JPH07188112A - Di-(alpha-fluoroacrylic acid)fluoroalkyl ester - Google Patents
Di-(alpha-fluoroacrylic acid)fluoroalkyl esterInfo
- Publication number
- JPH07188112A JPH07188112A JP33331893A JP33331893A JPH07188112A JP H07188112 A JPH07188112 A JP H07188112A JP 33331893 A JP33331893 A JP 33331893A JP 33331893 A JP33331893 A JP 33331893A JP H07188112 A JPH07188112 A JP H07188112A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluoroacrylic acid
- alpha
- formula
- ester
- nmr
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、新規なジ−(α−フル
オロアクリル酸)フルオロアルキルエステルに関し、更
に詳細には、架橋重合により高い表面硬度及び低屈折率
等を示し、各種基材表面等に使用可能な含フッ素硬化被
膜及び該硬化被膜の原料として有用な新規なジ−(α−
フルオロアクリル酸)フルオロアルキルエステルに関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel di- (α-fluoroacrylic acid) fluoroalkyl ester, more specifically, it shows high surface hardness and low refractive index due to cross-linking polymerization, and has various substrate surfaces. And a novel di- (α- that is useful as a raw material for the cured coating.
(Fluoroacrylic acid) fluoroalkyl ester.
【0002】[0002]
【従来の技術】フッ素原子を含有する樹脂が低屈折率を
有し、反射防止膜及び光ファイバーのクラッド材料等に
使用されている。このような低屈折率樹脂としては、例
えばポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチ
レン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、
テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共
重合体等のパーフルオロ重合体があり、1.40以下の
低屈折率を有することが知られている。しかしながら、
透明性が不十分な上に、有機溶剤に対する溶解性に劣
り、また熱加工性も悪いという欠点がある。2. Description of the Related Art A resin containing a fluorine atom has a low refractive index and is used as an antireflection film and a clad material for an optical fiber. Examples of such a low refractive index resin include polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer,
There are perfluoropolymers such as tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer, which are known to have a low refractive index of 1.40 or less. However,
In addition to its insufficient transparency, it has the drawbacks of poor solubility in organic solvents and poor thermal processability.
【0003】そこで最近では、α−フルオロアクリル酸
及びそのフルオロアルキルエステルについて種々の検討
がなされている。例えば特開昭61−85345号公報
には、α−フルオロアクリル酸フルオライドの製造法
が、また特開昭60−78940号公報には、α−フル
オロアクリル酸メチルの製造法が、更に日本化学会誌、
1985、(10)、1924〜1928には、α−フ
ルオロアクリル酸−2,2,2−トリフルオロエチルの
製造法が提案されている。しかしながら、これらのα−
フルオロアクリル酸フルオロアルキルエステル重合体
は、アクリル酸フルオロアルキルエステル重合体に比
べ、より低屈折率を示すが、表面硬度が低いため耐摩耗
性に劣るという欠点がある。Therefore, recently, various studies have been conducted on α-fluoroacrylic acid and its fluoroalkyl ester. For example, JP-A-61-85345 discloses a method for producing α-fluoroacrylic acid fluoride, and JP-A-60-78940 discloses a method for producing α-fluoroacrylic acid. ,
1985, (10), 1924 to 1928, a method for producing α-fluoroacrylic acid-2,2,2-trifluoroethyl is proposed. However, these α-
The fluoroacrylic acid fluoroalkyl ester polymer has a lower refractive index than the acrylic acid fluoroalkyl ester polymer, but has a drawback that it is inferior in abrasion resistance because of its low surface hardness.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た耐候性、耐熱性等を有し、表面硬度が高く、低屈折率
及び光透過性等を示す架橋重合物の原料等に使用可能な
新規なジ−(α−フルオロアクリル酸)フルオロアルキ
ルエステルを提供することにある。The object of the present invention is to use as a raw material for a crosslinked polymer having excellent weather resistance, heat resistance and the like, high surface hardness, low refractive index and light transmittance. It is to provide a possible new di- (α-fluoroacrylic acid) fluoroalkyl ester.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式化2で表わされるジ−(α−フルオロアクリル酸)
フルオロアルキルエステル(以下、ジエステルAと称
す)が提供される。According to the present invention, di- (α-fluoroacrylic acid) represented by the following general formula 2
A fluoroalkyl ester (hereinafter referred to as diester A) is provided.
【0006】[0006]
【化2】 [Chemical 2]
【0007】以下本発明を更に詳細に説明する。The present invention will be described in more detail below.
【0008】本発明のジ−(α−フルオロアクリル酸)
フルオロアルキルエステルは、前記一般式化2で表わさ
れるジエステルAである。該ジエステルAにおいて、X
の炭素数が15以上の場合には製造が困難である。Di- (α-fluoroacrylic acid) of the present invention
The fluoroalkyl ester is the diester A represented by the general formula 2. In the diester A, X
If the number of carbon atoms is 15 or more, the production is difficult.
