JPH07181028A - 走査型プローブ顕微鏡 - Google Patents
走査型プローブ顕微鏡Info
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- JPH07181028A JPH07181028A JP5323551A JP32355193A JPH07181028A JP H07181028 A JPH07181028 A JP H07181028A JP 5323551 A JP5323551 A JP 5323551A JP 32355193 A JP32355193 A JP 32355193A JP H07181028 A JPH07181028 A JP H07181028A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
- G01Q10/04—Fine scanning or positioning
- G01Q10/045—Self-actuating probes, i.e. wherein the actuating means for driving are part of the probe itself, e.g. piezoelectric means on a cantilever probe
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
- G01Q10/04—Fine scanning or positioning
- G01Q10/06—Circuits or algorithms therefor
- G01Q10/065—Feedback mechanisms, i.e. wherein the signal for driving the probe is modified by a signal coming from the probe itself
Abstract
(57)【要約】
【目的】制御系の応答性や安定性に優れる走査型プロー
ブ顕微鏡を提供する。 【構成】カンチレバーのねじれを制御できる圧電薄膜型
カンチレバー１００、カンチレバーのたわみ変位とねじ
れ変位を検出する変位センサー１０、垂直力と水平力の
目標指令値を出力する力ベクトル制御アルゴリズム発生
部２０、探針に働く垂直力と水平力を求め、これを目標
指令値に追従させる力制御部３０、試料４８を載せる試
料台４６、試料の位置を三次元的に制御する圧電体スキ
ャナー４４、カンチレバーのねじれを制御する駆動回路
４０、圧電体スキャナーのＺ方向の伸縮を制御する駆動
回路４２、圧電体スキャナーをＸＹ方向に駆動させる走
査信号発生器５０、力制御部と走査信号発生器の出力を
取り込み処理するコンピューター５２を有している。さ
らに、試料を所定の電圧にバイアスする可変電源５４、
接触電気抵抗測定回路５６を有している。
ブ顕微鏡を提供する。 【構成】カンチレバーのねじれを制御できる圧電薄膜型
カンチレバー１００、カンチレバーのたわみ変位とねじ
れ変位を検出する変位センサー１０、垂直力と水平力の
目標指令値を出力する力ベクトル制御アルゴリズム発生
部２０、探針に働く垂直力と水平力を求め、これを目標
指令値に追従させる力制御部３０、試料４８を載せる試
料台４６、試料の位置を三次元的に制御する圧電体スキ
ャナー４４、カンチレバーのねじれを制御する駆動回路
４０、圧電体スキャナーのＺ方向の伸縮を制御する駆動
回路４２、圧電体スキャナーをＸＹ方向に駆動させる走
査信号発生器５０、力制御部と走査信号発生器の出力を
取り込み処理するコンピューター５２を有している。さ
らに、試料を所定の電圧にバイアスする可変電源５４、
接触電気抵抗測定回路５６を有している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は走査型プローブ顕微鏡に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】走査トンネル顕微鏡（STM: Scanning Tu
nneling Microscope）では測定できない絶縁性試料を原
子サイズオーダーの精度で観察することのできる顕微鏡
として、原子間力顕微鏡（AFM: Atomic Force Microsco
pe）が特開昭６２−１３０３０２において提案されてい
る。
nneling Microscope）では測定できない絶縁性試料を原
子サイズオーダーの精度で観察することのできる顕微鏡
として、原子間力顕微鏡（AFM: Atomic Force Microsco
pe）が特開昭６２−１３０３０２において提案されてい
る。
