JPH07196666A - 新規亜鉛化合物及びその製法並びに育毛剤としての用途 - Google Patents
新規亜鉛化合物及びその製法並びに育毛剤としての用途Info
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- JPH07196666A JPH07196666A JP35020593A JP35020593A JPH07196666A JP H07196666 A JPH07196666 A JP H07196666A JP 35020593 A JP35020593 A JP 35020593A JP 35020593 A JP35020593 A JP 35020593A JP H07196666 A JPH07196666 A JP H07196666A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 一般式（Ｉ）
〔例えば、
２，２−ビス（イソプロポキシカルボニル）−１，１−
エチレンジチオラート（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″−ペ
ンタメチルジエチレントリアミン）亜鉛（II）〕で表さ
れる新規亜鉛化合物及びその製法並びに用途。 【効果】 この化合物は育毛剤として使用できる。
エチレンジチオラート（Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″−ペ
ンタメチルジエチレントリアミン）亜鉛（II）〕で表さ
れる新規亜鉛化合物及びその製法並びに用途。 【効果】 この化合物は育毛剤として使用できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般式（Ｉ）；
【化２６】 〔式中，ＭはCu,Mn,Co,Zn,Ni,Pt,Cd,Fe 等の重金属原子
を示し，Ｒ1 及びＲ2は同一又は異なって水素原子，置
換されていてもよい低級アルキル基，置換されていても
よい低級アルコキシ基又はアリール基を示し，Ｒ3 及び
Ｒ4 は，同一又は異なってもよく，アリール基，シアノ
基，ＣＯＲ5 （Ｒ5 は低級アルキル基，アリール基，ア
リールアルキル基，アリールアミノ基，アルキルアミノ
基，低級アルコキシ基，アリールアルコキシ基，ピペリ
ジノ基，ピロリジノ基を示すか又はＲ3 及びＲ4 がＣＯ
Ｒ5 の場合，Ｒ5 は互いに結合して低級アルキル基又は
アリール基で置換されていてもよい低級アルキレン基を
示してもよい）又はＳＯ2 Ｒ6 （Ｒ6 はアリール基を示
す）を示し，Ａは
を示し，Ｒ1 及びＲ2は同一又は異なって水素原子，置
換されていてもよい低級アルキル基，置換されていても
よい低級アルコキシ基又はアリール基を示し，Ｒ3 及び
Ｒ4 は，同一又は異なってもよく，アリール基，シアノ
基，ＣＯＲ5 （Ｒ5 は低級アルキル基，アリール基，ア
リールアルキル基，アリールアミノ基，アルキルアミノ
基，低級アルコキシ基，アリールアルコキシ基，ピペリ
ジノ基，ピロリジノ基を示すか又はＲ3 及びＲ4 がＣＯ
Ｒ5 の場合，Ｒ5 は互いに結合して低級アルキル基又は
アリール基で置換されていてもよい低級アルキレン基を
示してもよい）又はＳＯ2 Ｒ6 （Ｒ6 はアリール基を示
す）を示し，Ａは
【化２７】 (Ｒ7 は水素原子，低級アルキル基，低級アルコキシ基
又は
又は
【化２８】 （Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基またはＲ8 とＲ9 は互い
に結合してそれらが結合している窒素原子とともにアジ
リジニル基，アゼチジニル基，ピロリジニル基，ピペリ
ジニル基，ヘキサヒドロアゼビニル基，ヘプタメチレン
イミン基，オクタメチレンイミン基，モルホリノ基，４
ーアルキルピペラジニル基を表し，これらはアルキル
基，ヒドロキシ基，アルコキシ基から選ばれる１〜３個
の置換基で置換されていてもよい）),
基，アルケニル基，アリール基またはＲ8 とＲ9 は互い
に結合してそれらが結合している窒素原子とともにアジ
リジニル基，アゼチジニル基，ピロリジニル基，ピペリ
ジニル基，ヘキサヒドロアゼビニル基，ヘプタメチレン
イミン基，オクタメチレンイミン基，モルホリノ基，４
ーアルキルピペラジニル基を表し，これらはアルキル
基，ヒドロキシ基，アルコキシ基から選ばれる１〜３個
の置換基で置換されていてもよい）),
【化２９】 （Ｒ10及びＲ11は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基又はシクロアルキル基を
示す）を示し，Ｙは窒素原子又は炭素原子を表し，Ｂは
単結合又は
基，アルケニル基，アリール基又はシクロアルキル基を
示す）を示し，Ｙは窒素原子又は炭素原子を表し，Ｂは
単結合又は
【化３０】 （Ｒ12は置換されていてもよい低級アルキル基，アリー
ル基，アリールアルキル基を示す）を示し，ｌ及びｍは
０，１乃至２の整数を示す〕で表される新規亜鉛化合物
及びその製法並びにそれを含有することを特徴とする育
毛剤に関する。
ル基，アリールアルキル基を示す）を示し，ｌ及びｍは
０，１乃至２の整数を示す〕で表される新規亜鉛化合物
及びその製法並びにそれを含有することを特徴とする育
毛剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】 一般式（II）；
【化３１】 （式中，Ｒ3 ，Ｒ4 及びＭは前記に同じ。）で表される
化合物が養毛，発毛効果を有することが特開昭５９ー１
５７０１２号に開示されている。
化合物が養毛，発毛効果を有することが特開昭５９ー１
５７０１２号に開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら，これら
の化合物は不安定なため使用中に分解するため十分な効
果が得られないという問題点を有している。
の化合物は不安定なため使用中に分解するため十分な効
果が得られないという問題点を有している。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは，上記問題
点を解決すべく，種々検討した結果，一般式（II）で表
される化合物を一般式(III) で表されるアミン化合物と
反応させ一般式（Ｉ）で表される錯体を形成させること
により，一般式（II）で表される化合物の育毛活性を維
持したまま，安定性が増大することを見出し本発明を完
成した。
点を解決すべく，種々検討した結果，一般式（II）で表
される化合物を一般式(III) で表されるアミン化合物と
反応させ一般式（Ｉ）で表される錯体を形成させること
により，一般式（II）で表される化合物の育毛活性を維
持したまま，安定性が増大することを見出し本発明を完
成した。
【０００５】一般式（Ｉ）で表される化合物は，下記に
示す方法によって合成することができる。 １）Ａ法；一般式（II）で表される化合物と一般式(II
I) で表される化合物を不活性溶媒中で反応させて得る