【0009】前記ジステルAとしては、例えばジ−(α
−フルオロアクリル酸)−2,2,2−トリフルオロエ
チルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル
酸)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルエ
チレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−
2,2,3,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチルエ
チレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−
2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペ
ンチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリ
ル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6
−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−
(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,
4,5,5,6,6,7,7,7−トリデカフルオロヘ
プチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリ
ル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,
7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルエチ
レングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8
−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−
(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,
4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘ
プタデカフルオロノニルエチレングリコール、ジ−(α
−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
0,10−ノナデカフルオロデシルエチレングリコー
ル、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−3,3,4,
4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,
10,10−ヘプタデカフルオロデシルエチレングリコ
ール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,
3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,
9,10,10,11,11,11−ヘンエイコサフル
オロウンデシルエチレングリコール、ジ−(α−フルオ
ロアクリル酸)−2−トリフルオロメチル−3,3,3
−トリフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−(α
−フルオロアクリル酸)−3−トリフルオロメチル−
4,4,4−トリフルオロブチルエチレングリコール、
ジ−(α−フルオロアクリル酸)−4−トリフルオロメ
チル−2,2,3,3,4,5,5,5−オクタフルオ
ロペンチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロア
クリル酸)−6−トリフルオロメチル−2,2,3,
3,4,4,5,5,6,7,7,7−ドデカフルオロ
ヘプチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアク
リル酸)−8−トリフルオロメチル−2,2,3,3,
4,4,5,5,6,6,7,7,8,9,9,9−ヘ
キサデカフルオロノニルエチレングリコール、ジ−(α
−フルオロアクリル酸)−10−トリフルオロメチル−
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8,9,9,10,11,11,11−エイコサフ
ルオロウンデシルエチレングリコール、ジ−(α−フル
オロアクリル酸)−ペルフルオロシクロペンチルメチル
エチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)
−ペルフルオロシクロヘキシルメチルエチレングリコー
ル、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−ペルフルオロシ
クロヘプチルメチルエチレングリコール、ジ−(α−フ
ルオロアクリル酸)−ペルフルオロシクロオクチルメチ
ルエチレングリコール等を好ましく挙げることがでる。Examples of the diester A include di- (α
-Fluoroacrylic acid) -2,2,2-trifluoroethylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,3-pentafluoropropylethylene glycol, di- (α-fluoro) Acrylic acid)-
2,2,3,3,4,4,4-hexafluorobutylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid)-
2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5 6, 6, 6
-Undecafluorohexyl ethylene glycol, di-
(Α-Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4
4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6 , 6,
7,7,8,8,8-Pentadecafluorooctylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid)-
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8
-Tridecafluorooctyl ethylene glycol, di-
(Α-Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4
4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononylethylene glycol, di- (α
-Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,4
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
0,10-nonadecafluorodecyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -3,3,4
4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,
10,10-Heptadecafluorodecyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3
3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,
9,10,10,11,11,11-heneicosafluoroundecylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2-trifluoromethyl-3,3,3
-Trifluoropropylethylene glycol, di- (α
-Fluoroacrylic acid) -3-trifluoromethyl-
4,4,4-trifluorobutyl ethylene glycol,
Di- (α-fluoroacrylic acid) -4-trifluoromethyl-2,2,3,3,4,5,5,5-octafluoropentylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -6- Trifluoromethyl-2,2,3
3,4,4,5,5,6,7,7,7-dodecafluoroheptylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -8-trifluoromethyl-2,2,3,3,3
4,4,5,5,6,6,7,7,8,9,9,9-hexadecafluorononylethylene glycol, di- (α
-Fluoroacrylic acid) -10-trifluoromethyl-
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8,9,9,10,11,11,11-eicosafluoroundecylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -perfluorocyclopentylmethylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid)
-Perfluorocyclohexylmethylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -perfluorocycloheptylmethylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -perfluorocyclooctylmethylethylene glycol and the like can be preferably mentioned.
【0010】前記ジエステルAを調製するには、例えば
まず下記一般式化3で表わされる含フッ素エポキシ(以
下、エポキシBと称す)とα−フルオロアクリル酸と
を、触媒の存在下、通常の開環反応等により反応させ、
下記一般式化4で表わされるα−フルオロアクリル酸ヒ
ドロキシフルオロアルキルエステル(以下、ヒドロキシ
アルキルエステルCと称す)及び下記一般式化5で表わ
されるα−フルオロアクリル酸ヒドロキシフルオロアル
キルエステル(以下、ヒドロキシアルキルエステルDと
称す)を生成させた後、次いでα−フルオロアクリル酸
フルオライドを用いてエステル化反応させる方法等によ
りジエステルAを調製することができる。To prepare the diester A, for example, first, a fluorine-containing epoxy represented by the following general formula 3 (hereinafter referred to as epoxy B) and α-fluoroacrylic acid are subjected to a conventional reaction in the presence of a catalyst. React by ring reaction etc.,
Α-fluoroacrylic acid hydroxyfluoroalkyl ester represented by the following general formula 4 (hereinafter referred to as hydroxyalkyl ester C) and α-fluoroacrylic acid hydroxyfluoroalkyl ester represented by the following general formula 5 (hereinafter referred to as hydroxyalkyl The diester A can be prepared by a method of producing an ester D) and then performing an esterification reaction using α-fluoroacrylic acid fluoride.
