JPH07195041A - 洗浄乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 床面積を小さくし、有毒気体の大気への放出
を防止する。 【構造】 下側に洗浄槽を設置し、その鉛直方向の上側
に乾燥槽を設け、洗浄籠を載置した洗浄籠搭載枠を洗浄
槽及び乾燥槽内を昇降させる上下動シリンダーを設け、
更に洗浄槽及び乾燥槽の夫々上部を仕切扉で塞ぎ、両槽
間の仕切りを行う洗浄槽を減圧ポンプに接続し、減圧し
て洗浄液で洗浄し、洗浄槽に超音波振動子を固定し、乾
燥槽を減圧ポンプに接続して減圧し、槽内に赤外線ヒー
タを設け、洗浄籠搭載枠に洗浄籠の下面を支持する移動
爪を開閉できるように４個所に設け、下段の洗浄槽に籠
支持具を４個所から槽内に突設し、上段の乾燥槽には４
個所の籠支持具を突出及び後退させるように移動自在に
設け、更に、洗浄槽と乾燥槽の上部に仕切扉と接する収
縮及び膨張できるチューブパッキングを設けた洗浄乾燥
装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は機械加工部品、電子部
品、光学部品等の洗浄に極めて好適な洗浄乾燥装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】此種装置は図１０に示すように、洗浄剤
Ａを満たした洗浄槽Ｂ中に被洗浄物（図示省略）を収納
した洗浄籠Ｃを浸漬せしめ、これに噴流や超音波振動子
Ｄを常圧下において印加して被洗浄物の洗浄を１回若し
くは数回繰返し、同様な操作を行って洗浄を行った後、
別に設置されている図１１に示す乾燥槽Ｅ内にヒータＦ
を設け、洗浄籠Ｃを挿入した後に蓋Ｇをして減圧ポンプ
Ｈで乾燥槽Ｆ内を減圧し、ヒータＦによって発生した熱
風により乾燥する手段が広く採用されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前記従来の装置にあっ
ては、洗浄を常圧下（開放）において行うため、洗浄剤
を多量に含んだ気体Ｉが大気へ放出され、環境汚染を起
したり、取扱い作業者の健康を害する危険を有している
等の問題があった。又、洗浄槽と乾燥槽を平面的に設置
しているため設置スペースも大であった。そこで、本発
明においては、洗浄部と乾燥部とを上下に設け、その間
に仕切扉を設けることにより、スペースを小さくし、且
つ大気中への洗浄剤の放出を防止することができる装置
を提供しようとするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、下側に洗浄槽を設置し、その鉛直方向の上
側に乾燥槽を設け、洗浄籠を載置した洗浄籠搭載枠を洗
浄槽及び乾燥槽内を昇降させる上下動シリンダーを設
け、更に洗浄槽及び乾燥槽の夫々上部を仕切扉で塞ぎ、
両槽間の仕切りを行う洗浄乾燥装置を構成する。

【０００５】又、洗浄槽を減圧ポンプに接続し、減圧し
て洗浄液で洗浄し、洗浄槽に超音波振動子を固定した洗
浄乾燥装置を構成する。

【０００６】又、乾燥槽を減圧ポンプに接続して減圧
し、槽内に赤外線ヒータを設け、洗浄籠搭載枠に洗浄籠
の下面を支持する移動爪を開閉できるように４個所に設
け、下段の洗浄槽に籠支持具を４個所から槽内に突設
し、上段の乾燥槽には４個所の籠支持具を突出及び後退
させるように移動自在に設けた洗浄乾燥装置。

【０００７】更に、洗浄槽と乾燥槽の上部に仕切扉と接
する収縮及び膨張できるチューブパッキングを設けた洗
浄乾燥装置を構成する。

【０００８】

【作用】本発明は前記のように構成したもので、乾燥槽
内の籠支持具は後退させた位置にあり、被洗浄物を収容
した洗浄籠を移動爪を閉じた状態にして洗浄籠搭載枠で
支持し、両仕切扉を開いた状態にして上下動シリンダー
を駆動して洗浄槽内の籠支持具上に籠支持具を搭載して
爪支持具を開き、洗浄籠支持具を乾燥槽の上部の所定位
置に上昇させる。

【０００９】次に、洗浄液にて洗浄或は超音波振動子を
駆動して超音波洗浄を行う。又は仕切扉を閉じチューブ
パッキングに空気を送って膨張させて気密を保持した後
に、減圧ポンプにより洗浄槽内を減圧して超音波洗浄を
行う。

