JPH07192218A - Production of magnetic head - Google Patents

Production of magnetic head

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JPH07192218A
JPH07192218A JP33625393A JP33625393A JPH07192218A JP H07192218 A JPH07192218 A JP H07192218A JP 33625393 A JP33625393 A JP 33625393A JP 33625393 A JP33625393 A JP 33625393A JP H07192218 A JPH07192218 A JP H07192218A
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JP
Japan
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thin film
magnetic
core half
magnetic core
gap forming
Prior art date
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Withdrawn
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JP33625393A
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Japanese (ja)
Inventor
Motohisa Haga
元久 羽賀
Iwao Abe
岩男 阿部
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH07192218A publication Critical patent/JPH07192218A/en
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    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3176Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
    • G11B5/3179Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
    • G11B5/3183Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
    • GPHYSICS
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    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3109Details
    • G11B5/3116Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks

Abstract

PURPOSE:To improve flatness of a magnetic gap forming face, to stably form the magnetic gap forming face, to produce a magnetic head having good characteristics, and to simplify the production process. CONSTITUTION:A first thin film magnetic core half body 2 is formed on a substrate comprising a nonmagnetic material in such a manner that the film thickness T2 of the part 2b for the magnetic gap forming face is almost equal to the specified track width. The part 2b for the magnetic gap forming face is cut in the film thickness direction to obtain a magnetic gap forming face 2a having a specified azimuth angle theta of the cut face. A gap spacer comprising a nonmagnetic material having almost the same thickness as the specified gap length is formed on the magnetic gap forming face 2a. Then, a second thin film magnetic core half body 2 is formed on the substrate half body in such a manner that the second core half faces the first core half body 2 to interpose the gap spacer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁性金属薄膜を磁気コ
ア半体とする磁気ヘッドの製造方法に関わるものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic head using a magnetic metal thin film as a magnetic core half body.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録の分野においては、記録トラッ
クの高密度記録化に伴い、磁気ヘッドにおける磁気ギャ
ップの挟トラック化が進められている。そして、上記挟
トラック化に対応する磁気ヘッドとして、磁性金属薄膜
の膜厚をそのままトラック幅とする薄膜磁気ヘッドが提
案されている。
2. Description of the Related Art In the field of magnetic recording, a track gap between magnetic gaps in a magnetic head has been promoted along with high density recording of recording tracks. Then, as a magnetic head corresponding to the above-mentioned narrow track, a thin film magnetic head in which the film thickness of the magnetic metal thin film is used as the track width is proposed.

【0003】上記薄膜磁気ヘッドとしては、非磁性材料
よりなる基板上に、少なくとも磁気ギャップ形成部分の
膜厚がトラック幅と同等とされた磁性金属よりなる一対
の薄膜磁気コア半体が形成されており、上記一対の薄膜
磁気コア半体が、それぞれの磁気ギャップ形成部分にて
ギャップ長と同等の厚さを有し、非磁性材料よりなるギ
ャップスペーサーを介して突き合わされて閉磁路を構成
するとともに突き合わせ面間に磁気ギャップを形成し、
上記一対の薄膜磁気コア半体により構成される閉磁路に
コイルが巻装された構造のものが挙げられる。
In the above-mentioned thin-film magnetic head, a pair of thin-film magnetic core halves made of magnetic metal are formed on a substrate made of a non-magnetic material so that at least the magnetic gap forming portion has a film thickness equal to the track width. The pair of thin film magnetic core halves have a thickness equal to the gap length in each magnetic gap forming portion and are abutted via a gap spacer made of a non-magnetic material to form a closed magnetic path. A magnetic gap is formed between the butt surfaces,
An example is a structure in which a coil is wound around a closed magnetic circuit formed by the pair of thin film magnetic core halves.

【0004】上記のような薄膜磁気ヘッドは、例えば以
下のような製造方法により製造される。先ず、図7に示
すような基板101の所定の位置に図示しないコイル形
成用溝を形成し、これにコイルを形成する下部薄膜導体
を埋め込むようにして形成する。次に、図7に示すよう
に、上記基板101の下部薄膜導体が形成される主面1
01a上に上記下部薄膜導体を跨ぐようにして第1の薄
膜磁気コア半体102をスパッタリングまたはエッチン
グ等の手法により形成する。このとき、第1の薄膜磁気
コア半体102の磁気ギャップ形成面102aの膜厚方
向の幅は所定のトラック幅と同等とする。なお、図7中
においては、第1の薄膜磁気コア半体102を模式的に
示し、その厚さを極めて厚く示しているが、実際の膜厚
は10μm程度である。
The thin film magnetic head as described above is manufactured by the following manufacturing method, for example. First, a coil forming groove (not shown) is formed at a predetermined position of the substrate 101 as shown in FIG. 7, and the lower thin film conductor forming the coil is embedded in the groove. Next, as shown in FIG. 7, the main surface 1 of the substrate 101 on which the lower thin film conductor is formed
The first thin film magnetic core half body 102 is formed on 01a so as to straddle the lower thin film conductor by a method such as sputtering or etching. At this time, the width in the film thickness direction of the magnetic gap forming surface 102a of the first thin film magnetic core half body 102 is set equal to a predetermined track width. In FIG. 7, the first thin film magnetic core half body 102 is schematically shown and the thickness thereof is shown to be extremely thick, but the actual film thickness is about 10 μm.