【0011】[0011]
【化3】 [Chemical 3]
【0012】[0012]
【化4】 [Chemical 4]
【0013】[0013]
【化5】 [Chemical 5]
【0014】前記エポキシB、ヒドロキシアルキルエス
テルC及びヒドロキシアルキルエステルDの例示として
は、具体的に列挙した前記ジエステルAにおけるXに対
応するXを有する化合物等を好ましく挙げることができ
る。Preferred examples of the epoxy B, hydroxyalkyl ester C and hydroxyalkyl ester D include compounds having X corresponding to X in the specifically listed diester A.
【0015】前記触媒としては、例えばトリエチルアミ
ン、ベンジルジメチルアミン等の3級アミン;テトラエ
チルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウ
ムブロマイド等の4級アンモニウム塩等を好ましく挙げ
ることができ、添加量としては、原料成分全量に対し
0.001〜5.0重量%が好ましく、特に0.01〜
2.5重量%が望ましい。Preferred examples of the catalyst include tertiary amines such as triethylamine and benzyldimethylamine; and quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide and tetramethylammonium bromide. 0.001 to 5.0% by weight is preferable, and 0.01 to 5.0% by weight is particularly preferable.
2.5 wt% is desirable.
【0016】前記エポキシBに対する前記α−フルオロ
アクリル酸の仕込みモル比は、1:0.8〜5モルが好
ましく、特に1:1.0〜1.8モルが望ましい。前記
開環反応における反応温度は40〜200℃が好まし
く、特に80〜120℃が望ましい。更に反応時間は1
〜48時間が好ましく、特に2〜12時間が望ましい。The molar ratio of the α-fluoroacrylic acid charged to the epoxy B is preferably 1: 0.8 to 5 mol, and particularly preferably 1: 1.0 to 1.8 mol. The reaction temperature in the ring-opening reaction is preferably 40 to 200 ° C, and particularly preferably 80 to 120 ° C. Furthermore, the reaction time is 1
~ 48 hours are preferred, and 2-12 hours are particularly desirable.
【0017】また反応時における生成物の重合を防止す
るために、重合禁止剤、例えばハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノエチルエーテル、tert−ブチルカテコ
ール等を添加することもできる。添加量としては、原料
成分全量に対し0.001〜2.0重量%が好ましく、
特に0.005〜0.2重量%が望ましい。In order to prevent the polymerization of the product during the reaction, a polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monoethyl ether, tert-butyl catechol and the like may be added. The addition amount is preferably 0.001 to 2.0% by weight based on the total amount of raw material components,
In particular, 0.005 to 0.2% by weight is desirable.
【0018】一方、開環反応終了後に得られる生成物中
における過剰のα−フルオロアクリル酸又は触媒等を除
去するために、前記生成物をクロロホルム、塩化メチレ
ン、トリフルオロメチルベンゼン等に溶解し、水酸化ナ
トリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ水溶液で洗浄す
ることが好ましい。また必要に応じて減圧蒸留等により
精製してもよい。この際、前記生成物としてのヒドロキ
シアルキルエステルC及びヒドロキシアルキルエステル
Dの重合を防止するために、前述の重合禁止剤を使用す
るのが望ましい。On the other hand, in order to remove excess α-fluoroacrylic acid or catalyst in the product obtained after completion of the ring-opening reaction, the product is dissolved in chloroform, methylene chloride, trifluoromethylbenzene, etc., It is preferable to wash with an alkaline aqueous solution such as sodium hydroxide or sodium carbonate. Moreover, you may refine | purify by vacuum distillation etc. as needed. At this time, in order to prevent the polymerization of the hydroxyalkyl ester C and the hydroxyalkyl ester D as the product, it is desirable to use the above-mentioned polymerization inhibitor.
【0019】次いで得られた生成物である前記アルキル
エステルC及びアルキルエステルDとα−フルオロアク
リル酸フルオライドとをエステル化反応させる際のα−
フルオロアクリル酸フルオライドの仕込みモル比は、前
記生成物1モルに対して1.0〜5.0モルが好まし
く、特に1.1〜2.0モルが望ましい。Then, α- in the esterification reaction of the obtained alkyl ester C and alkyl ester D with α-fluoroacrylic acid fluoride
The molar ratio of fluoroacrylic acid fluoride charged is preferably 1.0 to 5.0 mol, and particularly preferably 1.1 to 2.0 mol, per 1 mol of the product.
【0020】前記エステル化反応において生じる塩酸を
捕捉するために、トリエチルアミン、ベンジルジメチル
アミン等の3級アルキルアミン又はピリジン等を添加す
ることができ、添加量としては、前記アルキルエステル
C及びアルキルエステルDに対して1:1.0〜5.0
モルが好ましく、特に1:1.1〜2.0モルが望まし
い。In order to capture the hydrochloric acid generated in the esterification reaction, a tertiary alkylamine such as triethylamine or benzyldimethylamine, or pyridine can be added, and the addition amount is the above-mentioned alkyl ester C and alkyl ester D. For 1: 1.0-5.0
Molar is preferable, and 1: 1.1 to 2.0 mol is particularly preferable.
【0021】前記エステル化反応においては、溶媒とし
て、例えばクロロホルム、塩化メチレン、トリフルオロ
メチルベンゼン等を用いることができ、その配合量は、
原料成分100重量部に対して20〜2000重量部が
好ましく、特に100〜500重量部が望ましい。In the above esterification reaction, for example, chloroform, methylene chloride, trifluoromethylbenzene or the like can be used as a solvent, and the compounding amount thereof is
20 to 2000 parts by weight is preferable with respect to 100 parts by weight of the raw material components, and 100 to 500 parts by weight is particularly desirable.
