JPH0718025B2 - 放電化学反応装置の回転磁界発生装置 - Google Patents
放電化学反応装置の回転磁界発生装置Info
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- JPH0718025B2 JPH0718025B2 JP62112036A JP11203687A JPH0718025B2 JP H0718025 B2 JPH0718025 B2 JP H0718025B2 JP 62112036 A JP62112036 A JP 62112036A JP 11203687 A JP11203687 A JP 11203687A JP H0718025 B2 JPH0718025 B2 JP H0718025B2
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、真空中で放電プラズマにより化学反応を起こ
させて、被処理物表面上にて薄膜を作成したり、エッチ
ングを行なったりする放電化学反応装置の、該被処理物
表面に印加する回転磁界の発生装置に関する。
させて、被処理物表面上にて薄膜を作成したり、エッチ
ングを行なったりする放電化学反応装置の、該被処理物
表面に印加する回転磁界の発生装置に関する。
（従来の技術） 真空中における放電化学反応を利用し薄膜を作ったりエ
ッチングを行ったりする装置では、電界に直交する方向
の磁界を印加するマグネトロン方式の採用によって放電
のプラズマ密度を高くし、化学反応を高速化し、より低
圧，低温で、より純度の高い薄膜を作成したり、より高
速に質の良いエッチングを行なうことが可能となること
はよく知られている。これには電極の裏面に永久磁石ま
たは電磁石を配置したり、真空容器を囲んでヘルムホル
ツコイルを配置するなどの工夫がなされている。（特公
昭59−15982号公報参照） またこのとき、被処理物表面で薄膜の作成あるいはエッ
チングを均一化するには、前記印加磁界を交番磁界にし
たり、回転磁界とするのが有効であることも知られてお
り、特開昭61−86942号公報「回転磁界を用いた放電反
応装置」の明細書には第13図，第14図のような空心のコ
イルを利用する回転磁界発生装置につき記載がある。
ッチングを行ったりする装置では、電界に直交する方向
の磁界を印加するマグネトロン方式の採用によって放電
のプラズマ密度を高くし、化学反応を高速化し、より低
圧，低温で、より純度の高い薄膜を作成したり、より高
速に質の良いエッチングを行なうことが可能となること
はよく知られている。これには電極の裏面に永久磁石ま
たは電磁石を配置したり、真空容器を囲んでヘルムホル
ツコイルを配置するなどの工夫がなされている。（特公
昭59−15982号公報参照） またこのとき、被処理物表面で薄膜の作成あるいはエッ
チングを均一化するには、前記印加磁界を交番磁界にし
たり、回転磁界とするのが有効であることも知られてお
り、特開昭61−86942号公報「回転磁界を用いた放電反
応装置」の明細書には第13図，第14図のような空心のコ
イルを利用する回転磁界発生装置につき記載がある。
（発明が解決しようとする問題点） この従来の第13図，第14図の空心コイルに電流を流して
する回転磁界発生装置にはつぎの欠点がある。即ち、 1.大きいコイルが必要であり、場所をとり、その配管に
困難がある。
する回転磁界発生装置にはつぎの欠点がある。即ち、 1.大きいコイルが必要であり、場所をとり、その配管に
困難がある。
2.コイルを大きくしても、磁界の強度分布は一様性に欠
け、処理が不均一になり易い。
け、処理が不均一になり易い。
3.コイルから外側へ磁束の漏洩が大きく、その為、鉄系
の構造物が外部にあると、磁化して吸引，振動や発熱を
生ずる。
の構造物が外部にあると、磁化して吸引，振動や発熱を
生ずる。
4.上記の漏洩を防止するシールドを置くことも考えられ
るが、装置が大型となり、発熱によって少なからぬエネ
ルギーロスを生じる。
るが、装置が大型となり、発熱によって少なからぬエネ
ルギーロスを生じる。
5.大電流を要し、電源には大容量のものが必要である。
従って、少ない励磁電流でしかも十分に強い磁界による
高密度のプラズマを利用出来るようにする何らかの新し
い磁界印加手段が要求される。
高密度のプラズマを利用出来るようにする何らかの新し
い磁界印加手段が要求される。
（発明の目的） 本発明は、放電化学反応装置の化学反応処理場所に、瞬
時的には方向と強さがほぼ一様で、その方向が時間とと
