JPH0719949B2 - Flexible wiring board manufacturing method - Google Patents

Flexible wiring board manufacturing method

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JPH0719949B2
JPH0719949B2 JP8425486A JP8425486A JPH0719949B2 JP H0719949 B2 JPH0719949 B2 JP H0719949B2 JP 8425486 A JP8425486 A JP 8425486A JP 8425486 A JP8425486 A JP 8425486A JP H0719949 B2 JPH0719949 B2 JP H0719949B2
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wiring board
conductor
flexible wiring
insulating layer
pattern
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隆 上遠野
好伸 伊東
俊二 近森
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旭化成工業株式会社
ニツポン▲高▼度紙工業株式会社
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  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フレキシブル配線板の製造方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a flexible wiring board.

[従来の技術] フレキシブル配線板は、柔軟性に富み、また厚さが薄い
ので、電子機器の分野で広く利用されている。しかし、
従来のフレキシブル配線板の製造方法は製造工程が複雑
であり、また従来の方法で製造されたフレキシブル配線
板には、その製造方法から必然的に生じる欠点があっ
た。
[Prior Art] Flexible wiring boards are widely used in the field of electronic devices because they are highly flexible and thin. But,
The conventional method for manufacturing a flexible wiring board has a complicated manufacturing process, and the flexible wiring board manufactured by the conventional method has a drawback inevitably caused by the manufacturing method.

第4図(a)〜(h)および第5図(a)〜(h)を参
照しながら、一例として第3図のように端子部を有する
フレキシブル配線板を製造する従来の方法を工程を追っ
て説明する。
Referring to FIGS. 4 (a) to (h) and FIGS. 5 (a) to (h), the conventional method for manufacturing a flexible wiring board having a terminal portion as shown in FIG. I will explain later.

第4図(a)〜(h)は配線板中央部における配線パタ
ーンと直角方向の断面図、第5図(a)〜(h)は配線
板端部における同方向の断面図である。
4 (a) to 4 (h) are sectional views in the direction perpendicular to the wiring pattern in the central portion of the wiring board, and FIGS. 5 (a) to 5 (h) are sectional views in the same direction at the end portions of the wiring board.

ベースフィルム1の片面に接着剤2によって銅層3
を接着させる(第4図(a),第5図(a))。通常は
ポリイミドフィルムまたはポリエステルフィルム1に適
当な厚さの接着剤2を塗布し、熱風オーブンなどで乾燥
させ、銅箔3を加熱ロールして張り合わせる。
The copper layer 3 is provided on one surface of the base film 1 by the adhesive 2.
Are adhered (FIG. 4 (a), FIG. 5 (a)). Usually, a polyimide film or a polyester film 1 is coated with an adhesive 2 having an appropriate thickness, dried in a hot air oven or the like, and a copper foil 3 is heated and rolled to bond them.

接着された銅層3の上にレジスト4を所望のパター
ンに形成する(第4図(b),第5図(b))。
A resist 4 is formed in a desired pattern on the adhered copper layer 3 (FIGS. 4 (b) and 5 (b)).

適当なエッチング液を用いて銅層3のエッチングを
行う(第4図(c),第5図(c)) 剥離液を用いて残ったレジスト4を剥離する(第4
図(d),第5図(d)) 銅側の表面の必要部分に、接着剤5によってカバー
レイフィルム6を張りつける(第4図(e))。なお、
端子部分にカバーレイフィルムを接着しない場合を第5
図(e)に示す。
The copper layer 3 is etched using an appropriate etching solution (FIGS. 4 (c) and 5 (c)). The remaining resist 4 is peeled off using a stripping solution (fourth step).
(D) and FIG. 5 (d)) A coverlay film 6 is attached to a necessary portion of the surface on the copper side with an adhesive 5 (FIG. 4 (e)). In addition,
If the coverlay film is not adhered to the terminal,
It is shown in FIG.

