 14B, a metal for improving the adhesion of the brazing material 65 on the surface of the frame material 61 on the side in contact with the brazing material 65 (that is, the bottom surface of the recess 61 a of the frame material 61). A film 66a is formed. Similarly, a metal film 66 b is also formed on the surface of the fixing member 63 on the side in contact with the brazing material 65. The metal films 66a and 66b are made of a metal material (for example, copper) having a good compatibility with the brazing material 65, and are formed by vapor deposition or the like. In this embodiment, since the outer diameter of the fixing member 63 is smaller than the inner diameter of the recess 61a, the metal film 66a is exposed from the gap between the side surface 63b of the fixing member 63 and the side wall 61b of the recess 61a. .

照射窓部12と真空容器13(先端部15)との間には、Oリング67が設けられる。Oリング67は、照射窓部12と真空容器13(先端部15)との隙間を気密に封止するための部材である。Oリング67は、例えば樹脂などの弾性材料からなり、枠材61と真空容器13との間において電子通過孔61cを囲むように設けられている。また、Oリング67を収容して位置決めするための溝13aが真空容器13側に形成されており、Oリング67は溝13aに収容されている。   An O-ring 67 is provided between the irradiation window 12 and the vacuum vessel 13 (tip 15). The O-ring 67 is a member for hermetically sealing the gap between the irradiation window portion 12 and the vacuum vessel 13 (tip portion 15). The O-ring 67 is made of an elastic material such as resin, and is provided between the frame member 61 and the vacuum vessel 13 so as to surround the electron passage hole 61c. A groove 13a for accommodating and positioning the O-ring 67 is formed on the vacuum vessel 13 side, and the O-ring 67 is accommodated in the groove 13a.

なお、本実施形態の電子線照射装置1Aにおける照射窓部としては、図14及び図15に示した照射窓部12以外にも、様々な構成のものが適用される。図16(a),(b)及び図17(a),(b)は、それぞれ照射窓部の構成例を示す断面図である。   In addition, as an irradiation window part in 1 A of electron beam irradiation apparatuses of this embodiment, the thing of various structures other than the irradiation window part 12 shown in FIG.14 and FIG.15 is applied. FIGS. 16A and 16B and FIGS. 17A and 17B are cross-sectional views each showing a configuration example of the irradiation window portion.

図16(a)に示す形態と前述した形態(図14,図15)との相違点は、照射窓部の装着形態である。すなわち、図16(a)に示す形態では、真空容器13の先端に押さえ部材68が設けられている。押さえ部材68は、枠材61の外周部分を押さえつつ真空容器13(先端部15)と螺合(螺着)することにより、照射窓部12を真空容器13(先端部15)に固定する。具体的には、押さえ部材68は、円筒状の螺合部68aと、螺合部68aの一端に設けられた板状部68bとが一体的に形成されて成る。そして、螺合部68aの内周面にはネジ山68dが形成されており、このネジ山68dが先端部15の外周面に形成されたネジ山15gと螺合することによって、押さえ部材68が先端部15に螺着される。このとき、板状部68bが照射窓部12の枠材61を先端部15へ押さえつける。押さえ部材68は、電子線Bを通過させるために板状部68bに形成された円形の開口68cを有する。開口68cの内径は枠材61の凹部61aの内径よりも大きく形成されており、板状部68bが固定用部材63に当接しないようになっている。   The difference between the configuration shown in FIG. 16A and the above-described configuration (FIGS. 14 and 15) is the mounting configuration of the irradiation window portion. That is, in the form shown in FIG. 16A, the pressing member 68 is provided at the tip of the vacuum vessel 13. The holding member 68 fixes the irradiation window portion 12 to the vacuum vessel 13 (tip portion 15) by screwing (screwing) with the vacuum vessel 13 (tip portion 15) while holding the outer peripheral portion of the frame member 61. Specifically, the pressing member 68 is formed by integrally forming a cylindrical screwing portion 68a and a plate-like portion 68b provided at one end of the screwing portion 68a. A screw thread 68d is formed on the inner peripheral surface of the threaded portion 68a, and the screw member 68d is screwed with a screw thread 15g formed on the outer peripheral surface of the distal end portion 15. Screwed to the tip 15. At this time, the plate-like portion 68 b presses the frame member 61 of the irradiation window portion 12 against the tip portion 15. The pressing member 68 has a circular opening 68c formed in the plate-like portion 68b for allowing the electron beam B to pass therethrough. The inner diameter of the opening 68 c is formed larger than the inner diameter of the concave portion 61 a of the frame member 61, so that the plate-like portion 68 b does not contact the fixing member 63.

また、図16(b)に示す形態と前述した形態(図14,図15)との相違点は、照射窓部の装着形態である。すなわち、図16(b)に示す照射窓部12aは、枠材61(図14参照)に代えて枠材69を有する。枠材69は、真空容器13(先端部15)と螺合することにより真空容器13に固定される。具体的には、枠材69は、円筒状の螺合部69aと、螺合部69aの一端に設けられた板状部69bとが一体的に形成されて成る。そして、螺合部69aの内周面にはネジ山69dが形成されており、このネジ山69dが先端部15の外周面に形成されたネジ山15gと螺合することによって、照射窓部12aが真空容器13(先端部15)に螺着される。   Further, the difference between the configuration shown in FIG. 16B and the above-described configuration (FIGS. 14 and 15) is the mounting configuration of the irradiation window portion. That is, the irradiation window portion 12a shown in FIG. 16B has a frame member 69 instead of the frame member 61 (see FIG. 14). The frame member 69 is fixed to the vacuum vessel 13 by screwing with the vacuum vessel 13 (tip portion 15). Specifically, the frame member 69 is formed by integrally forming a cylindrical screw portion 69a and a plate-like portion 69b provided at one end of the screw portion 69a. Then, a screw thread 69d is formed on the inner peripheral surface of the threaded portion 69a, and the screw thread 69d is screwed with a screw thread 15g formed on the outer peripheral surface of the distal end portion 15, whereby the irradiation window portion 12a. Is screwed to the vacuum vessel 13 (tip 15).