【０００３】ＡＦＭはＳＴＭに類似しており、走査型プ
ローブ顕微鏡の一つとして位置づけられる。ＡＦＭで
は、カンチレバーの自由端に設けた鋭い突起部分（探針
部）を試料表面の近づけて支持し、探針先端の原子と試
料表面の原子の間の相互作用力により変位するカンチレ
バーの動きを電気的あるいは光学的にとらえ、これを一
定に保つ制御を行ないながら、探針を試料の表面（ＸＹ
方向）に走査することにより、試料の凹凸情報などを原
子サイズオーダで三次元的にとらえている。
ローブ顕微鏡の一つとして位置づけられる。ＡＦＭで
は、カンチレバーの自由端に設けた鋭い突起部分（探針
部）を試料表面の近づけて支持し、探針先端の原子と試
料表面の原子の間の相互作用力により変位するカンチレ
バーの動きを電気的あるいは光学的にとらえ、これを一
定に保つ制御を行ないながら、探針を試料の表面（ＸＹ
方向）に走査することにより、試料の凹凸情報などを原
子サイズオーダで三次元的にとらえている。
【０００４】ＡＦＭは、原子間力あるいは分子間力を検
知する。この方式は拡張性が高く、多くの発展した方式
が提案されている。ＡＦＭをさらに改良した方式である
水平力顕微鏡（LFM: Lateral Force Microscope ）は、
この数年間に観察や計測の分野で急速に用途が拡大しつ
つある。
知する。この方式は拡張性が高く、多くの発展した方式
が提案されている。ＡＦＭをさらに改良した方式である
水平力顕微鏡（LFM: Lateral Force Microscope ）は、
この数年間に観察や計測の分野で急速に用途が拡大しつ
つある。
【０００５】ＡＦＭでは、走査中、図６に示すように、
試料表面の形状を反映する垂直抗力Ｆｎによりカンチレ
バーにはＺ方向にたわみ変位が生じる。このたわみ変位
に基づいて、探針と試料の間の制御が行なわれる。
試料表面の形状を反映する垂直抗力Ｆｎによりカンチレ
バーにはＺ方向にたわみ変位が生じる。このたわみ変位
に基づいて、探針と試料の間の制御が行なわれる。
【０００６】しかし実際には、図７に示すように、走査
方向の摩擦力Ｆｔによりカンチレバーにはたわみ変位に
加えてねじれ変位も生じている。ＡＦＭにおいて、探針
試料間距離のサーボ制御は、たいていはたわみ変位に基
づいて行なわれている。このようなたわみ変位に基づく
制御により得られた試料表面の情報は、水平力つまりね
じれ変位が制御対象となっていないため、摩擦力等の影
響を受けたものとなる。このため、以下に述べる不都合
がある。 （ａ）探針に作用している力が厳密にはわからない。 （ｂ）探針を支持しているカンチレバーのねじれによっ
て、実際の探針と試料の接触点が、スキャナーから推定
される位置から数ナノメータずれる。このため走査方向
によって得られる像に若干ながら違いが生じる。 （ｃ）探針が段差などを通過する際に、姿勢変化が大き
く、像が鈍る。また、表面の凹凸が急激な場所や粘着力
の大きい試料に対しては、探針が傾いているため、最深
部と凹部側面の二箇所で接触し、試料のエッジパターン
近辺に測定誤差が生じる。
方向の摩擦力Ｆｔによりカンチレバーにはたわみ変位に
加えてねじれ変位も生じている。ＡＦＭにおいて、探針
試料間距離のサーボ制御は、たいていはたわみ変位に基
づいて行なわれている。このようなたわみ変位に基づく
制御により得られた試料表面の情報は、水平力つまりね
じれ変位が制御対象となっていないため、摩擦力等の影
響を受けたものとなる。このため、以下に述べる不都合
がある。 （ａ）探針に作用している力が厳密にはわからない。 （ｂ）探針を支持しているカンチレバーのねじれによっ
て、実際の探針と試料の接触点が、スキャナーから推定
される位置から数ナノメータずれる。このため走査方向
によって得られる像に若干ながら違いが生じる。 （ｃ）探針が段差などを通過する際に、姿勢変化が大き
く、像が鈍る。また、表面の凹凸が急激な場所や粘着力
の大きい試料に対しては、探針が傾いているため、最深
部と凹部側面の二箇所で接触し、試料のエッジパターン
近辺に測定誤差が生じる。
【０００７】これに対して、東京大学生産技術研究所の
川勝氏らが、「１９９２年度精密工学秋季大会講演会講
演論文集Ｈ１３，Ｈ１４」において、探針に作用する力
を二成分のベクトルとして検出し、これを用いて力の絶
対値を一定に保つ制御を行なうＡＦＭを提案している。
川勝氏らが、「１９９２年度精密工学秋季大会講演会講
演論文集Ｈ１３，Ｈ１４」において、探針に作用する力
を二成分のベクトルとして検出し、これを用いて力の絶
対値を一定に保つ制御を行なうＡＦＭを提案している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、東大生研の川