絶縁層を腐食し、銅層3を露出するために、カバー
レイフィルム6およびベースフィルム1の保護すべき部
分にフィルムエッチングレジスト7,8を形成する(第4
図(f),第5図(f)) 腐食液によりベースフィルム1,カバーレイフィルム
6の所定部分を腐食して除去する(第4図(g),第5
図(g))。ベースフィルム1,カバーレイフィルム6が
ポリイミドフィルムの場合は腐食液としてヒドラジン等
が用いられる。
In order to corrode the insulating layer and expose the copper layer 3, film etching resists 7 and 8 are formed on the cover lay film 6 and the portion to be protected of the base film 1 (fourth).
(F) and (f) of FIG. 5) Corrosion of a predetermined portion of the base film 1 and the cover lay film 6 by a corrosive liquid to remove them (FIG. 4 (g), 5).
(Figure (g)). When the base film 1 and the coverlay film 6 are polyimide films, hydrazine or the like is used as the corrosive liquid.

残ったレジスト7,8を剥離液を用いて除去する(第
4図(h),第5図(h)) このように、従来の方法は多くの工程を要し、また絶縁
層と導体を接着剤によって接着するので、従来の方法で
作られたフレキシブル配線板はこの接着剤に起因する欠
点、例えば、耐熱性の低下,絶縁層エッチング時の接着
剤のエッチング不良などをまぬがれることができなかっ
た。
The remaining resists 7 and 8 are removed by using a stripping solution (FIGS. 4 (h) and 5 (h)). Thus, the conventional method requires many steps, and the insulating layer and the conductor are removed. Since they are bonded by an adhesive, the flexible wiring board made by the conventional method cannot overcome the drawbacks caused by this adhesive, such as the decrease in heat resistance and the etching failure of the adhesive when the insulating layer is etched. It was

[発明が解決しようとする問題点] 本発明は上述した従来の欠点を解決し、信頼性にすぐれ
たフレキシブル配線板を製造する方法を提供することを
目的とする。
[Problems to be Solved by the Invention] It is an object of the present invention to solve the above-mentioned conventional drawbacks and to provide a method of manufacturing a flexible wiring board having excellent reliability.

[問題点を解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明においては、
絶縁層と導体層との間に接着剤を用いずにフレキシブル
配線板を作製する。
[Means for Solving Problems] In order to achieve such an object, in the present invention,
A flexible wiring board is manufactured without using an adhesive between the insulating layer and the conductor layer.

すなわち、本発明は、金属薄板上にフォトレジストパタ
ーンを形成する工程と、金属薄板上に前記フォトレジス
トパターンを用いて導体パターンを形成する工程と、金
属薄板の導体パターンを有する側の表面の全面に、第1
の絶縁層を塗布により形成する工程と、金属薄板を除去
する工程と、金属薄板が除去された面の全面に、第2の
絶縁層を塗布により形成する工程と、第1および第2の
絶縁層上にエッチングに対するレジストパターンを形成
する工程と、第1および第2の絶縁層をエッチングによ
り除去する工程とを含むことを特徴とする。
That is, the present invention includes a step of forming a photoresist pattern on a metal thin plate, a step of forming a conductor pattern using the photoresist pattern on the metal thin plate, and the entire surface of the metal thin plate on the side having the conductor pattern. First
Forming an insulating layer by coating, removing the thin metal plate, forming a second insulating layer over the entire surface from which the thin metal plate has been removed, and forming first and second insulating layers. The method is characterized by including a step of forming a resist pattern for etching on the layer and a step of removing the first and second insulating layers by etching.

[作用] 上に述べたように、本発明によれば簡単な工程でフレキ
シブル配線板を作製でき、かつ作製されたフレキシブル
配線板の導体層と絶縁層との間には接着剤が存在しない
ので、接着剤に由来する品質上の欠点がない。
[Operation] As described above, according to the present invention, a flexible wiring board can be manufactured by a simple process, and no adhesive is present between the conductor layer and the insulating layer of the manufactured flexible wiring board. , There are no quality defects due to the adhesive.

[実施例] 以下に本発明の製造方法を、一端部に導体端子部を有す
るフレキシブル配線板の製造を例として、第1図(a)
〜(h)、第2図(a)〜(h)および第3図を参照し
て説明する。
[Example] The manufacturing method of the present invention will be described below with reference to FIG. 1 (a) by taking as an example the manufacturing of a flexible wiring board having a conductor terminal portion at one end.
-(H), FIGS. 2 (a)-(h), and FIG.