【0005】そして、図8に示すように、上記第1の薄
膜磁気コア半体102の磁気ギャップ形成面102aに
所定のギャップ長と同等の厚さを有するギャップスペー
サー103をスパッタリング等の手法により形成する。
続いて、図9に示すように、基板101の一主面101
a上に第1の薄膜磁気コア半体102の磁気ギャップ形
成面102aとその磁気ギャップ形成面104aがギャ
ップスペーサー103を介して対向するような第2の薄
膜磁気コア半体104をスパッタリングまたはエッチン
グ等の手法により形成し、第1,2の薄膜磁気コア半体
102,104により閉磁路を構成するとともに磁気ギ
ャップ形成面102a,104a間に磁気ギャップを形
成する。このとき、上記第2の薄膜磁気コア半体104
の磁気ギャップ形成面104aの膜厚方向の幅は所定の
トラック幅と同等とする。なお、図9中においても、第
2の薄膜磁気コア半体104を模式的に示し、その厚さ
を極めて厚く示しているが、実際の膜厚は10μm程度
である。
Then, as shown in FIG. 8, a gap spacer 103 having a thickness equal to a predetermined gap length is formed on the magnetic gap forming surface 102a of the first thin film magnetic core half body 102 by a method such as sputtering. To do.
Subsequently, as shown in FIG. 9, one main surface 101 of the substrate 101
The second thin film magnetic core half body 104 such that the magnetic gap forming surface 102a of the first thin film magnetic core half body 102 and the magnetic gap forming surface 104a face each other via the gap spacer 103 on a is subjected to sputtering or etching. The first and second thin film magnetic core halves 102 and 104 form a closed magnetic circuit, and a magnetic gap is formed between the magnetic gap forming surfaces 102a and 104a. At this time, the second thin film magnetic core half 104
The width of the magnetic gap forming surface 104a in the film thickness direction is equal to a predetermined track width. Note that, also in FIG. 9, the second thin film magnetic core half body 104 is schematically shown and the thickness thereof is shown extremely thick, but the actual film thickness is about 10 μm.

【0006】そして、上記下部薄膜導体上に、これに接
続するように薄膜磁気コア半体102,104の膜厚方
向に側部薄膜導体を形成し、さらに側部薄膜導体上に上
部薄膜導体を形成する。その結果、下部,側部,上部薄
膜導体により構成されるコイルが第1,2の薄膜磁気コ
ア半体102,104により構成される閉磁路に巻装さ
れることとなり、薄膜磁気ヘッドが完成する。
Then, a side thin film conductor is formed on the lower thin film conductor in the film thickness direction of the thin film magnetic core halves 102 and 104 so as to be connected thereto, and an upper thin film conductor is further formed on the side thin film conductor. Form. As a result, the coil composed of the lower, side and upper thin film conductors is wound around the closed magnetic circuit composed of the first and second thin film magnetic core halves 102 and 104, thus completing the thin film magnetic head. .

【0007】また、上述のような薄膜磁気ヘッドの製造
方法としては、次のような製造方法も挙げられる。すな
わち、先に述べた製造方法と同様にして下部薄膜導体を
形成した図10に示すような基板111の一主面111
a上に第1の薄膜磁気コア半体を112をスパッタリン
グ等の手法により形成する。このとき、上記第1の薄膜
磁気コア半体112は下部薄膜導体を跨ぐようにして形
成され、その磁気ギャップ形成面を形成する予定の部分
の膜厚は所定のトラック幅と同等とされている。なお、
図10中においては、第1の薄膜磁気コア半体112を
模式的に示し、その厚さを極めて厚く示しているが、実
際の膜厚は10μm程度である。
Further, as a method of manufacturing the above-mentioned thin film magnetic head, the following manufacturing method can also be mentioned. That is, one main surface 111 of the substrate 111 as shown in FIG. 10 in which the lower thin film conductor is formed in the same manner as the manufacturing method described above.
A first thin film magnetic core half 112 is formed on a by a method such as sputtering. At this time, the first thin-film magnetic core half 112 is formed so as to straddle the lower thin-film conductor, and the film thickness of the portion where the magnetic gap forming surface is to be formed is made equal to a predetermined track width. . In addition,
In FIG. 10, the first thin film magnetic core half 112 is schematically shown and its thickness is shown to be extremely thick, but the actual film thickness is about 10 μm.

【0008】そして、図11に示すように、上記第1の
薄膜磁気コア半体112の上面となる一主面112bの
磁気ギャップ形成面を形成する部分に、断面が所定の角
度を有するV字形であり、その先端が基板111の一主
面111aに達するような溝部113をダイヤモンドバ
イトで切削加工して形成する。このとき、上記溝部11
3は、該溝部113により形成される一方の斜面である
磁気ギャップ形成面112aと第1の薄膜磁気コア半体
112の膜厚方向とのなす角θが所定のアジマス角とな
るように形成する。続いて、図11中破線で示す部分の
第1の薄膜磁気コア半体112を除去する。
Then, as shown in FIG. 11, a V-shaped cross section having a predetermined angle is formed at a portion forming a magnetic gap forming surface of one main surface 112b which is an upper surface of the first thin film magnetic core half 112. The groove portion 113 whose tip reaches the main surface 111a of the substrate 111 is formed by cutting with a diamond cutting tool. At this time, the groove 11
3 is formed so that the angle θ formed between the magnetic gap forming surface 112a, which is one slope formed by the groove 113, and the film thickness direction of the first thin film magnetic core half 112 is a predetermined azimuth angle. . Subsequently, the first thin film magnetic core half 112 in the portion indicated by the broken line in FIG. 11 is removed.