ことができる。
示す方法によって合成することができる。 １）Ａ法；一般式（II）で表される化合物と一般式(II
I) で表される化合物を不活性溶媒中で反応させて得る
ことができる。
【化３２】 （式中，Ｍ，Ｒ1 , Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ａ，Ｂ，ｌ及び
ｍは前記に同じ。）
ｍは前記に同じ。）
【０００６】不活性溶媒としては反応に悪影響を及ぼさ
ない限り特に制限はなく，種々のものを使用することが
でき，例えば，ペンタン，ヘキサン，ヘプタンなどの脂
肪族炭化水素系溶媒，ベンゼン，トルエン，キシレンな
どの芳香族炭化水素系溶媒，シクロヘキサン，メチルシ
クロヘキサン，デカリンなどの脂環式炭化水素系溶媒，
石油エーテル，石油ベンジンなどの炭化水素系溶媒，四
塩化炭素，クロロホルム，塩化メチレンなどのハロゲン
化炭化水素系溶媒，エチルエーテル，イソプロピルエー
テル，アニソール，ジオキサン，テトラヒドロフランな
どのエーテル系溶媒，アセトン，メチルエチルケトン，
メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノン，アセトフ
ェノン，イソホロンなどのケトン類，酢酸エチル，酢酸
ブチルなどのエステル類，メタノール，エタノールなど
のアルコール類，アセトニトリル，ジメチルホルムアミ
ド，ジメチルスルホキシド，水などから適宜に選択すれ
ばよい。これは単独または混合物のいづれで使用されて
もよい。必要ならば相関移動触媒を添加してもよい。
ない限り特に制限はなく，種々のものを使用することが
でき，例えば，ペンタン，ヘキサン，ヘプタンなどの脂
肪族炭化水素系溶媒，ベンゼン，トルエン，キシレンな
どの芳香族炭化水素系溶媒，シクロヘキサン，メチルシ
クロヘキサン，デカリンなどの脂環式炭化水素系溶媒，
石油エーテル，石油ベンジンなどの炭化水素系溶媒，四
塩化炭素，クロロホルム，塩化メチレンなどのハロゲン
化炭化水素系溶媒，エチルエーテル，イソプロピルエー
テル，アニソール，ジオキサン，テトラヒドロフランな
どのエーテル系溶媒，アセトン，メチルエチルケトン，
メチルイソブチルケトン，シクロヘキサノン，アセトフ
ェノン，イソホロンなどのケトン類，酢酸エチル，酢酸
ブチルなどのエステル類，メタノール，エタノールなど
のアルコール類，アセトニトリル，ジメチルホルムアミ
ド，ジメチルスルホキシド，水などから適宜に選択すれ
ばよい。これは単独または混合物のいづれで使用されて
もよい。必要ならば相関移動触媒を添加してもよい。
【０００７】反応温度は，-20 〜100 ℃で，好ましくは
室温がよく，反応時間は0.5 〜24時間の範囲から適宜選
択すればよい。一般式(III) で表される化合物は一般式
（II）で表される化合物に対して1 モル以上，好ましく
は1.2 〜1.5 倍モル量使用すればよい。また，一般式
（II）で表される化合物は特開昭59-157012 に記載の公
知の方法で合成できる。一般式(III) で表される化合物
は常法に従い合成できる。
室温がよく，反応時間は0.5 〜24時間の範囲から適宜選
択すればよい。一般式(III) で表される化合物は一般式
（II）で表される化合物に対して1 モル以上，好ましく
は1.2 〜1.5 倍モル量使用すればよい。また，一般式
（II）で表される化合物は特開昭59-157012 に記載の公
知の方法で合成できる。一般式(III) で表される化合物
は常法に従い合成できる。
【０００８】２）Ｂ法；
【化３３】 〔式中，Ｍ，Ｒ1 , Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ａ，Ｂ，ｌ及び
ｍは前記に同じ，Ｘはハロゲン原子，ＳＯ4 2- ，ＳＯ3
2- ，ＮＯ3 ，Ｒ6 ＣＯＯ (Ｒ6 は低級アルキル基を示
す）を示し，Ｚ+ は一価の金属イオン又はプロトン化し
たアミノ基を示し，ｎは１乃至２の整数を示す〕
ｍは前記に同じ，Ｘはハロゲン原子，ＳＯ4 2- ，ＳＯ3
2- ，ＮＯ3 ，Ｒ6 ＣＯＯ (Ｒ6 は低級アルキル基を示
す）を示し，Ｚ+ は一価の金属イオン又はプロトン化し
たアミノ基を示し，ｎは１乃至２の整数を示す〕
【０００９】即ち，まず一般式(III) で表される化合物
と一般式（IV）で表される金属塩（例えば，塩化銅や塩
化ニッケル，塩化カドミニウムなどのハロゲン化物，硫
酸銅や硫酸鉄などの硫酸塩，酢酸亜鉛やプロピオン酸亜
鉛などの脂肪酸塩，硝酸銅や硝酸鉄などの硝酸塩，その
他スルホン酸塩などを表す。）を，不活性溶媒中で-20
〜100 ℃で，好ましくは室温で，0.5 〜24時間反応させ
て，一般式（Ｖ）で表される化合物を得る。一般式(II
I) で表される化合物は一般式（IV）で表される金属塩
に対して１モル以上，好ましくは等モル量を使用すれば
よい。そして，得られた一般式（Ｖ）で表される化合物
を一般式（VI）で表される化合物と不活性溶媒中で-20
〜100 ℃で，好ましくは室温で，0.5 〜24時間反応させ
て得ることができる。一般式（VI）で表される化合物は
一般式（Ｖ）で表される化合物に対して１モル以上，好
ましくは1.0 〜1.5 倍モル量使用すればよい。一般式
（Ｖ）で表される化合物は単離してもよく，単離せずに
そのまま次の反応に使用してもよい。一般式（Ｖ）で表
される化合物及び一般式（Ｉ）で表される化合物を合成
する際に使用される不活性溶媒としては，それぞれＡ法
で用いた溶媒が使用できる。
と一般式（IV）で表される金属塩（例えば，塩化銅や塩
化ニッケル，塩化カドミニウムなどのハロゲン化物，硫
酸銅や硫酸鉄などの硫酸塩，酢酸亜鉛やプロピオン酸亜
鉛などの脂肪酸塩，硝酸銅や硝酸鉄などの硝酸塩，その
他スルホン酸塩などを表す。）を，不活性溶媒中で-20
〜100 ℃で，好ましくは室温で，0.5 〜24時間反応させ
て，一般式（Ｖ）で表される化合物を得る。一般式(II
I) で表される化合物は一般式（IV）で表される金属塩
に対して１モル以上，好ましくは等モル量を使用すれば
よい。そして，得られた一般式（Ｖ）で表される化合物
を一般式（VI）で表される化合物と不活性溶媒中で-20
〜100 ℃で，好ましくは室温で，0.5 〜24時間反応させ
て得ることができる。一般式（VI）で表される化合物は
一般式（Ｖ）で表される化合物に対して１モル以上，好
ましくは1.0 〜1.5 倍モル量使用すればよい。一般式
（Ｖ）で表される化合物は単離してもよく，単離せずに
そのまま次の反応に使用してもよい。一般式（Ｖ）で表
される化合物及び一般式（Ｉ）で表される化合物を合成
する際に使用される不活性溶媒としては，それぞれＡ法
で用いた溶媒が使用できる。
【００１０】２）Ｃ法；
【化３４】 （式中，Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16及びＲ17は同一又は異なって
水素原子，置換されていてもよい低級アルキル基，置換
されていてもよい低級アルコキシ基，アリール基又はア