もに回転するような磁界を発生することの出来る、小型
化された回転磁界発生装置の提供を目的とする。
時的には方向と強さがほぼ一様で、その方向が時間とと
もに回転するような磁界を発生することの出来る、小型
化された回転磁界発生装置の提供を目的とする。
（問題点を解決するための手段） 磁界の発生には電磁石を利用するのが有利であるが、面
積の大きい被処理物表面の全体に対して磁束密度を均一
に分布させようとすると、磁界発生用の電磁石の磁極の
直径はどうしても大きくなり、また対向する電磁石の磁
極間の距離が大きく離れているので、電磁コイルに供給
する電流も可成り増加することになり工夫を必要とす
る。
積の大きい被処理物表面の全体に対して磁束密度を均一
に分布させようとすると、磁界発生用の電磁石の磁極の
直径はどうしても大きくなり、また対向する電磁石の磁
極間の距離が大きく離れているので、電磁コイルに供給
する電流も可成り増加することになり工夫を必要とす
る。
本発明は、放電化学反応処理場所の周りに閉じた磁路を
形成するヨークと、該ヨークから内側に向かって突出す
る六の整数倍の磁極と、該磁極のそれぞれに各独立して
巻かれたコイルとを備えた電磁石よりなり、該コイル
は、該処理場所を挟んで対峙する半周分の磁極群から出
た磁束が他の半周分の磁極群に向かうとともに該処理場
所を覆うほぼ一方向性の磁界であって時間とともに前記
処理場所を中心にして連続またはステップ状に回転する
磁界を設定するような電流が印加通電されるものである
という構成を有する。
形成するヨークと、該ヨークから内側に向かって突出す
る六の整数倍の磁極と、該磁極のそれぞれに各独立して
巻かれたコイルとを備えた電磁石よりなり、該コイル
は、該処理場所を挟んで対峙する半周分の磁極群から出
た磁束が他の半周分の磁極群に向かうとともに該処理場
所を覆うほぼ一方向性の磁界であって時間とともに前記
処理場所を中心にして連続またはステップ状に回転する
磁界を設定するような電流が印加通電されるものである
という構成を有する。
（作用） これにより、処理場所一面に、瞬時的には方向と強さが
ほぼ一様で、かつ、その方向が時間的に回転する磁界が
印加される。
ほぼ一様で、かつ、その方向が時間的に回転する磁界が
印加される。
（実施例） 次に、この発明の実施例を図面により詳しく説明する。
第１図（平面断面図）はこの発明の実施例であり、１は
ヨーク、21,22,23,24,25,26は磁極、31,32,33,34,35,36
はコイル、４は磁束、51,52,53,54,55,56は励磁用電
源、６は真空処理室（の壁）、中央の10は処理場所であ
る。装置は回転対称形である。
ヨーク、21,22,23,24,25,26は磁極、31,32,33,34,35,36
はコイル、４は磁束、51,52,53,54,55,56は励磁用電
源、６は真空処理室（の壁）、中央の10は処理場所であ
る。装置は回転対称形である。
真空処理室６には、排気する手段、気体を導入する手段
などが接続されている。また真空処理室６の内部に設置
した電極および対向電極には、13.56MHzもしくはその他
の周波数の高周波又は直流の電源を接続して電界を加え
ており、ここでは、その電界と直交する方向に磁界を印
加せんとしているのであるが、それら部材の図示は省略
した。
などが接続されている。また真空処理室６の内部に設置
した電極および対向電極には、13.56MHzもしくはその他
の周波数の高周波又は直流の電源を接続して電界を加え
ており、ここでは、その電界と直交する方向に磁界を印
加せんとしているのであるが、それら部材の図示は省略
した。
次に、第１図、第３図及び第５図を使用して、瞬時的に
は一方向性かつほぼ一様な磁界を回転させる作用につい
て説明する。
は一方向性かつほぼ一様な磁界を回転させる作用につい
て説明する。
第１図に示す実施例は、六極の場合の実施例であり、右
上部分から時計回りで21,22,23,24,25,26の六つの磁極
が配置されている。これらの磁極は、周状に配置された
ヨーク１の内側に等間隔で突出して設けられている。そ
して、各々の磁極21,22,23,24,25,26には、コイル31,3
2,33,34,35,36の各独立して巻かれている。各々のコイ
ル31,32,33,34,35,36には、励磁用電源51,52,53,54,55,
56が接続され、後述のような励磁電源が印加通電される
ようになっている。このような磁極21,22,23,24,25,26
とそれらに巻かれたコイル31,32,33,34,35,36によっ
て、本実施例の電磁石が構成されている。