なお、枠材69は、図14に示した枠材61と同様に、窓材62及び固定用部材63を収容するための凹部69cと、先端部15の電子通路15eと連通しており電子線Bを通過させる電子通過孔69eとを有する。そして、電子通過孔69eを閉じるように窓材62が配設されるとともに、枠材69、窓材62、及び固定用部材63がロウ材65を介して互いに接合されている。また、図16(b)に示す構成においては、先端部15は、照射窓部を位置決めするための段差部15f(図14(a)参照)を有していなくてもよい。   As in the case of the frame member 61 shown in FIG. 14, the frame member 69 communicates with the recess 69 c for accommodating the window member 62 and the fixing member 63 and the electron passage 15 e of the tip portion 15. And an electron passage hole 69e through which B passes. The window member 62 is disposed so as to close the electron passage hole 69e, and the frame member 69, the window member 62, and the fixing member 63 are joined to each other via the brazing member 65. In the configuration shown in FIG. 16B, the tip 15 does not need to have a step 15f (see FIG. 14A) for positioning the irradiation window.

また、図17(a)に示す形態と前述した形態(図14,図15)との相違点は、枠材の形状である。すなわち、図17(a)に示す照射窓部12bは、枠材61(図14参照)に代えて枠材70を有する。枠材70は、略円板状の部材であり、窓材62及び固定用部材63を収容するための凹部70aと、先端部15の電子通路15eと連通しており電子線Bを通過させる電子通過孔70cと、ボルト64を通すためのボルト穴70eとを有する。枠材70の凹部70a付近は、ボルト穴70eを含む外周部分よりも厚く形成されており、凸部70dとなっている。なお、本変形例において電子通過孔70cの内径は出射方向に沿って一定に形成されているが、図14(b)に示した電子通過孔61cのように、真空容器側の電子通過孔70cの内径がテーパ状に拡大していてもよい。   Further, the difference between the configuration shown in FIG. 17A and the above-described configuration (FIGS. 14 and 15) is the shape of the frame material. That is, the irradiation window part 12b shown to Fig.17 (a) has the frame material 70 instead of the frame material 61 (refer FIG. 14). The frame member 70 is a substantially disk-shaped member, and communicates with the concave portion 70a for accommodating the window member 62 and the fixing member 63 and the electron passage 15e of the tip portion 15 and allows the electron beam B to pass therethrough. A passage hole 70c and a bolt hole 70e for passing the bolt 64 are provided. The vicinity of the concave portion 70a of the frame member 70 is formed thicker than the outer peripheral portion including the bolt hole 70e, forming a convex portion 70d. In this modification, the inner diameter of the electron passage hole 70c is constant along the emission direction. However, like the electron passage hole 61c shown in FIG. 14B, the electron passage hole 70c on the vacuum vessel side. The inner diameter may be enlarged in a tapered shape.

図17(b)に示す形態は、図17(a)に示した照射窓部12bを、図16(a)に示した押さえ部材68によって固定する構成を備える。すなわち、押さえ部材68は、枠材70の外周部分を押さえつつ真空容器13(先端部15)と螺合(螺着)することにより、照射窓部12bを真空容器13(先端部15)に固定する。また、電子線Bを通過させるための円形の開口68cの内径は枠材70の凸部70dの外径よりも大きく形成されており、凸部70dは開口68cから突出している。   The configuration shown in FIG. 17B includes a configuration in which the irradiation window portion 12b shown in FIG. 17A is fixed by the pressing member 68 shown in FIG. That is, the holding member 68 fixes the irradiation window portion 12b to the vacuum vessel 13 (tip portion 15) by screwing (screwing) with the vacuum vessel 13 (tip portion 15) while holding the outer peripheral portion of the frame member 70. To do. Further, the inner diameter of the circular opening 68c for allowing the electron beam B to pass through is formed larger than the outer diameter of the protrusion 70d of the frame member 70, and the protrusion 70d protrudes from the opening 68c.

以上の構成を備える電子線照射装置1Aによる効果について説明する。この電子線照射装置1Aが備える電子線源3は、真空容器13の基端部14と先端部15とがヒンジ18を支点として開閉可能となっており、また、真空容器13には真空ポンプ33が設けられており、フィラメント17aを交換可能ないわゆる開放型の構成を備えている。そして、この電子線照射装置1Aにおいては、真空容器13の先端部15が収容部2の蓋部24に固定されている。従って、フィラメント17aを交換する際には、先端部15を収容部2に固定したまま、図7に示したように、電子線源3を収容部2から取り外すことなく基端部14を開いてフィラメント17aを交換することができる。また、電子線源3の先端部15が蓋部24に固定されており、照射窓部12が電子線照射室21側から着脱可能に構成されているので、作業者は蓋部24を開けることにより照射窓部12に容易にアクセスでき、電子線源3を収容部2から取り外すことなく照射窓部12を交換できる。   The effects of the electron beam irradiation apparatus 1A having the above configuration will be described. In the electron beam source 3 provided in the electron beam irradiation apparatus 1A, the base end portion 14 and the tip end portion 15 of the vacuum vessel 13 can be opened and closed with a hinge 18 as a fulcrum. Is provided and has a so-called open type configuration in which the filament 17a can be replaced. And in this electron beam irradiation apparatus 1A, the front-end | tip part 15 of the vacuum vessel 13 is being fixed to the cover part 24 of the accommodating part 2. As shown in FIG. Therefore, when replacing the filament 17a, the base end portion 14 is opened without removing the electron beam source 3 from the housing portion 2 as shown in FIG. The filament 17a can be exchanged. Moreover, since the front end 15 of the electron beam source 3 is fixed to the lid 24 and the irradiation window 12 is configured to be detachable from the electron beam irradiation chamber 21 side, the operator opens the lid 24. Thus, the irradiation window portion 12 can be easily accessed, and the irradiation window portion 12 can be replaced without removing the electron beam source 3 from the housing portion 2.