勝氏らの前述の論文に開示されているＡＦＭでは、カン
チレバーのたわみ変位とねじれ変位の制御を一つの圧電
体アクチュエータで行なっているため、以下に述べる問
題がある。 （１）カンチレバーのねじれ変位は、一次元（Ｚ軸）方
向に圧電体を収縮・伸長させることにより間接的に制御
されるため、このねじれ変位の制御は受動的である。 （２）一つの圧電体でカンチレバーのたわみ変位とねじ
れ変位を同時に制御するため、たわみ変位とねじれ変位
が相互干渉し、制御ループの応答性、追従性、安定性が
低い。 （３）ＡＦＭでは、試料面に対してカンチレバーの姿勢
を常に一定に保つ必要があるが、力の絶対値を一定に保
つ制御では、ねじれ変位に寄与する水平力を定量的に把
握していないため、カンチレバーの姿勢が常に一定に保
たれる保証がない。
勝氏らの前述の論文に開示されているＡＦＭでは、カン
チレバーのたわみ変位とねじれ変位の制御を一つの圧電
体アクチュエータで行なっているため、以下に述べる問
題がある。 （１）カンチレバーのねじれ変位は、一次元（Ｚ軸）方
向に圧電体を収縮・伸長させることにより間接的に制御
されるため、このねじれ変位の制御は受動的である。 （２）一つの圧電体でカンチレバーのたわみ変位とねじ
れ変位を同時に制御するため、たわみ変位とねじれ変位
が相互干渉し、制御ループの応答性、追従性、安定性が
低い。 （３）ＡＦＭでは、試料面に対してカンチレバーの姿勢
を常に一定に保つ必要があるが、力の絶対値を一定に保
つ制御では、ねじれ変位に寄与する水平力を定量的に把
握していないため、カンチレバーの姿勢が常に一定に保
たれる保証がない。
【０００９】本発明は、制御系の応答性や安定性がより
優れている走査型プローブ顕微鏡を提供することを目的
とする。また、走査中に探針の姿勢が常に一定に保つこ
とのできる走査型プローブ顕微鏡を提供することを目的
とする。
優れている走査型プローブ顕微鏡を提供することを目的
とする。また、走査中に探針の姿勢が常に一定に保つこ
とのできる走査型プローブ顕微鏡を提供することを目的
とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の走査型プローブ
顕微鏡は、自由端に探針を備えるカンチレバーと、カン
チレバーのたわみ変位とねじれ変位を検出する変位検出
手段と、探針を試料表面に対し走査する走査手段と、カ
ンチレバーのねじれ変位を一定に保つように制御するね
じれ制御手段と、カンチレバーのたわみ変位を制御する
たわみ制御手段と、走査手段とねじれ制御手段とたわみ
制御手段から情報を取り込み処理する処理手段とを備え
ている。
顕微鏡は、自由端に探針を備えるカンチレバーと、カン
チレバーのたわみ変位とねじれ変位を検出する変位検出
手段と、探針を試料表面に対し走査する走査手段と、カ
ンチレバーのねじれ変位を一定に保つように制御するね
じれ制御手段と、カンチレバーのたわみ変位を制御する
たわみ制御手段と、走査手段とねじれ制御手段とたわみ
制御手段から情報を取り込み処理する処理手段とを備え
ている。
【００１１】ねじれ制御手段は、所望のねじれ変位に対
応したねじれ変位基準信号を発生する手段、ねじれ変位
に対応したねじれ変位信号とねじれ変位基準信号の差を
求める手段、この差に基づいてカンチレバーにねじれ変
位を生じさせるねじれアクチュエーターで構成される。
ねじれアクチュエーターは、たとえば、供給電圧に応じ
てカンチレバーにねじれ変位を生じさせるように変形す
る、カンチレバーの面に設けた圧電薄膜で構成される。
応したねじれ変位基準信号を発生する手段、ねじれ変位
に対応したねじれ変位信号とねじれ変位基準信号の差を
求める手段、この差に基づいてカンチレバーにねじれ変
位を生じさせるねじれアクチュエーターで構成される。
ねじれアクチュエーターは、たとえば、供給電圧に応じ
てカンチレバーにねじれ変位を生じさせるように変形す
る、カンチレバーの面に設けた圧電薄膜で構成される。
【００１２】たわみ制御手段は、所望のたわみ変位に対
応したたわみ変位基準信号を発生する手段、たわみ変位
に対応したたわみ変位信号とたわみ変位基準信号の差を
求める手段、この差に基づいてカンチレバーと試料の間
の距離を制御するＺ方向アクチュエーターで構成され
る。
応したたわみ変位基準信号を発生する手段、たわみ変位
に対応したたわみ変位信号とたわみ変位基準信号の差を
求める手段、この差に基づいてカンチレバーと試料の間
の距離を制御するＺ方向アクチュエーターで構成され
る。
【００１３】走査手段は、ＸＹ走査信号を発生する走査
回路、カンチレバーと試料のＸＹ方向の相対位置を制御
するＸＹ方向アクチュエーターで構成される。Ｚ方向ア
クチュエーターとＸＹ方向アクチュエーターは、たとえ