リールアルキル基を示し，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ
11，Ｒ12，Ｒ13，ｌ及びｍは前記に同じ）
水素原子，置換されていてもよい低級アルキル基，置換
されていてもよい低級アルコキシ基，アリール基又はア
リールアルキル基を示し，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ
11，Ｒ12，Ｒ13，ｌ及びｍは前記に同じ）
【００１１】即ち，まず一般式（Ｉａ）で表される化合
物と一般式（III ａ）で表される化合物を，不活性溶媒
中で-20 〜100 ℃で，好ましくは室温で，0.5 〜24時間
反応させて，一般式（Ｉｂ）で表される化合物を得るこ
とができる。一般式(IIIａ)で表される化合物は一般式
（Ｉａ）で表される化合物に対して１モル以上，好まし
くは2.0 〜4.0 倍モル量使用すればよい。一般式（Ｉ
ｂ）で表される化合物を合成する際に使用される不活性
溶媒としては，Ａ法で用いた溶媒が使用できる。
物と一般式（III ａ）で表される化合物を，不活性溶媒
中で-20 〜100 ℃で，好ましくは室温で，0.5 〜24時間
反応させて，一般式（Ｉｂ）で表される化合物を得るこ
とができる。一般式(IIIａ)で表される化合物は一般式
（Ｉａ）で表される化合物に対して１モル以上，好まし
くは2.0 〜4.0 倍モル量使用すればよい。一般式（Ｉ
ｂ）で表される化合物を合成する際に使用される不活性
溶媒としては，Ａ法で用いた溶媒が使用できる。
【００１２】一般式（Ｉ）における置換基の定義中，低
級アルキル基とはメチル基，エチル基，ｎ−プロピル
基，ｉ−プロピル基，ｎ−ブチル基，ｉ−ブチル基，ｎ
−ペンチル，ｎ−ヘキシル基等が，置換されていてもよ
い低級アルキル基としては，フッ素原子，塩素原子，臭
素原子等のハロゲン原子，ヒドロキシ基，メトキシカル
ボニル基，エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボ
ニル基で置換された低級アルキル基が，低級アルコキシ
基としては，メトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロポキシ
基，ｉ−プロポキシ基，ｎ−ブトキシ基，ｉ−ブトキシ
基が，アルケニル基としては，アリル基，ブテニル基，
ペンテニル基等が，シクロアルキル基としてはシクロプ
ロピル基，シクロブチル基，シクロペンチル基，シクロ
ヘキシル基等が，置換低級アルコキシ基としては，フッ
素原子，塩素原子，臭素原子等のハロゲン原子，ヒドロ
キシ基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基
等のアルコキシカルボニル基で置換された低級アルコキ
シ基が，アリールアルキル基としては，ベンジル基，フ
ェネチル基等が，アリールアルコキシ基としては，ベン
ジルオキシ基，フェネチルオキシ基が，アリールアミノ
基としては，フェニルアミノ基，ジフェニルアミノ基
が，アルキルアミノ基としてはメチルアミノ基，エチル
アミノ基，ｎ−プロピルアミノ基，ｉ−プロピルアミノ
基，ｎ−ブチルアミノ基，ｉ−ブチルアミノ基，ｎ−ペ
ンチルアミノ基，ｎ−ヘキシルアミノ基，ジメチルアミ
ノ基，ジエチルアミノ基，ジーｎ−プロピルアミノ基，
ジーｉ−プロピルアミノ基，ジーｎ−ブチルアミノ基，
ジーｉ−ブチルアミノ基，ジーｎ−ペンチルアミノ基，
ジーｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられる。又，アリー
ル基，アリールアミノ基，アリールアルコキシ基，アリ
ールアルキル基等のアリール基としては，フェニル基，
ナフチル基，ピリジル基，チエニル基，フリル基，ピラ
ゾール基，テトラゾール基等が挙げられ，これらはフッ
素原子，塩素原子，臭素原子等のハロゲン原子，ヒドロ
キシ基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基
等のアルコキシカルボニル基，ニトロ基，ニトリル基等
で置換されていてもよい。
級アルキル基とはメチル基，エチル基，ｎ−プロピル
基，ｉ−プロピル基，ｎ−ブチル基，ｉ−ブチル基，ｎ
−ペンチル，ｎ−ヘキシル基等が，置換されていてもよ
い低級アルキル基としては，フッ素原子，塩素原子，臭
素原子等のハロゲン原子，ヒドロキシ基，メトキシカル
ボニル基，エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボ
ニル基で置換された低級アルキル基が，低級アルコキシ
基としては，メトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロポキシ
基，ｉ−プロポキシ基，ｎ−ブトキシ基，ｉ−ブトキシ
基が，アルケニル基としては，アリル基，ブテニル基，
ペンテニル基等が，シクロアルキル基としてはシクロプ
ロピル基，シクロブチル基，シクロペンチル基，シクロ
ヘキシル基等が，置換低級アルコキシ基としては，フッ
素原子，塩素原子，臭素原子等のハロゲン原子，ヒドロ
キシ基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基
等のアルコキシカルボニル基で置換された低級アルコキ
シ基が，アリールアルキル基としては，ベンジル基，フ
ェネチル基等が，アリールアルコキシ基としては，ベン
ジルオキシ基，フェネチルオキシ基が，アリールアミノ
基としては，フェニルアミノ基，ジフェニルアミノ基
が，アルキルアミノ基としてはメチルアミノ基，エチル
アミノ基，ｎ−プロピルアミノ基，ｉ−プロピルアミノ
基，ｎ−ブチルアミノ基，ｉ−ブチルアミノ基，ｎ−ペ
ンチルアミノ基，ｎ−ヘキシルアミノ基，ジメチルアミ
ノ基，ジエチルアミノ基，ジーｎ−プロピルアミノ基，
ジーｉ−プロピルアミノ基，ジーｎ−ブチルアミノ基，
ジーｉ−ブチルアミノ基，ジーｎ−ペンチルアミノ基，
ジーｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられる。又，アリー
ル基，アリールアミノ基，アリールアルコキシ基，アリ
ールアルキル基等のアリール基としては，フェニル基，
ナフチル基，ピリジル基，チエニル基，フリル基，ピラ
ゾール基，テトラゾール基等が挙げられ，これらはフッ
素原子，塩素原子，臭素原子等のハロゲン原子，ヒドロ
キシ基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル基
等のアルコキシカルボニル基，ニトロ基，ニトリル基等
で置換されていてもよい。
【００１３】表１に本発明化合物の代表例を示すが、本
発明はこれらのみに限定されるものではない。
発明はこれらのみに限定されるものではない。
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】
【表３】
【００１６】次に，本発明の実施例を示すが，本発明は
これらのみに限定されるものではない。 実施例１ ２，２−ビス（イソプロポキシカルボニル）−１，１−
