JPH07195041A - 洗浄乾燥装置 - Google Patents
洗浄乾燥装置Info
- Publication number
- JPH07195041A JPH07195041A JP1128494A JP1128494A JPH07195041A JP H07195041 A JPH07195041 A JP H07195041A JP 1128494 A JP1128494 A JP 1128494A JP 1128494 A JP1128494 A JP 1128494A JP H07195041 A JPH07195041 A JP H07195041A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- tank
- drying
- basket
- drying tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 床面積を小さくし、有毒気体の大気への放出
を防止する。 【構造】 下側に洗浄槽を設置し、その鉛直方向の上側
に乾燥槽を設け、洗浄籠を載置した洗浄籠搭載枠を洗浄
槽及び乾燥槽内を昇降させる上下動シリンダーを設け、
更に洗浄槽及び乾燥槽の夫々上部を仕切扉で塞ぎ、両槽
間の仕切りを行う洗浄槽を減圧ポンプに接続し、減圧し
て洗浄液で洗浄し、洗浄槽に超音波振動子を固定し、乾
燥槽を減圧ポンプに接続して減圧し、槽内に赤外線ヒー
タを設け、洗浄籠搭載枠に洗浄籠の下面を支持する移動
爪を開閉できるように4個所に設け、下段の洗浄槽に籠
支持具を4個所から槽内に突設し、上段の乾燥槽には4
個所の籠支持具を突出及び後退させるように移動自在に
設け、更に、洗浄槽と乾燥槽の上部に仕切扉と接する収
縮及び膨張できるチューブパッキングを設けた洗浄乾燥
装置。
を防止する。 【構造】 下側に洗浄槽を設置し、その鉛直方向の上側
に乾燥槽を設け、洗浄籠を載置した洗浄籠搭載枠を洗浄
槽及び乾燥槽内を昇降させる上下動シリンダーを設け、
更に洗浄槽及び乾燥槽の夫々上部を仕切扉で塞ぎ、両槽
間の仕切りを行う洗浄槽を減圧ポンプに接続し、減圧し
て洗浄液で洗浄し、洗浄槽に超音波振動子を固定し、乾
燥槽を減圧ポンプに接続して減圧し、槽内に赤外線ヒー
タを設け、洗浄籠搭載枠に洗浄籠の下面を支持する移動
爪を開閉できるように4個所に設け、下段の洗浄槽に籠
支持具を4個所から槽内に突設し、上段の乾燥槽には4
個所の籠支持具を突出及び後退させるように移動自在に
設け、更に、洗浄槽と乾燥槽の上部に仕切扉と接する収
縮及び膨張できるチューブパッキングを設けた洗浄乾燥
装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は機械加工部品、電子部
品、光学部品等の洗浄に極めて好適な洗浄乾燥装置に関
するものである。
品、光学部品等の洗浄に極めて好適な洗浄乾燥装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】此種装置は図10に示すように、洗浄剤
Aを満たした洗浄槽B中に被洗浄物(図示省略)を収納
した洗浄籠Cを浸漬せしめ、これに噴流や超音波振動子
Dを常圧下において印加して被洗浄物の洗浄を1回若し
くは数回繰返し、同様な操作を行って洗浄を行った後、
別に設置されている図11に示す乾燥槽E内にヒータF
を設け、洗浄籠Cを挿入した後に蓋Gをして減圧ポンプ
Hで乾燥槽F内を減圧し、ヒータFによって発生した熱
風により乾燥する手段が広く採用されている。
Aを満たした洗浄槽B中に被洗浄物(図示省略)を収納
した洗浄籠Cを浸漬せしめ、これに噴流や超音波振動子
Dを常圧下において印加して被洗浄物の洗浄を1回若し
くは数回繰返し、同様な操作を行って洗浄を行った後、
別に設置されている図11に示す乾燥槽E内にヒータF
を設け、洗浄籠Cを挿入した後に蓋Gをして減圧ポンプ
Hで乾燥槽F内を減圧し、ヒータFによって発生した熱
風により乾燥する手段が広く採用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の装置にあっ
ては、洗浄を常圧下(開放)において行うため、洗浄剤
を多量に含んだ気体Iが大気へ放出され、環境汚染を起
したり、取扱い作業者の健康を害する危険を有している
等の問題があった。又、洗浄槽と乾燥槽を平面的に設置
しているため設置スペースも大であった。そこで、本発
明においては、洗浄部と乾燥部とを上下に設け、その間
に仕切扉を設けることにより、スペースを小さくし、且
つ大気中への洗浄剤の放出を防止することができる装置
を提供しようとするものである。
ては、洗浄を常圧下(開放)において行うため、洗浄剤
を多量に含んだ気体Iが大気へ放出され、環境汚染を起
したり、取扱い作業者の健康を害する危険を有している
等の問題があった。又、洗浄槽と乾燥槽を平面的に設置
しているため設置スペースも大であった。そこで、本発
明においては、洗浄部と乾燥部とを上下に設け、その間
に仕切扉を設けることにより、スペースを小さくし、且
つ大気中への洗浄剤の放出を防止することができる装置
を提供しようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、下側に洗浄槽を設置し、その鉛直方向の上
側に乾燥槽を設け、洗浄籠を載置した洗浄籠搭載枠を洗
浄槽及び乾燥槽内を昇降させる上下動シリンダーを設
け、更に洗浄槽及び乾燥槽の夫々上部を仕切扉で塞ぎ、
両槽間の仕切りを行う洗浄乾燥装置を構成する。
するために、下側に洗浄槽を設置し、その鉛直方向の上
側に乾燥槽を設け、洗浄籠を載置した洗浄籠搭載枠を洗
浄槽及び乾燥槽内を昇降させる上下動シリンダーを設
け、更に洗浄槽及び乾燥槽の夫々上部を仕切扉で塞ぎ、
両槽間の仕切りを行う洗浄乾燥装置を構成する。
【0005】又、洗浄槽を減圧ポンプに接続し、減圧し
て洗浄液で洗浄し、洗浄槽に超音波振動子を固定した洗
浄乾燥装置を構成する。
て洗浄液で洗浄し、洗浄槽に超音波振動子を固定した洗
浄乾燥装置を構成する。
【0006】又、乾燥槽を減圧ポンプに接続して減圧
し、槽内に赤外線ヒータを設け、洗浄籠搭載枠に洗浄籠