ば、試料の位置をＸＹＺ方向に独立に制御するチューブ
型圧電アクチュエーターで構成される。
回路、カンチレバーと試料のＸＹ方向の相対位置を制御
するＸＹ方向アクチュエーターで構成される。Ｚ方向ア
クチュエーターとＸＹ方向アクチュエーターは、たとえ
ば、試料の位置をＸＹＺ方向に独立に制御するチューブ
型圧電アクチュエーターで構成される。
【００１４】
【作用】走査中、探針は試料表面に対する姿勢が一定に
保たれるように制御される。探針の姿勢は、それに働く
力により決まり、この力は荷重と水平力の二つのベクト
ルに分けられ、荷重と水平力はそれぞれカンチレバーの
たわみ変位とねじれ変位として検出される。カンチレバ
ーのたわみ変位とねじれ変位は、たわみ変位制御手段と
ねじれ変位制御手段により、それぞれ所定値に保たれる
ように独立に制御される。このため、たわみ変位とねじ
れ変位の相互干渉が抑制される。これにより、制御系の
応答性や安定性が改善され、高性能の力ベクトル制御が
行なえる。
保たれるように制御される。探針の姿勢は、それに働く
力により決まり、この力は荷重と水平力の二つのベクト
ルに分けられ、荷重と水平力はそれぞれカンチレバーの
たわみ変位とねじれ変位として検出される。カンチレバ
ーのたわみ変位とねじれ変位は、たわみ変位制御手段と
ねじれ変位制御手段により、それぞれ所定値に保たれる
ように独立に制御される。このため、たわみ変位とねじ
れ変位の相互干渉が抑制される。これにより、制御系の
応答性や安定性が改善され、高性能の力ベクトル制御が
行なえる。
【００１５】
【実施例】以下、図１〜図５を参照して本発明の実施例
について詳細に説明する。図１に本発明の実施例の走査
型プローブ顕微鏡の構成を示す。この装置は、探針を先
端に持つカンチレバーのねじれを制御できる圧電薄膜型
カンチレバー１００、カンチレバーのたわみ変位とねじ
れ変位を検出する変位センサー１０、垂直力と水平力の
目標指令値を出力する力ベクトル制御アルゴリズム発生
部２０、変位センサーの出力に基づいて探針に働く垂直
力と水平力を求め、これを力ベクトル制御アルゴリズム
発生部の出力する目標指令値に追従させる力制御部３
０、試料４８を載せる試料台４６、試料台を支持し試料
の位置を三次元的に制御する圧電体スキャナー４４、カ
ンチレバーのねじれを制御する駆動回路４０、圧電体ス
キャナーのＺ方向の伸縮を制御する駆動回路４２、圧電
体スキャナーをＸＹ方向に駆動させる走査信号発生器５
０、力制御部と走査信号発生器の出力を取り込み処理す
るコンピューター５２を有している。さらに、試料を所
定の電圧にバイアスする可変電源５４、接触電気抵抗測
定回路５６を有している。
について詳細に説明する。図１に本発明の実施例の走査
型プローブ顕微鏡の構成を示す。この装置は、探針を先
端に持つカンチレバーのねじれを制御できる圧電薄膜型
カンチレバー１００、カンチレバーのたわみ変位とねじ
れ変位を検出する変位センサー１０、垂直力と水平力の
目標指令値を出力する力ベクトル制御アルゴリズム発生
部２０、変位センサーの出力に基づいて探針に働く垂直
力と水平力を求め、これを力ベクトル制御アルゴリズム
発生部の出力する目標指令値に追従させる力制御部３
０、試料４８を載せる試料台４６、試料台を支持し試料
の位置を三次元的に制御する圧電体スキャナー４４、カ
ンチレバーのねじれを制御する駆動回路４０、圧電体ス
キャナーのＺ方向の伸縮を制御する駆動回路４２、圧電
体スキャナーをＸＹ方向に駆動させる走査信号発生器５
０、力制御部と走査信号発生器の出力を取り込み処理す
るコンピューター５２を有している。さらに、試料を所
定の電圧にバイアスする可変電源５４、接触電気抵抗測
定回路５６を有している。
【００１６】圧電薄膜型カンチレバー１００は、図２に
示すように、「T. R. Albrecht, S.Akamine, M. J. Zde
blick, C. F. Quate, J. Vac. Sci. Technol. A8(1), 3
17,(Jan./Feb., 1990)」に開示されているものと同じ構
成となっている。カンチレバー（レバー部）１１０は、
たとえばシリコン基板に異方性エッチングを施して作成
された支持部材１４０に固定されており、自由端に探針
１３０を有している。レバー部１１０は、その断面を図
３に示すように、いわゆるバイモルフ構造となってお
り、中間電極１２０の上下にそれぞれ圧電体１１８と１
２２が設けられ、圧電体１１８の上面に二枚の駆動電極
１１２と１１４とその間を延びる中央電極１１６が形成
され、同様に圧電体１２２の下面に二枚の駆動電極１２
４と１２６とその間を延びる中央電極１２８が形成され