【0009】次に、図12に示すように、上記第1の薄
膜磁気コア半体112の磁気ギャップ形成面112aに
所定のギャップ長と同等の厚さを有するギャップスペー
サー114をスパッタリング等の手法により形成する。
さらに、図12中に示すように、基板111の一主面1
11a上に第1の薄膜磁気コア半体112の磁気ギャッ
プ形成面112aとその磁気ギャップ形成面115aが
ギャップスペーサー114を介して対向するような第2
の薄膜磁気コア半体115をスパッタリング等の手法に
より形成し、第1,2の薄膜磁気コア半体112,11
5により閉磁路を構成するとともに磁気ギャップ形成面
112a,115a間に磁気ギャップを形成する。この
とき、上記第2の薄膜磁気コア半体115の磁気ギャッ
プ形成面115aの膜厚方向の幅は所定のトラック幅以
上とする。なお、図12中においても、第2の薄膜磁気
コア半体115を模式的に示し、その厚さを極めて厚く
示しているが、実際の膜厚は10μm程度である。
Next, as shown in FIG. 12, a gap spacer 114 having a thickness equivalent to a predetermined gap length is formed on the magnetic gap forming surface 112a of the first thin film magnetic core half 112 by a method such as sputtering. Form.
Further, as shown in FIG. 12, one main surface 1 of the substrate 111 is
A second gap 11a in which the magnetic gap forming surface 112a of the first thin film magnetic core half 112 and the magnetic gap forming surface 115a face each other via the gap spacer 114.
Of the thin film magnetic core halves 115 are formed by a method such as sputtering, and the first and second thin film magnetic core halves 112, 11 are formed.
5 forms a closed magnetic circuit, and a magnetic gap is formed between the magnetic gap forming surfaces 112a and 115a. At this time, the width in the film thickness direction of the magnetic gap forming surface 115a of the second thin film magnetic core half body 115 is set to a predetermined track width or more. Note that, also in FIG. 12, the second thin film magnetic core half 115 is schematically shown and the thickness thereof is shown to be extremely thick, but the actual film thickness is about 10 μm.

【0010】そして、図13に示すように、第2の薄膜
磁気コア半体115の上面となる一主面115bをラッ
ピング加工し、上記一主面115bを第1の薄膜磁気コ
ア半体112の一主面112bと面一とし、第2の薄膜
磁気コア半体115の磁気ギャップ形成面115aの膜
厚方向の幅を所定のトラック幅と同等とする。
Then, as shown in FIG. 13, one main surface 115b, which is the upper surface of the second thin film magnetic core half body 115, is lapped, and the one main surface 115b of the first thin film magnetic core half body 112 is lapped. The main surface 112b is flush with the magnetic gap forming surface 115a of the second thin film magnetic core half 115, and the width in the film thickness direction is equal to a predetermined track width.

【0011】最後に、上述の製造方法と同様に、側部,
上部薄膜導体を形成し、下部,側部,上部薄膜導体によ
り構成されるコイルが第1,2の薄膜磁気コア半体11
2,115により構成される閉磁路に巻装された状態と
し、薄膜磁気ヘッドを完成する。
Finally, similar to the manufacturing method described above, the side part,
A coil that forms the upper thin film conductor and is composed of the lower, side, and upper thin film conductors is the first and second thin film magnetic core halves 11.
The thin film magnetic head is completed by being wound in a closed magnetic circuit constituted by 2, 115.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な製造方法により薄膜磁気ヘッドを製造すると、以下の
ような不都合が生じる。例えば、前者の製造方法により
薄膜磁気ヘッドの製造を行うと、第1の薄膜磁気コア半
体102の形成をスパッタリングまたはエッチング等の
手法により行うため、磁気ギャップ形成面102aの平
面度を高めることが困難である。このため、製造される
磁気ヘッドのヘッド効率の低下、アジマス角を付ける場
合のアジマス角精度の低下、挟ギャップ長化に限界が生
じる等の不都合が生じる。
However, when the thin film magnetic head is manufactured by the manufacturing method as described above, the following inconvenience occurs. For example, when the thin film magnetic head is manufactured by the former manufacturing method, the flatness of the magnetic gap forming surface 102a can be increased because the first thin film magnetic core half body 102 is formed by a method such as sputtering or etching. Have difficulty. For this reason, there arises inconveniences such as a decrease in head efficiency of the manufactured magnetic head, a decrease in azimuth angle accuracy when an azimuth angle is set, and a limit in lengthening the sandwiching gap.