エチレンジチオラート（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメ
チルエチレンジアミン）亜鉛（II）（化合物１）
これらのみに限定されるものではない。 実施例１ ２，２−ビス（イソプロポキシカルボニル）−１，１−
エチレンジチオラート（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメ
チルエチレンジアミン）亜鉛（II）（化合物１）
【化３５】 2,2-ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エチレン
ジチオラート亜鉛（II）水和物（ｉ）200g（0.61モル）
を酢酸エチル2 Ｌに懸濁し，反応温度を17〜23℃に保っ
て，N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン141.7g
(1.22mole)を滴下した。滴下終了後，室温下3.5 時間攪
拌した。生成した結晶をろ過し，酢酸エチル200ml で洗
浄した。この結晶を塩化メチレン1 Ｌに溶かし，無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。この溶液をセライトでろ過
し，減圧下濃縮した後，酢酸エチル1 Ｌを加え結晶化さ
せ，2,2-ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エチ
レンジチオラート（N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジ
アミン）亜鉛（II）を216g（収率80% ）得た。 融点17
5 〜180 ℃
ジチオラート亜鉛（II）水和物（ｉ）200g（0.61モル）
を酢酸エチル2 Ｌに懸濁し，反応温度を17〜23℃に保っ
て，N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン141.7g
(1.22mole)を滴下した。滴下終了後，室温下3.5 時間攪
拌した。生成した結晶をろ過し，酢酸エチル200ml で洗
浄した。この結晶を塩化メチレン1 Ｌに溶かし，無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。この溶液をセライトでろ過
し，減圧下濃縮した後，酢酸エチル1 Ｌを加え結晶化さ
せ，2,2-ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エチ
レンジチオラート（N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジ
アミン）亜鉛（II）を216g（収率80% ）得た。 融点17
5 〜180 ℃
【００１７】実施例２．２，２−ビス（イソプロポキシ
カルボニル）−１，１−エチレンジチオラート（Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン）亜鉛
（II）（化合物１）
カルボニル）−１，１−エチレンジチオラート（Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン）亜鉛
（II）（化合物１）
【化３６】 塩化亜鉛10g(0.0734モル) をメタノール360ml に溶か
し，N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン8.5g(0.0
732mole)をエタノール80mlに溶かした溶液を滴下し，１
時間攪拌した。一夜冷蔵庫に放置し，生成した結晶をろ
過しジクロロ（N,N ,N',N'- テトラメチルエチレンジア
ミン）亜鉛（II）を11.5g （収率62% ）得た。次いで，
得られた化合物1g(0.004モル) を酢酸エチル10mlに懸濁
し，ジナトリウム2,2-ビス（イソプロポキシカルボニ
ル）-1,1- エチレンジチオラート1.28g(0.0042モル) を
室温下加え，３時間攪拌した。生成した結晶をろ過し2,
2-ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エチレンジ
チオラート（N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミ
ン）亜鉛（II）（化合物１）を0.7g（収率38% ）得た。
融点175 〜180 ℃
し，N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン8.5g(0.0
732mole)をエタノール80mlに溶かした溶液を滴下し，１
時間攪拌した。一夜冷蔵庫に放置し，生成した結晶をろ
過しジクロロ（N,N ,N',N'- テトラメチルエチレンジア
ミン）亜鉛（II）を11.5g （収率62% ）得た。次いで，
得られた化合物1g(0.004モル) を酢酸エチル10mlに懸濁
し，ジナトリウム2,2-ビス（イソプロポキシカルボニ
ル）-1,1- エチレンジチオラート1.28g(0.0042モル) を
室温下加え，３時間攪拌した。生成した結晶をろ過し2,
2-ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エチレンジ
チオラート（N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミ
ン）亜鉛（II）（化合物１）を0.7g（収率38% ）得た。
融点175 〜180 ℃
【００１８】実施例３．２−エトキシカルボニル−２−
フェニル−１，１−エチレンジチオラート（Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン）亜鉛（I
I）（化合物２）
フェニル−１，１−エチレンジチオラート（Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン）亜鉛（I
I）（化合物２）
【化３７】 2-エトキシカルボニル-2- フェニル-1,1- エチレンジチ
オラート亜鉛（II）水和物6g(0.02mole)を酢酸エチル60
mlに懸濁し，室温下N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジ
アミン4.8g(0.04mole)を滴下し，1 時間攪拌した。生成
した結晶をろ過し，酢酸エチル20mlで洗浄した。この結
晶を塩化メチレン150ml に溶かし，無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。この溶液をセライトでろ過し，減圧下濃縮
した後，酢酸エチル50mlを加え結晶化させ，2-エトキシ
カルボニル-2- フェニル-1,1- エチレンジチオラート
（N,N,N', N'- テトラメチルエチレンジアミン）亜鉛
（II）を2.7g（収率33% ）得た。 融点172 〜180 ℃(d
ec.)