ている。探針１３０は導電性材料からなり、中央電極１
１６の先端部の上に形成されている。レバー部１１０の
各電極は、図２に示したように、支持部材１４０に設け
た引き出し電極１４２、１４４、１４６、１４８、１５
０、１５２、１５４にそれぞれ接続されている。
示すように、「T. R. Albrecht, S.Akamine, M. J. Zde
blick, C. F. Quate, J. Vac. Sci. Technol. A8(1), 3
17,(Jan./Feb., 1990)」に開示されているものと同じ構
成となっている。カンチレバー（レバー部）１１０は、
たとえばシリコン基板に異方性エッチングを施して作成
された支持部材１４０に固定されており、自由端に探針
１３０を有している。レバー部１１０は、その断面を図
３に示すように、いわゆるバイモルフ構造となってお
り、中間電極１２０の上下にそれぞれ圧電体１１８と１
２２が設けられ、圧電体１１８の上面に二枚の駆動電極
１１２と１１４とその間を延びる中央電極１１６が形成
され、同様に圧電体１２２の下面に二枚の駆動電極１２
４と１２６とその間を延びる中央電極１２８が形成され
ている。探針１３０は導電性材料からなり、中央電極１
１６の先端部の上に形成されている。レバー部１１０の
各電極は、図２に示したように、支持部材１４０に設け
た引き出し電極１４２、１４４、１４６、１４８、１５
０、１５２、１５４にそれぞれ接続されている。
【００１７】変位センサー１０は、図１に示したよう
に、カンチレバー１００の自由端部にレーザービームを
照射し、その反射ビームを四分割フォトダイオード１４
で受光する光学部１２と、二つの差動アンプ１６と１８
を有している。カンチレバーのたわみ変位やねじれ変位
が変化すると、これに応じて四分割フォトダイオード１
４に対する反射ビームの入射位置も変化する。四分割フ
ォトダイオード１４の受光部を図に示したようにそれぞ
れP1、P2、P3、P4とし、その出力も同じくP1、P2、P3、
P4とすると、光学部１２はP1＋P4とP2＋P3を差動アンプ
１６に、P1＋P2とP3＋P4を差動アンプ１８に供給する。
差動アンプ１６は、P1＋P4とP2＋P3の差を演算し、ねじ
れ変位信号として出力する。差動アンプ１８は、P1＋P2
とP3＋P4の差を演算し、たわみ変位信号として出力す
る。
に、カンチレバー１００の自由端部にレーザービームを
照射し、その反射ビームを四分割フォトダイオード１４
で受光する光学部１２と、二つの差動アンプ１６と１８
を有している。カンチレバーのたわみ変位やねじれ変位
が変化すると、これに応じて四分割フォトダイオード１
４に対する反射ビームの入射位置も変化する。四分割フ
ォトダイオード１４の受光部を図に示したようにそれぞ
れP1、P2、P3、P4とし、その出力も同じくP1、P2、P3、
P4とすると、光学部１２はP1＋P4とP2＋P3を差動アンプ
１６に、P1＋P2とP3＋P4を差動アンプ１８に供給する。
差動アンプ１６は、P1＋P4とP2＋P3の差を演算し、ねじ
れ変位信号として出力する。差動アンプ１８は、P1＋P2
とP3＋P4の差を演算し、たわみ変位信号として出力す
る。
【００１８】力ベクトル制御アルゴリズム発生部２０
は、水平力の目標指令値Ｆｔ* と垂直力の目標指令値Ｆ
ｎ* を出力する。力制御部３０は、ねじれ変位信号をね
じれ変位に寄与する水平力に換算する換算器３１、水平
力の検出値Ｆｔと目標指令値Ｆｔ* の差を求める加算器
３２、加算器３２の出力に従いＰＩＤ（比例・積分・微
分）制御を行なうＰＩＤ制御部３４、たわみ変位信号を
たわみ変位に寄与する垂直力に換算する換算器３５、垂
直力の検出値Ｆｎと目標指令値Ｆｎ* を差を求める加算
器３６、加算器３６の出力に従いＰＩＤ制御を行なうＰ
ＩＤ制御部３８を有している。
は、水平力の目標指令値Ｆｔ* と垂直力の目標指令値Ｆ
ｎ* を出力する。力制御部３０は、ねじれ変位信号をね
じれ変位に寄与する水平力に換算する換算器３１、水平
力の検出値Ｆｔと目標指令値Ｆｔ* の差を求める加算器
３２、加算器３２の出力に従いＰＩＤ（比例・積分・微
分）制御を行なうＰＩＤ制御部３４、たわみ変位信号を
たわみ変位に寄与する垂直力に換算する換算器３５、垂
直力の検出値Ｆｎと目標指令値Ｆｎ* を差を求める加算
器３６、加算器３６の出力に従いＰＩＤ制御を行なうＰ
ＩＤ制御部３８を有している。
【００１９】測定中力ベクトル指令値に追従する制御法
を述べる。図４に示すように、力ベクトルは、カンチレ
バーのねじれ変位に寄与する力Ｆｔ成分とカンチレバー
のたわみ変位（引力あるいは斥力）に寄与する力Ｆｎに
分けられる。
を述べる。図４に示すように、力ベクトルは、カンチレ