このように、本実施形態の電子線照射装置1Aによれば、フィラメント17aや照射窓部12を交換する際に、電子線照射室21を構成する収容部2から電子線源3を取り外す必要がない。したがって、交換後に所望の状態で電子線を出射するための再調整(電子線源3と電子線照射室21内の照射対象物Aとの位置合わせや、電子銃16と電子導入孔31aと照射窓部12との機械的な軸ずれの再調整など)が不要となり、作業性を向上できると共に、交換作業を行うスペースを省くことができる。   Thus, according to the electron beam irradiation apparatus 1A of the present embodiment, it is necessary to remove the electron beam source 3 from the accommodating portion 2 constituting the electron beam irradiation chamber 21 when the filament 17a and the irradiation window portion 12 are replaced. Absent. Therefore, readjustment for emitting an electron beam in a desired state after replacement (positioning of the electron beam source 3 and the irradiation object A in the electron beam irradiation chamber 21, alignment of the electron gun 16 and the electron introduction hole 31a, and irradiation) This eliminates the need for readjustment of the mechanical misalignment with the window portion 12, etc., and improves workability and saves space for replacement work.

また、本実施形態の電子線照射装置1Aにおいては、照射対象物Aを搬入及び搬出するための扉25が取り付けられた正面に対し、電子線源3の真空容器13、及び収容部2の蓋部24の双方が、各々の背面側に設けられたヒンジ18,23を支点として開閉可能となっている。このように、真空容器13及び蓋部24を互いに同じ方向に開閉することにより、これらの開閉のために必要なスペースを小さくでき、ひいては電子線照射装置1Aの設置面積を小さくできる。すなわち、真空容器13及び蓋部24を共に後方(背面方向)に開くので、筐体7の横幅を小さくできる。また、筐体7の正面側に広いスペースは不要なので、筐体7内部において収容部2および電子線源3を正面側に寄せて配置することができる。したがって、照射対象物Aを搬入出する際や、フィラメント17aや照射窓部12を交換する際における作業性をより向上できる。更に、収容部2の観察窓25bと筐体7の観察窓71aとを互いに近接させ得るので、電子線照射室21の内部確認を容易に行うことができる。   Further, in the electron beam irradiation apparatus 1A of the present embodiment, the vacuum container 13 of the electron beam source 3 and the lid of the storage unit 2 are mounted on the front surface where the door 25 for carrying in and out the irradiation object A is attached. Both of the parts 24 can be opened and closed with hinges 18 and 23 provided on the back sides thereof as fulcrums. Thus, by opening and closing the vacuum vessel 13 and the lid portion 24 in the same direction, the space required for opening and closing them can be reduced, and consequently the installation area of the electron beam irradiation apparatus 1A can be reduced. That is, since both the vacuum vessel 13 and the lid portion 24 are opened rearward (backward direction), the lateral width of the housing 7 can be reduced. In addition, since a large space is not required on the front side of the housing 7, the housing portion 2 and the electron beam source 3 can be arranged close to the front side inside the housing 7. Therefore, the workability at the time of carrying in / out the irradiation object A or replacing the filament 17a and the irradiation window portion 12 can be further improved. Furthermore, since the observation window 25b of the housing part 2 and the observation window 71a of the housing 7 can be brought close to each other, the inside of the electron beam irradiation chamber 21 can be easily confirmed.

また、本実施形態のように、雰囲気調整コントローラ77と電子線照射室21とを繋ぐ配管77aの電子線照射室21側の一端は、収容部2の背面側に取り付けられていることが好ましい。このように、配管77aの電子線照射室21側の一端をヒンジ18,23と同じ側(背面側)に取り付けることによって、真空容器13及び収容部2の開閉に必要な筐体7内のスペースと、配管77aに必要な筐体7内のスペースとを共通にすることができ、筐体7の横幅を小さくし、電子線照射装置1Aの設置面積を小さくできる。   In addition, as in the present embodiment, it is preferable that one end of the piping 77 a that connects the atmosphere adjustment controller 77 and the electron beam irradiation chamber 21 on the electron beam irradiation chamber 21 side is attached to the back side of the housing portion 2. Thus, by attaching one end of the pipe 77a on the electron beam irradiation chamber 21 side to the same side (back side) as the hinges 18 and 23, the space in the housing 7 necessary for opening and closing the vacuum vessel 13 and the accommodating portion 2 is obtained. And the space in the housing 7 required for the piping 77a can be made common, the lateral width of the housing 7 can be reduced, and the installation area of the electron beam irradiation apparatus 1A can be reduced.

<変形例>
図18は、上記実施形態の一変形例として、電子線源3aの構成を示す図である。本変形例に係る電子線源3aは、上記実施形態の電子線源3の構成に加え、照射窓部12とは別の照射窓部11を更に有している。照射窓部11は、照射窓部12を覆っており、電子線照射室21に向けて電子線Bを透過する。照射窓部11は、電子線照射室21に臨んで配置され、蓋部24の内面24cに対して電子線照射方向に突設されている。照射窓部11は、照射窓部12に対して電子線照射方向に配置されて電子線Bを透過する窓材11aを含んで構成されている。
<Modification>
FIG. 18 is a diagram showing a configuration of an electron beam source 3a as a modification of the embodiment. The electron beam source 3a according to this modification further includes an irradiation window portion 11 different from the irradiation window portion 12 in addition to the configuration of the electron beam source 3 of the above embodiment. The irradiation window portion 11 covers the irradiation window portion 12 and transmits the electron beam B toward the electron beam irradiation chamber 21. The irradiation window portion 11 is disposed facing the electron beam irradiation chamber 21 and protrudes from the inner surface 24c of the lid portion 24 in the electron beam irradiation direction. The irradiation window portion 11 includes a window material 11 a that is arranged in the electron beam irradiation direction with respect to the irradiation window portion 12 and transmits the electron beam B.

窓材11aは、電子線通過用の孔を有する円板状の保持部材11bに保持されており、保持部材11bの当該孔を塞ぐように設置されている。保持部材11bの縁部は円筒状の部材11cの一端に螺子等により固定されている。保持部材11b及び部材11cはいずれも導電性材料からなり、部材11cの他端は環状の絶縁部材11dを介して真空容器13の先端部15に固定されている。なお、部材11cには、照射窓部11と真空容器13との隙間を不活性ガスで満たすための導入管11e及び排出管11fが取り付けられている。   The window member 11a is held by a disk-shaped holding member 11b having a hole for passing an electron beam, and is installed so as to close the hole of the holding member 11b. The edge of the holding member 11b is fixed to one end of the cylindrical member 11c with a screw or the like. Both the holding member 11b and the member 11c are made of a conductive material, and the other end of the member 11c is fixed to the distal end portion 15 of the vacuum vessel 13 via an annular insulating member 11d. In addition, the introduction pipe 11e and the discharge pipe 11f for filling the clearance gap between the irradiation window part 11 and the vacuum vessel 13 with an inert gas are attached to the member 11c.