【００１０】次にチューブパッキングを収縮させ仕切扉
を開き、大気圧にした後に、洗浄籠搭載枠を所定位置ま
で下降させ、移動爪を閉じた状態にして洗浄籠搭載枠を
上昇させ、洗浄籠を共に上昇させて乾燥槽内の定位置で
停止し、各籠支持具を突出させて洗浄籠の下面を支持
し、移動爪を開いた状態にした後に洗浄籠搭載枠を上昇
させて洗浄籠を籠支持具上に残し、洗浄籠搭載枠を乾燥
槽上部の所定位置に停止させる。その後、両仕切扉を閉
じ両チューブパッキングを膨張させて乾燥槽を気密状態
にして減圧ポンプで減圧し、赤外線ヒータの加熱で乾燥
する。

【００１１】乾燥後には乾燥槽を大気圧にし、チューブ
パッキングを収縮し、両仕切扉を開き、洗浄籠搭載枠を
下降させて乾燥槽の所定位置で停止させ、移動爪を閉じ
た状態にした後、洗浄籠搭載枠を上昇させ洗浄籠を共に
上昇させ、乾燥槽の上部所定位置で停止させ、洗浄籠を
取り除き、新しい洗浄籠を移動爪の上に載置する。一
方、各籠支持具は後退させて洗浄籠搭載枠が通過できる
ようにする。

【００１２】

【実施例】本発明の実施例を図１乃至図１０に基いて詳
細に説明する。図１に示すように基枠１の下段に洗浄槽
２を設け、上段に上下を開放した乾燥槽３を直列に設置
する。洗浄槽２は底板４に超音波振動子５を固定し、上
部にオーバフロー受６を設け、オーバフロー受６の上側
に減圧用配管７を取付けている。そして、上端周面に扉
用溝８を設け、仕切扉９をスライドさせて洗浄槽２の上
端を密閉すると同時に、乾燥槽３の底蓋の役目を果たす
ようになっている。尚、仕切扉９は洗浄槽２の外壁に固
定したシャフトレスシリンダー１０によって摺動できる
ようになっている。

【００１３】又、乾燥槽３内に赤外線ヒータ１１を設
け、一方の下段に減圧用配管１２を設け、上端周面に扉
用溝１３を設け、仕切扉１４を外壁に固定したシャフト
レスシリンダー１５により扉用溝１３内を摺動させて、
乾燥槽３の蓋をしたり、開放したりするようになってい
る。

【００１４】尚、両扉用溝８、１３の下面にチューブパ
ッキング１６、１７（図７参照）を設け、このチューブ
パッキング１６、１７に気体を注入することによりチュ
ーブパッキング１６、１７を膨張させて仕切扉９、１４
の下面と接触させて気密を保持することができるように
なっている。

【００１５】一方、乾燥槽３及び洗浄槽２内に被洗浄物
を収納した洗浄籠１８を昇降させるエレベータ１９を設
けている。このエレベータ１９は、天板２０の槽側に２
本の保持棒２１，２１´を設け、両保持棒２１，２１´
の下端に方形をした洗浄籠搭載枠２２を設けている。そ
して、天板２０の中央下面に基枠１の底に固定した上下
動シリンダ２３のロッド２４を取付け、天板２０の両側
下面にガイドシャフト２５，２５´を取付け、乾燥槽３
の側壁の両側に固定したスライド軸受２６，２６´で支
持され、上下動シリンダ２３の駆動でガイドシャフト２
５，２５´の案内によりエレベータ１９を上下動させる
ようになっている。

【００１６】前記、洗浄籠搭載枠２２の下面４方に、図
５に示す鍵形の爪支持材２７，２７，…を突設し、爪支
持材２７，２７，…の基部にピンで夫々Ｔ字形をした移
動爪２９を回動自在に枢着し、移動爪２９に設けたピン
３０と爪支持材２７に設けたピン３１との間にスプリン
グ３２を張設して各移動爪２９，…を洗浄籠搭載枠２２
の内側に常時位置させて洗浄籠１９の下面を保持するよ
うになっている。又、洗浄籠搭載枠２２には４方の両側
に夫々ストッパー３３、３４（図６参照）を突設して死
点を越えてスプリング３２で引張られている移動爪２
９，…の夫々の移動範囲を規制している。