オラート亜鉛（II）水和物6g(0.02mole)を酢酸エチル60
mlに懸濁し，室温下N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジ
アミン4.8g(0.04mole)を滴下し，1 時間攪拌した。生成
した結晶をろ過し，酢酸エチル20mlで洗浄した。この結
晶を塩化メチレン150ml に溶かし，無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。この溶液をセライトでろ過し，減圧下濃縮
した後，酢酸エチル50mlを加え結晶化させ，2-エトキシ
カルボニル-2- フェニル-1,1- エチレンジチオラート
（N,N,N', N'- テトラメチルエチレンジアミン）亜鉛
（II）を2.7g（収率33% ）得た。 融点172 〜180 ℃(d
ec.)
【００１９】実施例４．２，２−ビス（イソプロポキシ
カルボニル）−１，１−エチレンジチオラート（Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリア
ミン）亜鉛（II）（化合物６）
カルボニル）−１，１−エチレンジチオラート（Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリア
ミン）亜鉛（II）（化合物６）
【化３８】 2,2-ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エチレン
ジチオラート亜鉛（II）水和物（ｉ）200g(0.61mole)を
酢酸エチル２Ｌに懸濁し，反応温度を17〜23℃に保ち，
N,N,N',N",N"- ペンタメチルジエチレントリアミン200g
(1.16mole)を滴下した。滴下終了後，室温で3.5 時間攪
拌した。生成した結晶をろ過し，酢酸エチル200ml で洗
浄した。この結晶を塩化メチレン1 Ｌに溶かし，無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。この溶液をセライトでろ過
し，減圧下濃縮した後，酢酸エチル１Ｌを加え結晶化さ
せ，2,2-，ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エ
チレンジチオラート（N,N,N',N",N"- ペンタメチルジエ
チレントリアミン）亜鉛（II）（化合物２）を230g（収
率75% ）得た。 融点90〜200 ℃ 但し，ｘは0.5 〜5.0 の範囲にある。
ジチオラート亜鉛（II）水和物（ｉ）200g(0.61mole)を
酢酸エチル２Ｌに懸濁し，反応温度を17〜23℃に保ち，
N,N,N',N",N"- ペンタメチルジエチレントリアミン200g
(1.16mole)を滴下した。滴下終了後，室温で3.5 時間攪
拌した。生成した結晶をろ過し，酢酸エチル200ml で洗
浄した。この結晶を塩化メチレン1 Ｌに溶かし，無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。この溶液をセライトでろ過
し，減圧下濃縮した後，酢酸エチル１Ｌを加え結晶化さ
せ，2,2-，ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エ
チレンジチオラート（N,N,N',N",N"- ペンタメチルジエ
チレントリアミン）亜鉛（II）（化合物２）を230g（収
率75% ）得た。 融点90〜200 ℃ 但し，ｘは0.5 〜5.0 の範囲にある。
【００２０】実施例５．２，２−ビス（ノルマルプロポ
キシカルボニル）−１，１−エチレンジチオラート
（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレン
トリアミン）亜鉛（II）（化合物８）
キシカルボニル）−１，１−エチレンジチオラート
（Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレン
トリアミン）亜鉛（II）（化合物８）
【化３９】 2,2-ビス（ノルマルプロポキシカルボニル）-1,1- エチ
レンジチオラート亜鉛（II）水和物（ｖ）6g(0.018モ
ル) を塩化メチレン60mlに溶かし，室温下N,N,N', N",
N"-ペンタメチルジエチレントリアミン6g(0.035モル)
を滴下し，６時間攪拌した。この溶液を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し，セライトでろ過し，減圧下濃縮した後，
酢酸エチル30mlを加えて結晶化させ，2,2-ビス（ノルマ
ルプロポキシカルボニル）-1,1- エチレンジチオラート
（N,N,N',N",N"- ペンタメチルジエチレントリアミン）
亜鉛（II）を1.5g（収率16% ）得た。 融点165 〜170
℃
レンジチオラート亜鉛（II）水和物（ｖ）6g(0.018モ
ル) を塩化メチレン60mlに溶かし，室温下N,N,N', N",
N"-ペンタメチルジエチレントリアミン6g(0.035モル)
を滴下し，６時間攪拌した。この溶液を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し，セライトでろ過し，減圧下濃縮した後，
酢酸エチル30mlを加えて結晶化させ，2,2-ビス（ノルマ
ルプロポキシカルボニル）-1,1- エチレンジチオラート
（N,N,N',N",N"- ペンタメチルジエチレントリアミン）
亜鉛（II）を1.5g（収率16% ）得た。 融点165 〜170
℃
【００２１】実施例６．２−エトキシカルボニル−２−
フェニル−１，１−エチレンジチオラート（Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミ
ン）亜鉛（II）（化合物１２）
フェニル−１，１−エチレンジチオラート（Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタメチルジエチレントリアミ
ン）亜鉛（II）（化合物１２）
【化４０】 2-エトキシカルボニル-2- フェニル-1,1- エチレンジチ
オラート(N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン)
亜鉛（II）1.7g(0.0045 モル）を酢酸エチル15mlに懸濁
し，室温下N,N,N',N",N"- ペンタメチルジエチレントリ
アミン1.7g(0.01 モル）を滴下し，17時間攪拌した。生
成した結晶をろ過し，酢酸エチル20mlで洗浄した。この
結晶を塩化メチレン50mlに溶かし，無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。この溶液をセライトでろ過し，減圧下濃縮
した後，酢酸エチル30mlを加え結晶化させ，2-エトキシ
カルボニル-2- フェニル-1,1- エチレンジチオラート
(N,N,N',N",N"-ペンタメチルジエチレントリアミン）亜
鉛（II）1.2g（収率88% ）を得た。融点165 〜168 ℃(d
ec.)
オラート(N,N,N',N'-テトラメチルエチレンジアミン)
亜鉛（II）1.7g(0.0045 モル）を酢酸エチル15mlに懸濁
し，室温下N,N,N',N",N"- ペンタメチルジエチレントリ
アミン1.7g(0.01 モル）を滴下し，17時間攪拌した。生
成した結晶をろ過し，酢酸エチル20mlで洗浄した。この
結晶を塩化メチレン50mlに溶かし，無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。この溶液をセライトでろ過し，減圧下濃縮
した後，酢酸エチル30mlを加え結晶化させ，2-エトキシ
カルボニル-2- フェニル-1,1- エチレンジチオラート
(N,N,N',N",N"-ペンタメチルジエチレントリアミン）亜
鉛（II）1.2g（収率88% ）を得た。融点165 〜168 ℃(d
ec.)