の下面を支持する移動爪を開閉できるように4個所に設
け、下段の洗浄槽に籠支持具を4個所から槽内に突設
し、上段の乾燥槽には4個所の籠支持具を突出及び後退
させるように移動自在に設けた洗浄乾燥装置。
し、槽内に赤外線ヒータを設け、洗浄籠搭載枠に洗浄籠
の下面を支持する移動爪を開閉できるように4個所に設
け、下段の洗浄槽に籠支持具を4個所から槽内に突設
し、上段の乾燥槽には4個所の籠支持具を突出及び後退
させるように移動自在に設けた洗浄乾燥装置。
【0007】更に、洗浄槽と乾燥槽の上部に仕切扉と接
する収縮及び膨張できるチューブパッキングを設けた洗
浄乾燥装置を構成する。
する収縮及び膨張できるチューブパッキングを設けた洗
浄乾燥装置を構成する。
【0008】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、乾燥槽
内の籠支持具は後退させた位置にあり、被洗浄物を収容
した洗浄籠を移動爪を閉じた状態にして洗浄籠搭載枠で
支持し、両仕切扉を開いた状態にして上下動シリンダー
を駆動して洗浄槽内の籠支持具上に籠支持具を搭載して
爪支持具を開き、洗浄籠支持具を乾燥槽の上部の所定位
置に上昇させる。
内の籠支持具は後退させた位置にあり、被洗浄物を収容
した洗浄籠を移動爪を閉じた状態にして洗浄籠搭載枠で
支持し、両仕切扉を開いた状態にして上下動シリンダー
を駆動して洗浄槽内の籠支持具上に籠支持具を搭載して
爪支持具を開き、洗浄籠支持具を乾燥槽の上部の所定位
置に上昇させる。
【0009】次に、洗浄液にて洗浄或は超音波振動子を
駆動して超音波洗浄を行う。又は仕切扉を閉じチューブ
パッキングに空気を送って膨張させて気密を保持した後
に、減圧ポンプにより洗浄槽内を減圧して超音波洗浄を
行う。
駆動して超音波洗浄を行う。又は仕切扉を閉じチューブ
パッキングに空気を送って膨張させて気密を保持した後
に、減圧ポンプにより洗浄槽内を減圧して超音波洗浄を
行う。
【0010】次にチューブパッキングを収縮させ仕切扉
を開き、大気圧にした後に、洗浄籠搭載枠を所定位置ま
で下降させ、移動爪を閉じた状態にして洗浄籠搭載枠を
上昇させ、洗浄籠を共に上昇させて乾燥槽内の定位置で
停止し、各籠支持具を突出させて洗浄籠の下面を支持
し、移動爪を開いた状態にした後に洗浄籠搭載枠を上昇
させて洗浄籠を籠支持具上に残し、洗浄籠搭載枠を乾燥
槽上部の所定位置に停止させる。その後、両仕切扉を閉
じ両チューブパッキングを膨張させて乾燥槽を気密状態
にして減圧ポンプで減圧し、赤外線ヒータの加熱で乾燥
する。
を開き、大気圧にした後に、洗浄籠搭載枠を所定位置ま
で下降させ、移動爪を閉じた状態にして洗浄籠搭載枠を
上昇させ、洗浄籠を共に上昇させて乾燥槽内の定位置で
停止し、各籠支持具を突出させて洗浄籠の下面を支持
し、移動爪を開いた状態にした後に洗浄籠搭載枠を上昇
させて洗浄籠を籠支持具上に残し、洗浄籠搭載枠を乾燥
槽上部の所定位置に停止させる。その後、両仕切扉を閉
じ両チューブパッキングを膨張させて乾燥槽を気密状態
にして減圧ポンプで減圧し、赤外線ヒータの加熱で乾燥
する。
【0011】乾燥後には乾燥槽を大気圧にし、チューブ
パッキングを収縮し、両仕切扉を開き、洗浄籠搭載枠を
下降させて乾燥槽の所定位置で停止させ、移動爪を閉じ
た状態にした後、洗浄籠搭載枠を上昇させ洗浄籠を共に
上昇させ、乾燥槽の上部所定位置で停止させ、洗浄籠を
取り除き、新しい洗浄籠を移動爪の上に載置する。一
方、各籠支持具は後退させて洗浄籠搭載枠が通過できる
ようにする。
パッキングを収縮し、両仕切扉を開き、洗浄籠搭載枠を
下降させて乾燥槽の所定位置で停止させ、移動爪を閉じ
た状態にした後、洗浄籠搭載枠を上昇させ洗浄籠を共に
上昇させ、乾燥槽の上部所定位置で停止させ、洗浄籠を
取り除き、新しい洗浄籠を移動爪の上に載置する。一
方、各籠支持具は後退させて洗浄籠搭載枠が通過できる
ようにする。
【0012】
【実施例】本発明の実施例を図1乃至図10に基いて詳
細に説明する。図1に示すように基枠1の下段に洗浄槽
2を設け、上段に上下を開放した乾燥槽3を直列に設置
する。洗浄槽2は底板4に超音波振動子5を固定し、上
部にオーバフロー受6を設け、オーバフロー受6の上側
に減圧用配管7を取付けている。そして、上端周面に扉
用溝8を設け、仕切扉9をスライドさせて洗浄槽2の上
端を密閉すると同時に、乾燥槽3の底蓋の役目を果たす
ようになっている。尚、仕切扉9は洗浄槽2の外壁に固
定したシャフトレスシリンダー10によって摺動できる
ようになっている。
細に説明する。図1に示すように基枠1の下段に洗浄槽
2を設け、上段に上下を開放した乾燥槽3を直列に設置
する。洗浄槽2は底板4に超音波振動子5を固定し、上
部にオーバフロー受6を設け、オーバフロー受6の上側
に減圧用配管7を取付けている。そして、上端周面に扉
用溝8を設け、仕切扉9をスライドさせて洗浄槽2の上
端を密閉すると同時に、乾燥槽3の底蓋の役目を果たす
ようになっている。尚、仕切扉9は洗浄槽2の外壁に固
定したシャフトレスシリンダー10によって摺動できる
ようになっている。
【0013】又、乾燥槽3内に赤外線ヒータ11を設
け、一方の下段に減圧用配管12を設け、上端周面に扉
用溝13を設け、仕切扉14を外壁に固定したシャフト
レスシリンダー15により扉用溝13内を摺動させて、
乾燥槽3の蓋をしたり、開放したりするようになってい
る。
け、一方の下段に減圧用配管12を設け、上端周面に扉
用溝13を設け、仕切扉14を外壁に固定したシャフト
レスシリンダー15により扉用溝13内を摺動させて、
乾燥槽3の蓋をしたり、開放したりするようになってい
る。
【0014】尚、両扉用溝8、13の下面にチューブパ
ッキング16、17(図7参照)を設け、このチューブ
パッキング16、17に気体を注入することによりチュ
ーブパッキング16、17を膨張させて仕切扉9、14
の下面と接触させて気密を保持することができるように
なっている。
ッキング16、17(図7参照)を設け、このチューブ
パッキング16、17に気体を注入することによりチュ
ーブパッキング16、17を膨張させて仕切扉9、14