【００１７】又、洗浄槽２の図３において両側（仕切扉
１４の摺動方向と直交する方向）に夫々２個のスライド
軸受３５，３６，…を設け、上部に夫々籠支持具３６，
３６，…を突設して洗浄籠１８の下面を支持する。各ス
ライド軸受３５，…の夫々下部にはシリンダー取付具３
７，３７，…を取付け、各シリンダー取付具３７，…の
外側に爪用シリンダー３８，３８，…を固定し、そのロ
ッドの先端にコの字型をした爪操作具３９，３９，…を
固定して、夫々移動爪２７，…の下端を嵌入し、爪操作
具３９，…の出し入れにより移動爪２７，…を洗浄籠１
８の下面から槽壁側に移動させるようになっている。

【００１８】又、乾燥槽３の図３において両側に夫々２
個のスライド軸受４０，４０，…を設け、これにシリン
ダー取付具４１，４１，…を固定している。この各シリ
ンダー取付具４１，４１，…の上部外側に支持用シリン
ダー４２，４２，…を固定し、そのロッドにスライド軸
受４０を貫通する籠支持具４３，４３，…を固定して洗
浄籠１８の下面を支持できるようにしている。

【００１９】各シリンダー取付具４１，４１，…の下部
外側には爪用シリンダ４４，４４，…を固定し、そのロ
ッド４５，４５，…の先端をスライド軸受４０，…を貫
通してコの字形をした爪操作具４６，４６，…を固定し
ている。そして、両方の両ロッド４５、４５には夫々図
６に示すように間隔をおいて挾持金具４７、４８を固定
し、両側の挾持金具４７，４８，４７，４８間には取付
板４９を摺動自在に取付け、この取付板４９に回転用モ
ータ５０を取付、この回転用モータ５０にプーリ５１を
取付け、前記両ロッド４５、４５に固定したプーリ５
２、５２との間にベルト５３を掛けて両ロッド４５、４
５を同時に回転できるようになっている。

【００２０】尚、図７に示すように洗浄槽２内の洗浄液
面５４からオーバフローした洗浄液はオーバフロー受６
から電磁弁５５を有する循環液管５６を介して洗浄液タ
ンク５７に送られ、濾過機５８に濾過され、電磁弁５９
を有する導管６０で再び洗浄槽２に送られるようになっ
ている。又、洗浄槽２の底に設けたドレン管６１も洗浄
液タンク５７に接続している。

【００２１】又、図９に示すようにチューブバルブ１
６、１７は夫々コンプレッサー６２に連通した電磁弁６
３、６４を有する配管６５、６６により圧縮空気が供給
されて膨張して夫々仕切扉９、１４と密着させて洗浄槽
２と乾燥槽３を密閉するようになっている。又、配管６
５、６６に設けたリークバルブ６７、６８でチューブバ
ルブ１６、１７内の空気を抜くようになっている。

【００２２】又、図８に示すように、洗浄槽２及び乾燥
槽３に設けた減圧用配管７、１２は夫々途中にリークバ
ルブ６９、７０と減圧用電磁弁７１、７２を有し、合流
管７３で合流し、減圧ポンプ７４を介して熱交換器７５
に送られ、湿った気体７６は冷却水７７によって冷却さ
れ、回収トラップ７８内で液体７９と気体８０とに分離
し、活性炭を封入した吸着筒８１で有害気体を吸着して
大気８２に放出され、液体７９はドレン８３で回収され
る。

【００２３】本実施例は前記のように構成したもので、
図１に鎖線で示すように乾燥槽３の上部に停止している
エレベータ１９の洗浄籠搭載枠２２に設けた４個の移動
爪２９，…で洗浄籠１８の下面を支持する。そして、仕
切扉９、１４は夫々開放状態になっている。

【００２４】図示を省略した制御盤に設けた押釦スイッ
チを押すと、上下動シリンダー２３が動作してガイドシ
ャフト２５，２５´の案内でエレベータ１９が垂直に下
降し、洗浄籠１８が洗浄槽２内の４個の籠支持具３６，
３６，…上に載る。この際、洗浄籠１８を支持していた
各移動爪２９，２９，…はストッパー３３に係止してお
り、下端を各爪操作具３９，…内（図４参照）に嵌入さ
れた状態になっている。

【００２５】エレベータ１９を上昇させる際に、各爪用
シリンダー３８，３８，…を入側に移動させると、図３
及び図４に鎖線で示すように移動爪２９，２９，…が槽
壁側に移動してストッパー３４で停止し、洗浄籠１８の
下面から離れる。