照射対象物に電子線Bを照射すると、照射対象物の成分が飛散する場合がある。本変形例では、照射窓部11が照射窓部12を覆うことにより、照射窓部12に飛散物が付着することを防止できる。また、照射窓部11を透過した電子線Bは、電子線照射室21内の気体と衝突して散乱し、電子線Bの一部は照射窓部11の保持部材11bに取り込まれる。従って、照射対象物からの飛散物が窓材11aに付着して透過率が低下した場合であっても、保持部材11bから出力される電流量を検出することにより、電子線照射量(すなわち窓材11aにおける電子線透過量)を知ることができるので、電子線透過量の低下に応じて窓材11a及び保持部材11bを交換することができる。   When the irradiation object is irradiated with the electron beam B, components of the irradiation object may be scattered. In this modification, it is possible to prevent scattered objects from adhering to the irradiation window portion 12 by covering the irradiation window portion 12 with the irradiation window portion 11. Further, the electron beam B that has passed through the irradiation window portion 11 collides with the gas in the electron beam irradiation chamber 21 and is scattered, and a part of the electron beam B is taken into the holding member 11 b of the irradiation window portion 11. Therefore, even when the scattered object from the irradiation object adheres to the window material 11a and the transmittance decreases, the electron beam irradiation amount (that is, the window) is detected by detecting the amount of current output from the holding member 11b. Therefore, the window material 11a and the holding member 11b can be exchanged according to the decrease in the electron beam transmission amount.

図19は、上記実施形態の他の変形例として、電子線源3bの構成を示す図である。また、図20は、図19に示した電子線源3bのXX−XX線に沿った断面図である。本変形例に係る電子線源3bと上記実施形態の電子線源3との相違点は、モールド(電源)部の構成である。すなわち、本変形例における電子線源3bのモールド部53は、電子線源3bの基端側に位置して直方体形状をなすブロック状の本体部53aと、この本体部53aから電子線源3bの先端側に向けて基端部14内へ突出する円柱状のネック部53bとからなる。本体部53aには、ケース35の側面に取り付けられた高耐圧型のコネクタ54が埋め込まれている。   FIG. 19 is a diagram showing a configuration of an electron beam source 3b as another modification of the embodiment. FIG. 20 is a cross-sectional view taken along line XX-XX of the electron beam source 3b shown in FIG. The difference between the electron beam source 3b according to this modification and the electron beam source 3 of the above embodiment is the configuration of the mold (power source) unit. That is, the mold part 53 of the electron beam source 3b in the present modification is located on the base end side of the electron beam source 3b and forms a rectangular parallelepiped block-like main body part 53a, and the main body part 53a to the electron beam source 3b. It consists of a columnar neck portion 53b projecting into the proximal end portion 14 toward the distal end side. A high pressure-resistant connector 54 attached to the side surface of the case 35 is embedded in the main body 53a.

コネクタ54は、電子線照射装置1Aの外部から電源電圧の供給を受けるための高耐圧型コネクタ(レセプタクル)であり、ケース35の外側面から内側面へ貫通して配置されている。そして、ケース35の内部に位置するコネクタ54の部分54aが、モールド部53の本体部53aに埋め込まれて固定されている。また、この部分54aの表面には凹凸形状が形成されている。これにより、モールド部53を成型する際にこの凹凸形状にモールド部53が食い込んで固まるので、モールド部53とコネクタ54とが強固に固定される。また、コネクタ54は、ケース35の側壁に固定されており、コネクタ54を介してモールド部53とケース35とが強固に固定されている。このコネクタ54には、図示しない電源装置から延びる外部配線の先端を保持した電源用プラグが挿入される。   The connector 54 is a high voltage type connector (receptacle) for receiving supply of power supply voltage from the outside of the electron beam irradiation apparatus 1 </ b> A, and is disposed so as to penetrate from the outer side surface of the case 35 to the inner side surface. A portion 54 a of the connector 54 located inside the case 35 is embedded and fixed in the main body portion 53 a of the mold portion 53. In addition, an uneven shape is formed on the surface of the portion 54a. Thereby, when the mold part 53 is molded, the mold part 53 bites into the uneven shape and hardens, so that the mold part 53 and the connector 54 are firmly fixed. Further, the connector 54 is fixed to the side wall of the case 35, and the mold part 53 and the case 35 are firmly fixed via the connector 54. The connector 54 is inserted with a power plug that holds the tip of an external wiring extending from a power supply device (not shown).

フィラメント17aの両端は、コネクタ54からフィラメント17aへ延びる内部配線55a及び55bにそれぞれ接続されている。従って、コネクタ54に電源用プラグが挿入されると、フィラメント17aの両端は、外部配線を介して電源装置と電気的に接続される。また、内部配線55a及び55bは、電源装置から高電圧を印加されるので、絶縁材料からなるモールド部53の内部に埋め込まれることにより、ケース35との絶縁が確保される。   Both ends of the filament 17a are connected to internal wirings 55a and 55b extending from the connector 54 to the filament 17a, respectively. Therefore, when the power plug is inserted into the connector 54, both ends of the filament 17a are electrically connected to the power supply device via the external wiring. Further, since the internal wirings 55a and 55b are applied with a high voltage from the power supply device, they are embedded in the mold part 53 made of an insulating material, thereby ensuring insulation from the case 35.

本変形例のように、電子線源は、高電圧を発生する高圧発生部に代えて、電子線照射装置の外部から電源供給を受けるためのコネクタを備えてもよい。このような構成であっても、電子線照射装置は上記実施形態による効果を好適に奏することができる。   As in this modification, the electron beam source may include a connector for receiving power supply from the outside of the electron beam irradiation apparatus, instead of the high voltage generator that generates a high voltage. Even if it is such a structure, the electron beam irradiation apparatus can show | play the effect by the said embodiment suitably.