【0022】このようなエステル化反応を行う場合の反
応温度は、−20〜20℃が好ましく、特に−10〜1
0℃が望ましい。また反応時間は0.1〜12時間が好
ましく、特に0.5〜2時間が望ましい。When carrying out such an esterification reaction, the reaction temperature is preferably -20 to 20 ° C, particularly -10 to 1
0 ° C is desirable. The reaction time is preferably 0.1 to 12 hours, particularly preferably 0.5 to 2 hours.
【0023】更にエステル化反応により得られる生成物
に、メタノール、エタノール等のアルコール類又は水を
少量添加し、希塩酸等の酸性水溶液で洗浄することによ
り、生成物中の過剰のα−フルオロアクリル酸フルオラ
イドを分解することができ、本発明のジエステルAを調
製することができる。また必要に応じて減圧蒸留等によ
り精製するのが望ましく、この際、重合防止のために前
述の重合禁止剤を使用するのが望ましい。Further, a small amount of alcohol such as methanol or ethanol or water is added to the product obtained by the esterification reaction, and the product is washed with an acidic aqueous solution such as dilute hydrochloric acid to obtain an excess of α-fluoroacrylic acid in the product. Fluoride can be decomposed and the diester A of the present invention can be prepared. Further, it is desirable to purify by vacuum distillation or the like, if necessary. At this time, it is desirable to use the above-mentioned polymerization inhibitor to prevent polymerization.
【0024】前記ジエステルAを、公知のラジカル硬化
法、例えば加熱硬化させる方法;紫外線、電子線、放射
線等の活性エネルギー線の照射により重合硬化させる方
法等により硬化物を得ることができる。得られる硬化物
は、鉛筆硬度がH以上の表面硬度であり、1.40以下
の低屈折率を有する。A cured product can be obtained by a known radical curing method, for example, a method of heating and curing the diester A; a method of polymerizing and curing the diester A by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, electron beams, and radiation. The obtained cured product has a pencil hardness of H or higher and a surface hardness of 1.40 or lower.
【0025】前記ラジカル硬化法の硬化開始剤として
は、例えばアゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシク
ロヘキサンカルボニトリル、アゾビスバレロニトリル等
のアゾ系のラジカル重合開始剤;過酸化ベンゾイル、t
ert−ブチルヒドロパーオキサイド、クメンパーオキ
サイド、ジアシルパーオキサイド等の有機過酸化物系の
ラジカル重合開始剤、更にベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベン
ゾイン系化合物;ベンジル、ベンゾフェノン、アセトフ
ェノン、ミヒラーズケトン等のカルボニル化合物;アゾ
ビスイソブチロニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化
合物;α−ジケトンと3級アミンとの混合物等の光重合
開始剤が使用できる。前記硬化開始剤の使用量は、前記
ジエステルAを含む硬化組成物100重量部に対して
0.01〜10重量部であるのが好ましい。Examples of the curing initiator for the radical curing method include azo radical polymerization initiators such as azobisisobutyronitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile and azobisvaleronitrile; benzoyl peroxide, t
Organic peroxide radical polymerization initiators such as ert-butyl hydroperoxide, cumene peroxide, diacyl peroxide, and benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether; benzyl, benzophenone, acetophenone, Michler's ketone And the like; azo compounds such as azobisisobutyronitrile and azodibenzoyl; and photopolymerization initiators such as a mixture of α-diketone and a tertiary amine. The amount of the curing initiator used is preferably 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curing composition containing the diester A.
【0026】また前記硬化組成物から得られる硬化被膜
は、三次元網目構造を呈し、ガラス転移温度が高く、耐
熱性、耐候性等に優れた被膜である。The cured film obtained from the above-mentioned cured composition has a three-dimensional network structure, a high glass transition temperature, and excellent heat resistance and weather resistance.
【0027】[0027]
【発明の効果】本発明のジエステルAは、新規な化合物
であり、架橋重合することにより得られる硬化物が、高
い光透過性と低屈折率を有し、更に表面硬度が高いので
耐摩耗性にも優れているため、耐摩耗性を有する低屈折
率樹脂等の原料成分として有用である。INDUSTRIAL APPLICABILITY The diester A of the present invention is a novel compound, and the cured product obtained by cross-linking polymerization has a high light transmittance and a low refractive index, and further has a high surface hardness, so that it has abrasion resistance. It is also useful as a raw material component of a low-refractive index resin having abrasion resistance.
【0028】[0028]
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited thereto.