上部分から時計回りで21,22,23,24,25,26の六つの磁極
が配置されている。これらの磁極は、周状に配置された
ヨーク１の内側に等間隔で突出して設けられている。そ
して、各々の磁極21,22,23,24,25,26には、コイル31,3
2,33,34,35,36の各独立して巻かれている。各々のコイ
ル31,32,33,34,35,36には、励磁用電源51,52,53,54,55,
56が接続され、後述のような励磁電源が印加通電される
ようになっている。このような磁極21,22,23,24,25,26
とそれらに巻かれたコイル31,32,33,34,35,36によっ
て、本実施例の電磁石が構成されている。
さて、第１図に示すように、処理場所10に左から右に向
かうほぼ一方向性の磁界が設定される場合について説明
すると、上記六つの磁極21,22,23,24,25,26を左側の磁
極群24,25,26と右側の磁極群21,22,23に分ける。そし
て、それら処理場所10を挟んで対峙する半周分の磁極群
24,25,26から出た磁束41,42,43が他の半周分の磁極群2
1,22,23に向かうようにして、処理場所10を覆うほぼ一
方向性の磁界を設定するようにする。
かうほぼ一方向性の磁界が設定される場合について説明
すると、上記六つの磁極21,22,23,24,25,26を左側の磁
極群24,25,26と右側の磁極群21,22,23に分ける。そし
て、それら処理場所10を挟んで対峙する半周分の磁極群
24,25,26から出た磁束41,42,43が他の半周分の磁極群2
1,22,23に向かうようにして、処理場所10を覆うほぼ一
方向性の磁界を設定するようにする。
この第１図に示すような磁束41,42,43が設定されるよう
にするには、例えば、処理場所10を挟んで相対する一対
の磁極毎に60°宛異なる三相の電流を印加するようにす
れば良い。
にするには、例えば、処理場所10を挟んで相対する一対
の磁極毎に60°宛異なる三相の電流を印加するようにす
れば良い。
第３図には、上記第１図の電磁石で回転磁界を作るため
の励磁電流の印加方法を示す。ベクトル図を第３図ｃに
示すような対称三相交流Ｕ−Ｖ−Ｗの、一相の電圧Ｗ−
Ｕを反転し、第３図ａに示す符号のように各コイルに電
圧を印加すると、そのときのベクトル図は第３図ｂに示
すものとなり、各電圧の位相は60°宛の位相差を持つ。
（循環して示すときの位相差は、60°,60°,240°とな
る。） 第３図ｂに点線に示したベクトルＡは、上記全ての電圧
ベクトルの合成ベクトルであって、方向はＵ−Ｗと同
じ、大きさはその２倍である。第５図にこのときの各磁
極のコイルに流れる電流の波型Ｕ−V,V−W,U−Ｗを示
す。横軸は時間、縦軸は電流値である。その合成波Ｂは
即ちベクトルＡの回転に対応する波である。
の励磁電流の印加方法を示す。ベクトル図を第３図ｃに
示すような対称三相交流Ｕ−Ｖ−Ｗの、一相の電圧Ｗ−
Ｕを反転し、第３図ａに示す符号のように各コイルに電
圧を印加すると、そのときのベクトル図は第３図ｂに示
すものとなり、各電圧の位相は60°宛の位相差を持つ。
（循環して示すときの位相差は、60°,60°,240°とな
る。） 第３図ｂに点線に示したベクトルＡは、上記全ての電圧
ベクトルの合成ベクトルであって、方向はＵ−Ｗと同
じ、大きさはその２倍である。第５図にこのときの各磁
極のコイルに流れる電流の波型Ｕ−V,V−W,U−Ｗを示
す。横軸は時間、縦軸は電流値である。その合成波Ｂは
即ちベクトルＡの回転に対応する波である。
より具体的に説明すると、磁極25を励磁するコイル35と
磁極22を励磁する磁極32に、Ｕ−Ｗの電流を印加する。
そして、磁極26を励磁するコイル36と磁極23を励磁する
コイル33に前記Ｕ−Ｗより60°進んだＶ−Ｗの電流を印
加し、磁極24を励磁するコイル34と磁極21を励磁するコ
イル31に前記Ｕ−Ｗより60°遅れたＵ−Ｖの電流を印加
する。このように励磁すると、磁極25と磁極22との間に
磁束42が設定され、磁極26と磁極21との間に磁束41が設
定され、磁極24と磁極23との間に磁束43が設定される。
このようにして、処理場所10を覆ってほぼ一様な磁界が
設定される。ヨーク１と磁極が有るので磁界の強さは励
磁電流が小さいにも拘らず大である。
磁極22を励磁する磁極32に、Ｕ−Ｗの電流を印加する。
そして、磁極26を励磁するコイル36と磁極23を励磁する
コイル33に前記Ｕ−Ｗより60°進んだＶ−Ｗの電流を印
加し、磁極24を励磁するコイル34と磁極21を励磁するコ