<第2の実施の形態>
図21は、本発明の第2実施形態として電子線照射装置1Bの構成を示す正面図である。図21において、筐体7の上半分(電子線源収容室72)については扉71が開いた状態の正面図を示しており、筐体7の下半分(制御部収容室73)については内部構成を示すために筐体7の正面パネルを省略して示している。また、図22は、図21に示した電子線照射装置1Bの側面図であり、収容部2及び筐体7については図21のXXII−XXII線に沿った側面断面を示している。
<Second Embodiment>
FIG. 21 is a front view showing a configuration of an electron beam irradiation apparatus 1B as the second embodiment of the present invention. FIG. 21 shows a front view of the upper half of the casing 7 (electron beam source accommodating chamber 72) with the door 71 open, and the lower half of the casing 7 (control unit accommodating chamber 73) is internal. In order to show the configuration, the front panel of the housing 7 is omitted. FIG. 22 is a side view of the electron beam irradiation apparatus 1B shown in FIG. 21, and the accommodating portion 2 and the housing 7 are side cross-sections taken along the line XXII-XXII of FIG.

本実施形態による電子線照射装置1Bと上記第1実施形態による電子線照射装置1Aとは、次の相違点を除いて同様の構成を備えている。すなわち、電子線照射装置1Aの電子線源3のヒンジ18(図4参照)に代えて、本実施形態の電子線照射装置1Bでは、電子線源3のヒンジ19が筐体7の一方の側面側(本実施形態では、図21に示すように正面から見て右側面側)に取り付けられている。また、電子線照射装置1Aの収容部2のヒンジ23(図4参照)に代えて、本実施形態の電子線照射装置1Bでは、収容部2のヒンジ29が電子線源3のヒンジ19と同様に筐体7の一方の側面側(右側面側)に取り付けられている。なお、ヒンジ19は本実施形態における第1のヒンジであり、ヒンジ29は本実施形態における第2のヒンジである。   The electron beam irradiation apparatus 1B according to the present embodiment and the electron beam irradiation apparatus 1A according to the first embodiment have the same configuration except for the following differences. That is, instead of the hinge 18 (see FIG. 4) of the electron beam source 3 of the electron beam irradiation apparatus 1A, in the electron beam irradiation apparatus 1B of the present embodiment, the hinge 19 of the electron beam source 3 is one side surface of the housing 7. It is attached to the side (in this embodiment, the right side as viewed from the front as shown in FIG. 21). Further, in place of the hinge 23 (see FIG. 4) of the housing part 2 of the electron beam irradiation apparatus 1A, in the electron beam irradiation apparatus 1B of the present embodiment, the hinge 29 of the housing part 2 is the same as the hinge 19 of the electron beam source 3. Is attached to one side surface (right side surface) of the housing 7. The hinge 19 is a first hinge in the present embodiment, and the hinge 29 is a second hinge in the present embodiment.

図23および図24は、本実施形態における収容部2及び電子線源3の動作の様子を示す図である。図23に示すように、蓋部24は、ヒンジ29を支点として上方に開く。このとき、蓋部24に固定された電子線源3も蓋部24と共にヒンジ29を支点として移動する。第1実施形態において述べたように、電子線源3の照射窓部12は電子線照射室21側から着脱可能に構成されており、蓋部24がこのように開くことによって、照射窓部12へのアクセスを容易にし、作業者は照射窓部12を容易に交換することができる。   FIG. 23 and FIG. 24 are diagrams showing the behavior of the accommodating portion 2 and the electron beam source 3 in the present embodiment. As shown in FIG. 23, the lid 24 opens upward with the hinge 29 as a fulcrum. At this time, the electron beam source 3 fixed to the lid portion 24 also moves together with the lid portion 24 using the hinge 29 as a fulcrum. As described in the first embodiment, the irradiation window portion 12 of the electron beam source 3 is configured to be detachable from the electron beam irradiation chamber 21 side, and the irradiation window portion 12 is formed by opening the lid portion 24 in this way. Thus, the operator can easily replace the irradiation window portion 12.

また、本実施形態の電子線源3は、第1実施形態と同様に開放型であり、図8に示したフィラメント17aを含むカソード端子部17の交換を可能にしている。このため、図24に示すように、真空容器13の基端部14と先端部15とは、ヒンジ19を支点として開閉可能となっている。先端部15は蓋部24の電子線源取付部24aに固定されており、基端部14がヒンジ19を支点にして横倒しになるように回動することで、基端部14を開放させることができ、基端部14内に収容されているカソード端子部17へのアクセスを可能にする。   Further, the electron beam source 3 of the present embodiment is an open type as in the first embodiment, and the cathode terminal portion 17 including the filament 17a shown in FIG. 8 can be replaced. For this reason, as shown in FIG. 24, the base end part 14 and the front-end | tip part 15 of the vacuum vessel 13 can be opened and closed by using the hinge 19 as a fulcrum. The distal end portion 15 is fixed to the electron beam source mounting portion 24a of the lid portion 24, and the proximal end portion 14 is rotated so that the proximal end portion 14 lies horizontally with the hinge 19 as a fulcrum, thereby opening the proximal end portion 14. It is possible to access the cathode terminal portion 17 accommodated in the base end portion 14.

また、本実施形態では、図21に示すように、電子線照射室21の内部を窒素ガス等の不活性ガスに置換するための雰囲気調整コントローラ77から延びる配管77aの一端が、ヒンジ19,29と同じ側すなわち本体部22の右側面側に取り付けられている。更に、真空ポンプ33もまた、ヒンジ19,29と同じ側すなわち真空容器13の右側面側に配置されている。   Further, in this embodiment, as shown in FIG. 21, one end of a pipe 77a extending from the atmosphere adjustment controller 77 for replacing the inside of the electron beam irradiation chamber 21 with an inert gas such as nitrogen gas is connected to the hinges 19, 29. Are attached to the same side, that is, the right side surface of the main body 22. Further, the vacuum pump 33 is also disposed on the same side as the hinges 19 and 29, that is, on the right side of the vacuum vessel 13.