【0029】[0029]
【実施例1】撹拌機、冷却管、ガス導入管のついた反応
器に、4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,
9,10,10,11,11,11−ヘプタデカフルオ
ロ−1,2−エポキシウンデカン238.0重量部、α
−フルオロアクリル酸54.0重量部、テトラエチルア
ンモニウムブロマイド2.9重量部、tert−ブチル
カテコール0.29重量部を仕込み、油浴中で徐々に加
熱して95〜100℃とした。同温度で4時間撹拌した
後、室温まで冷却し、得られた反応液を300mlのク
ロロホルムに溶解した。次いで10重量%炭酸ナトリウ
ム水溶液で3回洗浄した後、飽和食塩水で3回洗浄し、
下記式化6、式化7に示す化合物の混合溶液を得た。Example 1 In a reactor equipped with a stirrer, a cooling pipe, and a gas introduction pipe, 4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7, 8, 8, 9,
9,10,10,11,11,11-heptadecafluoro-1,2-epoxyundecane 238.0 parts by weight, α
-Fluoroacrylic acid 54.0 parts by weight, tetraethylammonium bromide 2.9 parts by weight, and tert-butyl catechol 0.29 parts by weight were charged and gradually heated to 95 to 100 ° C in an oil bath. After stirring at the same temperature for 4 hours, the mixture was cooled to room temperature, and the obtained reaction liquid was dissolved in 300 ml of chloroform. Then, it was washed three times with a 10 wt% sodium carbonate aqueous solution and then three times with saturated saline,
A mixed solution of the compounds represented by the following formulas 6 and 7 was obtained.
【0030】[0030]
【化6】 [Chemical 6]
【0031】[0031]
【化7】 [Chemical 7]
【0032】次に、撹拌機、温度計、ガス導入管、滴下
ロートのついた2リットル反応器に、前記混合溶液とト
リエチルアミン61.1重量部とを仕込んだ後、氷冷下
においてα−フルオロアクリル酸フルオライド55.2
重量部をクロロホルム50mlに溶解した溶解液を、滴
下ロートにて混合溶液の温度が5℃を超えないように滴
下した。滴下終了後、氷冷のまま2時間撹拌し、20m
lのメタノールを添加した。更に10分間撹拌した後、
クロロホルムを減圧留去し、黄色液体を得た。得られた
黄色液体に、減圧蒸留を更に2回繰り返すことにより、
下記式化8に示すジ−(α−フルオロアクリル酸)−
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8,9,9,9−ヘプタデカフルオロノニルエチレ
ングリコール210重量部を得た。Next, after charging the mixed solution and 61.1 parts by weight of triethylamine into a 2 liter reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a gas introduction tube and a dropping funnel, α-fluoro was prepared under ice cooling. Acrylic acid fluoride 55.2
A solution prepared by dissolving 50 parts by weight of chloroform in 50 ml was added dropwise with a dropping funnel so that the temperature of the mixed solution did not exceed 5 ° C. After completion of dropping, stir for 2 hours with ice cooling, 20m
1 of methanol was added. After stirring for another 10 minutes,
Chloroform was distilled off under reduced pressure to obtain a yellow liquid. By repeating vacuum distillation twice more on the obtained yellow liquid,
Di- (α-fluoroacrylic acid) -in the formula below
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,
210 parts by weight of 8,8,9,9,9-heptadecafluorononylethylene glycol was obtained.
【0033】[0033]
【化8】 [Chemical 8]
【0034】以下に得られた化合物の1H−NMR、19
F−NMR、Exact MSの測定結果を示す。 1 H-NMR of the compound obtained below, 19
The measurement result of F-NMR and Exact MS is shown.
【0035】1H−NMR:5.69(dd,1H)、
5.67(dd,1H)、5.63(m,1H)、5.
33(dd,1H)、5.31(dd,1H)、4.4
4、4.30(ABq,1H)4.43、4.28(A
Bq,1H)、2.53(m,1H)19 F−NMR:−125.77、−123.08、−1
22.37、−121.55、−121.24、−11
2.70、−80.41 Exact MS:測定値;638.0225 理論値;C17H9F19O4:638.0197 1 H-NMR: 5.69 (dd, 1H),
5.67 (dd, 1H), 5.63 (m, 1H), 5.
33 (dd, 1H), 5.31 (dd, 1H), 4.4
4, 4.30 (ABq, 1H) 4.43, 4.28 (A
Bq, 1H), 2.53 (m, 1H) 19 F-NMR: -125.77, -123.08, -1.
22.37, -121.55, -121.24, -11
2.70, -80.41 Exact MS: measured value; 638.0225 Theoretical value; C 17 H 9 F 19 O 4: 638.0197
【0036】[0036]
【実施例2】4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデ
カフルオロ−1,2−エポキシウンデカン238.0重
量部の代わりに、10−トリフルオロメチル−4,4,
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
1,11,11−ヘキサデカフルオロ−1,2−エポキ
シウンデカン268重量部を用いた以外は実施例1と同
様にして、下記式化9及び式化10に示す化合物を経
て、下記式化11に示す構造を有するジ−(α−フルオ
ロアクリル酸)−8−トリフルオロメチル−2,2,
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,9,
9,9−ヘキサデカフルオロノニルエチレングリコール
220重量部を得た。[Embodiment 2] 4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11-Heptadecafluoro-1,2-epoxyundecane Instead of 238.0 parts by weight, 10-trifluoromethyl-4,4,4.
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
In the same manner as in Example 1 except that 268 parts by weight of 1,11,11-hexadecafluoro-1,2-epoxyundecane was used, the compounds represented by the following formulas 9 and 10 were converted to the following formula 11 Di- (α-fluoroacrylic acid) -8-trifluoromethyl-2,2 having the structure shown in
3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,9,
220 parts by weight of 9,9-hexadecafluorononylethylene glycol was obtained.