の下面と接触させて気密を保持することができるように
なっている。
【0015】一方、乾燥槽3及び洗浄槽2内に被洗浄物
を収納した洗浄籠18を昇降させるエレベータ19を設
けている。このエレベータ19は、天板20の槽側に2
本の保持棒21,21´を設け、両保持棒21,21´
の下端に方形をした洗浄籠搭載枠22を設けている。そ
して、天板20の中央下面に基枠1の底に固定した上下
動シリンダ23のロッド24を取付け、天板20の両側
下面にガイドシャフト25,25´を取付け、乾燥槽3
の側壁の両側に固定したスライド軸受26,26´で支
持され、上下動シリンダ23の駆動でガイドシャフト2
5,25´の案内によりエレベータ19を上下動させる
ようになっている。
を収納した洗浄籠18を昇降させるエレベータ19を設
けている。このエレベータ19は、天板20の槽側に2
本の保持棒21,21´を設け、両保持棒21,21´
の下端に方形をした洗浄籠搭載枠22を設けている。そ
して、天板20の中央下面に基枠1の底に固定した上下
動シリンダ23のロッド24を取付け、天板20の両側
下面にガイドシャフト25,25´を取付け、乾燥槽3
の側壁の両側に固定したスライド軸受26,26´で支
持され、上下動シリンダ23の駆動でガイドシャフト2
5,25´の案内によりエレベータ19を上下動させる
ようになっている。
【0016】前記、洗浄籠搭載枠22の下面4方に、図
5に示す鍵形の爪支持材27,27,…を突設し、爪支
持材27,27,…の基部にピンで夫々T字形をした移
動爪29を回動自在に枢着し、移動爪29に設けたピン
30と爪支持材27に設けたピン31との間にスプリン
グ32を張設して各移動爪29,…を洗浄籠搭載枠22
の内側に常時位置させて洗浄籠19の下面を保持するよ
うになっている。又、洗浄籠搭載枠22には4方の両側
に夫々ストッパー33、34(図6参照)を突設して死
点を越えてスプリング32で引張られている移動爪2
9,…の夫々の移動範囲を規制している。
5に示す鍵形の爪支持材27,27,…を突設し、爪支
持材27,27,…の基部にピンで夫々T字形をした移
動爪29を回動自在に枢着し、移動爪29に設けたピン
30と爪支持材27に設けたピン31との間にスプリン
グ32を張設して各移動爪29,…を洗浄籠搭載枠22
の内側に常時位置させて洗浄籠19の下面を保持するよ
うになっている。又、洗浄籠搭載枠22には4方の両側
に夫々ストッパー33、34(図6参照)を突設して死
点を越えてスプリング32で引張られている移動爪2
9,…の夫々の移動範囲を規制している。
【0017】又、洗浄槽2の図3において両側(仕切扉
14の摺動方向と直交する方向)に夫々2個のスライド
軸受35,36,…を設け、上部に夫々籠支持具36,
36,…を突設して洗浄籠18の下面を支持する。各ス
ライド軸受35,…の夫々下部にはシリンダー取付具3
7,37,…を取付け、各シリンダー取付具37,…の
外側に爪用シリンダー38,38,…を固定し、そのロ
ッドの先端にコの字型をした爪操作具39,39,…を
固定して、夫々移動爪27,…の下端を嵌入し、爪操作
具39,…の出し入れにより移動爪27,…を洗浄籠1
8の下面から槽壁側に移動させるようになっている。
14の摺動方向と直交する方向)に夫々2個のスライド
軸受35,36,…を設け、上部に夫々籠支持具36,
36,…を突設して洗浄籠18の下面を支持する。各ス
ライド軸受35,…の夫々下部にはシリンダー取付具3
7,37,…を取付け、各シリンダー取付具37,…の
外側に爪用シリンダー38,38,…を固定し、そのロ
ッドの先端にコの字型をした爪操作具39,39,…を
固定して、夫々移動爪27,…の下端を嵌入し、爪操作
具39,…の出し入れにより移動爪27,…を洗浄籠1
8の下面から槽壁側に移動させるようになっている。
【0018】又、乾燥槽3の図3において両側に夫々2
個のスライド軸受40,40,…を設け、これにシリン
ダー取付具41,41,…を固定している。この各シリ
ンダー取付具41,41,…の上部外側に支持用シリン
ダー42,42,…を固定し、そのロッドにスライド軸
受40を貫通する籠支持具43,43,…を固定して洗
浄籠18の下面を支持できるようにしている。
個のスライド軸受40,40,…を設け、これにシリン
ダー取付具41,41,…を固定している。この各シリ
ンダー取付具41,41,…の上部外側に支持用シリン
ダー42,42,…を固定し、そのロッドにスライド軸
受40を貫通する籠支持具43,43,…を固定して洗
浄籠18の下面を支持できるようにしている。
【0019】各シリンダー取付具41,41,…の下部
外側には爪用シリンダ44,44,…を固定し、そのロ
ッド45,45,…の先端をスライド軸受40,…を貫
通してコの字形をした爪操作具46,46,…を固定し
ている。そして、両方の両ロッド45、45には夫々図
6に示すように間隔をおいて挾持金具47、48を固定
し、両側の挾持金具47,48,47,48間には取付
板49を摺動自在に取付け、この取付板49に回転用モ
ータ50を取付、この回転用モータ50にプーリ51を
取付け、前記両ロッド45、45に固定したプーリ5
2、52との間にベルト53を掛けて両ロッド45、4
5を同時に回転できるようになっている。
外側には爪用シリンダ44,44,…を固定し、そのロ
ッド45,45,…の先端をスライド軸受40,…を貫
通してコの字形をした爪操作具46,46,…を固定し
ている。そして、両方の両ロッド45、45には夫々図
6に示すように間隔をおいて挾持金具47、48を固定
し、両側の挾持金具47,48,47,48間には取付
板49を摺動自在に取付け、この取付板49に回転用モ
ータ50を取付、この回転用モータ50にプーリ51を
取付け、前記両ロッド45、45に固定したプーリ5
2、52との間にベルト53を掛けて両ロッド45、4
5を同時に回転できるようになっている。
【0020】尚、図7に示すように洗浄槽2内の洗浄液
面54からオーバフローした洗浄液はオーバフロー受6
から電磁弁55を有する循環液管56を介して洗浄液タ
ンク57に送られ、濾過機58に濾過され、電磁弁59
を有する導管60で再び洗浄槽2に送られるようになっ