【００２６】前記の状態で上下動シリンダー２３を入側
に作動させると、エレベータ１９は上昇し、洗浄籠１８
を籠支持具３６，３６，…上に載置したまま、洗浄籠搭
載枠２２が上昇する。この洗浄搭載枠２２の上昇に伴っ
て各移動爪２９，２９，…が爪操作具３９，３９，…か
ら外れるが死点を通過してスプリング３２の引張力で図
４に鎖線で示す槽壁側の位置を保持する。そして、エレ
ベータ１９は洗浄籠搭載枠２２が乾燥槽３の上部に移動
して停止する。

【００２７】次に、洗浄槽２の上部と乾燥槽３の下部と
の間の仕切扉９をシャフトレスシリンダー１０の駆動に
より、扉用溝８内を移動させて洗浄槽２を塞ぐ。この
時、洗浄槽２内の洗浄液を循環させる循環液管５６及び
導管６０（図７参照）の電磁弁５５、５９は夫々閉にし
て洗浄液の循環を停止する。

【００２８】更に、コンプレッサー６２を（図９参照）
を駆動し、電磁弁６３を開いてチューブパッキング１６
に圧縮空気を送ってチューブパッキング１６を膨張させ
て仕切扉９に密着させて洗浄槽２内を気密にする。この
時、洗浄槽２に設けた減圧用配管７の減圧用電磁弁７１
を開き、減圧ポンプ７４を駆動して洗浄槽２内を減圧す
る。

【００２９】又、超音波振動子５を超音波発信器（図示
省略）の駆動で作用せしめ、減圧中に超音波が照射さ
れ、常圧中では不可能とされている洗浄が行われる。特
に毛細管状に存在した気体を除き、且つ超音波による物
理的、化学的洗浄を可能とし、熱交換器７５による冷却
にて回収トラップ７８により気体と液体とに分離し、吸
着筒８１内の活性炭に洗浄液中の揮発性ガスや有毒性ガ
スを吸着して大気での放出を極力防ぐようになってい
る。

【００３０】規定時間の洗浄が終ると、洗浄槽２の減圧
用配管７の途中に設けているリークバルブ６９を開く
と、洗浄槽２内が大気に戻ると、循環液管５６及び導管
６０の電磁弁５５、５９が開となり、濾過機５８で濾過
された清浄な洗浄液が循環する。

【００３１】次に、配管６５のリークバルブ６７を開い
てチューブバルブ１６内の空気を抜いてチューブバルブ
１６を収縮させる。収縮が終ると、シャフトレスシリン
ダー１０が作動して仕切扉９を図１に実線で示す元位置
へ戻し、洗浄槽２の上部を開放する。洗浄槽２が開放さ
れると、上下動シリンダー２３の駆動によりエレベータ
１９が垂直に下降し、洗浄籠搭載枠２２を洗浄槽２内の
定位置で停止する。この時、各移動爪２９，２９，…は
槽壁側に位置している各爪操作具３９，３９，…内に入
る。

【００３２】次に、各爪用シリンダー３８，３８，…を
出側に駆動して爪操作具３９，３９，…を図４の鎖線位
置から実線位置へ戻すと、各移動爪２９，２９，…はス
プリング３２の引張力で死点を越えてストッパー３３に
係止して定位置に固定される。

【００３３】次に、上下動シリンダー２３を駆動してエ
レベータ１９を上昇させると、各移動爪２９，２９，…
により洗浄籠１８の下面を支持して乾燥槽３内の定位置
に停止する。この時、各支持用シリンダー４２，４２，
…が駆動して各籠支持具４３，４３，…が鎖線で示す槽
壁位置から実線で示す内部へ突出させる。

【００３４】一方、各爪操作具４６，４６，…は図６に
８４で示す爪待避位置に９０度反転した状態になってい
る。そして、各爪用シリンダー４４，４４，…を駆動し
て移動爪２９，２９，…の下方まで突出させる。次に、
回転用モータ５０を駆動し、プーリ５１及びベルト５３
を介して両側のプーリ５２，５２を回転させることによ
り４５，４５を回転させ、爪操作具４６，４６，…のコ
字形の開放部分を上側に向け、各移動爪２９，２９，…
を包むように嵌合させる。