【0037】[0037]
【化9】 [Chemical 9]
【0038】[0038]
【化10】 [Chemical 10]
【0039】[0039]
【化11】 [Chemical 11]
【0040】以下に得られた化合物の1H−NMR、19
F−NMR、Exact MSの測定結果を示す。 1 H-NMR of the compound obtained below, 19
The measurement result of F-NMR and Exact MS is shown.
【0041】1H−NMR:5.68(dd,1H)、
5.66(dd,1H)、5.62(m,1H)、5.
33(dd,1H)、5.31(dd,1H)、4.4
3、4.30(ABq,1H)4.42、4.27(A
Bq,1H)、2.53(m,1H)19 F−NMR:−185.72、−123.33、−1
21.25、−120.38、−114.64、−11
3.12、−81.49 Exact MS:測定値;688.0146 理論値;C18H9F21O4:688.0165 1 H-NMR: 5.68 (dd, 1H),
5.66 (dd, 1H), 5.62 (m, 1H), 5.
33 (dd, 1H), 5.31 (dd, 1H), 4.4
3, 4.30 (ABq, 1H) 4.42, 4.27 (A
Bq, 1H), 2.53 (m, 1H) 19 F-NMR: -185.72, -123.33, -1.
21.25, -12.38, -114.64, -11
3.12, -81.49 Exact MS: measured value; 688.0146 Theoretical value; C 18 H 9 F 21 O 4: 688.0165
【0042】[0042]
【実施例3】4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデ
カフルオロ−1,2−エポキシウンデカン238.0重
量部の代わりに、4,4,5,5,6,6,7,7,
8,8,9,9,10,10,11,11,12,1
2,13,13,13−ヘンエイコサフルオロ−1,2
−エポキシトリデカン288重量部を用いた以外は、実
施例1と同様にして、下記式化12及び式化13に示す
化合物を経て、下記式化14に示すジ−(α−フルオロ
アクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,
6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,1
1,11−ヘンエイコサフルオロウンデシルエチレング
リコール235重量部を得た。Third Embodiment 4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11-Heptadecafluoro-1,2-epoxyundecane Instead of 238.0 parts by weight, 4,4,5,5,6,6,7,7 ,
8,8,9,9,10,10,11,11,12,1
2,13,13,13-Heneicosafluoro-1,2
-In the same manner as in Example 1 except that 288 parts by weight of epoxytridecane was used, a compound represented by the following formula 12 and a compound represented by the following formula 13 were used, and then di- (α-fluoroacrylic acid) represented by the following formula 14 was used. -2,2,3,3,4,4,5,5,6
6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,1
235 parts by weight of 1,11-heneicosafluoroundecylethylene glycol was obtained.
【0043】[0043]
【化12】 [Chemical 12]
【0044】[0044]
【化13】 [Chemical 13]
【0045】[0045]
【化14】 [Chemical 14]
【0046】以下に得られた化合物の1H−NMR、19
F−NMR、Exact MSの測定結果を示す。 1 H-NMR of the compound obtained below, 19
The measurement result of F-NMR and Exact MS is shown.
【0047】1H−NMR:5.70(dd,1H)、
5.69(dd,1H)、5.64(m,1H)、5.
33(dd,1H)、5.32(dd,1H)、4.4
5、4.32(ABq,1H)4.44、4.29(A
Bq,1H)、2.52(m,1H)19 F−NMR:−125.75、−123.03、−1
22.34、−121.39、−121.08、−11
4.55、−80.41 Exact MS:測定値;738.0155 理論値;C19H9F23O4:738.0134 1 H-NMR: 5.70 (dd, 1H),
5.69 (dd, 1H), 5.64 (m, 1H), 5.
33 (dd, 1H), 5.32 (dd, 1H), 4.4
5, 4.32 (ABq, 1H) 4.44, 4.29 (A
Bq, 1H), 2.52 (m, 1H) 19 F-NMR: -125.75, -123.03, -1.
22.34, -12.39, -121.08, -11
4.55, -80.41 Exact MS: measured value; 738.0155 Theoretical value; C 19 H 9 F 23 O 4: 738.0134
【0048】[0048]
【実施例4】4,4,5,5,6,6,7,7,8,
8,9,9,10,10,11,11,11−ヘプタデ
カフルオロ−1,2−エポキシウンデカン238.0重
量部の代わりに、12−トリフルオロメチル−4,4,
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
0,11,11,12,13,13,13−エイコサフ
ルオロ−1,2−エポキシトリデカン313重量部を用
いた以外は、実施例1と同様にして、下記式化15及び
式化16に示す化合物を経て、下記式化17に示すジ−
(α−フルオロアクリル酸)−10−トリフルオロメチ
ル−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,
7,8,8,9,9,10,11,11,11−エイコ
サフルオロウンデシルエチレングリコール250重量部
を得た。[Embodiment 4] 4,4,5,5,6,6,7,7,8,
Instead of 238.0 parts by weight of 8,9,9,10,10,11,11,11-heptadecafluoro-1,2-epoxyundecane, 12-trifluoromethyl-4,4,4.