バーのねじれ変位に寄与する力Ｆｔ成分とカンチレバー
のたわみ変位（引力あるいは斥力）に寄与する力Ｆｎに
分けられる。
【００２０】カンチレバーのたわみ変位の制御は、垂直
力の検出値Ｆｎを、力ベクトル制御アルゴリズム発生部
２０で作成した垂直力の目標指令値Ｆｎ* に追従させる
フィードバック制御によって行なわれる。
力の検出値Ｆｎを、力ベクトル制御アルゴリズム発生部
２０で作成した垂直力の目標指令値Ｆｎ* に追従させる
フィードバック制御によって行なわれる。
【００２１】カンチレバーのたわみ変位は、変位センサ
ー１０において（P1＋P2）−（P3＋P4）として検出され
る。変位センサー１０から出力されるたわみ変位信号
は、換算器３５において、次式に従って、たわみ変位に
寄与する垂直抗力Ｆｎに換算される。
ー１０において（P1＋P2）−（P3＋P4）として検出され
る。変位センサー１０から出力されるたわみ変位信号
は、換算器３５において、次式に従って、たわみ変位に
寄与する垂直抗力Ｆｎに換算される。
【００２２】Ｆｎ＝Ｋｎ・△Ｚ ここにＫｎは、カンチレバーのバネ定数で、レバー形
状、材質により決まる。△ＺはカンチレバーのＺ軸方向
の変位である。換算器３５は、このように求めたＦｎの
反転信号−Ｆｎを出力する。加算器３６は、換算器３５
の出力−Ｆｎと指令値Ｆｎ* を加算して出力する。すな
わち、垂直力の検出値Ｆｎと目標指令値Ｆｎ* の差を出
力する。この差信号に基づいて、ＰＩＤ制御部３８がＰ
ＩＤ制御を行う。ＰＩＤ制御部３８の出力は駆動回路４
２を介して圧電体スキャナー４４に供給され、Ｚ軸方向
に伸長収縮が制御される。この結果、カンチレバーのた
わみ変位が制御される。
状、材質により決まる。△ＺはカンチレバーのＺ軸方向
の変位である。換算器３５は、このように求めたＦｎの
反転信号−Ｆｎを出力する。加算器３６は、換算器３５
の出力−Ｆｎと指令値Ｆｎ* を加算して出力する。すな
わち、垂直力の検出値Ｆｎと目標指令値Ｆｎ* の差を出
力する。この差信号に基づいて、ＰＩＤ制御部３８がＰ
ＩＤ制御を行う。ＰＩＤ制御部３８の出力は駆動回路４
２を介して圧電体スキャナー４４に供給され、Ｚ軸方向
に伸長収縮が制御される。この結果、カンチレバーのた
わみ変位が制御される。
【００２３】カンチレバーのねじれ制御は、水平力の検
出値Ｆｔを、水平力の目標指令値Ｆｔ* に追従させるフ
ィードバック制御によって行なわれる。カンチレバーの
ねじれ変位は、４分割フォトダイオード１４の出力（P1
＋P4）−（P2＋P3）として検出され、ねじれ変位信号が
力制御部３０に入力される。ねじれ変位信号は、換算部
３１において、ねじれ変位に寄与する水平力Ｆｔに換算
される。換算部３１は−Ｆｔを出力する。加算器３２
は、−Ｆｔと指令値Ｆｔ*を加算して出力する。すなわ
ち、水平力の検出値Ｆｔと目標指令値Ｆｔ* の差が求め
られる。ＰＩＤ制御部３４は、この加算器３２の出力に
基づいて、ＰＩＤ制御を行なう。ＰＩＤ制御部３４の出
力は、駆動回路４０を介して圧電薄膜型カンチレバー１
００に入力される。例えば、図２において、電極１５０
を基準電位とし、電極１４２と１４８に正電圧、電極１
４４と１４６に負電圧が印加され、ｙ軸回りのねじれ変
位が制御される。
出値Ｆｔを、水平力の目標指令値Ｆｔ* に追従させるフ
ィードバック制御によって行なわれる。カンチレバーの
ねじれ変位は、４分割フォトダイオード１４の出力（P1
＋P4）−（P2＋P3）として検出され、ねじれ変位信号が
力制御部３０に入力される。ねじれ変位信号は、換算部
３１において、ねじれ変位に寄与する水平力Ｆｔに換算
される。換算部３１は−Ｆｔを出力する。加算器３２
は、−Ｆｔと指令値Ｆｔ*を加算して出力する。すなわ
ち、水平力の検出値Ｆｔと目標指令値Ｆｔ* の差が求め
られる。ＰＩＤ制御部３４は、この加算器３２の出力に
基づいて、ＰＩＤ制御を行なう。ＰＩＤ制御部３４の出
力は、駆動回路４０を介して圧電薄膜型カンチレバー１
００に入力される。例えば、図２において、電極１５０
を基準電位とし、電極１４２と１４８に正電圧、電極１
４４と１４６に負電圧が印加され、ｙ軸回りのねじれ変
位が制御される。
【００２４】また、力ベクトル制御アルゴリズム発生部
２０では、力ベクトル（斥力領域あるいは引力領域）制
御、力振幅（抗力）一定制御、水平力一定制御、垂直抗
力一定制御などの制御アルゴリズムを発生することがで
きる。
２０では、力ベクトル（斥力領域あるいは引力領域）制
御、力振幅（抗力）一定制御、水平力一定制御、垂直抗
力一定制御などの制御アルゴリズムを発生することがで
きる。
【００２５】例えば、探針に作用している力ベクトルＦ
を一定に保つ制御では、力ベクトル制御アルゴリズム発