ている。又、洗浄槽2の底に設けたドレン管61も洗浄
液タンク57に接続している。
面54からオーバフローした洗浄液はオーバフロー受6
から電磁弁55を有する循環液管56を介して洗浄液タ
ンク57に送られ、濾過機58に濾過され、電磁弁59
を有する導管60で再び洗浄槽2に送られるようになっ
ている。又、洗浄槽2の底に設けたドレン管61も洗浄
液タンク57に接続している。
【0021】又、図9に示すようにチューブバルブ1
6、17は夫々コンプレッサー62に連通した電磁弁6
3、64を有する配管65、66により圧縮空気が供給
されて膨張して夫々仕切扉9、14と密着させて洗浄槽
2と乾燥槽3を密閉するようになっている。又、配管6
5、66に設けたリークバルブ67、68でチューブバ
ルブ16、17内の空気を抜くようになっている。
6、17は夫々コンプレッサー62に連通した電磁弁6
3、64を有する配管65、66により圧縮空気が供給
されて膨張して夫々仕切扉9、14と密着させて洗浄槽
2と乾燥槽3を密閉するようになっている。又、配管6
5、66に設けたリークバルブ67、68でチューブバ
ルブ16、17内の空気を抜くようになっている。
【0022】又、図8に示すように、洗浄槽2及び乾燥
槽3に設けた減圧用配管7、12は夫々途中にリークバ
ルブ69、70と減圧用電磁弁71、72を有し、合流
管73で合流し、減圧ポンプ74を介して熱交換器75
に送られ、湿った気体76は冷却水77によって冷却さ
れ、回収トラップ78内で液体79と気体80とに分離
し、活性炭を封入した吸着筒81で有害気体を吸着して
大気82に放出され、液体79はドレン83で回収され
る。
槽3に設けた減圧用配管7、12は夫々途中にリークバ
ルブ69、70と減圧用電磁弁71、72を有し、合流
管73で合流し、減圧ポンプ74を介して熱交換器75
に送られ、湿った気体76は冷却水77によって冷却さ
れ、回収トラップ78内で液体79と気体80とに分離
し、活性炭を封入した吸着筒81で有害気体を吸着して
大気82に放出され、液体79はドレン83で回収され
る。
【0023】本実施例は前記のように構成したもので、
図1に鎖線で示すように乾燥槽3の上部に停止している
エレベータ19の洗浄籠搭載枠22に設けた4個の移動
爪29,…で洗浄籠18の下面を支持する。そして、仕
切扉9、14は夫々開放状態になっている。
図1に鎖線で示すように乾燥槽3の上部に停止している
エレベータ19の洗浄籠搭載枠22に設けた4個の移動
爪29,…で洗浄籠18の下面を支持する。そして、仕
切扉9、14は夫々開放状態になっている。
【0024】図示を省略した制御盤に設けた押釦スイッ
チを押すと、上下動シリンダー23が動作してガイドシ
ャフト25,25´の案内でエレベータ19が垂直に下
降し、洗浄籠18が洗浄槽2内の4個の籠支持具36,
36,…上に載る。この際、洗浄籠18を支持していた
各移動爪29,29,…はストッパー33に係止してお
り、下端を各爪操作具39,…内(図4参照)に嵌入さ
れた状態になっている。
チを押すと、上下動シリンダー23が動作してガイドシ
ャフト25,25´の案内でエレベータ19が垂直に下
降し、洗浄籠18が洗浄槽2内の4個の籠支持具36,
36,…上に載る。この際、洗浄籠18を支持していた
各移動爪29,29,…はストッパー33に係止してお
り、下端を各爪操作具39,…内(図4参照)に嵌入さ
れた状態になっている。
【0025】エレベータ19を上昇させる際に、各爪用
シリンダー38,38,…を入側に移動させると、図3
及び図4に鎖線で示すように移動爪29,29,…が槽
壁側に移動してストッパー34で停止し、洗浄籠18の
下面から離れる。
シリンダー38,38,…を入側に移動させると、図3
及び図4に鎖線で示すように移動爪29,29,…が槽
壁側に移動してストッパー34で停止し、洗浄籠18の
下面から離れる。
【0026】前記の状態で上下動シリンダー23を入側
に作動させると、エレベータ19は上昇し、洗浄籠18
を籠支持具36,36,…上に載置したまま、洗浄籠搭
載枠22が上昇する。この洗浄搭載枠22の上昇に伴っ
て各移動爪29,29,…が爪操作具39,39,…か
ら外れるが死点を通過してスプリング32の引張力で図
4に鎖線で示す槽壁側の位置を保持する。そして、エレ
ベータ19は洗浄籠搭載枠22が乾燥槽3の上部に移動
して停止する。
に作動させると、エレベータ19は上昇し、洗浄籠18
を籠支持具36,36,…上に載置したまま、洗浄籠搭
載枠22が上昇する。この洗浄搭載枠22の上昇に伴っ
て各移動爪29,29,…が爪操作具39,39,…か
ら外れるが死点を通過してスプリング32の引張力で図
4に鎖線で示す槽壁側の位置を保持する。そして、エレ
ベータ19は洗浄籠搭載枠22が乾燥槽3の上部に移動
して停止する。
【0027】次に、洗浄槽2の上部と乾燥槽3の下部と
の間の仕切扉9をシャフトレスシリンダー10の駆動に
より、扉用溝8内を移動させて洗浄槽2を塞ぐ。この
時、洗浄槽2内の洗浄液を循環させる循環液管56及び
導管60(図7参照)の電磁弁55、59は夫々閉にし
て洗浄液の循環を停止する。
の間の仕切扉9をシャフトレスシリンダー10の駆動に
より、扉用溝8内を移動させて洗浄槽2を塞ぐ。この
時、洗浄槽2内の洗浄液を循環させる循環液管56及び
導管60(図7参照)の電磁弁55、59は夫々閉にし
て洗浄液の循環を停止する。
【0028】更に、コンプレッサー62を(図9参照)
を駆動し、電磁弁63を開いてチューブパッキング16
に圧縮空気を送ってチューブパッキング16を膨張させ
て仕切扉9に密着させて洗浄槽2内を気密にする。この
時、洗浄槽2に設けた減圧用配管7の減圧用電磁弁71
を開き、減圧ポンプ74を駆動して洗浄槽2内を減圧す
る。
を駆動し、電磁弁63を開いてチューブパッキング16
に圧縮空気を送ってチューブパッキング16を膨張させ
て仕切扉9に密着させて洗浄槽2内を気密にする。この
時、洗浄槽2に設けた減圧用配管7の減圧用電磁弁71
を開き、減圧ポンプ74を駆動して洗浄槽2内を減圧す
る。
【0029】又、超音波振動子5を超音波発信器(図示