【0013】一方、後者の製造方法により薄膜磁気ヘッ
ドを製造すると、第1の薄膜磁気コア半体112の磁気
ギャップ形成面112aはダイヤモンドバイトで切削加
工して溝部113を形成することにより形成することと
なるが、この際のダイヤモンドバイトによる加工面積が
かなり大きいために上記ダイヤモンドバイト等の加工工
具の摩耗が著しく、このような加工工具を続けて使用し
て加工を行うと、磁気ギャップ形成面を安定して形成す
ることが困難となり、製造される磁気ヘッドの特性を安
定化させることが難しいという不都合が生じる。
On the other hand, when the thin film magnetic head is manufactured by the latter manufacturing method, the magnetic gap forming surface 112a of the first thin film magnetic core half 112 is formed by cutting with a diamond cutting tool to form the groove 113. However, since the machining area by the diamond bite at this time is considerably large, the wear of the machining tools such as the diamond bite is remarkable, and when machining is continuously performed with such a machining tool, the magnetic gap forming surface is It is difficult to form the magnetic head stably, and it is difficult to stabilize the characteristics of the manufactured magnetic head.

【0014】また、後者の製造方法により薄膜磁気ヘッ
ドを製造すると、第1の薄膜磁気コア半体112の磁気
ギャップ形成面112aを形成した後、製造される薄膜
磁気ヘッドの凝似ギャップとしての障害を除くために第
1の薄膜磁気コア半体112の不要部分(図11中破線
で示す部分)をエッチング等により除去する必要があ
り、工程の簡略化が困難であるという不都合が生じる。
Further, when a thin film magnetic head is manufactured by the latter manufacturing method, after the magnetic gap forming surface 112a of the first thin film magnetic core half 112 is formed, an obstacle as a similar gap of the manufactured thin film magnetic head. In order to remove the above, it is necessary to remove an unnecessary portion (the portion indicated by the broken line in FIG. 11) of the first thin film magnetic core half body 112 by etching or the like, which causes a disadvantage that it is difficult to simplify the process.

【0015】そこで、本発明は従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、磁気ギャップ形成面の平面度を高
め、磁気ギャップ形成面を安定して形成することがで
き、特性の良好な磁気ヘッドを製造することが可能であ
り、工程の簡略化も可能である磁気ヘッドの製造方法を
提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of the conventional circumstances, and it is possible to enhance the flatness of the magnetic gap forming surface, stably form the magnetic gap forming surface, and to provide a magnetic material having excellent characteristics. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a magnetic head that can manufacture a head and can simplify the process.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明の磁気ヘッドの製造方法は、非磁性材料より
なる基板上に、少なくとも磁気ギャップ形成部分の膜厚
がトラック幅と同等である第1の薄膜磁気コア半体を形
成する工程と、上記第1の薄膜磁気コア半体の磁気ギャ
ップ形成部分を膜厚方向に切削し、切削面を所定のアジ
マス角を有する磁気ギャップ形成面とする工程と、上記
磁気ギャップ形成面に所定のギャップ長と同等の厚さを
有する非磁性材料よりなるギャップスペーサーを形成す
る工程と、上記ギャップスペーサーを挟み込み、第1の
薄膜磁気コア半体に対向するように、第2の薄膜磁気コ
ア半体を基板上に形成する工程を有することを特徴とす
るものである。
In order to achieve the above-mentioned object, a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention is such that at least a film thickness of a magnetic gap forming portion is equal to a track width on a substrate made of a non-magnetic material. A step of forming a certain first thin film magnetic core half, and a magnetic gap forming part of the first thin film magnetic core half is cut in the film thickness direction, and the cut surface has a magnetic gap forming surface having a predetermined azimuth angle. And a step of forming a gap spacer made of a non-magnetic material having a thickness equal to a predetermined gap length on the magnetic gap forming surface, and sandwiching the gap spacer to form a first thin film magnetic core half body. The method has a step of forming second thin film magnetic core halves on a substrate so as to face each other.

【0017】[0017]

【作用】本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、第
1の薄膜磁気コア半体の磁気ギャップ形成面を切削加工
により形成するため、磁気ギャップ形成面の平面度が高
まる。また、本発明においては、上記のような磁気ギャ
ップ形成面を形成するための切削加工を磁気ギャップ形
成面上のみに行うため、切削加工を行う際の加工工具の
摩耗の進行を遅らせることができ、これを用いて続けて
加工を行っても、磁気ギャップ形成面は安定して形成さ
れる。さらに、本発明においては、第1の薄膜磁気コア
半体を形成し、磁気ギャップ形成面を切削加工によって
形成した後、該第1の薄膜磁気コア半体の不要部分を除
去する必要がなく、工程が簡略化される。
In the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, since the magnetic gap forming surface of the first thin film magnetic core half is formed by cutting, the flatness of the magnetic gap forming surface is increased. Further, in the present invention, since the cutting work for forming the magnetic gap forming surface as described above is performed only on the magnetic gap forming surface, it is possible to delay the progress of wear of the working tool during the cutting work. The magnetic gap forming surface can be stably formed even if processing is continuously performed using this. Furthermore, in the present invention, it is not necessary to remove an unnecessary portion of the first thin film magnetic core half after forming the first thin film magnetic core half and forming the magnetic gap forming surface by cutting. The process is simplified.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings.