イル31に前記Ｕ−Ｗより60°遅れたＵ−Ｖの電流を印加
する。このように励磁すると、磁極25と磁極22との間に
磁束42が設定され、磁極26と磁極21との間に磁束41が設
定され、磁極24と磁極23との間に磁束43が設定される。
このようにして、処理場所10を覆ってほぼ一様な磁界が
設定される。ヨーク１と磁極が有るので磁界の強さは励
磁電流が小さいにも拘らず大である。
尚、コイル36とコイル31、及び、コイル34とコイル33に
は、各々120°ずつ異なる電流が印加されることになる
が、第５図に示すように、コイル35とコイル32に印加さ
れた電流（Ｕ−Ｗ）が極大値を取った瞬間でそれらは同
極性の電流になるので、上述のような磁束41,43が設定
されるのである。
は、各々120°ずつ異なる電流が印加されることになる
が、第５図に示すように、コイル35とコイル32に印加さ
れた電流（Ｕ−Ｗ）が極大値を取った瞬間でそれらは同
極性の電流になるので、上述のような磁束41,43が設定
されるのである。
このような三相交流電流（Ｕ−W,V−W,U−Ｖ）が印加さ
れることによって、処理場所10に回転磁場が設定される
のが容易に理解されよう。そのような回転磁場のベクト
ルは、60°宛ずれた三相交流のうちの真ん中の一相（Ｕ
−Ｗ）の位相に一致している。即ち、第５図に示す合成
波Ｂが回転磁場のベクトルを示している。
れることによって、処理場所10に回転磁場が設定される
のが容易に理解されよう。そのような回転磁場のベクト
ルは、60°宛ずれた三相交流のうちの真ん中の一相（Ｕ
−Ｗ）の位相に一致している。即ち、第５図に示す合成
波Ｂが回転磁場のベクトルを示している。
第２図（平面断面図）は、磁極数を十二に変更した場合
の実施例である。この実施例では、十二の磁極を相隣る
２個の磁極ずつに区分して六つの磁極群とし、この六つ
の磁極群の各々のコイルを、第１図の六つのコイル31,3
2,33,34,35,36と同様に励磁する。即ち、磁極21−１と
磁極21−２よりなる磁極群21のコイルと、磁極24−１と
磁極24−２よりなる磁極群24のコイルに対して、前述と
同様の三相交流の一相Ｖ−Ｗを印加し、磁極22−１と磁
極22−２よりなる磁極群22のコイルと、磁極25−１と磁
極25−２よりなる磁極群25のコイルに対して、前述と同
様の三相交流の一相Ｕ−Ｗを印加し、磁極23−１と磁極
23−２よりなる磁極群23のコイルと、磁極26−１と磁極
26−２よりなる磁極群26のコイルに対して、前述と同様
の三相交流の一相Ｕ−Ｖを印加するのである。これによ
って、瞬時的には第２図の点線４で示すように磁束が分
布して処理場所を覆う一様な磁界が設定され、それが時
間的に回転することになる。尚、この実施例では、十二
の磁極を用いていることから磁界強度の分布は第１図の
場合よりも均一性においてすぐれる。
の実施例である。この実施例では、十二の磁極を相隣る
２個の磁極ずつに区分して六つの磁極群とし、この六つ
の磁極群の各々のコイルを、第１図の六つのコイル31,3
2,33,34,35,36と同様に励磁する。即ち、磁極21−１と
磁極21−２よりなる磁極群21のコイルと、磁極24−１と
磁極24−２よりなる磁極群24のコイルに対して、前述と
同様の三相交流の一相Ｖ−Ｗを印加し、磁極22−１と磁
極22−２よりなる磁極群22のコイルと、磁極25−１と磁
極25−２よりなる磁極群25のコイルに対して、前述と同
様の三相交流の一相Ｕ−Ｗを印加し、磁極23−１と磁極
23−２よりなる磁極群23のコイルと、磁極26−１と磁極
26−２よりなる磁極群26のコイルに対して、前述と同様
の三相交流の一相Ｕ−Ｖを印加するのである。これによ
って、瞬時的には第２図の点線４で示すように磁束が分
布して処理場所を覆う一様な磁界が設定され、それが時
間的に回転することになる。尚、この実施例では、十二
の磁極を用いていることから磁界強度の分布は第１図の
場合よりも均一性においてすぐれる。
詳しい説明は省略するが、更に磁極を六の整数ｎ倍ずつ
増やし、磁極数を十八、二十四、…として相隣るｎ個の
磁極を第２図に示すのと同様に60°宛ずれた三相交流電
流を印加通電することによって、より均一な磁界強度の
分布を得ることができる。ただし磁極数を多くすると、
巻回できるコイル有効断面積が小さくなるため、励磁の
総アンペアターン数も小さくなり必ずしも得策でない。
増やし、磁極数を十八、二十四、…として相隣るｎ個の
磁極を第２図に示すのと同様に60°宛ずれた三相交流電
流を印加通電することによって、より均一な磁界強度の