省略)の駆動で作用せしめ、減圧中に超音波が照射さ
れ、常圧中では不可能とされている洗浄が行われる。特
に毛細管状に存在した気体を除き、且つ超音波による物
理的、化学的洗浄を可能とし、熱交換器75による冷却
にて回収トラップ78により気体と液体とに分離し、吸
着筒81内の活性炭に洗浄液中の揮発性ガスや有毒性ガ
スを吸着して大気での放出を極力防ぐようになってい
る。
省略)の駆動で作用せしめ、減圧中に超音波が照射さ
れ、常圧中では不可能とされている洗浄が行われる。特
に毛細管状に存在した気体を除き、且つ超音波による物
理的、化学的洗浄を可能とし、熱交換器75による冷却
にて回収トラップ78により気体と液体とに分離し、吸
着筒81内の活性炭に洗浄液中の揮発性ガスや有毒性ガ
スを吸着して大気での放出を極力防ぐようになってい
る。
【0030】規定時間の洗浄が終ると、洗浄槽2の減圧
用配管7の途中に設けているリークバルブ69を開く
と、洗浄槽2内が大気に戻ると、循環液管56及び導管
60の電磁弁55、59が開となり、濾過機58で濾過
された清浄な洗浄液が循環する。
用配管7の途中に設けているリークバルブ69を開く
と、洗浄槽2内が大気に戻ると、循環液管56及び導管
60の電磁弁55、59が開となり、濾過機58で濾過
された清浄な洗浄液が循環する。
【0031】次に、配管65のリークバルブ67を開い
てチューブバルブ16内の空気を抜いてチューブバルブ
16を収縮させる。収縮が終ると、シャフトレスシリン
ダー10が作動して仕切扉9を図1に実線で示す元位置
へ戻し、洗浄槽2の上部を開放する。洗浄槽2が開放さ
れると、上下動シリンダー23の駆動によりエレベータ
19が垂直に下降し、洗浄籠搭載枠22を洗浄槽2内の
定位置で停止する。この時、各移動爪29,29,…は
槽壁側に位置している各爪操作具39,39,…内に入
る。
てチューブバルブ16内の空気を抜いてチューブバルブ
16を収縮させる。収縮が終ると、シャフトレスシリン
ダー10が作動して仕切扉9を図1に実線で示す元位置
へ戻し、洗浄槽2の上部を開放する。洗浄槽2が開放さ
れると、上下動シリンダー23の駆動によりエレベータ
19が垂直に下降し、洗浄籠搭載枠22を洗浄槽2内の
定位置で停止する。この時、各移動爪29,29,…は
槽壁側に位置している各爪操作具39,39,…内に入
る。
【0032】次に、各爪用シリンダー38,38,…を
出側に駆動して爪操作具39,39,…を図4の鎖線位
置から実線位置へ戻すと、各移動爪29,29,…はス
プリング32の引張力で死点を越えてストッパー33に
係止して定位置に固定される。
出側に駆動して爪操作具39,39,…を図4の鎖線位
置から実線位置へ戻すと、各移動爪29,29,…はス
プリング32の引張力で死点を越えてストッパー33に
係止して定位置に固定される。
【0033】次に、上下動シリンダー23を駆動してエ
レベータ19を上昇させると、各移動爪29,29,…
により洗浄籠18の下面を支持して乾燥槽3内の定位置
に停止する。この時、各支持用シリンダー42,42,
…が駆動して各籠支持具43,43,…が鎖線で示す槽
壁位置から実線で示す内部へ突出させる。
レベータ19を上昇させると、各移動爪29,29,…
により洗浄籠18の下面を支持して乾燥槽3内の定位置
に停止する。この時、各支持用シリンダー42,42,
…が駆動して各籠支持具43,43,…が鎖線で示す槽
壁位置から実線で示す内部へ突出させる。
【0034】一方、各爪操作具46,46,…は図6に
84で示す爪待避位置に90度反転した状態になってい
る。そして、各爪用シリンダー44,44,…を駆動し
て移動爪29,29,…の下方まで突出させる。次に、
回転用モータ50を駆動し、プーリ51及びベルト53
を介して両側のプーリ52,52を回転させることによ
り45,45を回転させ、爪操作具46,46,…のコ
字形の開放部分を上側に向け、各移動爪29,29,…
を包むように嵌合させる。
84で示す爪待避位置に90度反転した状態になってい
る。そして、各爪用シリンダー44,44,…を駆動し
て移動爪29,29,…の下方まで突出させる。次に、
回転用モータ50を駆動し、プーリ51及びベルト53
を介して両側のプーリ52,52を回転させることによ
り45,45を回転させ、爪操作具46,46,…のコ
字形の開放部分を上側に向け、各移動爪29,29,…
を包むように嵌合させる。
【0035】各爪操作具46,46,…に移動爪29,
29,…を嵌合した後に各爪用シリンダー44,44,
…を入側に駆動させて各爪操作具46,46,…を移動
させ、各移動爪29,29,…を図6に鎖線で示す槽壁
側の位置へ移動させ、ストッパー34に係止してスプリ
ング32の引張力でその位置を保持する。これにより、
洗浄籠搭載枠22から洗浄籠19が切り離される。次
に、上下動シリンダー23の駆動によりエレベータ19
は上昇して洗浄籠搭載枠22を乾燥槽3上部の定位置に
停止する。尚、洗浄籠19は各籠支持具43,43,…
上に載った状態で乾燥槽3内に残っている。
29,…を嵌合した後に各爪用シリンダー44,44,
…を入側に駆動させて各爪操作具46,46,…を移動
させ、各移動爪29,29,…を図6に鎖線で示す槽壁
側の位置へ移動させ、ストッパー34に係止してスプリ
ング32の引張力でその位置を保持する。これにより、
洗浄籠搭載枠22から洗浄籠19が切り離される。次
に、上下動シリンダー23の駆動によりエレベータ19
は上昇して洗浄籠搭載枠22を乾燥槽3上部の定位置に
停止する。尚、洗浄籠19は各籠支持具43,43,…
上に載った状態で乾燥槽3内に残っている。
【0036】次に、洗浄槽2上部の仕切扉9及び乾燥槽
3上部の仕切扉14が夫々シャフトレスシリンダー1
0、15によって移動し、両槽が塞がれる。その後、乾
燥槽3内を減圧するために各槽の上部に取付けられてい
るチューブパッキング16、17に空気を送るために、
電磁弁63、64(図9参照)を開き、コンプレッサー
62から圧縮空気をチューブパッキング16、17に送
って膨張させ、仕切扉9、14と密着させ、乾燥槽3内
を気密にする。
3上部の仕切扉14が夫々シャフトレスシリンダー1