【0019】先ず、本発明を適用した磁気ヘッドの製造
方法により製造される磁気ヘッドを図1に示す。上記磁
気ヘッドにおいては、非磁性材料よりなる基板1の一主
面1a上に、磁気ギャップ形成面2a形成部分の膜厚T
2 が磁気ギャップgのトラック幅Twと同等とされた磁
性金属よりなる第1の薄膜磁気コア半体2と、同様に磁
気ギャップ形成面3a形成部分の膜厚T3 が磁気ギャッ
プgのトラック幅Twと同等とされた磁性金属よりなる
第2の薄膜磁気コア半体3とが形成されている。そし
て、上記一対の薄膜磁気コア半体2,3は、各磁気ギャ
ップ形成面2a,3a間に磁気ギャップgのギャップ長
と同等の厚さで非磁性材料よりなる図示しないギャップ
スペーサーを介して突き合わされ、磁気ギャップgを構
成するとともに閉磁路を構成している。なお、上記磁気
ギャップgは所定のアジマス角を有するものとする。
First, FIG. 1 shows a magnetic head manufactured by the method of manufacturing a magnetic head to which the present invention is applied. In the above magnetic head, the film thickness T of the portion where the magnetic gap forming surface 2a is formed on the one main surface 1a of the substrate 1 made of a non-magnetic material.
2 is the first thin film magnetic core half 2 made of a magnetic metal having the same track width Tw as the magnetic gap g, and similarly the film thickness T 3 of the magnetic gap forming surface 3a forming portion is the track width of the magnetic gap g. A second thin film magnetic core half 3 made of a magnetic metal equivalent to Tw is formed. The pair of thin film magnetic core halves 2 and 3 are projected between the magnetic gap forming surfaces 2a and 3a via a gap spacer (not shown) made of a non-magnetic material and having a thickness equivalent to the gap length of the magnetic gap g. Together, they form a magnetic gap g and a closed magnetic circuit. The magnetic gap g has a predetermined azimuth angle.

【0020】また、上記一対の薄膜磁気コア半体2,3
には、コイルを巻装するための巻線窓4,5がそれぞれ
形成されており、該巻線窓4,5にコイル6,7がそれ
ぞれその一部を基板1内に埋め込んだ状態で巻装されて
おり、これら一対の薄膜磁気コア半体2,3により構成
される閉磁路にコイル6,7が巻装されていることとな
る。なお、コイル6,7は、下部薄膜導体6a,7a、
側部薄膜導体6b,7b、上部薄膜導体6c,7cによ
り構成されている。
Further, the pair of thin film magnetic core halves 2, 3
Winding windows 4 and 5 for winding a coil are formed in each of the winding windows 4 and 5, and the winding windows 4 and 5 are wound with the coils 6 and 7 partially embedded in the substrate 1. The coils 6 and 7 are wound around the closed magnetic path formed by the pair of thin film magnetic core halves 2 and 3. The coils 6 and 7 are composed of lower thin film conductors 6a and 7a,
It is composed of side thin film conductors 6b and 7b and upper thin film conductors 6c and 7c.

【0021】次に、本実施例の磁気ヘッドの製造方法に
ついて説明する。先ず、図1中に示すような基板1の所
定の位置に図示しないコイル6,7形成用溝を形成し、
これにコイル6,7を形成する下部薄膜導体6a,7a
を埋め込むようにして形成する。
Next, a method of manufacturing the magnetic head of this embodiment will be described. First, not-shown grooves for forming coils 6 and 7 are formed at predetermined positions of the substrate 1 as shown in FIG.
Lower thin film conductors 6a, 7a forming coils 6, 7 on this
Are formed so as to be embedded.

【0022】次に、図2に示すように、上記基板1の下
部薄膜導体6a,7aが形成される主面1a上に第1の
薄膜磁気コア半体2をスパッタリングまたはエッチング
等の手法により形成する。このとき、第1の薄膜磁気コ
ア半体2は、磁気ギャップ形成面形成部分2bの膜厚T
2 が後工程において形成される磁気ギャップgのトラッ
ク幅Twと同等となり、巻線窓4が上記下部薄膜導体6
a,7aを跨ぐように形成する。なお、図2中において
は、第1の薄膜磁気コア半体2を模式的に示し、その厚
さを極めて厚く示しているが、実際の膜厚は10μm程
度である。
Next, as shown in FIG. 2, a first thin film magnetic core half 2 is formed on the main surface 1a of the substrate 1 on which the lower thin film conductors 6a and 7a are formed by a method such as sputtering or etching. To do. At this time, the first thin film magnetic core half 2 has a film thickness T of the magnetic gap forming surface forming portion 2b.
2 becomes equal to the track width Tw of the magnetic gap g formed in the subsequent step, and the winding window 4 is formed in the lower thin film conductor 6 described above.
It is formed so as to straddle a and 7a. In FIG. 2, the first thin film magnetic core half body 2 is schematically shown and its thickness is shown to be extremely thick, but the actual film thickness is about 10 μm.

【0023】次に、図3に示すように、第1の薄膜磁気
コア半体2の磁気ギャップ形成部分2bをダイヤモンド
バイト加工,研削加工等の機械加工やエネルギービーム
加工等で切削加工し、図中破線で示す部分を除去し、所
定のアジマス角θを有する磁気ギャップ形成面2aを形
成する。
Next, as shown in FIG. 3, the magnetic gap forming portion 2b of the first thin film magnetic core half 2 is machined by diamond bite machining, mechanical machining such as grinding, or energy beam machining, and the like. The portion indicated by the middle broken line is removed to form the magnetic gap forming surface 2a having a predetermined azimuth angle θ.