分布を得ることができる。ただし磁極数を多くすると、
巻回できるコイル有効断面積が小さくなるため、励磁の
総アンペアターン数も小さくなり必ずしも得策でない。
第４図は、第２図の十二磁極の電磁石に前記とは異なる
電圧を印加する実施例の場合を示す。
電圧を印加する実施例の場合を示す。
第４図ｃのトランスで、１次側のΔ結線三相交流電圧UV
Wから、２次側に、Δ結線三相交流電圧uvwと、Ｙ結線の
三相交流電圧strを得る。Δ結線で得られた各電圧と、
Ｙ結線得られた各電圧は、互いに30°の位相差をもって
いる。第４図ｄはそのベクトル図を示すものである。
Wから、２次側に、Δ結線三相交流電圧uvwと、Ｙ結線の
三相交流電圧strを得る。Δ結線で得られた各電圧と、
Ｙ結線得られた各電圧は、互いに30°の位相差をもって
いる。第４図ｄはそのベクトル図を示すものである。
さてこれらの２次側電圧を、第２図の電磁石の各コイル
に対し、第４図ａのように印加する。ここでもそれぞれ
の三相のうちの一相の電圧は反転して印加されている。
第６図に各コイルに流れる電流の波形を描くが、各コイ
ル電流は30°の位相差（循環して示すときの位相差は、
30°,30°,30°,30°,30°,210°となる。）を持って、
六相となっている。印加された電圧のベクトル図を第４
図ｂに示す。各三相電圧ベクトルの合成ベクトルは点線
のA1,A2のようになる。これによって磁界の回転は先の
実施例より遥かになめらかになる。
に対し、第４図ａのように印加する。ここでもそれぞれ
の三相のうちの一相の電圧は反転して印加されている。
第６図に各コイルに流れる電流の波形を描くが、各コイ
ル電流は30°の位相差（循環して示すときの位相差は、
30°,30°,30°,30°,30°,210°となる。）を持って、
六相となっている。印加された電圧のベクトル図を第４
図ｂに示す。各三相電圧ベクトルの合成ベクトルは点線
のA1,A2のようになる。これによって磁界の回転は先の
実施例より遥かになめらかになる。
第６図にこのときの各磁極のコイルに流れる電流の波形
ｕ−v,v−w,u−w,r−s,s−t,r−ｔを示す。横軸は時
間、縦軸は電流値である。その合成波Ｃに対応する磁束
が、第２図の処理場所10を覆う一方向性の磁界を作り、
回転することになる。
ｕ−v,v−w,u−w,r−s,s−t,r−ｔを示す。横軸は時
間、縦軸は電流値である。その合成波Ｃに対応する磁束
が、第２図の処理場所10を覆う一方向性の磁界を作り、
回転することになる。
この場合も、第１図に対する第２図と同様に、磁極数を
12の整数（ｎ）倍にして、相隣るｎ個の磁極よりなる磁
極群のコイルごとに位相の30°宛異なる六相の電流を印
加通電して励磁する方法で、処理場所を覆う磁界強度の
分布の均一性を向上させることが出来る。
12の整数（ｎ）倍にして、相隣るｎ個の磁極よりなる磁
極群のコイルごとに位相の30°宛異なる六相の電流を印
加通電して励磁する方法で、処理場所を覆う磁界強度の
分布の均一性を向上させることが出来る。
第７図ａは第３図ａの結線図に対応するもので、第２図
の電磁石に印加する電流を（三相交流電流から）正負の
直流電流のON,OFFに変更したものである。Ａ〜Ｆは直流
電源であって、それぞれの出力電流は制御装置Ｇで一括
制御されて第７図ｂに示すような位相関係を保ちつつ推
移するものになっている。この励磁により、第２図の電
磁石は処理場所10を覆って一方向性の磁界を作り、それ
が（連続回転ではなく）スッテプ状に回転するようにな
る。磁界の強さの一様性は、このままでは三相交流電流
の第３図ａの場合よりもやや劣るが、各電流の波高値に
変化を与えることで改善可能である。
の電磁石に印加する電流を（三相交流電流から）正負の
直流電流のON,OFFに変更したものである。Ａ〜Ｆは直流
電源であって、それぞれの出力電流は制御装置Ｇで一括
制御されて第７図ｂに示すような位相関係を保ちつつ推
移するものになっている。この励磁により、第２図の電
磁石は処理場所10を覆って一方向性の磁界を作り、それ
が（連続回転ではなく）スッテプ状に回転するようにな
る。磁界の強さの一様性は、このままでは三相交流電流
の第３図ａの場合よりもやや劣るが、各電流の波高値に
変化を与えることで改善可能である。
第８図，第９図にはヨークの形状を多角形化してコイル
の形状を簡単にしたままコイルが多回数巻けるようにし
たものである。
の形状を簡単にしたままコイルが多回数巻けるようにし
たものである。
第10図は、第１図や第２図の電磁石の正面断面図の一例
である。磁界の強さが不足するときにはこれを複数段重