0、15によって移動し、両槽が塞がれる。その後、乾
燥槽3内を減圧するために各槽の上部に取付けられてい
るチューブパッキング16、17に空気を送るために、
電磁弁63、64(図9参照)を開き、コンプレッサー
62から圧縮空気をチューブパッキング16、17に送
って膨張させ、仕切扉9、14と密着させ、乾燥槽3内
を気密にする。
【0037】この状態で、乾燥槽3の減圧用配管12の
途中にある減圧用電磁弁72を開き、乾燥槽3内を減圧
し、且つ赤外線ヒータ11によって洗浄籠19が加熱さ
れ、洗浄籠19内の被洗浄物に存在する毛細管状の洗浄
液等は減圧による低沸点により蒸発が促進され、短時間
で乾燥が行われる。
途中にある減圧用電磁弁72を開き、乾燥槽3内を減圧
し、且つ赤外線ヒータ11によって洗浄籠19が加熱さ
れ、洗浄籠19内の被洗浄物に存在する毛細管状の洗浄
液等は減圧による低沸点により蒸発が促進され、短時間
で乾燥が行われる。
【0038】規定時間の減圧乾燥が終ると、乾燥槽3内
を常圧に戻すために減圧用配管12の途中にあるリーク
バルブ70を開き、常圧に戻す。次に、両リークバルブ
67、68を開いて両チューブバルブ16、17内の空
気を排出させる。その後、両仕切扉9、14を両シャフ
トレスシリンダー10、15の駆動で開き、両槽2、3
の上部を開放する。
を常圧に戻すために減圧用配管12の途中にあるリーク
バルブ70を開き、常圧に戻す。次に、両リークバルブ
67、68を開いて両チューブバルブ16、17内の空
気を排出させる。その後、両仕切扉9、14を両シャフ
トレスシリンダー10、15の駆動で開き、両槽2、3
の上部を開放する。
【0039】次に、乾燥槽3の上部に停止している洗浄
籠搭載枠22を上下動シリンダー23で乾燥槽3内の定
位置まで下降させて停止する。この時、各移動爪29,
29,…は各爪操作具39,39,…中に入る。この各
移動爪29,29,…を各爪用シリンダー44,44,
…の駆動により槽の内側(図6において実線位置)に移
動し、ストッパー33に係止させてスプリング32の引
張力でその位置を保持する。
籠搭載枠22を上下動シリンダー23で乾燥槽3内の定
位置まで下降させて停止する。この時、各移動爪29,
29,…は各爪操作具39,39,…中に入る。この各
移動爪29,29,…を各爪用シリンダー44,44,
…の駆動により槽の内側(図6において実線位置)に移
動し、ストッパー33に係止させてスプリング32の引
張力でその位置を保持する。
【0040】次に、各支持用シリンダー42,42,…
を駆動して各籠支持具43,43,…を槽壁側に移動さ
せ、洗浄籠19を洗浄籠搭載枠22に載せる。次に、上
下動シリンダー23の駆動で洗浄籠搭載枠22を洗浄籠
19と共に乾燥槽3の上部定位置まで上昇させて停止す
る。
を駆動して各籠支持具43,43,…を槽壁側に移動さ
せ、洗浄籠19を洗浄籠搭載枠22に載せる。次に、上
下動シリンダー23の駆動で洗浄籠搭載枠22を洗浄籠
19と共に乾燥槽3の上部定位置まで上昇させて停止す
る。
【0041】この時、乾燥槽3内の各爪操作46,4
6,…は両側の回転用モータ50,50の駆動により9
0度回転して開放側に移動させ爪待避位置84で停止
し、洗浄籠19が上から下に通過する時に邪魔にならな
いように待機する。一方、乾燥槽3上の洗浄籠19は洗
浄籠搭載枠22から取外し、未洗浄の新しい洗浄籠19
を洗浄籠搭載枠22に載せる。
6,…は両側の回転用モータ50,50の駆動により9
0度回転して開放側に移動させ爪待避位置84で停止
し、洗浄籠19が上から下に通過する時に邪魔にならな
いように待機する。一方、乾燥槽3上の洗浄籠19は洗
浄籠搭載枠22から取外し、未洗浄の新しい洗浄籠19
を洗浄籠搭載枠22に載せる。
【0042】尚、洗浄中及び減圧乾燥中に発生した有害
気体は湿った気体76となり、図8に示すように、減圧
ポンプ74により吸引され、熱交換器75に送られ、冷
却水77によって冷却され、気体80と液体79とに分
離され、気体80は吸着筒81内の活性炭で有害気体が
吸着され、他は大気82に放出される。又、液体79は
回収トラップ78で保収するようになっている。尚、槽
は2個に限定するものではなく多段に設けてもよいもの
である。
気体は湿った気体76となり、図8に示すように、減圧
ポンプ74により吸引され、熱交換器75に送られ、冷
却水77によって冷却され、気体80と液体79とに分
離され、気体80は吸着筒81内の活性炭で有害気体が
吸着され、他は大気82に放出される。又、液体79は
回収トラップ78で保収するようになっている。尚、槽
は2個に限定するものではなく多段に設けてもよいもの
である。
【0043】
【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るもので、上下垂直位置に槽を設置しているので、水平
移動を行う従来の床占有面積を1/2にすることができ
る。
るもので、上下垂直位置に槽を設置しているので、水平
移動を行う従来の床占有面積を1/2にすることができ
る。
【0044】又、密閉状態の中で減圧して洗浄を行うの
で、常圧では不可能とされた洗浄を行うことができ、特
に毛細管状に存在した気体を除き、且つ超音波による物
理的、化学的洗浄が可能で、且つ洗浄液の揮発性ガスや
有毒性ガスを大気に放出しないで良好な環境で作業がで
きる。更に、乾燥槽においても減圧することにより乾燥
を促進させることができる。
で、常圧では不可能とされた洗浄を行うことができ、特
に毛細管状に存在した気体を除き、且つ超音波による物
理的、化学的洗浄が可能で、且つ洗浄液の揮発性ガスや
有毒性ガスを大気に放出しないで良好な環境で作業がで
きる。更に、乾燥槽においても減圧することにより乾燥
を促進させることができる。
【0045】
【図1】本発明に係る洗浄乾燥装置の正面縦断面図。
【図2】その平面図。
【図3】側面縦断面図。
【図4】洗浄槽内における爪操作具の部分を示す平面
図。
図。
【図5】乾燥槽の正面縦断面の拡大図。
【図6】乾燥槽の爪操作具の部分を示す平面図。
【図7】洗浄液の流れを示す配管図。
【図8】減圧関係を示す配管図。