第3図は本発明方法によって作製されたフレキシブル配
線板の平面図を示し、図中13は導体、13Aは導体の端子
部、14は絶縁層である。第1図(a)〜(h)は本発明
の各工程におけるプリント配線板の状況を第3図の線X
−Xに沿った断面について示した図、第2図(a)〜
(h)は同じく各工程における端子部の状況を第3図の
線Y−Yに沿った断面について示す図である。
FIG. 3 is a plan view of a flexible wiring board manufactured by the method of the present invention, in which 13 is a conductor, 13A is a terminal portion of the conductor, and 14 is an insulating layer. 1 (a) to 1 (h) show the situation of the printed wiring board in each step of the present invention along the line X in FIG.
The figure shown about the cross section along -X, and FIG.
FIG. 3H is a view similarly showing the condition of the terminal portion in each step with respect to a cross section taken along the line YY of FIG.

工程1:金属薄板11上に、所望の形状の導体パターンを形
成するための、フォトレジストパターン12を形成する第
1図(a),第2図(a))。
Step 1: forming a photoresist pattern 12 for forming a conductor pattern having a desired shape on the thin metal plate 11 (FIGS. 1A and 2A).

工程2:金属薄板11のうちレジストパターン12で被覆され
ずに露出している表面の部分に導体層を形成する銅など
の金属をめっきし、導体パターン13を形成する(第1図
(b),第2図(b))。
Step 2: A metal pattern such as copper for forming a conductor layer is plated on a portion of the surface of the metal thin plate 11 which is exposed without being covered with the resist pattern 12 to form a conductor pattern 13 (FIG. 1 (b)). , FIG. 2 (b)).

工程3:金属薄板11の導体パターン13を有する側の面に第
1の絶縁層14をコーティングする(第1図(c),第2
図(c))。
Step 3: The first insulating layer 14 is coated on the surface of the thin metal plate 11 having the conductor pattern 13 (FIG. 1 (c), second).
Figure (c)).

工程4:金属薄板11を例えばエッチングによって除去する
(第1図(d),第2図(d))。
Step 4: The thin metal plate 11 is removed by, for example, etching (FIGS. 1 (d) and 2 (d)).

工程5:金属薄膜を除去した面上に第2の絶縁層15をコー
ティングする(第1図(e),第2図(e))。
Step 5: A second insulating layer 15 is coated on the surface from which the metal thin film has been removed (FIGS. 1 (e) and 2 (e)).

工程6:絶縁層14,15を腐食して導体パターン13を露出さ
せるために絶縁層14,15の保護すべき部分にエッチング
レジスト層16,17を形成する(第1図(f),第2図
(f))。
Step 6: Form etching resist layers 16 and 17 on the portions of the insulating layers 14 and 15 to be protected in order to corrode the insulating layers 14 and 15 and expose the conductor pattern 13 (FIGS. 1 (f) and 2 (F)).

工程7:腐食液により絶縁層14,15の所定部分を腐食除去
する(第1図(g),第2図(g))。
Step 7: Corrosion removal of predetermined portions of the insulating layers 14 and 15 with a corrosive solution (FIGS. 1 (g) and 2 (g)).

工程8:必要に応じて、残ったレジスト層16,17を剥離液
を用いて除去する(第1図(h),第2図(h))。
Step 8: If necessary, the remaining resist layers 16 and 17 are removed using a stripping solution (FIGS. 1 (h) and 2 (h)).

このようにして、第3図に示すように、一端部に導体端
子部13Aを有するフレキシブル配線板を作製する。
Thus, as shown in FIG. 3, a flexible wiring board having the conductor terminal portion 13A at one end is manufactured.

以下に本発明の具体的実施例について説明するが、本発
明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。
Specific examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1 本発明の一実施例として、第3図に示した端子部13Aを
有するフレキシブル配線板の製造方法について説明す
る。
Example 1 As an example of the present invention, a method of manufacturing a flexible wiring board having the terminal portion 13A shown in FIG. 3 will be described.