生部２０で力ベクトルの指令値を作成し、力ベクトルを
図５の円上のＡ点に制御する。制御アルゴリズムは次の
ようになる。まず、フォース・カーブで垂直力の力の指
令値Ｆｎ* を設定する。次に、水平力の指令値Ｆｔ*は
を一定に保つ制御では、力ベクトル制御アルゴリズム発
生部２０で力ベクトルの指令値を作成し、力ベクトルを
図５の円上のＡ点に制御する。制御アルゴリズムは次の
ようになる。まず、フォース・カーブで垂直力の力の指
令値Ｆｎ* を設定する。次に、水平力の指令値Ｆｔ*は
【００２６】
【数１】 となる。
【００２７】±Ｘ方向に走査時の行きと返りの両方で、
画像データを取り込む場合は、折り返す時点で水平力の
指令値Ｆｔ* の符号を反転させる。即ち、＋Ｘ方向に走
査時に、力ベクトルの指令値Ｆ* をＡ’点に制御し、−
Ｘ方向に走査時に、力ベクトルの指令値Ｆ* をＡ点に制
御する。
画像データを取り込む場合は、折り返す時点で水平力の
指令値Ｆｔ* の符号を反転させる。即ち、＋Ｘ方向に走
査時に、力ベクトルの指令値Ｆ* をＡ’点に制御し、−
Ｘ方向に走査時に、力ベクトルの指令値Ｆ* をＡ点に制
御する。
【００２８】また、ＸＹ方向に走査しながら、試料表面
の凹凸および摩擦状態に応じてＺ軸方向のたわみ制御電
圧とねじれ制御電圧を取り込むことによって試料表面の
凹凸情報と摩擦情報が得られる。
の凹凸および摩擦状態に応じてＺ軸方向のたわみ制御電
圧とねじれ制御電圧を取り込むことによって試料表面の
凹凸情報と摩擦情報が得られる。
【００２９】さらに、可変電源５４と接触抵抗測定回路
５６を備えていることにより、ナノニュートンオーダー
の静電力及び微小接触電気抵抗を容易に測定できる。ま
た上述の装置では、ナノメートルオーダの表面形状、表
面粗さ、摩耗、ナノニュートンオーダの凝着力、加工力
も容易に測定でき、従って表面層や薄膜の機械特性を高
精度で測定できる。
５６を備えていることにより、ナノニュートンオーダー
の静電力及び微小接触電気抵抗を容易に測定できる。ま
た上述の装置では、ナノメートルオーダの表面形状、表
面粗さ、摩耗、ナノニュートンオーダの凝着力、加工力
も容易に測定でき、従って表面層や薄膜の機械特性を高
精度で測定できる。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、カンチレバーのたわみ
変位とねじれ変位を二つのアクチュエーターを用いて互
いに独立に制御しているので、たわみ変位とねじれ変位
の相互干渉が抑制され、高速で安定な力ベクトル制御が
行なえる。
変位とねじれ変位を二つのアクチュエーターを用いて互
いに独立に制御しているので、たわみ変位とねじれ変位
の相互干渉が抑制され、高速で安定な力ベクトル制御が
行なえる。
【００３１】このように、たわみ変位とねじれ変位を独
立に制御するので、探針の垂直力（荷重）と水平力の定
量的な制御が行なえる。従って、走査中、試料表面に対
する探針の姿勢を常に一定に保つことができる。この結
果、走査方向に依存しない、より正確な画像が得られ
る。
立に制御するので、探針の垂直力（荷重）と水平力の定
量的な制御が行なえる。従って、走査中、試料表面に対
する探針の姿勢を常に一定に保つことができる。この結
果、走査方向に依存しない、より正確な画像が得られ
る。
【００３２】また、ナノオーダでのマニピュレーターと
して操作できる。さらに、ひとつの装置でナノメートル
オーダの表面形状、表面粗さ、摩耗、ナノニュートンオ
ーダの摩擦力、凝着力、加工力、静電気力、接触電気抵
抗を容易に測定でき、表面層や薄膜の機械特性を高精度
で測定できる。
して操作できる。さらに、ひとつの装置でナノメートル
オーダの表面形状、表面粗さ、摩耗、ナノニュートンオ
ーダの摩擦力、凝着力、加工力、静電気力、接触電気抵
抗を容易に測定でき、表面層や薄膜の機械特性を高精度
で測定できる。
【図１】本発明の実施例の走査型プローブ顕微鏡の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図２】図１に示した圧電薄膜型カンチレバーの斜視図
である。
である。
【図３】図２のレバー部をIII-III 線で破断した断面図
である。
である。
【図４】力Ｆとその成分である水平力Ｆｔと垂直力Ｆｎ
の関係を示す図である。
の関係を示す図である。
【図５】走査方向と力Ｆの関係を示す図である。
【図６】カンチレバーがたわむ様子を示した図である。
【図７】カンチレバーがねじれる様子を示した図であ
る。
る。
【符号の説明】 １０…変位センサー、３０…力制御部、４４…圧電体ア
クチュエーター、５０…走査信号発生器、１００…圧電
薄膜型カンチレバー。