【0024】本実施例の磁気ヘッドの製造方法において
は、上記のように磁気ギャップ形成面をダイヤモンドバ
イト加工,研削加工等の機械加工やエネルギービーム加
工等で切削加工するため、磁気ギャップ形成面の平面度
を向上させることが可能である。また、切削加工を行う
範囲が狭いために、加工工具等の摩耗の進行を遅らせる
ことが可能となり、該加工工具を続けて使用して加工を
行っても、所定のアジマス角を有する磁気ギャップ形成
面を安定して形成することができる。さらに、本実施例
の磁気ヘッドの製造方法においては、第1の薄膜磁気コ
ア半体2の磁気ギャップ形成面2aを切削加工によって
形成した後、従来のように該第1の薄膜磁気コア半体2
の不要部分をエッチング等の手法により除去する必要が
なく、工程が簡略化される。
In the method of manufacturing the magnetic head of the present embodiment, the magnetic gap forming surface is cut by mechanical processing such as diamond cutting or grinding or energy beam processing as described above. It is possible to improve the flatness. Further, since the range of cutting work is narrow, it is possible to delay the progress of wear of the working tool, etc., and even if the working tool is continuously used for working, a magnetic gap having a predetermined azimuth angle is formed. The surface can be stably formed. Further, in the method of manufacturing the magnetic head of the present embodiment, after the magnetic gap forming surface 2a of the first thin film magnetic core half body 2 is formed by cutting, the first thin film magnetic core half body is formed by a conventional method. Two
It is not necessary to remove the unnecessary portion of the above by a method such as etching, and the process is simplified.

【0025】そして、図4に示すように上記第1の薄膜
磁気コア半体2の磁気ギャップ形成面2aに所定のギャ
ップ長と同等の厚さを有するギャップスペーサー8をス
パッタリング等の手法により形成する。
Then, as shown in FIG. 4, a gap spacer 8 having a thickness equivalent to a predetermined gap length is formed on the magnetic gap forming surface 2a of the first thin film magnetic core half body 2 by a method such as sputtering. .

【0026】続いて、図5に示すように、基板1の一主
面1a上に第1の薄膜磁気コア半体2の磁気ギャップ形
成面2aとその磁気ギャップ形成面3aがギャップスペ
ーサー8を介して対向するような第2の薄膜磁気コア半
体3をスパッタリング等の手法により形成し、第1,2
の薄膜磁気コア半体2,3により閉磁路を構成するとと
もに磁気ギャップ形成面2a,3a間に磁気ギャップを
形成する。このとき、上記第2の薄膜磁気コア半体2の
磁気ギャップ形成面3a形成部分の膜厚は磁気ギャップ
gのトラック幅Tw以上とする。なお、図5中において
も、第2の薄膜磁気コア半体3を模式的に示し、その厚
さを極めて厚く示しているが、実際の膜厚は10μm程
度である。
Subsequently, as shown in FIG. 5, the magnetic gap forming surface 2 a of the first thin film magnetic core half 2 and the magnetic gap forming surface 3 a are provided on the one main surface 1 a of the substrate 1 via the gap spacer 8. The second thin-film magnetic core half body 3 facing each other is formed by a method such as sputtering.
A closed magnetic path is formed by the thin film magnetic core halves 2 and 3 and a magnetic gap is formed between the magnetic gap forming surfaces 2a and 3a. At this time, the film thickness of the portion where the magnetic gap forming surface 3a of the second thin film magnetic core half 2 is formed is not less than the track width Tw of the magnetic gap g. In FIG. 5, the second thin film magnetic core half 3 is also schematically shown and its thickness is shown to be extremely thick, but the actual film thickness is about 10 μm.

【0027】そして、図6に示すように、第2の薄膜磁
気コア半体3の上面となる一主面3bをラッピング加工
し、上記一主面3bを第1の薄膜磁気コア半体2の上面
となる一主面2cと面一とし、第2の薄膜磁気コア半体
3の磁気ギャップ形成面3a形成部分の膜厚T3 が磁気
ギャップgのトラック幅Twと同等となるようにする。
Then, as shown in FIG. 6, the one main surface 3b which is the upper surface of the second thin film magnetic core half 3 is lapped, and the one main surface 3b of the first thin film magnetic core half 2 is lapped. The main surface 2c serving as the upper surface is flush with the main surface 2c so that the film thickness T 3 of the portion of the second thin film magnetic core half 3 where the magnetic gap forming surface 3a is formed is equal to the track width Tw of the magnetic gap g.

【0028】そして、上記下部薄膜導体6a,7a上
に、これに接続するように第1,2の薄膜磁気コア半体
2,3の膜厚方向に側部薄膜導体6b,7bを形成し、
さらに側部薄膜導体6b,7b上に上部薄膜導体6c,
7cを形成し、下部,側部,上部薄膜導体6a,6b,
6c及び7a,7b,7cにより構成されるコイル6,
7が第1,2の薄膜磁気コア半体2,3により構成され
る閉磁路に巻装される状態とし、薄膜磁気ヘッドを完成
する。
Then, side thin film conductors 6b and 7b are formed on the lower thin film conductors 6a and 7a in the film thickness direction of the first and second thin film magnetic core halves 2 and 3 so as to be connected thereto.
Further, on the side thin film conductors 6b, 7b, the upper thin film conductor 6c,
7c to form the lower, side and upper thin film conductors 6a, 6b,
A coil 6 composed of 6c and 7a, 7b, 7c,
The thin film magnetic head is completed by placing 7 in a state in which it is wound in a closed magnetic circuit formed by the first and second thin film magnetic core halves 2 and 3.