【００２２】実施例７．２，２−ビス（イソプロポキシ
カルボニル）-1,1- エチレンジチオラート（６ーアミノ
ー１，２ージヒドロー１ーヒドロキシー２ーイミノー４
ピペリジノピリミジン）亜鉛（II）（化合物５）
カルボニル）-1,1- エチレンジチオラート（６ーアミノ
ー１，２ージヒドロー１ーヒドロキシー２ーイミノー４
ピペリジノピリミジン）亜鉛（II）（化合物５）
【化４１】 2,2-ビス（イソプロポキシカルボニル）-1,1- エチレン
ジチオラート亜鉛（II）水和物4.7g(0.014モル) と６ー
アミノー１，２ージヒドロー１ーヒドロキシー２ーイミ
ノー４ピペリジノピリミジン3.9g(0.019モル) を，室温
下酢酸エチル400 mlに加え，同温で５時間攪拌した。反
応液をセライトでろ過し，減圧下濃縮した後，エーテル
100 mlを加え結晶化させとから2,2-ビス（イソプロポキ
シカルボニル）-1,1- エチレンジチオラート（６ーアミ
ノー１，２ージヒドロー１ーヒドロキシー２ーイミノー
４ピペリジノピリミジン）亜鉛（II）を4.5g（収率５９
％）得た。融点１６４℃（dec.)
ジチオラート亜鉛（II）水和物4.7g(0.014モル) と６ー
アミノー１，２ージヒドロー１ーヒドロキシー２ーイミ
ノー４ピペリジノピリミジン3.9g(0.019モル) を，室温
下酢酸エチル400 mlに加え，同温で５時間攪拌した。反
応液をセライトでろ過し，減圧下濃縮した後，エーテル
100 mlを加え結晶化させとから2,2-ビス（イソプロポキ
シカルボニル）-1,1- エチレンジチオラート（６ーアミ
ノー１，２ージヒドロー１ーヒドロキシー２ーイミノー
４ピペリジノピリミジン）亜鉛（II）を4.5g（収率５９
％）得た。融点１６４℃（dec.)
【００２３】本発明の育毛剤は常法に従ってヘアートニ
ック，ヘアーローション，ヘアークリーム，乳液，シャ
ンプー，リンスなどの通常の剤型にすればよい。使用さ
れる配合基剤としては例えばアルコール類，油脂類，界
面活性剤等を使用すればよく，更に他の有効成分として
レゾルシン，ホルモン類，ビタミン類，アミノ酸類及び
メントール，その他の香料などを配合してもよい。本発
明に於いて有効成分の配合量は適宜選択することができ
るが，通常育毛剤全量に対して0.01〜10%(重量%)配合す
ればよい。本発明育毛剤は１日１乃至５回毛髪部位に処
理すれば良い。
ック，ヘアーローション，ヘアークリーム，乳液，シャ
ンプー，リンスなどの通常の剤型にすればよい。使用さ
れる配合基剤としては例えばアルコール類，油脂類，界
面活性剤等を使用すればよく，更に他の有効成分として
レゾルシン，ホルモン類，ビタミン類，アミノ酸類及び
メントール，その他の香料などを配合してもよい。本発
明に於いて有効成分の配合量は適宜選択することができ
るが，通常育毛剤全量に対して0.01〜10%(重量%)配合す
ればよい。本発明育毛剤は１日１乃至５回毛髪部位に処
理すれば良い。
【００２４】次に本発明育毛剤の処方例を以下に示すが
本発明はこれらに限定されるものではない。 処方例１ 本発明化合物 0.5g サリチル酸 1.0g レゾルシン 2.0g グリセリン 2.0g フェノール 1.0g ヒマシ油 1.0g ラベンダー油 10.0ml 以上をエタノールに溶解し全量100ml のローションとする。 処方例２ 本発明化合物 1.0g ハッカ油 0.6g グリセリン 15.0ml ラベンダー油 10.0ml 以上をエタノールに溶解し全量100ml のローションとする。
本発明はこれらに限定されるものではない。 処方例１ 本発明化合物 0.5g サリチル酸 1.0g レゾルシン 2.0g グリセリン 2.0g フェノール 1.0g ヒマシ油 1.0g ラベンダー油 10.0ml 以上をエタノールに溶解し全量100ml のローションとする。 処方例２ 本発明化合物 1.0g ハッカ油 0.6g グリセリン 15.0ml ラベンダー油 10.0ml 以上をエタノールに溶解し全量100ml のローションとする。
【００２５】 処方例３ 本発明化合物 0.1g カラミン 8.0g アルギン酸ナトリウム 1.25g グリセリン 4.0g パラヒドロキシ安息香酸メチル 0.2g 酸化亜鉛 8.0g ツウィーン(Tween)20* 0.01g 以上を精製水に溶解し全量100ml のローションとする。 ツウィーン(Tween)20* ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート 処方例４ 本発明化合物 0.5g カリ石鹸 8.0g ハッカ油 0.6g ラベンダー油 10.0ml 以上をエタノールに溶解し全量100ml のローションとする。
【００２６】 処方例５ 本発明化合物 0.5g パラヒドロキシ安息香酸エチル 0.025g パラヒドロキシ安息香酸プロピル 0.015g ラウリル硫酸ナトリウム 1.5g プロピレングリコール 12.0g ステアリルアルコール 22.0g 白色ワセリン 25.0g 精製水 38.96g 以上を溶解混合し全量100gの軟膏とする。 処方例６ 本発明化合物 0.5g ポリエチレングリコール 400 57.5g 〃 1500 20.0g 〃 4000 22.0g 以上を溶解混合し全量100gの軟膏とする。
【００２７】 処方例７ 本発明化合物 0.1g 精製ラノリン 5.0g サラシミツロウ 5.0g 白色ワセリン 89.5g 以上を溶解混合し全量100gの軟膏とする。 処方例８ 本発明化合物 0.5g グリセリンモノステアレート 18.0g 鯨ロウ 5.0g ジエチレングリコールモノエチルエーテル 5.0g ハッカ油 1.1g 精製水 残部 以上を溶解混合し全量100gの軟膏とする。
【００２８】 処方例９ 化合物 0.5g 高粘度型カルボキシメチルセルロースナトリウム 2.0g グリセリン 80.0g 精製水 17.5g 以上を溶解混合し全量100gの軟膏とする。
【００２９】試験例１ 育毛試験 毛周期が休止期にある雄性C3H マウスを一群７ないし８
匹用いた。被験試料を３w/v%となるように７０v/v%エタ
ノールで調製し、除毛したマウスの背部皮膚に１日１回
０．１mlずつ連日塗布した。発毛部分が塗布部皮膚の５
０% に達するまでの平均塗布日数を求め、被験試料を含
まない７０v/v%エタノールを塗布した場合との日数の差
を促進日数とし、表１の判定基準に従い効果を判定し
た。
匹用いた。被験試料を３w/v%となるように７０v/v%エタ
ノールで調製し、除毛したマウスの背部皮膚に１日１回
０．１mlずつ連日塗布した。発毛部分が塗布部皮膚の５
０% に達するまでの平均塗布日数を求め、被験試料を含
まない７０v/v%エタノールを塗布した場合との日数の差
を促進日数とし、表１の判定基準に従い効果を判定し