本実施形態による電子線照射装置1Bにおいては、第1実施形態と同様に、電子線源3を収容部2から取り外すことなく基端部14を開いてフィラメント17aを交換することができる。また、作業者は蓋部24を開けることにより照射窓部12に容易にアクセスでき、電子線源3を収容部2から取り外すことなく照射窓部12を交換できる。したがって、交換後に所望の状態で電子線を出射するための再調整が不要となり、作業性を向上できると共に、交換作業を行うスペースを省くことができる。   In the electron beam irradiation apparatus 1B according to the present embodiment, the filament 17a can be exchanged by opening the base end portion 14 without removing the electron beam source 3 from the accommodating portion 2 as in the first embodiment. Further, the operator can easily access the irradiation window 12 by opening the lid 24, and can replace the irradiation window 12 without removing the electron beam source 3 from the housing 2. Therefore, readjustment for emitting the electron beam in a desired state after the replacement is not necessary, so that workability can be improved and a space for performing the replacement work can be saved.

また、本実施形態の電子線照射装置1Bにおいては、扉25が取り付けられた正面に対し、電子線源3の真空容器13、及び収容部2の蓋部24の双方が、各々の一側面(本実施形態では右側面)側に設けられたヒンジ19,29を支点として開閉可能となっている。このように、真空容器13及び蓋部24を互いに同じ方向に開閉することにより、これらの開閉のために必要なスペースを小さくでき、ひいては電子線照射装置1Bの設置面積を小さくできる。すなわち、真空容器13及び蓋部24を共に側方(左方向)に開くので、筐体7の奥行きを小さくできる。また、筐体7の正面側に広いスペースは不要なので、筐体7内部において収容部2および電子線源3を正面側に寄せて配置することができる。したがって、照射対象物Aを搬入出する際や、フィラメント17aや照射窓部12を交換する際における作業性をより向上できる。更に、収容部2の観察窓25bと筐体7の観察窓71aとを互いに近接させ得るので、電子線照射室21の内部確認をより正確に行うことができる。   Moreover, in the electron beam irradiation apparatus 1B of this embodiment, both the vacuum vessel 13 of the electron beam source 3 and the lid portion 24 of the housing portion 2 are on one side surface (on the front side where the door 25 is attached). In the present embodiment, the hinges 19 and 29 provided on the right side) side can be opened and closed. Thus, by opening and closing the vacuum vessel 13 and the lid part 24 in the same direction, the space required for opening and closing them can be reduced, and consequently the installation area of the electron beam irradiation apparatus 1B can be reduced. That is, since both the vacuum vessel 13 and the lid portion 24 are opened sideways (leftward), the depth of the housing 7 can be reduced. In addition, since a large space is not required on the front side of the housing 7, the housing portion 2 and the electron beam source 3 can be arranged close to the front side inside the housing 7. Therefore, the workability at the time of carrying in / out the irradiation object A or replacing the filament 17a and the irradiation window portion 12 can be further improved. Furthermore, since the observation window 25b of the housing part 2 and the observation window 71a of the housing 7 can be brought close to each other, the inside of the electron beam irradiation chamber 21 can be confirmed more accurately.

また、配管77aの電子線照射室21側の一端をヒンジ19,29と同じ側(右側面側)に取り付けることによって、真空容器13及び収容部2の開閉に必要な筐体7内のスペースと、配管77aに必要な筐体7内のスペースとを共通にすることができるので、筐体7の奥行きを小さくし、電子線照射装置1Bの設置面積を小さくできる。また、重量物である真空ポンプ33を収容部2のヒンジ29や電子線源3のヒンジ19と同じ右側面側に配置することによって、真空容器13や収容部2を開放した際に、ヒンジ19より上部の構造体の重心を下げ、安定した開放状態を実現できる。   Further, by attaching one end of the pipe 77a on the electron beam irradiation chamber 21 side to the same side (right side surface) as the hinges 19 and 29, the space in the housing 7 necessary for opening and closing the vacuum vessel 13 and the accommodating portion 2 can be reduced. Since the space in the housing 7 necessary for the piping 77a can be made common, the depth of the housing 7 can be reduced and the installation area of the electron beam irradiation apparatus 1B can be reduced. Further, by placing the vacuum pump 33 which is a heavy object on the same right side as the hinge 29 of the housing part 2 and the hinge 19 of the electron beam source 3, the hinge 19 is opened when the vacuum container 13 and the housing part 2 are opened. The center of gravity of the upper structure is lowered, and a stable open state can be realized.

本発明による電子線照射装置は、上記した実施形態に限られるものではなく、他に様々な変形が可能である。例えば、第2実施形態においては第1及び第2のヒンジが取り付けられる位置が真空容器および収容部の右側面側となっているが、これらは左側面側に取り付けられてもよい。この場合でも、第2実施形態に係る電子線照射装置と同様の効果が得られる。また、第1実施形態で示した照射窓部および電子発生部材の構成は着脱可能な構成の一例であり、照射窓部および電子発生部材は上記実施形態以外にも様々な構成を適用できる。   The electron beam irradiation apparatus according to the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various other modifications are possible. For example, in the second embodiment, the position at which the first and second hinges are attached is the right side of the vacuum vessel and the storage unit, but these may be attached to the left side. Even in this case, the same effect as the electron beam irradiation apparatus according to the second embodiment can be obtained. Moreover, the structure of the irradiation window part and electron generation member shown in 1st Embodiment is an example of the structure which can be attached or detached, and various structures other than the said embodiment are applicable to an irradiation window part and an electron generation member.