厚さ80μmのアルミニウム薄板上に、イーストマンコダ
ック社製のネガ型レジスト「マイクロレジスト747」を
膜厚が5μmとなるように、塗布した。レジストを塗布
したアルミニウム板をプレベークし、配線板のパターン
を通して、高圧水銀ランプで露光し、専用の現像液およ
びリンス液を用いて現像し、ボストベークしてアルミニ
ウム薄板の片面にレジストパターンを形成した。
A negative resist "Microresist 747" manufactured by Eastman Kodak Co., Ltd. was applied onto an aluminum thin plate having a thickness of 80 μm so that the film thickness was 5 μm. The resist-coated aluminum plate was pre-baked, exposed through a high-pressure mercury lamp through the pattern of the wiring board, developed using a dedicated developer and rinse solution, and then post-baked to form a resist pattern on one surface of the aluminum thin plate.

次いで、レジストパターンの形成されたアルミニウム薄
板を陰極として、ピロリン酸銅メッキ浴を使用し、電解
銅メッキを行った。得られた導体パターンは導体幅が20
0μm、導体間隔が250μm、導体厚が40μmであった。
Next, electrolytic copper plating was carried out using a copper pyrophosphate plating bath with the aluminum thin plate on which the resist pattern was formed as the cathode. The conductor pattern obtained has a conductor width of 20.
The conductor spacing was 0 μm, the conductor spacing was 250 μm, and the conductor thickness was 40 μm.

その後、宇部興産社製のポリイミド樹脂「Uワニス」を
全面にコーティングし、乾燥,硬化させ20μm厚の絶縁
層を得た。次いで、10重量パーセントの塩酸によりアル
ミニウム薄板をエッチング除去した。
After that, a polyimide resin "U varnish" manufactured by Ube Industries, Ltd. was coated on the entire surface, dried and cured to obtain an insulating layer having a thickness of 20 μm. The aluminum sheet was then etched away with 10 weight percent hydrochloric acid.

次いで、裏面にも「Uワニス」をコーティングし、硬
化,乾燥させて絶縁層とした。その後、「マイクロレジ
スト747」を用い、パターンマスクを通して露光し、エ
ッチングレジストを所定部分に形成し、次にヒドラジン
水溶液により絶縁層の腐食除去を行い、その後、ナガセ
化成工業社製のレジスト剥離液「N−500」を用いてレ
ジストを剥離し、端子付きフレキシブル配線板を得た。
その後、端子部にフラックス処理を施し、280℃のはん
だ層に5秒間ディップさせてはんだコーティングを行っ
たが、樹脂層に劣化は認められなかった。
Then, the back surface was also coated with "U varnish", cured and dried to form an insulating layer. After that, using "Microresist 747", it is exposed through a pattern mask to form an etching resist on a predetermined portion, and then the insulating layer is corroded and removed by a hydrazine aqueous solution, and then a resist stripping solution manufactured by Nagase Kasei Co. The resist was peeled off using "N-500" to obtain a flexible wiring board with terminals.
After that, the terminal portion was subjected to a flux treatment, and the solder layer at 280 ° C. was dipped for 5 seconds for solder coating, but no deterioration was observed in the resin layer.

実施例2 実施例1と同様に、アルミニウム薄板上にレジストパタ
ーンを形成した後、銅めっきを行い、導体幅300μm,導
体間隔350μm,導体厚35μmの導体パターンを得た。
Example 2 Similar to Example 1, after forming a resist pattern on an aluminum thin plate, copper plating was performed to obtain a conductor pattern having a conductor width of 300 μm, a conductor interval of 350 μm, and a conductor thickness of 35 μm.

その後、ジアミノ−ジフェニルエーテルとトリメリット
酸クロライドより合成した溶媒可溶性ポリアミドイミド
樹脂をコーティングし、乾燥,熱処理して30μm厚の絶
縁層を得た。次いで10重量パーセントの塩酸によりアル
ミニウム薄板をエッチング除去し、ナガセ化成工業社製
のレジスト剥離液「N−500」を用いてフォトレジスト
を剥離した。再び、前述した溶媒可溶性ポリアミドイミ
ド樹脂を裏面にもコーティングし、乾燥,熱処理して30
μm厚の絶縁層とした。
Then, a solvent-soluble polyamideimide resin synthesized from diamino-diphenyl ether and trimellitic acid chloride was coated, dried and heat-treated to obtain a 30 μm thick insulating layer. Then, the aluminum thin plate was removed by etching with 10% by weight of hydrochloric acid, and the photoresist was stripped using a resist stripping solution "N-500" manufactured by Nagase Chemicals. Again, coat the backside with the solvent-soluble polyamide-imide resin described above, dry and heat-treat
The insulating layer has a thickness of μm.