クチュエーター、５０…走査信号発生器、１００…圧電
薄膜型カンチレバー。
Claims (1)
- 【請求項１】 自由端に探針を備えるカンチレバーと、 カンチレバーのたわみ変位とねじれ変位を検出する変位
検出手段と、 探針を試料表面に対し走査する走査手段と、 カンチレバーのねじれ変位を一定に保つように制御する
ねじれ制御手段と、 カンチレバーのたわみ変位を制御するたわみ制御手段
と、 走査手段とねじれ制御手段とたわみ制御手段から情報を
取り込み処理する処理手段とを備えている走査型プロー
ブ顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5323551A JPH07181028A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5323551A JPH07181028A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07181028A true JPH07181028A (ja) | 1995-07-18 |
Family
ID=18155966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5323551A Withdrawn JPH07181028A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | 走査型プローブ顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07181028A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102721834A (zh) * | 2011-03-04 | 2012-10-10 | 精工电子纳米科技有限公司 | 摩擦力显微镜 |
| EP3226009A1 (en) * | 2016-03-29 | 2017-10-04 | Hitachi High-Tech Science Corporation | Scanning probe microscope and probe contact detection method |
| CN110907663A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-03-24 | 哈尔滨工业大学 | 基于t状悬臂梁探针的开尔文探针力显微镜测量方法 |
-
1993
- 1993-12-22 JP JP5323551A patent/JPH07181028A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102721834A (zh) * | 2011-03-04 | 2012-10-10 | 精工电子纳米科技有限公司 | 摩擦力显微镜 |
| CN102721834B (zh) * | 2011-03-04 | 2016-03-16 | 日本株式会社日立高新技术科学 | 摩擦力显微镜 |
| EP3226009A1 (en) * | 2016-03-29 | 2017-10-04 | Hitachi High-Tech Science Corporation | Scanning probe microscope and probe contact detection method |
| KR20170113160A (ko) * | 2016-03-29 | 2017-10-12 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 | 주사형 프로브 현미경 및 그 프로브 접촉 검출 방법 |
| US10151773B2 (en) | 2016-03-29 | 2018-12-11 | Hitachi High-Tech Science Corporation | Scanning probe microscope and probe contact detection method |
| CN110907663A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-03-24 | 哈尔滨工业大学 | 基于t状悬臂梁探针的开尔文探针力显微镜测量方法 |
| CN110907663B (zh) * | 2019-12-18 | 2021-12-21 | 哈尔滨工业大学 | 基于t状悬臂梁探针的开尔文探针力显微镜测量方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010306 |