本発明の第1実施形態に係る電子線照射装置の構成を示す正面図である。筐体の上半分(電子線源収容室)については扉が開いた状態の正面図を示しており、筐体の下半分(制御部収容室)については内部構成を示すために筐体の正面パネルを省略して示している。It is a front view which shows the structure of the electron beam irradiation apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. The front half of the case (electron beam source accommodation chamber) shows a front view with the door open, and the lower half of the case (control unit accommodation room) shows the front configuration to show the internal configuration. The panel is omitted. 図1に示した電子線照射装置の側面図であり、収容部及び筐体については図1のII−II線に沿った側面断面を示している。It is a side view of the electron beam irradiation apparatus shown in FIG. 1, and about the accommodating part and the housing | casing, the side surface cross section along the II-II line of FIG. 1 is shown. 収容部及び電子線源の構成を示す正面図であり、収容部の一部を切り欠いて示している。It is a front view which shows the structure of a accommodating part and an electron beam source, and has shown notching a part of accommodating part. 収容部及び電子線源の側面図であり、収容部については図3のIV−IV線に沿った側面断面を示している。It is a side view of a storage part and an electron beam source, About the storage part, the side surface cross section along the IV-IV line of FIG. 3 is shown. 収容部及び電子線源の上面図である。It is a top view of an accommodating part and an electron beam source. 第1実施形態における収容部及び電子線源の動作の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of operation | movement of the accommodating part and electron beam source in 1st Embodiment. 第1実施形態における収容部及び電子線源の動作の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of operation | movement of the accommodating part and electron beam source in 1st Embodiment. 電子線源の内部構成を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the internal structure of an electron beam source. モールド電源部の構成を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the structure of a mold power supply part. 電子銃の構成を詳細に示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the structure of an electron gun in detail. カソード端子部及びその周辺の構成を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the structure of a cathode terminal part and its periphery. 図11に示したカソード端子部の平面図である。It is a top view of the cathode terminal part shown in FIG. 図12のXIII−XIII線に沿った部分断面図である。It is a fragmentary sectional view in alignment with the XIII-XIII line of FIG. (a)照射窓部及びその付近の構成を示す側面断面図である。(b)(a)に示す照射窓部の主要部の拡大断面図である。(A) It is side surface sectional drawing which shows the structure of an irradiation window part and its vicinity. (B) It is an expanded sectional view of the principal part of the irradiation window part shown to (a). 照射窓部の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of an irradiation window part. (a),(b)照射窓部の構成例を示す断面図である。(A), (b) It is sectional drawing which shows the structural example of an irradiation window part. (a),(b)照射窓部の構成例を示す断面図である。(A), (b) It is sectional drawing which shows the structural example of an irradiation window part. 第1実施形態の一変形例として、電子線源の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an electron beam source as one modification of 1st Embodiment. 第1実施形態の他の変形例として、電子線源の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of an electron beam source as another modification of 1st Embodiment. 図19のXX−XX線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the XX-XX line of FIG. 本発明の第2実施形態に係る電子線照射装置の構成を示す正面図である。筐体の上半分(電子線源収容室)については扉が開いた状態の正面図を示しており、筐体の下半分(制御部収容室)については内部構成を示すために筐体の正面パネルを省略して示している。It is a front view which shows the structure of the electron beam irradiation apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. The front half of the case (electron beam source accommodation chamber) shows a front view with the door open, and the lower half of the case (control unit accommodation room) shows the front configuration to show the internal configuration. The panel is omitted. 図21に示した電子線照射装置の側面図であり、収容部及び筐体については図21のXXII−XXII線に沿った側面断面を示している。It is a side view of the electron beam irradiation apparatus shown in FIG. 21, and about the accommodating part and the housing | casing, the side surface cross section along the XXII-XXII line | wire of FIG. 21 is shown. 第2実施形態における収容部及び電子線源の動作の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of operation | movement of the accommodating part and electron beam source in 2nd Embodiment. 第2実施形態における収容部及び電子線源の動作の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of operation | movement of the accommodating part and electron beam source in 2nd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1A,1B…電子線照射装置、2…収容部、3…電子線源、7…筐体、11,12,12a,12b…照射窓部、13…真空容器、14…基端部、15…先端部、16…電子銃、17…カソード端子部、17a…フィラメント、18,19…(第1の)ヒンジ、23,29…(第2の)ヒンジ、21…電子線照射室、22…本体部、24…蓋部、25…(第1の)扉、25a,71a…観察窓、26…ステージ、27…調整台、28…テーブル、33…真空ポンプ、34…モールド電源部、35…ケース、71…(第2の)扉、72…電子線源収容室、73…制御部収容室、74…電子線源コントローラ、75…排気ポンプ、76…ステージコントローラ、77…雰囲気調整コントローラ、79…仕切り部材、A…照射対象物、B…電子線。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1A, 1B ... Electron beam irradiation apparatus, 2 ... Accommodating part, 3 ... Electron beam source, 7 ... Case, 11, 12, 12a, 12b ... Irradiation window part, 13 ... Vacuum container, 14 ... Base end part, 15 ... Tip portion, 16 ... electron gun, 17 ... cathode terminal portion, 17a ... filament, 18, 19 ... (first) hinge, 23, 29 ... (second) hinge, 21 ... electron beam irradiation chamber, 22 ... main body Part, 24 ... lid part, 25 ... (first) door, 25a, 71a ... observation window, 26 ... stage, 27 ... adjustment table, 28 ... table, 33 ... vacuum pump, 34 ... mold power supply part, 35 ... case , 71 ... (second) door, 72 ... electron beam source accommodation chamber, 73 ... control unit accommodation chamber, 74 ... electron beam source controller, 75 ... exhaust pump, 76 ... stage controller, 77 ... atmosphere control controller, 79 ... Partition member, A ... irradiation object, B ... electron beam.

Claims (9)