【0029】本実施例の磁気ヘッドの製造方法によって
製造される磁気ヘッドにおいては、磁気ギャップ形成面
の平面度が向上されるため、磁気ヘッドのヘッド効率の
低下を低減する、アジマス角精度を向上する、挟ギャッ
プ長化の限界ギャップ長を更に小さくすることが可能で
あり、特性が大きく向上される。
In the magnetic head manufactured by the method of manufacturing the magnetic head of this embodiment, the flatness of the magnetic gap forming surface is improved, so that the deterioration of the head efficiency of the magnetic head is reduced and the azimuth angle accuracy is improved. It is possible to further reduce the limit gap length for narrowing the gap length, and the characteristics are greatly improved.

【0030】また、本実施例の磁気ヘッドの製造方法に
おいては、加工工具等の摩耗の進行を遅らせることがで
き、該加工工具を続けて使用して加工を行っても、所定
のアジマス角を有する磁気ギャップ形成面を安定して形
成することができることから、製造される磁気ヘッド同
士の互換性を向上させることが可能である。そして、本
実施例の磁気ヘッドの製造方法においては、上記加工工
具の製品寿命が長くなることから、製造コストを下げる
ことができ、生産性を向上させることが可能である。
Further, in the method of manufacturing the magnetic head of the present embodiment, it is possible to delay the progress of wear of the working tool and the like, and even if the working tool is continuously used to perform working, a predetermined azimuth angle is obtained. Since the magnetic gap forming surface of the magnetic head can be stably formed, it is possible to improve the compatibility between the manufactured magnetic heads. Further, in the method of manufacturing the magnetic head of the present embodiment, since the product life of the working tool is extended, the manufacturing cost can be reduced and the productivity can be improved.

【0031】さらに、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
においては、従来のように第1の薄膜磁気コア半体の不
要部分をエッチング等の手法により除去する必要がない
ことから、工程が簡略化され、その分製造コストを下げ
ることができ、生産性を向上させることが可能である。
Further, in the method of manufacturing the magnetic head of this embodiment, it is not necessary to remove the unnecessary portion of the first thin film magnetic core half by etching or the like as in the prior art, so the process is simplified. Therefore, the manufacturing cost can be reduced and the productivity can be improved.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドの製造方法においては、第1の薄膜磁気
コア半体の磁気ギャップ形成面を切削加工により形成す
るため、磁気ギャップ形成面の平面度が高まり、製造さ
れる磁気ヘッドのヘッド効率の低下を低減する、アジマ
ス角精度を向上する、挟ギャップ長化の限界ギャップ長
を更に小さくすることが可能であり、記録密度等の特性
が大きく向上される。
As is apparent from the above description, in the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, the magnetic gap forming surface of the first thin film magnetic core half is formed by cutting, so that the magnetic gap is formed. It is possible to increase the flatness of the surface, reduce the reduction in head efficiency of the manufactured magnetic head, improve the azimuth angle accuracy, and further reduce the limit gap length for narrowing the gap length. The characteristics are greatly improved.

【0033】また、本発明においては、上記のような磁
気ギャップ形成面を形成するための切削加工を磁気ギャ
ップ形成面上のみに行うため、切削加工を行う際の加工
工具の摩耗の進行を遅らせることができ、これを用いて
続けて加工を行っても、磁気ギャップ形成面は安定して
形成される。従って、製造される磁気ヘッド同士の互換
性を向上させることが可能である。さらに、本発明にお
いては、上記加工工具の製品寿命が長くなることから、
製造コストを下げることができ、生産性を向上させるこ
とが可能である。
Further, in the present invention, since the cutting work for forming the magnetic gap forming surface as described above is performed only on the magnetic gap forming surface, the progress of wear of the working tool during the cutting work is delayed. The magnetic gap forming surface can be stably formed even if the continuous processing is performed by using this. Therefore, it is possible to improve the compatibility between the manufactured magnetic heads. Furthermore, in the present invention, since the product life of the processing tool is extended,
The manufacturing cost can be reduced and the productivity can be improved.

【0034】また、本発明においては、第1の薄膜磁気
コア半体を形成し、磁気ギャップ形成面を切削加工によ
って形成した後、該第1の薄膜磁気コア半体の不要部分
を除去する必要がなく、工程が簡略化されることから、
その分製造コストを下げることができ、生産性を向上さ
せることが可能である。
Further, in the present invention, it is necessary to form the first thin film magnetic core half and to form the magnetic gap forming surface by cutting, and then remove the unnecessary portion of the first thin film magnetic core half. Since there is no such thing and the process is simplified,
Therefore, the manufacturing cost can be reduced and the productivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法により
製造される磁気ヘッドを示す要部概略斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view of an essential part of a magnetic head manufactured by a method of manufacturing a magnetic head to which the present invention is applied.