【図9】チューブパッキングの膨張、収縮を示す配管
図。
図。
【図10】従来の洗浄装置の断面図。
【図11】従来の乾燥装置の断面図。
1 基枠 2 洗浄槽 3 乾燥槽 4 底板 5 超音波振動子 6 オーバフロー受 7 減圧用配管 8 扉用溝 9 仕切扉 10 シャフトレスシリンダー 11 赤外線ヒータ 12 減圧用配管 13 扉用溝 14 仕切扉 15 シャフトレスシリンダー 16 チューブパッキング 17 チューブパッキング 18 洗浄籠 19 エレベータ 20 天板 21 保持棒 21´ 保持棒 22 洗浄籠搭載枠 23 上下動シリンダー 24 ロッド 25 ガイドシャフト 25´ ガイドシャフト 26 スライド軸受 26´ スライド軸受 27 爪支持材 28 ピン 29 移動爪 30 ピン 31 ピン 32 スプリング 33 ストッパー 34 ストッパー 35 スライド軸受 36 籠支持具 37 シリンダー取付具 38 爪用シリンダー 39 爪操作具 40 スライド軸受 41 シリンダー取付具 42 支持用シリンダー 43 籠支持具 44 爪用シリンダー 45 ロッド 46 爪操作具 47 挾持金具 48 挾持金具 49 取付板 50 回転用モータ 51 プーリ 52 プーリ 53 ベルト 54 洗浄液面 55 電磁弁 56 循環液管 57 洗浄液タンク 58 濾過機 59 電磁弁 60 導管 61 ドレン管 62 コンプレッサー 63 電磁弁 64 電磁弁 65 配管 66 配管 67 リークバルブ 68 リークバルブ 69 リークバルブ 70 リークバルブ 71 減圧用電磁弁 72 減圧用電磁弁 73 合流管 74 減圧ポンプ 75 熱交換器 76 湿った気体 77 冷却水 78 回収トラップ 79 液体 80 気体 81 吸着筒 82 大気 83 ドレン 84 爪待避位置
Claims (7)
- 【請求項1】 下側に洗浄槽を設置し、その鉛直方向の
上側に乾燥槽を設け、洗浄籠を載置した洗浄籠搭載枠を
洗浄槽及び乾燥槽内を昇降させる上下動シリンダーを設
け、更に洗浄槽及び乾燥槽の夫々上部を仕切扉で塞ぎ、
両槽間の仕切りを行うことを特徴とする洗浄乾燥装置。 - 【請求項2】 洗浄槽を減圧ポンプに接続し、減圧して
洗浄液で洗浄することを特徴とする請求1記載の洗浄乾
燥装置。 - 【請求項3】 洗浄槽に超音波振動子を固定したことを
特徴とする請求項1、2いずれかに記載の洗浄乾燥装
置。 - 【請求項4】 乾燥槽を減圧ポンプに接続して減圧し、
槽内に赤外線ヒータを設けたことを特徴とする請求項1
記載の洗浄乾燥装置。 - 【請求項5】 洗浄籠搭載枠に洗浄籠の下面を支持する
移動爪を開閉できるように4個所に設けたことを特徴と
する請求項1記載の洗浄乾燥装置。 - 【請求項6】 下段の洗浄槽に籠支持具を4個所から槽
内に突設し、上段の乾燥槽には4個所の籠支持具を突出
及び後退させるように移動自在に設けたことを特徴とす
る請求項1、2、3、4、5のいずれかに記載された洗
浄乾燥装置。 - 【請求項7】 洗浄槽と乾燥槽の上部に仕切扉と接する
収縮及び膨張できるチューブパッキングを設けたことを
特徴とする請求項1記載の洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1128494A JPH07195041A (ja) | 1994-01-05 | 1994-01-05 | 洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1128494A JPH07195041A (ja) | 1994-01-05 | 1994-01-05 | 洗浄乾燥装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07195041A true JPH07195041A (ja) | 1995-08-01 |
Family
ID=11773703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1128494A Pending JPH07195041A (ja) | 1994-01-05 | 1994-01-05 | 洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07195041A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007101419A (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-19 | Dkk Toa Corp | 測定器、容器および水質測定装置 |
JP2007178394A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Dkk Toa Corp | 測定器及び処理用槽の形成方法 |
CN107876492A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-04-06 | 南华大学 | 反应釜内衬清洗装置及清洗方法 |
CN108262303A (zh) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 中核建中核燃料元件有限公司 | 一种投料容器超声波自动清洗装置 |
CN108993995A (zh) * | 2018-09-05 | 2018-12-14 | 深圳市旭隆珠宝首饰有限公司 | 一种自动清洗机 |
CN110000153A (zh) * | 2019-04-26 | 2019-07-12 | 谢文明 | 一种全自动超声波清洗装置 |
JP2021188082A (ja) * | 2020-05-28 | 2021-12-13 | モベック株式会社 | 電解洗浄用の後処理工程ユニット、及び電解洗浄システム |
CN115415240A (zh) * | 2022-09-06 | 2022-12-02 | 嘉兴光明科技股份有限公司 | 一种螺母清洗烘干一体机 |