ねて用いる。更に、第11図，第12図に示すように上下段
の電磁石のヨークを連結することもある。
である。磁界の強さが不足するときにはこれを複数段重
ねて用いる。更に、第11図，第12図に示すように上下段
の電磁石のヨークを連結することもある。
本発明の電磁石は、上述の実施例のように真空処理容器
の外側、大気中に置くことに使用法を限定されない。真
空処理容器の内部にて、処理場所に近接して電磁石を設
置することで、装置を小型化し、小さい電流で強い磁界
を得ることが出来る。
の外側、大気中に置くことに使用法を限定されない。真
空処理容器の内部にて、処理場所に近接して電磁石を設
置することで、装置を小型化し、小さい電流で強い磁界
を得ることが出来る。
また、励磁用電源の周波数も、（商用）交流の50または
60Hzに限定されるものではなく、むしろ、インバーター
やサイクロコンバーターなどを用いた、50Hz以下の低い
周波数の電源の方が、渦電流損失等の損失が少なくて有
利である。
60Hzに限定されるものではなく、むしろ、インバーター
やサイクロコンバーターなどを用いた、50Hz以下の低い
周波数の電源の方が、渦電流損失等の損失が少なくて有
利である。
（発明の効果） 本発明は、放電化学反応装置の化学反応処理場所に、瞬
時的には方向と強さがほぼ一様で、その方向が時間とと
もに回転するような磁界を発生することの出来る、小型
化，小電力化された回転磁界装置を提供する効果があ
る。
時的には方向と強さがほぼ一様で、その方向が時間とと
もに回転するような磁界を発生することの出来る、小型
化，小電力化された回転磁界装置を提供する効果があ
る。
第１図，第２図，第８図，第９図は、それぞれ本発明の
実施例の電磁石の平面断面図。 第３図，第４図は、それらの電磁石の励磁方法を説明す
る結線図とベクトル図。 第５図，第６図は、それらの励磁方法におけるコイル励
磁電流の波形図。 第７図a,bは、本発明の別の実施例の電磁石の結線図と
波形の図。 第10図，第11図，第12図は、それぞれ本発明の実施例の
電磁石の正面断面図。 第13図，第14図は従来技術の説明のための平面図。 １……ヨーク、21,22,23,24,26,26……磁極又は磁極
群、31,32,33,34,35,36……コイル、41,42,43,4……磁
束、51,52,53,54,55,56……励磁用電源、６……真空容
器の壁
実施例の電磁石の平面断面図。 第３図，第４図は、それらの電磁石の励磁方法を説明す
る結線図とベクトル図。 第５図，第６図は、それらの励磁方法におけるコイル励
磁電流の波形図。 第７図a,bは、本発明の別の実施例の電磁石の結線図と
波形の図。 第10図，第11図，第12図は、それぞれ本発明の実施例の
電磁石の正面断面図。 第13図，第14図は従来技術の説明のための平面図。 １……ヨーク、21,22,23,24,26,26……磁極又は磁極
群、31,32,33,34,35,36……コイル、41,42,43,4……磁
束、51,52,53,54,55,56……励磁用電源、６……真空容
器の壁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−86942（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−187336（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−216637（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−198270（ＪＰ，Ｕ)
Claims (5)
- 【請求項１】放電化学反応処理場所の周りに閉じた磁路
を形成するヨークと、該ヨークから内側に向かって突出
する六の整数倍の磁極と、該磁極のそれぞれに各独立し
て巻かれたコイルとを備えた電磁石よりなり、該コイル
は、該処理場所を挟んで対峙する半周分の磁極群から出
た磁束が他の半周分の磁極群に向かうとともに該処理場
所を覆うほぼ一方向性の磁界であって時間とともに前記
処理場所を中心にして連続またはステップ状に回転する
磁界を設定するような電流が印加通電されるものである
ことを特徴とする放電化学反応装置の回転磁界発生装
置。 - 【請求項２】前記コイルは、該処理場所を挟んで相対す
る一対の磁極又は前記整数倍の整数をｎとした場合のｎ
個の相隣る磁極よりなる磁極群のコイルごとに位相の60
°宛異なる三相の電流が印加通電されるものであること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の放電化学反応