5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,1
0, 11, 11, 12, 13, 13, 13-eicosafluoro-1,2-epoxytridecane was used in the same manner as in Example 1 except that 313 parts by weight were used. Via the compound shown in
(Α-Fluoroacrylic acid) -10-trifluoromethyl-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,
250 parts by weight of 7,8,8,9,9,10,11,11,11-eicosafluoroundecyl ethylene glycol were obtained.
【0049】[0049]
【化15】 [Chemical 15]
【0050】[0050]
【化16】 [Chemical 16]
【0051】[0051]
【化17】 [Chemical 17]
【0052】以下に得られた化合物の1H−NMR、19
F−NMR、Exact MSの測定結果を示す。 1 H-NMR of the compound obtained below, 19
The measurement result of F-NMR and Exact MS is shown.
【0053】1H−NMR:5.70(dd,1H)、
5.66(dd,1H)、5.62(m,1H)、5.
34(dd,1H)、5.30(dd,1H)、4.4
5、4.31(ABq,1H)4.42、4.27(A
Bq,1H)、2.52(m,1H)19 F−NMR:−185.72、−122.94、−1
21.33、−120.95、−120.32、−11
4.61、−112.02、−81.50 Exact MS:測定値;788.0080 理論値;C20H9F25O4:788.0102 1 H-NMR: 5.70 (dd, 1H),
5.66 (dd, 1H), 5.62 (m, 1H), 5.
34 (dd, 1H), 5.30 (dd, 1H), 4.4
5, 4.31 (ABq, 1H) 4.42, 4.27 (A
Bq, 1H), 2.52 (m, 1H) 19 F-NMR: -185.72, -122.94, -1.
21.33, -120.95, -120.32, -11
4.61, -112.02, -81.50 Exact MS: measured value; 788.0080 Theoretical value; C 20 H 9 F 25 O 4: 788.0102
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成6年1月7日[Submission date] January 7, 1994
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0035[Correction target item name] 0035
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0035】1H−NMR(CDCl3,TMS):5.
69(dd,1H)、5.67(dd,1H)、5.6
3(m,1H)、5.33(dd,1H)、5.31
(dd,1H)、4.44、4.30(ABq,1
H)、4.43、4.28(ABq,1H)、2.53
(m,1H)19 F−NMR(CDCl3,CFCl3):−125.7
7、−123.08、−122.37、−121.5
5、−121.24、−112.70、−80.41 Exact MS:測定値;638.0225 理論値;C17H9F19O4:638.0197 1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) : 5.
69 (dd, 1H), 5.67 (dd, 1H), 5.6
3 (m, 1H), 5.33 (dd, 1H), 5.31
(Dd, 1H), 4.44, 4.30 (ABq, 1
H), 4.43, 4.28 (ABq, 1H), 2.53
( M , 1H) 19 F-NMR (CDCl 3 , CFCl 3 ) :-125.7
7, -123.08, -122.37, -121.5
5, -121.24, -112.70, -80.41 Exact MS: measured value; 638.0225 Theoretical value; C 17 H 9 F 19 O 4: 638.0197
【手続補正2】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0041[Correction target item name] 0041
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0041】1H−NMR(CDCl3,TMS):5.
68(dd,1H)、5.66(dd,1H)、5.6
2(m,1H)、5.33(dd,1H)、5.31
(dd,1H)、4.43、4.30(ABq,1
H)、4.42、4.27(ABq,1H)、2.53
(m,1H)19 F−NMR(CDCl3,CFCl3):−185.7
2、−123.33、−121.25、−120.3
8、−114.64、−113.12、−81.49 Exact MS:測定値;688.0146 理論値;C18H9F21O4:688.0165 1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) : 5.
68 (dd, 1H), 5.66 (dd, 1H), 5.6
2 (m, 1H), 5.33 (dd, 1H), 5.31
(Dd, 1H), 4.43, 4.30 (ABq, 1
H), 4.42, 4.27 (ABq, 1H), 2.53
( M , 1H) 19 F-NMR (CDCl 3 , CFCl 3 ) :-185.7
2, -123.33, -121.25, -120.3
8, -114.64, -113.12, -81.49 Exact MS: measured value; 688.0146 Theoretical value; C 18 H 9 F 21 O 4: 688.0165
【手続補正3】[Procedure 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0047[Correction target item name] 0047
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0047】1H−NMR(CDCl3,TMS):5.
70(dd,1H)、5.69(dd,1H)、5.6
4(m,1H)、5.33(dd,1H)、5.32
(dd,1H)、4.45、4.32(ABq,1
H)、4.44、4.29(ABq,1H)、2.52
(m,1H)19 F−NMR(CDCl3,CFCl3):−125.7
5、−123.03、−122.34、−121.3
9、−121.08、−114.55、−80.41 Exact MS:測定値;738.0155 理論値;C19H9F23O4:738.0134 1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) : 5.
70 (dd, 1H), 5.69 (dd, 1H), 5.6
4 (m, 1H), 5.33 (dd, 1H), 5.32
(Dd, 1H), 4.45, 4.32 (ABq, 1
H), 4.44, 4.29 (ABq, 1H), 2.52
( M , 1H) 19 F-NMR (CDCl 3 , CFCl 3 ) :-125.7
5, -123.03, -122.34, -121.3
9, -121.08, -114.55, -80.41 Exact MS: measured value; 738.0155 Theoretical value; C 19 H 9 F 23 O 4: 738.0134
【手続補正4】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0053[Correction target item name] 0053
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0053】1H−NMR(CDCl3,TMS):5.