CN115716069A (zh) * | 2022-11-22 | 2023-02-28 | 广东洁泰超声设备有限公司 | 一种全自动碳氢真空超声波清洗设备 |
CN115837371A (zh) * | 2022-12-28 | 2023-03-24 | 吉林大学 | 球磨罐体磨珠清洗烘干耦合装置 |
-
1994
- 1994-01-05 JP JP1128494A patent/JPH07195041A/ja active Pending
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007101419A (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-19 | Dkk Toa Corp | 測定器、容器および水質測定装置 |
JP2007178394A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Dkk Toa Corp | 測定器及び処理用槽の形成方法 |
CN108262303A (zh) * | 2016-12-30 | 2018-07-10 | 中核建中核燃料元件有限公司 | 一种投料容器超声波自动清洗装置 |
CN108262303B (zh) * | 2016-12-30 | 2024-02-02 | 中核建中核燃料元件有限公司 | 一种投料容器超声波自动清洗装置 |
CN107876492A (zh) * | 2017-12-25 | 2018-04-06 | 南华大学 | 反应釜内衬清洗装置及清洗方法 |
CN107876492B (zh) * | 2017-12-25 | 2023-08-11 | 南华大学 | 反应釜内衬清洗装置及清洗方法 |
CN108993995A (zh) * | 2018-09-05 | 2018-12-14 | 深圳市旭隆珠宝首饰有限公司 | 一种自动清洗机 |
CN110000153B (zh) * | 2019-04-26 | 2023-11-24 | 谢文明 | 一种全自动超声波清洗装置 |
CN110000153A (zh) * | 2019-04-26 | 2019-07-12 | 谢文明 | 一种全自动超声波清洗装置 |
JP2021188082A (ja) * | 2020-05-28 | 2021-12-13 | モベック株式会社 | 電解洗浄用の後処理工程ユニット、及び電解洗浄システム |
CN115415240A (zh) * | 2022-09-06 | 2022-12-02 | 嘉兴光明科技股份有限公司 | 一种螺母清洗烘干一体机 |
CN115415240B (zh) * | 2022-09-06 | 2024-04-09 | 嘉兴光明科技股份有限公司 | 一种螺母清洗烘干一体机 |
CN115716069A (zh) * | 2022-11-22 | 2023-02-28 | 广东洁泰超声设备有限公司 | 一种全自动碳氢真空超声波清洗设备 |
CN115716069B (zh) * | 2022-11-22 | 2023-05-23 | 广东洁泰超声设备有限公司 | 一种全自动碳氢真空超声波清洗设备 |
CN115837371B (zh) * | 2022-12-28 | 2023-09-15 | 吉林大学 | 球磨罐体磨珠清洗烘干耦合装置 |
CN115837371A (zh) * | 2022-12-28 | 2023-03-24 | 吉林大学 | 球磨罐体磨珠清洗烘干耦合装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07195041A (ja) | 洗浄乾燥装置 | |
KR101701517B1 (ko) | 캡슐형 세정기 | |
US7216655B2 (en) | Wafer container washing apparatus | |
US20220281731A1 (en) | Automatic sampling device and method | |
JP6811879B2 (ja) | 地盤テストが可能な真空チャンバーを具備したテスト装置およびこれを利用したテスト方法 | |
JP2804210B2 (ja) | 洗浄装置 | |
TW526101B (en) | Wafer container cleaning system | |
US6322633B1 (en) | Wafer container cleaning system | |
JP3351769B2 (ja) | 熱交換管の洗浄方法及び熱交換管からの堆積物を捕捉するための装置及び容器 | |
JP3307429B2 (ja) | 真空洗浄・乾燥方法および装置 | |
TWI638418B (zh) | 半導體晶圓清潔系統 | |
US6427359B1 (en) | Systems and methods for processing workpieces | |
CN115754020A (zh) | 循环运转式超声波扫描检测系统 | |
JP2797906B2 (ja) | ワーク冷却装置 | |
JP2884505B2 (ja) | 天井取付型エアコンデショナーの熱交換器の洗浄装置 | |
US5575641A (en) | Semiconductor processor opening and closure construction | |
TW546172B (en) | Systems and methods for processing workpieces | |
JP3186940B2 (ja) | 洗浄後の水切除去装置 | |
JPH0743278A (ja) | 顕微鏡標本の染色方法とその装置 | |
JPH0919662A (ja) | 洗浄装置 | |
JP7280909B2 (ja) | 自動清浄接続装置及び方法 | |
RU2036734C1 (ru) | Установка для очистки изделий | |
CN219694613U (zh) | 一种粮食扦样机 | |
JPH11204613A (ja) | 基板処理装置 | |
CN220658519U (zh) | 一种生物样本清理装置 |