装置の回転磁界発生装置。 - 【請求項３】該三相の電流が、対称三相交流電圧の一相
を反転して得られる三相電圧により印加されるものであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の放電化
学反応装置の回転磁界発生装置。 - 【請求項４】該磁極の数が十二の整数倍で、該処理場所
を挟んで相対する一対の磁極又は前記整数倍の整数をｎ
とした場合のｎ個の相隣る磁極よりなる磁極群の磁極群
のコイルごとに位相の30°宛異なる六相の電流が印加通
電されるものであることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の放電化学反応装置の回転磁界発生装置。 - 【請求項５】該六相の電流が、一組の対称三相交流電圧
の一相を反転して得られる三相交流電圧と、それと30°
の位相差をもつもう一組の三相交流電圧とを組み合わせ
た電圧により印加されるものであることを特徴とする特
許請求の範囲第４項記載の放電化学装置の回転磁界発生
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62112036A JPH0718025B2 (ja) | 1987-05-08 | 1987-05-08 | 放電化学反応装置の回転磁界発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62112036A JPH0718025B2 (ja) | 1987-05-08 | 1987-05-08 | 放電化学反応装置の回転磁界発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63277778A JPS63277778A (ja) | 1988-11-15 |
| JPH0718025B2 true JPH0718025B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=14576400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62112036A Expired - Lifetime JPH0718025B2 (ja) | 1987-05-08 | 1987-05-08 | 放電化学反応装置の回転磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0718025B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2752385B1 (fr) | 1996-08-13 | 2001-12-07 | Riera Michel | Dispositif permettant de catalyser des reactions chimiques ou physico-chimiques par deplacement de champs magnetiques et procede l'utilisant |
| JP5892358B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2016-03-23 | 学校法人日本大学 | 定常プラズマ生成装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6186942A (ja) * | 1984-10-03 | 1986-05-02 | Anelva Corp | 回転磁界を用いた放電反応装置 |
| JPS61187336A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-21 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマエッチング装置とエッチング方法 |
| JPS61198270U (ja) * | 1985-05-23 | 1986-12-11 |
-
1987
- 1987-05-08 JP JP62112036A patent/JPH0718025B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63277778A (ja) | 1988-11-15 |
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