た。
【００３０】
【表４】 結果を表２に示す。被験試料はいずれも発毛を促進し、
明らかな育毛効果を示した。
明らかな育毛効果を示した。
【００３１】
【表５】 注） 比較化合物Ａ；2,2-ビス（イソプロポキシカルボ
ニル）-1,1- エチレンジチオラート 亜鉛（II）水和物
ニル）-1,1- エチレンジチオラート 亜鉛（II）水和物
【００３２】試験例２ 安定性試験１ 被験試料をガラス性試験管に入れ，相対湿度７５％−４
０℃の保存条件下で１週間保存した。残存する被験試料
を液体クロマトグラフィ法（内部標準法）で分析し，残
存率を算出した。結果を表３に示した。
０℃の保存条件下で１週間保存した。残存する被験試料
を液体クロマトグラフィ法（内部標準法）で分析し，残
存率を算出した。結果を表３に示した。
【表６】
【００３３】試験例３ 安定性試験２ 被験試料を１W/V ％となるようにエタノールに溶解した
後，４０℃で１週間保存した。残存する被験試料を液体
クロマトグラフィ法（内部標準法）で分析し，残存率を
算出した。結果を表４に示した。
後，４０℃で１週間保存した。残存する被験試料を液体
クロマトグラフィ法（内部標準法）で分析し，残存率を
算出した。結果を表４に示した。
【表７】 表３及び４から明らかなように，本発明化合物は比較化
合物と比べて安定性が改善された。
合物と比べて安定性が改善された。
【００３４】
【発明の効果】本発明は亜鉛塩をアミン錯体とすること
により，育毛活性を保持したまま安定性を増大させたも
ので，育毛剤として有用である。
により，育毛活性を保持したまま安定性を増大させたも
ので，育毛剤として有用である。
【化１３】
【化１３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 庭野 吉巳 大阪府大阪狭山市今熊７−330−１−408
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）； 【化１】 〔式中，ＭはCu,Mn,Co,Zn,Ni,Pt,Cd,Fe 等の重金属原子
を示し，Ｒ1 及びＲ2は同一又は異なって水素原子，置
換されていてもよい低級アルキル基，置換されていても
よい低級アルコキシ基又はアリール基を示し，Ｒ3 及び
Ｒ4 は，同一又は異なってもよく，アリール基，シアノ
基，ＣＯＲ5 （Ｒ5 は低級アルキル基，アリール基，ア
リールアルキル基，アリールアミノ基，アルキルアミノ
基，低級アルコキシ基，アリールアルコキシ基，ピペリ
ジノ基，ピロリジノ基を示すか又はＲ3 及びＲ4 がＣＯ
Ｒ5 の場合，Ｒ5 は互いに結合して低級アルキル基又は
アリール基で置換されていてもよい低級アルキレン基を
示してもよい）又はＳＯ2 Ｒ6 （Ｒ6 はアリール基を示
す）を示し，Ａは 【化２】 (Ｒ7 は水素原子，低級アルキル基，低級アルコキシ基
又は 【化３】 （Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基またはＲ8 とＲ9 は互い
に結合してそれらが結合している窒素原子とともにアジ
リジニル基，アゼチジニル基，ピロリジニル基，ピペリ
ジニル基，ヘキサヒドロアゼビニル基，ヘプタメチレン
イミン基，オクタメチレンイミン基，モルホリノ基，４
ーアルキルピペラジニル基を表し，これらはアルキル
基，ヒドロキシ基，アルコキシ基から選ばれる１〜３個
の置換基で置換されていてもよい）), 【化４】 （Ｒ10及びＲ11は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基又はシクロアルキル基を
示す）を示し，Ｙは窒素原子又は炭素原子を表し，Ｂは
単結合又は 【化５】 （Ｒ12は置換されていてもよい低級アルキル基，アリー
ル基，アリールアルキル基を示す）を示し，ｌ及びｍは
０，１乃至２の整数を示す〕で表される新規亜鉛化合
物。 - 【請求項２】 一般式（II）； 【化６】 〔式中，ＭはCu,Mn,Co,Zn,Ni,Pt,Cd,Fe 等の重金属原子
を示し，Ｒ3 及びＲ4は，同一又は異なってもよく，ア
リール基，シアノ基，ＣＯＲ5 （Ｒ5 は低級アルキル
基，アリール基，アリールアルキル基，アリールアミノ
基，アルキルアミノ基，低級アルコキシ基，アリールア
ルコキシ基，ピペリジノ基，ピロリジノ基を示すか又は
Ｒ3 及びＲ4 がＣＯＲ5 の場合，Ｒ5 は互いに結合して
低級アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい
低級アルキレン基を示してもよい）又はＳＯ2 Ｒ6 （Ｒ
6 はアリール基を示す）を示す〕で表される化合物と一
般式(III) ； 【化７】 〔式中，Ｒ1 及びＲ2 は同一又は異なって水素原子，置
換されていてもよい低級アルキル基，置換されていても
よい低級アルコキシ基又はアリール基を示し，Ａは 【化８】 (Ｒ7 は水素原子，低級アルキル基，低級アルコキシ基
又は 【化９】 （Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基またはＲ8 とＲ9 は互い
に結合してそれらが結合している窒素原子とともにアジ
リジニル基，アゼチジニル基，ピロリジニル基，ピペリ
ジニル基，ヘキサヒドロアゼビニル基，ヘプタメチレン
イミン基，オクタメチレンイミン基，モルホリノ基，４
ーアルキルピペラジニル基を表し，これらはアルキル
基，ヒドロキシ基，アルコキシ基から選ばれる１〜３個
の置換基で置換されていてもよい）), 【化１０】 （Ｒ10及びＲ11は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基又はシクロアルキル基を
示す）を示し，Ｙは窒素原子又は炭素原子を表し，Ｂは
単結合又は 【化１１】（Ｒ12は置換されていてもよい低級アルキル
基，アリール基，アリールアルキル基を示す）を示し，
ｌ及びｍは０，１乃至２の整数を示す〕で表される化合
物を反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）； 【化１２】 （式中，Ｍ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ａ，Ｂ，ｌ及び
ｍは前記に同じ）で表される化合物の製造方法。 - 【請求項３】 一般式(III) ； 【化１３】〔式中，Ｒ1 及びＲ2 は同一又は異なって水
素原子，置換されていてもよい低級アルキル基，置換さ
れていてもよい低級アルコキシ基又はアリール基を示
し，Ａは 【化１４】 (Ｒ7 は水素原子，低級アルキル基，低級アルコキシ基
又は 【化１５】 （Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基またはＲ8 とＲ9 は互い