【図2】本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法を工程
順に示すものであり、基板上に第1の薄膜磁気コア半体
を形成する工程を模式的に示す要部概略断面図である。
FIG. 2 shows a method of manufacturing a magnetic head to which the present invention is applied in the order of steps, and is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a step of forming a first thin film magnetic core half on a substrate.

【図3】第1の薄膜磁気コア半体の磁気ギャップ形成面
を形成する工程を模式的に示す要部概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an essential part schematically showing a step of forming a magnetic gap forming surface of the first thin film magnetic core half body.

【図4】第1の薄膜磁気コア半体の磁気ギャップ形成面
上にギャップスペーサーを形成する工程を模式的に示す
要部概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of essential parts schematically showing a step of forming a gap spacer on the magnetic gap formation surface of the first thin film magnetic core half.

【図5】第2の薄膜磁気コア半体を形成する工程を模式
的に示す要部概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an essential part schematically showing a step of forming a second thin film magnetic core half body.

【図6】第2の薄膜磁気コア半体の上面である一主面を
ラッピング加工する工程を模式的に示す要部概略断面図
である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a step of lapping one main surface which is an upper surface of a second thin film magnetic core half body.

【図7】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例を工程
順に示すものであり、基板上に第1の薄膜磁気コア半体
を形成する工程を模式的に示す要部概略断面図である。
FIG. 7 shows an example of a method of manufacturing a conventional thin film magnetic head in order of steps, and is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a step of forming a first thin film magnetic core half on a substrate.

【図8】第1の薄膜磁気コア半体の磁気ギャップ形成面
上にギャップスペーサーを形成する工程を模式的に示す
要部概略断面図である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of an essential part schematically showing a step of forming a gap spacer on the magnetic gap formation surface of the first thin film magnetic core half body.

【図9】第2の薄膜磁気コア半体を形成する工程を模式
的に示す要部概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of an essential part schematically showing a step of forming a second thin film magnetic core half body.

【図10】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法の他の例を
工程順に示すものであり、基板上に第1の薄膜磁気コア
半体を形成する工程を模式的に示す要部概略断面図であ
る。
FIG. 10 shows another example of a conventional method for manufacturing a thin film magnetic head in the order of steps, and is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a step of forming a first thin film magnetic core half on a substrate. is there.

【図11】第1の薄膜磁気コア半体に溝部を形成し、磁
気ギャップ形成面を形成する工程を模式的に示す要部概
略断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a step of forming a groove in the first thin film magnetic core half and forming a magnetic gap forming surface.

【図12】第1の薄膜磁気コア半体の磁気ギャップ形成
面上にギャップスペーサーを形成し、第2の薄膜磁気コ
ア半体を形成する工程を模式的に示す要部概略断面図で
ある。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a step of forming a gap spacer on the magnetic gap formation surface of the first thin film magnetic core half and forming the second thin film magnetic core half.

【図13】第2の薄膜磁気コア半体の上面である一主面
をラッピング加工する工程を模式的に示す要部概略断面
図である。
FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of a main part schematically showing a step of lapping one main surface which is an upper surface of a second thin film magnetic core half body.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基板 1a・・・一主面 2・・・第1の薄膜磁気コア半体 2a,3a・・・磁気ギャップ形成面 2b・・・磁気ギャップ形成部分 2c,3b・・・一主面 3・・・第2の薄膜磁気コア半体 8・・・ギャップスペーサー g・・・磁気ギャップ T2 ,T3 ・・・膜厚 Tw・・・トラック幅DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 1a ... Main surface 2 ... 1st thin film magnetic core half body 2a, 3a ... Magnetic gap formation surface 2b ... Magnetic gap formation part 2c, 3b ... Main Surface 3 ... Second thin film magnetic core half body 8 ... Gap spacer g ... Magnetic gap T 2 , T 3 ... Film thickness Tw ... Track width

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性材料よりなる基板上に、少なくと
も磁気ギャップ形成部分の膜厚がトラック幅と同等であ
る第1の薄膜磁気コア半体を形成する工程と、 上記第1の薄膜磁気コア半体の磁気ギャップ形成部分を
膜厚方向に切削し、切削面を所定のアジマス角を有する
磁気ギャップ形成面とする工程と、 上記磁気ギャップ形成面に所定のギャップ長と同等の厚
さを有する非磁性材料よりなるギャップスペーサーを形
成する工程と、 上記ギャップスペーサーを挟み込み、第1の薄膜磁気コ
ア半体に対向するように、第2の薄膜磁気コア半体を基
板上に形成する工程を有することを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法。
1. A step of forming a first thin film magnetic core half on which a film thickness of at least a magnetic gap forming portion is equal to a track width on a substrate made of a non-magnetic material, and the first thin film magnetic core. The step of cutting the magnetic gap forming portion of the half body in the film thickness direction to make the cut surface a magnetic gap forming surface having a predetermined azimuth angle, and the magnetic gap forming surface having a thickness equivalent to a predetermined gap length The method has a step of forming a gap spacer made of a non-magnetic material, and a step of sandwiching the gap spacer and forming a second thin film magnetic core half on the substrate so as to face the first thin film magnetic core half. A method of manufacturing a magnetic head, comprising:
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