【００３５】各爪操作具４６，４６，…に移動爪２９，
２９，…を嵌合した後に各爪用シリンダー４４，４４，
…を入側に駆動させて各爪操作具４６，４６，…を移動
させ、各移動爪２９，２９，…を図６に鎖線で示す槽壁
側の位置へ移動させ、ストッパー３４に係止してスプリ
ング３２の引張力でその位置を保持する。これにより、
洗浄籠搭載枠２２から洗浄籠１９が切り離される。次
に、上下動シリンダー２３の駆動によりエレベータ１９
は上昇して洗浄籠搭載枠２２を乾燥槽３上部の定位置に
停止する。尚、洗浄籠１９は各籠支持具４３，４３，…
上に載った状態で乾燥槽３内に残っている。

【００３６】次に、洗浄槽２上部の仕切扉９及び乾燥槽
３上部の仕切扉１４が夫々シャフトレスシリンダー１
０、１５によって移動し、両槽が塞がれる。その後、乾
燥槽３内を減圧するために各槽の上部に取付けられてい
るチューブパッキング１６、１７に空気を送るために、
電磁弁６３、６４（図９参照）を開き、コンプレッサー
６２から圧縮空気をチューブパッキング１６、１７に送
って膨張させ、仕切扉９、１４と密着させ、乾燥槽３内
を気密にする。

【００３７】この状態で、乾燥槽３の減圧用配管１２の
途中にある減圧用電磁弁７２を開き、乾燥槽３内を減圧
し、且つ赤外線ヒータ１１によって洗浄籠１９が加熱さ
れ、洗浄籠１９内の被洗浄物に存在する毛細管状の洗浄
液等は減圧による低沸点により蒸発が促進され、短時間
で乾燥が行われる。

【００３８】規定時間の減圧乾燥が終ると、乾燥槽３内
を常圧に戻すために減圧用配管１２の途中にあるリーク
バルブ７０を開き、常圧に戻す。次に、両リークバルブ
６７、６８を開いて両チューブバルブ１６、１７内の空
気を排出させる。その後、両仕切扉９、１４を両シャフ
トレスシリンダー１０、１５の駆動で開き、両槽２、３
の上部を開放する。

【００３９】次に、乾燥槽３の上部に停止している洗浄
籠搭載枠２２を上下動シリンダー２３で乾燥槽３内の定
位置まで下降させて停止する。この時、各移動爪２９，
２９，…は各爪操作具３９，３９，…中に入る。この各
移動爪２９，２９，…を各爪用シリンダー４４，４４，
…の駆動により槽の内側（図６において実線位置）に移
動し、ストッパー３３に係止させてスプリング３２の引
張力でその位置を保持する。

【００４０】次に、各支持用シリンダー４２，４２，…
を駆動して各籠支持具４３，４３，…を槽壁側に移動さ
せ、洗浄籠１９を洗浄籠搭載枠２２に載せる。次に、上
下動シリンダー２３の駆動で洗浄籠搭載枠２２を洗浄籠
１９と共に乾燥槽３の上部定位置まで上昇させて停止す
る。

【００４１】この時、乾燥槽３内の各爪操作４６，４
６，…は両側の回転用モータ５０，５０の駆動により９
０度回転して開放側に移動させ爪待避位置８４で停止
し、洗浄籠１９が上から下に通過する時に邪魔にならな
いように待機する。一方、乾燥槽３上の洗浄籠１９は洗
浄籠搭載枠２２から取外し、未洗浄の新しい洗浄籠１９
を洗浄籠搭載枠２２に載せる。

【００４２】尚、洗浄中及び減圧乾燥中に発生した有害
気体は湿った気体７６となり、図８に示すように、減圧
ポンプ７４により吸引され、熱交換器７５に送られ、冷
却水７７によって冷却され、気体８０と液体７９とに分
離され、気体８０は吸着筒８１内の活性炭で有害気体が
吸着され、他は大気８２に放出される。又、液体７９は
回収トラップ７８で保収するようになっている。尚、槽
は２個に限定するものではなく多段に設けてもよいもの
である。

【００４３】

【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るもので、上下垂直位置に槽を設置しているので、水平
移動を行う従来の床占有面積を１／２にすることができ
る。

【００４４】又、密閉状態の中で減圧して洗浄を行うの
で、常圧では不可能とされた洗浄を行うことができ、特
に毛細管状に存在した気体を除き、且つ超音波による物
理的、化学的洗浄が可能で、且つ洗浄液の揮発性ガスや
有毒性ガスを大気に放出しないで良好な環境で作業がで
きる。更に、乾燥槽においても減圧することにより乾燥
を促進させることができる。