に結合してそれらが結合している窒素原子とともにアジ
リジニル基，アゼチジニル基，ピロリジニル基，ピペリ
ジニル基，ヘキサヒドロアゼビニル基，ヘプタメチレン
イミン基，オクタメチレンイミン基，モルホリノ基，４
ーアルキルピペラジニル基を表し，これらはアルキル
基，ヒドロキシ基，アルコキシ基から選ばれる１〜３個
の置換基で置換されていてもよい）), 【化１６】 （Ｒ10及びＲ11は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基又はシクロアルキル基を
示す）を示し，Ｙは窒素原子又は炭素原子を表し，Ｂは
単結合又は 【化１７】 （Ｒ12は置換されていてもよい低級アルキル基，アリー
ル基，アリールアルキル基を示す）を示し，ｌ及びｍは
０，１乃至２の整数を示す）で表される化合物と一般式
（IV）； ＭＸn （IV） 〔式中，ＭはCu,Mn,Co,Zn,Ni,Pt,Cd,Fe 等の重金属原子
を示し，Ｘはハロゲン原子，ＳＯ4 2- ，ＳＯ3 2- ，ＮＯ
3 ,Ｒ8 ＣＯＯ (Ｒ8 は低級アルキル基を示す）を示
し，ｎは１乃至２の整数を示す〕で表される化合物を反
応させ一般式（Ｖ）； 【化１８】 （式中，Ｍ，Ｒ1 , Ｒ2 ，Ａ，Ｂ，Ｘ，ｌ及びｍは前記
に同じ）で表される化合物を製造し，次いでこれを単離
するかしないで一般式（VI）； 【化１９】 〔式中，Ｒ3 及びＲ4 は，同一又は異なってもよく，ア
リール基，シアノ基，ＣＯＲ5 （Ｒ5 は低級アルキル
基，アリール基，アリールアルキル基，アリールアミノ
基，アルキルアミノ基，低級アルコキシ基，アリールア
ルコキシ基，ピペリジノ基，ピロリジノ基を示すか又は
Ｒ3 及びＲ4 がＣＯＲ5 の場合，Ｒ5 は互いに結合して
低級アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい
低級アルキレン基を示してもよい）又はＳＯ2 Ｒ6 （Ｒ
6 はアリール基を示す）を示し，Ｚ+ は一価の金属イオ
ン又はプロトン化したアミノ基を示す〕で表される化合
物を反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）； 【化２０】 （式中，Ｍ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ａ，Ｂ，ｌ及び
ｍは前記に同じ）で表される化合物の製造方法。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）； 【化２１】 〔式中，ＭはCu,Mn,Co,Zn,Ni,Pt,Cd,Fe 等の重金属原子
を示し，Ｒ1 及びＲ2は同一又は異なって水素原子，置
換されていてもよい低級アルキル基，置換されていても
よい低級アルコキシ基又はアリール基を示し，Ｒ3 及び
Ｒ4 は，同一又は異なってもよく，アリール基，シアノ
基，ＣＯＲ5 （Ｒ5 は低級アルキル基，アリール基，ア
リールアルキル基，アリールアミノ基，アルキルアミノ
基，低級アルコキシ基，アリールアルコキシ基，ピペリ
ジノ基，ピロリジノ基を示すか又はＲ3 及びＲ4 がＣＯ
Ｒ5 の場合，Ｒ5 は互いに結合して低級アルキル基又は
アリール基で置換されていてもよい低級アルキレン基を
示してもよい）又はＳＯ2Ｒ6 （Ｒ6 はアリール基を示
す）を示し，Ａは 【化２２】 (Ｒ7 は水素原子，低級アルキル基，低級アルコキシ基
又は 【化２３】 （Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基またはＲ8 とＲ9 は互い
に結合してそれらが結合している窒素原子とともにアジ
リジニル基，アゼチジニル基，ピロリジニル基，ピペリ
ジニル基，ヘキサヒドロアゼビニル基，ヘプタメチレン
イミン基，オクタメチレンイミン基，モルホリノ基，４
ーアルキルピペラジニル基を表し，これらはアルキル
基，ヒドロキシ基，アルコキシ基から選ばれる１〜３個
の置換基で置換されていてもよい) ), 【化２４】 （Ｒ10及びＲ11は同一又は異なって水素原子，アルキル
基，アルケニル基，アリール基又はシクロアルキル基を
示す）を示し，Ｙは窒素原子又は炭素原子を表し，Ｂは
単結合又は 【化２５】 （Ｒ12は置換されていてもよい低級アルキル基，アリー
ル基，アリールアルキル基を示す）を示し，ｌ及びｍは
０，１乃至２の整数を示す〕で表される化合物を有効成
分として含有することを特徴とする育毛剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35020593A JPH07196666A (ja) | 1993-12-31 | 1993-12-31 | 新規亜鉛化合物及びその製法並びに育毛剤としての用途 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35020593A JPH07196666A (ja) | 1993-12-31 | 1993-12-31 | 新規亜鉛化合物及びその製法並びに育毛剤としての用途 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07196666A true JPH07196666A (ja) | 1995-08-01 |
Family
ID=18408933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35020593A Pending JPH07196666A (ja) | 1993-12-31 | 1993-12-31 | 新規亜鉛化合物及びその製法並びに育毛剤としての用途 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07196666A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011032189A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Ube Industries Ltd | アミノアザボラシクロペンテン化合物の製造方法 |
-
1993
- 1993-12-31 JP JP35020593A patent/JPH07196666A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011032189A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Ube Industries Ltd | アミノアザボラシクロペンテン化合物の製造方法 |
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