その後、「マイクロレジスト747」を用い、パターンマ
スクを通して露光し、エッチングレジストを所定部分に
形成し、次にヒドラジン水溶液により絶縁層の腐食除去
を行い、その後、ナガセ化成工業社製のレジスト剥離液
「N−500」を用いてレジストを剥離し、端子付きフレ
キシブル配線板を得た。その後、300℃のはんだ槽に20
秒間ディップさせて、はんだコーティングを行ったが樹
脂層に劣化は認められなかった。接着力および寸法精度
も優れたものであった。
After that, using "Microresist 747", it is exposed through a pattern mask to form an etching resist on a predetermined portion, and then the insulating layer is corroded and removed by an aqueous solution of hydrazine, and then a resist stripping solution manufactured by Nagase Kasei Co., Ltd. The resist was peeled off using "N-500" to obtain a flexible wiring board with terminals. Then, put it in a solder bath at 300 ° C for 20
After dipping for a second and solder coating was performed, deterioration of the resin layer was not recognized. The adhesive strength and dimensional accuracy were also excellent.

導体金属としては電気めっきが可能な金属であればいか
なる金属を用いてもよいが、導体性,経済性の点から銅
が好ましい。
As the conductor metal, any metal can be used as long as it is a metal that can be electroplated, but copper is preferable from the viewpoint of conductivity and economy.

金属薄板の除去は本実施例のようにエッチングによるの
でなく、剥離(ピーリングオフ)によっても行うことが
できる。しかし、導体パターンを乱さないためにはエッ
チングが好ましく、またエッチングによる場合は導体金
属と異なるエッチング特性をもつものがよい。本実施例
のように導体金属として銅を用いる場合にはアルミニウ
ム,錫,亜鉛などを使用することが望ましい。
The removal of the thin metal plate can be performed not by etching as in this embodiment but by peeling (peeling off). However, etching is preferable in order not to disturb the conductor pattern, and in the case of etching, one having etching characteristics different from those of the conductor metal is preferable. When copper is used as the conductor metal as in this embodiment, it is preferable to use aluminum, tin, zinc or the like.

導体層のパターンめっきに使用したフォトレジストをめ
っき終了後の適当な時期、例えばめっき終了後または金
属薄板の除去後に剥離することも好ましいことである。
It is also preferable to remove the photoresist used for pattern plating of the conductor layer at an appropriate time after the plating is finished, for example, after the plating is finished or after the metal thin plate is removed.

樹脂はコーティングされるため、フィルムを金属と張り
合わせる場合と異なり、液体状のものをコーティングす
るため、金属と絶縁層間に気泡を残すことなく、接着性
を向上させることができ、また外力を加えることがない
ため、製品の寸法精度を高めることができる。
Since the resin is coated, unlike the case where the film is bonded to the metal, the liquid type is coated, so the adhesiveness can be improved without leaving bubbles between the metal and the insulating layer, and external force is applied. Therefore, the dimensional accuracy of the product can be improved.

絶縁層を形成する樹脂としては、耐熱性,柔軟性が要求
されるので、ポリアミド酸,ポリイミド樹脂,ポリアミ
ドイミド樹脂,ポリエステル変性イミド樹脂,シリコー
ンイミド樹脂,ゴム変性エポキシ樹脂等がある。特に溶
媒可溶性のイミド基含有ポリマー、更には溶媒可溶性の
ポリアミドイミド樹脂が好ましく、ピンホール,気泡の
発生がなく、接着性および寸法精度の優れたものが得ら
れる。
Since the resin forming the insulating layer is required to have heat resistance and flexibility, there are polyamic acid, polyimide resin, polyamideimide resin, polyester modified imide resin, silicone imide resin, rubber modified epoxy resin and the like. In particular, a solvent-soluble imide group-containing polymer, and further a solvent-soluble polyamide-imide resin are preferable, and those having excellent adhesiveness and dimensional accuracy without pinholes or bubbles are obtained.