開口部を有する本体部、および前記開口部に開閉可能に取り付けられた蓋部を有し、前記本体部及び前記蓋部によって構成される電子線照射室に照射対象物を収容する収容部と、
基端部、及び前記基端部と前記蓋部との間に配置されて前記蓋部に固定された先端部を有し、前記先端部と前記基端部との結合部分が開閉可能となっている筒状の真空容器、前記基端部に保持され電子線を放出する電子銃、前記先端部に保持されて前記電子線を前記電子線照射室に向けて透過するとともに、前記電子線照射室側から着脱可能に構成された照射窓部、並びに前記真空容器の内部を排気する真空ポンプを有する電子線源と
を備え、
前記照射対象物を搬入及び搬出するための第1の扉が前記本体部の正面側に取り付けられており、
前記真空容器は、該真空容器の背面側に設けられた第1のヒンジを支点として開閉可能となっており、
前記蓋部は、前記収容部の背面側に設けられた第2のヒンジを支点として開閉可能となっている、
ことを特徴とする電子線照射装置。
A main body having an opening, and a lid that is attached to the opening so as to be openable and closable, and a housing that houses an irradiation object in an electron beam irradiation chamber constituted by the main body and the lid;
A proximal end portion, and a distal end portion disposed between the proximal end portion and the lid portion and fixed to the lid portion, and a joint portion between the distal end portion and the proximal end portion can be opened and closed; A cylindrical vacuum container, an electron gun held at the base end and emitting an electron beam, and held at the tip to transmit the electron beam toward the electron beam irradiation chamber, and the electron beam irradiation An irradiation window configured to be detachable from the chamber side, and an electron beam source having a vacuum pump for exhausting the inside of the vacuum vessel,
A first door for carrying in and carrying out the irradiation object is attached to the front side of the main body,
The vacuum vessel can be opened and closed with a first hinge provided on the back side of the vacuum vessel as a fulcrum,
The lid portion can be opened and closed with a second hinge provided on the back side of the housing portion as a fulcrum,
An electron beam irradiation apparatus characterized by that.
前記電子線照射室内の雰囲気を置換する雰囲気置換装置を更に備え、
前記雰囲気置換装置と前記電子線照射室とを繋ぐ配管の前記電子線照射室側の一端が前記収容部の背面側に取り付けられている、
ことを特徴とする請求項1に記載の電子線照射装置。
An atmosphere replacement device for replacing the atmosphere in the electron beam irradiation chamber;
One end on the electron beam irradiation chamber side of a pipe connecting the atmosphere replacement device and the electron beam irradiation chamber is attached to the back side of the housing portion.
The electron beam irradiation apparatus according to claim 1.
前記真空ポンプが前記真空容器の背面側に配置されている、ことを特徴とする請求項1または2に記載の電子線照射装置。   The electron beam irradiation apparatus according to claim 1, wherein the vacuum pump is disposed on a back side of the vacuum container. 開口部を有する本体部、および前記開口部に開閉可能に取り付けられた蓋部を有し、前記本体部及び前記蓋部によって構成される電子線照射室に照射対象物を収容する収容部と、
基端部、及び前記基端部と前記蓋部との間に配置されて前記蓋部に固定された先端部を有し、前記先端部と前記基端部との結合部分が開閉可能となっている筒状の真空容器、前記基端部に保持され電子線を放出する電子銃、前記先端部に保持されて前記電子線を前記電子線照射室に向けて透過するとともに、前記電子線照射室側から着脱可能に構成された照射窓部、並びに前記真空容器の内部を排気する真空ポンプを有する電子線源と
を備え、
前記照射対象物を搬入及び搬出するための第1の扉が前記本体部の正面側に取り付けられており、
前記真空容器は、該真空容器の一方の側面側に設けられた第1のヒンジを支点として開閉可能となっており、
前記蓋部は、前記収容部の前記一方の側面と同じ側に設けられた第2のヒンジを支点として開閉可能となっている、
ことを特徴とする電子線照射装置。
A main body having an opening, and a lid that is attached to the opening so as to be openable and closable, and a housing that houses an irradiation object in an electron beam irradiation chamber constituted by the main body and the lid;
A proximal end portion, and a distal end portion disposed between the proximal end portion and the lid portion and fixed to the lid portion, and a joint portion between the distal end portion and the proximal end portion can be opened and closed; A cylindrical vacuum container, an electron gun held at the base end and emitting an electron beam, and held at the tip to transmit the electron beam toward the electron beam irradiation chamber, and the electron beam irradiation An irradiation window configured to be detachable from the chamber side, and an electron beam source having a vacuum pump for exhausting the inside of the vacuum vessel,
A first door for carrying in and carrying out the irradiation object is attached to the front side of the main body,
The vacuum vessel can be opened and closed with a first hinge provided on one side of the vacuum vessel as a fulcrum,
The lid portion can be opened and closed with a second hinge provided on the same side as the one side surface of the housing portion as a fulcrum,
An electron beam irradiation apparatus characterized by that.
前記電子線照射室内の雰囲気を置換する雰囲気置換装置を更に備え、
前記雰囲気置換装置と前記電子線照射室とを繋ぐ配管の前記電子線照射室側の一端が前記収容部の前記一方の側面側に取り付けられている、
ことを特徴とする請求項4に記載の電子線照射装置。
An atmosphere replacement device for replacing the atmosphere in the electron beam irradiation chamber;
One end on the electron beam irradiation chamber side of a pipe connecting the atmosphere replacement device and the electron beam irradiation chamber is attached to the one side surface side of the housing portion,
The electron beam irradiation apparatus according to claim 4.
前記真空ポンプが前記真空容器の前記一方の側面と同じ側に配置されている、ことを特徴とする請求項4または5に記載の電子線照射装置。   The electron beam irradiation apparatus according to claim 4, wherein the vacuum pump is disposed on the same side as the one side surface of the vacuum container. 前記収容部および前記電子線源を収容する筐体を更に備える、ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の電子線照射装置。   The electron beam irradiation apparatus according to claim 1, further comprising a housing that accommodates the housing portion and the electron beam source. 前記筐体の正面側に第2の扉が取り付けられており、
前記第1及び第2の扉における互いに対向する位置にそれぞれ観察窓が設けられている、
ことを特徴とする請求項7に記載の電子線照射装置。
A second door is attached to the front side of the housing;
Observation windows are provided at positions facing each other in the first and second doors,
The electron beam irradiation apparatus according to claim 7.
前記電子線源と電気的に接続されて前記電子線の放出制御を行う電子線制御部を更に備え、
前記筐体が、前記収容部および前記電子線源を収容する電子線源収容室、前記電子線制御部を収容する制御部収容室、並びに前記電子線源収容室と前記制御部収容室とを互いに仕切る金属製の仕切り部材を有する、
ことを特徴とする請求項7または8に記載の電子線照射装置。
An electron beam control unit that is electrically connected to the electron beam source and performs emission control of the electron beam;
The housing includes an electron beam source accommodating chamber that accommodates the accommodating portion and the electron beam source, a control portion accommodating chamber that accommodates the electron beam control unit, and the electron beam source accommodating chamber and the control portion accommodating chamber. Having metal partition members that partition each other;
The electron beam irradiation apparatus according to claim 7 or 8, wherein
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