【００４５】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る洗浄乾燥装置の正面縦断面図。

【図２】その平面図。

【図３】側面縦断面図。

【図４】洗浄槽内における爪操作具の部分を示す平面
図。

【図５】乾燥槽の正面縦断面の拡大図。

【図６】乾燥槽の爪操作具の部分を示す平面図。

【図７】洗浄液の流れを示す配管図。

【図８】減圧関係を示す配管図。

【図９】チューブパッキングの膨張、収縮を示す配管
図。

【図１０】従来の洗浄装置の断面図。

【図１１】従来の乾燥装置の断面図。

【符号の説明】

１ 基枠 ２ 洗浄槽 ３ 乾燥槽 ４ 底板 ５ 超音波振動子 ６ オーバフロー受 ７ 減圧用配管 ８ 扉用溝 ９ 仕切扉 １０ シャフトレスシリンダー １１ 赤外線ヒータ １２ 減圧用配管 １３ 扉用溝 １４ 仕切扉 １５ シャフトレスシリンダー １６ チューブパッキング １７ チューブパッキング １８ 洗浄籠 １９ エレベータ ２０ 天板 ２１ 保持棒 ２１´ 保持棒 ２２ 洗浄籠搭載枠 ２３ 上下動シリンダー ２４ ロッド ２５ ガイドシャフト ２５´ ガイドシャフト ２６ スライド軸受 ２６´ スライド軸受 ２７ 爪支持材 ２８ ピン ２９ 移動爪 ３０ ピン ３１ ピン ３２ スプリング ３３ ストッパー ３４ ストッパー ３５ スライド軸受 ３６ 籠支持具 ３７ シリンダー取付具 ３８ 爪用シリンダー ３９ 爪操作具 ４０ スライド軸受 ４１ シリンダー取付具 ４２ 支持用シリンダー ４３ 籠支持具 ４４ 爪用シリンダー ４５ ロッド ４６ 爪操作具 ４７ 挾持金具 ４８ 挾持金具 ４９ 取付板 ５０ 回転用モータ ５１ プーリ ５２ プーリ ５３ ベルト ５４ 洗浄液面 ５５ 電磁弁 ５６ 循環液管 ５７ 洗浄液タンク ５８ 濾過機 ５９ 電磁弁 ６０ 導管 ６１ ドレン管 ６２ コンプレッサー ６３ 電磁弁 ６４ 電磁弁 ６５ 配管 ６６ 配管 ６７ リークバルブ ６８ リークバルブ ６９ リークバルブ ７０ リークバルブ ７１ 減圧用電磁弁 ７２ 減圧用電磁弁 ７３ 合流管 ７４ 減圧ポンプ ７５ 熱交換器 ７６ 湿った気体 ７７ 冷却水 ７８ 回収トラップ ７９ 液体 ８０ 気体 ８１ 吸着筒 ８２ 大気 ８３ ドレン ８４ 爪待避位置

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下側に洗浄槽を設置し、その鉛直方向の
   上側に乾燥槽を設け、洗浄籠を載置した洗浄籠搭載枠を
   洗浄槽及び乾燥槽内を昇降させる上下動シリンダーを設
   け、更に洗浄槽及び乾燥槽の夫々上部を仕切扉で塞ぎ、
   両槽間の仕切りを行うことを特徴とする洗浄乾燥装置。
2. 【請求項２】 洗浄槽を減圧ポンプに接続し、減圧して
   洗浄液で洗浄することを特徴とする請求１記載の洗浄乾
   燥装置。
3. 【請求項３】 洗浄槽に超音波振動子を固定したことを
   特徴とする請求項１、２いずれかに記載の洗浄乾燥装
   置。
4. 【請求項４】 乾燥槽を減圧ポンプに接続して減圧し、
   槽内に赤外線ヒータを設けたことを特徴とする請求項１
   記載の洗浄乾燥装置。
5. 【請求項５】 洗浄籠搭載枠に洗浄籠の下面を支持する
   移動爪を開閉できるように４個所に設けたことを特徴と
   する請求項１記載の洗浄乾燥装置。
6. 【請求項６】 下段の洗浄槽に籠支持具を４個所から槽
   内に突設し、上段の乾燥槽には４個所の籠支持具を突出
   及び後退させるように移動自在に設けたことを特徴とす
   る請求項１、２、３、４、５のいずれかに記載された洗
   浄乾燥装置。
7. 【請求項７】 洗浄槽と乾燥槽の上部に仕切扉と接する
   収縮及び膨張できるチューブパッキングを設けたことを
   特徴とする請求項１記載の洗浄乾燥装置。