本発明の上述の実施例では、特に端子付きフレキシブル
配線板について説明してきたが、導体部の片面が絶縁層
で被覆され、他面は被覆されていない、いわゆるランド
部分を含むフレキシブル配線板も、本発明の方法で作製
できることはいうまでもない。
In the above-described embodiment of the present invention, the flexible wiring board with a terminal has been particularly described, but one surface of the conductor portion is covered with an insulating layer, and the other surface is not coated, a flexible wiring board including a so-called land portion, It goes without saying that it can be produced by the method of the present invention.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、金属薄板上に所
定の導体パターンを形成して、その上部に第1の絶縁層
を塗布により形成し、その後に金属薄板を除去し、第2
の絶縁層を塗布により形成し、その後、絶縁層のパター
ンエッチングを行うので、耐熱性にすぐれ、高品質のフ
レキシブル配線板を製造することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, a predetermined conductor pattern is formed on a thin metal plate, a first insulating layer is formed on the upper portion by coating, and then the thin metal plate is removed. Then second
Since the insulating layer is formed by coating and then the insulating layer is pattern-etched, a flexible wiring board having excellent heat resistance and high quality can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図(a)〜(h)および第2図(a)〜(h)は本
発明のフレキシブル配線板の製造工程の実施例を説明す
る断面図、 第3図は本発明によって作成されたフレキシブル配線板
の平面図、 第4図(a)〜(h)および第5図(a)〜(h)は従
来の製造方法を説明する断面図である。 1……ベースフィルム、 2,5……接着剤、 3……導体、 4……レジスト、 6……カバーレイフィルム、 7,8……フィルムエッチングレジスト、 11……金属薄板、 12……フォトレジストパターン、 13……導体パターン、 13A……端子部、 14……第1の絶縁層、 15……第2の絶縁層、 16,17……エッチングレジスト層。
FIGS. 1 (a) to (h) and FIGS. 2 (a) to (h) are cross-sectional views for explaining an embodiment of the manufacturing process of the flexible wiring board of the present invention, and FIG. 3 is produced by the present invention. A plan view of a flexible wiring board, FIGS. 4 (a) to (h) and FIGS. 5 (a) to (h) are cross-sectional views illustrating a conventional manufacturing method. 1 ... Base film, 2,5 ... Adhesive, 3 ... Conductor, 4 ... Resist, 6 ... Coverlay film, 7,8 ... Film etching resist, 11 ... Metal sheet, 12 ... Photo Resist pattern, 13 ... Conductor pattern, 13A ... Terminal part, 14 ... First insulating layer, 15 ... Second insulating layer, 16, 17 ... Etching resist layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属薄板上にフォトレジストパターンを形
成する工程と、 前記金属薄板上に前記フォトレジストパターンを用いて
導体パターンを形成する工程と、 前記金属薄板の前記導体パターンを有する側の表面の全
面に、第1の絶縁層を塗布により形成する工程と、 前記金属薄板を除去する工程と、 前記金属薄板が除去された面の全面に、第2の絶縁層を
塗布により形成する工程と、 前記第1および第2の絶縁層上にエッチングに対するレ
ジストパターンを形成する工程と、 前記第1および第2の絶縁層をエッチングにより除去す
る工程と を含むことを特徴とするフレキシブル配線板の製造方
法。
1. A step of forming a photoresist pattern on a metal thin plate, a step of forming a conductor pattern on the metal thin plate using the photoresist pattern, and a surface of the metal thin plate on a side having the conductor pattern. A step of forming a first insulating layer by coating on the entire surface of the substrate, a step of removing the thin metal plate, and a step of forming a second insulating layer by coating on the entire surface from which the thin metal plate has been removed. And a step of forming a resist pattern for etching on the first and second insulating layers, and a step of removing the first and second insulating layers by etching. Method.
JP8425486A 1986-04-14 1986-04-14 Flexible wiring board manufacturing method Expired - Lifetime JPH0719949B2 (en)

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