70(dd,1H)、5.66(dd,1H)、5.6
2(m,1H)、5.34(dd,1H)、5.30
(dd,1H)、4.45、4.31(ABq,1
H)、4.42、4.27(ABq,1H)、2.52
(m,1H)19 F−NMR(CDCl3,CFCl3):−185.7
2、−122.94、−121.33、−120.9
5、−120.32、−114.61、−112.0
2、−81.50 Exact MS:測定値;788.0080 理論値;C20H9F25O4:788.0102 1 H-NMR (CDCl 3 , TMS) : 5.
70 (dd, 1H), 5.66 (dd, 1H), 5.6
2 (m, 1H), 5.34 (dd, 1H), 5.30
(Dd, 1H), 4.45, 4.31 (ABq, 1
H), 4.42, 4.27 (ABq, 1H), 2.52
( M , 1H) 19 F-NMR (CDCl 3 , CFCl 3 ) :-185.7
2, -122.94, -121.33, -120.9
5, -120.32, -114.61, -112.0
2, -81.50 Exact MS: measured value; 788.0080 Theoretical value; C 20 H 9 F 25 O 4: 788.0102
Claims (1)
フルオロアクリル酸)フルオロアルキルエステル。 【化1】 1. A di- (α-represented by the following general formula 1
Fluoroacrylic acid) Fluoroalkyl ester. [Chemical 1]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33331893A JP3374494B2 (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Di- (α-fluoroacrylic acid) fluoroalkyl ester |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33331893A JP3374494B2 (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Di- (α-fluoroacrylic acid) fluoroalkyl ester |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07188112A true JPH07188112A (en) | 1995-07-25 |
JP3374494B2 JP3374494B2 (en) | 2003-02-04 |
Family
ID=18264774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33331893A Expired - Fee Related JP3374494B2 (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Di- (α-fluoroacrylic acid) fluoroalkyl ester |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3374494B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002226435A (en) * | 2001-02-07 | 2002-08-14 | Daikin Ind Ltd | Fluorine-containing compound |
JP2007290980A (en) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Fluorine-containing (meth)acrylic acid ester |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP33331893A patent/JP3374494B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002226435A (en) * | 2001-02-07 | 2002-08-14 | Daikin Ind Ltd | Fluorine-containing compound |
JP2007290980A (en) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Fluorine-containing (meth)acrylic acid ester |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3374494B2 (en) | 2003-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5018743B2 (en) | Fluorine-containing compounds and their polymer compounds | |
JP4410508B2 (en) | Fluorine-containing compounds and their polymer compounds | |
EP2107056B1 (en) | Fluorinated compounds, fluorinated polymers of the fluorinated compounds, and optical or electrical materials using the polymers | |
JP2002533304A (en) | Polymerizable halogenated vinyl ether | |
JP3999030B2 (en) | Fluorine-containing polymerizable monomer, polymer compound using the same, and antireflection film material | |
KR101413611B1 (en) | Top coating composition and pattern forming method | |
JP2005029527A5 (en) | ||
US10125107B1 (en) | Carboxylic acid ester compound having polymerizable functional group and fluorine atom group, and method for producing same | |
JP4683887B2 (en) | Lactone compound, lactone-containing monomer, polymer compound, resist material and pattern forming method using the same | |
JP2004323422A (en) | Fluorine-based cyclic compound, fluorine-based polymerizable monomer, fluorine-based macromolecular compound, resist material using the same and pattern-forming method | |
JP2004323422A5 (en) | ||
JP2004307447A (en) | Fluorine-containing cyclic compound, fluorine-containing polymerizable monomer, fluorine-containing polymer compound, resist material produced by using the same and pattern forming method | |
JP2010241831A (en) | Fluorine-containing polyether carboxylic acid ester | |
JPH07188112A (en) | Di-(alpha-fluoroacrylic acid)fluoroalkyl ester | |
JP4396525B2 (en) | Fluorine-containing compound and fluorine-containing polymer | |
JP4770780B2 (en) | Method for producing fluorine-containing polymerizable monomer | |
JP2004099689A (en) | Fluorine-containing polycyclic compound, polymer compound using it as raw material and photoresist material using it | |
JP3963028B2 (en) | Fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester | |
JP3374495B2 (en) | Fluorine-containing cured coating for antireflection and fluorinated curable composition for antireflection coating | |
JP7071675B1 (en) | Fluorine-containing polymer | |
JP2001233815A (en) | Fluorine-containing vinyl ether compound, fluorine- containing vinyl ether compound polymer and method for producing fluorine-vinyl ether compound | |
JP4166076B2 (en) | Fluorine-containing vinyl ether, fluorine-containing polymer using the same, and resist material using the fluorine-containing polymer | |
WO2022124182A1 (en) | Method for producing fluorine-containing polymer and composition | |
US20060058428A1 (en) | Fluorinated compounds having epoxy and vinyl ether functional groups | |
JPH09110827A (en) | Sulfur-containing (meth)acrylic ester |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081129 Year of fee payment: 6 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081129 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091129 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101129 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101129 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111129 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111129 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121129 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131129 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |