JPH07173699A - Gas diffusion electrode device for electroplating - Google Patents

Gas diffusion electrode device for electroplating

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JPH07173699A
JPH07173699A JP34404093A JP34404093A JPH07173699A JP H07173699 A JPH07173699 A JP H07173699A JP 34404093 A JP34404093 A JP 34404093A JP 34404093 A JP34404093 A JP 34404093A JP H07173699 A JPH07173699 A JP H07173699A
Authority
JP
Japan
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gas diffusion
power supply
unit
electrode
thin film
Prior art date
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Application number
JP34404093A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuro Fujii
達朗 藤井
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To facilitate the exchange and repair of electrodes and improve air permeability and gas hermeticity by forming grooves having a circular section on the discharge surface side of a conductive unit frame, inserting the peripheral edges of thin films into these grooves and fixing the thin films by means of O-rings. CONSTITUTION:Plural pieces of tap holes 4 are formed in conductive unit frames 3 of plural pieces of unit electrodes 2 constituting a gas diffusion electrode device so that these unit electrodes 2 are easily mounted. Each unit electrode 2 consists of the conductive unit frame 3, the thin film 6 mounted at this frame and a current collector 7 in contact with a power feeder. The peripheral edge of the thin film 6 is inserted into the groove 8 of the circular section formed on the discharge surface side of the conductive unit frame 3 and is fixed by the expandable O-ring 10. Plural pieces of the unit electrodes 2 are preferably mounted to electrode holders 1 zigzag in at least two rows in the moving direction of objects to be plated.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、電気めっき槽内に、
陽極として配置されるガス拡散電極装置に関するもので
ある。
This invention relates to an electroplating tank,
It relates to a gas diffusion electrode device arranged as an anode.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気めっき法により、金属ストリップの
ような、連続的に移動する被めっき物を陰極として電気
めっきを施す際に、陽極として、それ自体が消耗するこ
とのない不溶性電極を使用し、硫酸化物電気めっき液中
においてめっきを施すことが多くなっている。
2. Description of the Related Art When an electroplating method is used to electroplate an object to be plated, which moves continuously, such as a metal strip, as an anode, an insoluble electrode that does not wear itself is used as an anode. However, plating is often performed in a sulfate electroplating solution.

【0003】しかしながら、省エネルギー、高効率化を
求めるために、高電流密度により電気めっきを行おう
と、不溶性陽極を使用しそして塩化物電気めっき液中に
おいて電気めっきを施すと、不溶性陽極から有害な塩素
ガスが発生する問題が生ずる。このような塩素ガスの発
生を回避するために、硫酸電気めっき液を使用しても、
陽極から発生する多量の酸素ガスが、陽極と陰極との間
に常に存在する結果、めっき液の見かけの電気伝導度が
低下し、更に、めっき被膜自体にも悪影響を及ぼす問題
が生ずる。
However, in order to save energy and improve efficiency, when electroplating is performed at a high current density, when an insoluble anode is used and electroplating is performed in a chloride electroplating solution, harmful chlorine is generated from the insoluble anode. The problem of gas generation arises. Even if sulfuric acid electroplating solution is used to avoid the generation of chlorine gas,
Since a large amount of oxygen gas generated from the anode is always present between the anode and the cathode, the apparent electrical conductivity of the plating solution is lowered, and there is a problem that the plating coating itself is adversely affected.

【0004】上述した問題を解決する手段として、電気
めっき槽内に、ガス拡散層と反応層とが接合されたガス
拡散電極を陽極として配置し、ガス拡散電極の反応層側
にめっき液を充填し、そして、ガス拡散電極のガス拡散
層側に水素ガスを供給し、水素ガスを酸化してめっき液
中に拡散させ、これによって、連続的に移動する金属ス
トリップの表面に電気めっきを施す、ガス拡散電極によ
る電気めっき方法が知られており、特開平3-188299号に
は、このような方法に使用される電極装置として、ガス
拡散層と反応層とが接合された薄膜が電極ホルダーに支
持されてなるガス拡散電極装置(以下、先行技術とい
う)が開示されている。
As a means for solving the above-mentioned problems, a gas diffusion electrode in which a gas diffusion layer and a reaction layer are joined is arranged as an anode in an electroplating tank, and the reaction layer side of the gas diffusion electrode is filled with a plating solution. Then, hydrogen gas is supplied to the gas diffusion layer side of the gas diffusion electrode, the hydrogen gas is oxidized and diffused in the plating solution, and thereby electroplating is performed on the surface of the continuously moving metal strip. An electroplating method using a gas diffusion electrode is known, and in JP-A-3-188299, as an electrode device used in such a method, a thin film in which a gas diffusion layer and a reaction layer are bonded to an electrode holder is used. A supported gas diffusion electrode device (hereinafter referred to as prior art) is disclosed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、先行技
術には、次のような問題がある。即ち、ガス拡散電極
は、疎水性カーボンブラックと弗素樹脂とからなるガス
拡散層と、触媒が担持された親水性カーボンブラックと
弗素樹脂とからなる反応層とが接合された厚さ数 100μ
m の薄膜によって構成されているために、剛性に乏しく
損傷しやすい。従って、電極の交換および補修を頻繁に
行わなければならず、その交換および補修作業が容易で
はない上、補修コストが増大し、更に、通電性およびガ
ス気密性等の点からも問題が多い。
However, the prior art has the following problems. That is, the gas diffusion electrode has a thickness of 100 μm in which a gas diffusion layer composed of hydrophobic carbon black and a fluororesin and a reaction layer composed of hydrophilic carbon black carrying a catalyst and a fluororesin are joined.
Since it is composed of a thin film of m, it has poor rigidity and is easily damaged. Therefore, the electrodes must be replaced and repaired frequently, the replacement and repair work is not easy, the repair cost increases, and there are many problems in terms of electrical conductivity and gas tightness.

【0006】従って、この発明の目的は、上述した問題
を解決し、交換および補修が容易であって、しかも通電
性およびガス気密性に優れた、効率的且つ経済的なガス
拡散電極装置を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide an efficient and economical gas diffusion electrode device which solves the above-mentioned problems, is easy to replace and repair, and is excellent in electrical conductivity and gas tightness. To do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明は、ガス拡散層
と反応層とが接合された薄膜が電極ホルダーに支持され
てなるガス拡散電極装置において、前記ガス拡散電極装
置は、前記電極ホルダーに着脱可能に取付けられた1列
以上の複数個のユニット電極からなっており、前記ユニ
ット電極の各々は、導電性ユニット枠と、これに取付け
られた薄膜と、給電体に接触する集電子とからなってお
り、前記導電性ユニット枠の放電面側には、その全周に
わたって断面円形の溝が連続して形成されており、前記
薄膜は、その周縁が前記溝内に挿入され、膨張可能なO
リングによって、前記導電性ユニット枠に固定されてい
ることに特徴を有するものである。
The present invention relates to a gas diffusion electrode device in which a thin film in which a gas diffusion layer and a reaction layer are joined is supported by an electrode holder, wherein the gas diffusion electrode device is attached to the electrode holder. The unit electrode is composed of a plurality of unit electrodes detachably attached in one or more rows, each of the unit electrodes including a conductive unit frame, a thin film attached to the unit frame, and a current collector in contact with the power supply body. On the discharge surface side of the conductive unit frame, a groove having a circular cross section is continuously formed over the entire circumference thereof, and the thin film is expandable by inserting the peripheral edge thereof into the groove. O
It is characterized by being fixed to the conductive unit frame by a ring.

【0008】複数個のユニット電極は、電極ホルダーに
対し、被めっき物の移動方向に関して少なくとも2列に
千鳥状に取り付けられていることが好ましい。また、電
極ホルダーに取付けられた複数個のユニット電極の前記
集電子に接触する給電体を、その軸線を中心として回転
可能な給電ロッドとなし、給電ロッドには、その周方向
に、集電子の幅とほぼ等しい幅の切欠きを、給電ロッド
の長さ方向に順次段階状に形成するか、または、前記給
電体を、その幅方向に水平移動可能な板片状の給電板と
なし、給電板には、その幅方向に、集電子の幅とほぼ等
しい幅の切欠きを、給電板の長さ方向に順次段階状に形
成し、被めっき物に対するめっき電流を制御し得るよう
にしてもよい。
The plurality of unit electrodes are preferably attached to the electrode holder in a zigzag manner in at least two rows in the moving direction of the object to be plated. Further, the power feeding body, which is attached to the electrode holder and is in contact with the current collectors of the plurality of unit electrodes, is a power feeding rod rotatable about its axis. A notch having a width substantially equal to the width is formed stepwise in the lengthwise direction of the power feeding rod, or the power feeding body is a plate-shaped power feeding plate that is horizontally movable in the widthwise direction. A notch having a width substantially equal to the width of the current collector is formed in the width direction of the plate in a stepwise manner in the length direction of the power feeding plate so that the plating current for the object to be plated can be controlled. Good.

【0009】[0009]

【作用】この発明のガス拡散電極装置は、電極ホルダー
に1列以上に着脱可能に取付けられた複数個のユニット
電極からなっており、ユニット電極の各々を構成する薄
膜は、導電性ユニット枠の放電面側に、その全周にわた
って形成された断面円形の溝にその周縁が挿入され、膨
張可能なOリングによって固定されている。従って、交
換および補修が容易であり、しかも通電性およびガス気
密性に優れている。
The gas diffusion electrode device of the present invention comprises a plurality of unit electrodes removably attached to the electrode holder in one or more rows, and the thin film constituting each unit electrode is made of a conductive unit frame. On the discharge surface side, a peripheral edge is inserted into a groove having a circular cross section formed over the entire circumference, and is fixed by an inflatable O-ring. Therefore, replacement and repair are easy, and the electrical conductivity and gas tightness are excellent.

【0010】[0010]

【実施例】次に、この発明の装置を図面を参照しながら
説明する。図1は、この発明のガス拡散電極装置の概略
平面図、図2は、電極片のホルダー側から見た概略斜視
図、図3は、そのめっき液側から見た概略斜視図、そし
て、図4は、図2のA−A線断面図である。図1に示す
ように、この発明のガス拡散電極装置は、電極ホルダー
1に1列に着脱可能に取付けられた複数個のユニット電
極2からなっている。ユニット電極2の導電性ユニット
枠3には、複数個のタップ穴4が形成されており、タッ
プ穴4を電極ホルダー1に取付けられた耐食および絶縁
性を有するボルト5に挿入することによって、ユニット
電極2を電極ホルダー1に簡単容易に取付けることがで
きる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic plan view of a gas diffusion electrode device of the present invention, FIG. 2 is a schematic perspective view seen from the holder side of an electrode piece, FIG. 3 is a schematic perspective view seen from the plating solution side, and FIG. 4 is a sectional view taken along the line AA of FIG. As shown in FIG. 1, the gas diffusion electrode device of the present invention comprises a plurality of unit electrodes 2 detachably attached to an electrode holder 1 in one row. The conductive unit frame 3 of the unit electrode 2 has a plurality of tap holes 4 formed therein. By inserting the tap holes 4 into a bolt 5 having corrosion resistance and insulation attached to the electrode holder 1, The electrode 2 can be easily and easily attached to the electrode holder 1.

【0011】図2〜図4に示すように、ユニット電極2
は、導電性ユニット枠3と、これに取付けられた薄膜6
と、給電体に接触する集電子7とからなっている。導電
性ユニット枠3は、導電性および耐食性を高めるため
に、例えばチタンが被覆された断面角型の銅製であり、
50×200mm の小型な方形状からなっている。導電性ユニ
ット枠3の放電面側には、その全周にわたって断面円形
の溝8が連続して形成されており、溝8の内面には、通
電性を高めるために白金めっきが施されている。ユニッ
ト枠3の放電面側には、ゴムライニング等の耐食性絶縁
材9が被覆されている。集電子7は銅製であって、ホル
ダー側に突出させて設けられている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the unit electrode 2
Is the conductive unit frame 3 and the thin film 6 attached to it.
And a current collector 7 that contacts the power supply. The conductive unit frame 3 is, for example, made of copper having a rectangular cross section coated with titanium in order to improve conductivity and corrosion resistance,
It has a small square shape of 50 x 200 mm. On the discharge surface side of the conductive unit frame 3, a groove 8 having a circular cross section is continuously formed over the entire circumference thereof, and the inner surface of the groove 8 is plated with platinum to enhance the electrical conductivity. . The discharge side of the unit frame 3 is covered with a corrosion-resistant insulating material 9 such as a rubber lining. The current collector 7 is made of copper and is provided so as to project toward the holder.

【0012】薄膜6は、疎水性カーボンブラックと弗素
樹脂とからなるガス拡散層と、触媒が担持された親水性
カーボンブラックと弗素樹脂とからなる反応層とが接合
されてなっており、その周縁が、導電性ユニット枠3の
放電面側に設けられた断面円形の溝8内に挿入され、膨
張可能なOリング10によって固定されている。
The thin film 6 is composed of a gas diffusion layer made of hydrophobic carbon black and a fluororesin, and a reaction layer made of hydrophilic carbon black carrying a catalyst and a fluororesin, which are joined together. Is inserted into a groove 8 having a circular cross section provided on the discharge surface side of the conductive unit frame 3, and is fixed by an inflatable O-ring 10.

【0013】Oリング10は、例えば、図5に示すよう
な、膨張および収縮可能のチューブからなっている。従
って、注射器等を使用し、その中に熱硬化または時効硬
化し得る樹脂10' を注入すると、Oリング10は、図6に
示すように、溝9の容積いっぱいに膨張する。従って、
溝8内に挿入された薄膜6の周縁を強固に圧接し、これ
によって薄膜6を、導電性ユニット枠3に簡単確実に固
定することができる。
The O-ring 10 is composed of an expandable and contractible tube, for example, as shown in FIG. Therefore, when a thermosetting or age-hardening resin 10 'is injected into a syringe or the like, the O-ring 10 expands to the full volume of the groove 9 as shown in FIG. Therefore,
The peripheral edge of the thin film 6 inserted into the groove 8 is pressed firmly against the periphery of the thin film 6, whereby the thin film 6 can be easily and reliably fixed to the conductive unit frame 3.

【0014】上述した構造の複数個のユニット電極2
を、図1に示したように、水素ガスの供給されるガス室
を兼ねた電極ホルダー1に1列に取付けると、各ユニッ
ト電極2相互を密接させても、ユニット電極2の薄膜6
間には、ユニット枠3に相当する隙間の生ずることが避
けられない。その結果、図7に示したように、被めっき
物である金属ストリップAに、上記隙間に相当する、め
っき付着量の少ないむらが生じて、ストリップの長さ方
向に複数本の筋状になり、製品外観が劣化する。
A plurality of unit electrodes 2 having the above structure
As shown in FIG. 1, if the unit electrodes 2 are attached in a row to the electrode holder 1 that also serves as a gas chamber to which hydrogen gas is supplied, even if the unit electrodes 2 are brought into close contact with each other, the thin film 6 of the unit electrode 2
It is inevitable that a gap corresponding to the unit frame 3 is formed between them. As a result, as shown in FIG. 7, in the metal strip A which is the object to be plated, unevenness with a small amount of plating adhered, which corresponds to the above-mentioned gap, occurs, and a plurality of streaks are formed in the length direction of the strip. , The product appearance deteriorates.

【0015】従って、図8に概略平面図で、図9に図8
のA−A線断面図で示すように、電極ホルダー1に対す
る複数個のユニット電極2の取付けを、被めっき物であ
る金属ストリップAの移動方向に対し少なくとも2列
に、千鳥状にすることが好ましい。このように、電極ホ
ルダー1に対する複数個のユニット電極2の取付けを千
鳥状にすることによって、上述した、複数個のユニット
電極2の薄膜6相互間に生ずる隙間に起因する、金属ス
トリップ長さ方向の筋が生ずることはなく、従って、製
品外観の劣化を防止することができる。
Therefore, FIG. 8 is a schematic plan view, and FIG.
As shown in the sectional view taken along the line A-A of FIG. 1, the plurality of unit electrodes 2 can be attached to the electrode holder 1 in a zigzag manner in at least two rows with respect to the moving direction of the metal strip A to be plated. preferable. In this way, the plurality of unit electrodes 2 are attached to the electrode holder 1 in a zigzag manner, so that the lengthwise direction of the metal strip due to the above-mentioned gaps formed between the thin films 6 of the plurality of unit electrodes 2. No streaks occur, and therefore deterioration of the appearance of the product can be prevented.

【0016】図10に概略正面図で、図11に概略斜視図で
示すように、電極ホルダー1に取付けられた複数個のユ
ニット電極2の各集電子7に接触するように、電極ホル
ダー1の幅方向にわたって、給電体としての給電用ロッ
ド11が設けられている。給電用ロッド11から、これに接
触する各集電子7を通って、複数個のユニット電極2の
各々にめっき電流が供給される。
As shown in the schematic front view of FIG. 10 and the schematic perspective view of FIG. 11, the electrode holder 1 is arranged so as to come into contact with the current collectors 7 of the plurality of unit electrodes 2 mounted on the electrode holder 1. A power feeding rod 11 as a power feeding body is provided across the width direction. A plating current is supplied from the power supply rod 11 to each of the plurality of unit electrodes 2 through each current collector 7 in contact therewith.

【0017】図10および図11に示す例において、給電体
としての給電用ロッド11は、その軸線を中心として回転
可能な棒状体からなっている。給電用ロッド11には、そ
の周方向に複数段の切欠き12が形成されている。切欠き
12は、集電子7の幅とほぼ等しい幅を有しており、給電
用ロッド11の切欠きの形成されていない中央部からその
両端部に向けて、順次段階状に形成されている。
In the example shown in FIGS. 10 and 11, the power feeding rod 11 as a power feeding member is formed of a rod-shaped body rotatable about its axis. A plurality of cutouts 12 are formed in the power feeding rod 11 in the circumferential direction. Cutout
The reference numeral 12 has a width substantially equal to the width of the current collector 7, and is formed stepwise from the central portion of the power feeding rod 11 where the notch is not formed to both ends thereof.

【0018】従って、給電用ロッド11を、その切欠き12
の形成されていない部分がすべて複数個のユニット電極
2の各集電子7に接触するように位置させるときには、
複数個のユニット電極2の全部にわたり、めっき電流を
流すことができる。給電用ロッド11を若干回転させる
と、その両端部の第1段切欠き12によって、給電用ロッ
ド11は、両端部のユニット電極2の集電子7に対して非
接触になる。更に、給電用ロッド11を回転させると、そ
の両端部の第1段および第2段切欠き12によって、給電
用ロッド11は、両端部の各2つのユニット電極2の集電
子7に対して非接触になる。以下、同様にして、給電用
ロッド11の回転により、複数個のユニット電極2に対
し、その両端部から逐次非接触状態を形成し得るように
なる。
Therefore, the power feeding rod 11 is provided with the notch 12
When all of the parts where no is formed are in contact with the current collectors 7 of the plurality of unit electrodes 2,
A plating current can be passed over all of the plurality of unit electrodes 2. When the power supply rod 11 is slightly rotated, the power supply rod 11 is not in contact with the current collectors 7 of the unit electrodes 2 at both ends due to the first step cutouts 12 at both ends thereof. Further, when the power feeding rod 11 is rotated, the power feeding rod 11 is not connected to the current collectors 7 of the two unit electrodes 2 at both ends by the first and second stepped notches 12 at both ends thereof. Get in touch. Thereafter, in the same manner, the non-contact state can be successively formed from the both ends of the plurality of unit electrodes 2 by the rotation of the power feeding rod 11.

【0019】めっき層内に設けられた、陽極としての1
対のガス拡散電極間に金属ストリップを連続的に移動さ
せ、ガス拡散電極によって、金属ストリップの表面上に
電気めっき被膜を形成するに際し、金属ストリップの幅
方向両端部にめっき電流が集中する結果、金属ストリッ
プの両端部におけるめっき付着量が過多になるいわゆる
オーバーコートが発生する。このようなオーバーコート
を防止するために、従来は、めっき槽内に、金属ストリ
ップの板幅に応じて、その位置が可変のエッジマスクを
設け、このエッジマスクによって、めっき電流を遮断す
ることが行われていた。
1 as an anode provided in the plating layer
When the metal strip is continuously moved between the pair of gas diffusion electrodes, and when the electroplating film is formed on the surface of the metal strip by the gas diffusion electrode, the plating current is concentrated on both ends in the width direction of the metal strip. A so-called overcoat occurs in which the amount of plating adhered on both ends of the metal strip is excessive. In order to prevent such overcoating, conventionally, an edge mask whose position is variable according to the plate width of the metal strip is provided in the plating tank, and the plating current can be interrupted by this edge mask. It was done.

【0020】しかしながら、上述したように給電用ロッ
ド11を回転し、金属ストリップAの幅に合わせて、複数
個のユニット電極2の各集電子7に対するめっき電流の
給電を制御すれば、めっき層内に上述したエッジマスク
を設置することなく、オーバーコートを適確に防止する
ことができる。
However, if the feeding rod 11 is rotated as described above and the feeding of the plating current to each current collector 7 of the plurality of unit electrodes 2 is controlled in accordance with the width of the metal strip A, the inside of the plating layer is controlled. The overcoat can be appropriately prevented without installing the above-mentioned edge mask.

【0021】図12は、給電体の他の例を示す概略平面図
である。この例においては給電体は、電極ホルダー1の
幅方向にわたる板片状の給電板13からなっている。給電
板13には、その中央部から両端部に向けて、その幅方向
に複数段の切欠き14が形成されている。切欠き14は、集
電子7の幅とほぼ等しい幅を有しており、給電板13の切
欠きが形成されていない中央部からその両端部に向け
て、順次段階状に形成されている。
FIG. 12 is a schematic plan view showing another example of the power feeding body. In this example, the power supply body is composed of a plate-shaped power supply plate 13 extending in the width direction of the electrode holder 1. A plurality of cutouts 14 are formed in the width direction of the power supply plate 13 from the center to both ends. The notch 14 has a width that is substantially equal to the width of the current collector 7, and is formed in a stepwise manner from the central portion of the power supply plate 13 where the notch is not formed to both ends thereof.

【0022】給電板13は、図示しない駆動機構によっ
て、その幅方向に水平移動可能になっている。従って、
給電板13をその切欠き14が形成されていない部分がすべ
て複数個のユニット電極2の各集電子7に接触するよう
に位置させるときには、複数個のユニット電極2の全部
にわたり、めっき電流を流すことができる。給電板13
を、若干水平移動させると、その両端部の第1段切欠き
14によって、給電板13は、両端部のユニット電極2の集
電子7に対して非接触になる。更に、給電板13を水平移
動させると、その両端部の第1段および第2段切欠き14
によって、給電板13は、両端部の各2つのユニット電極
2の集電子7に対して非接触になる。以下、同様にし
て、給電板13の水平移動により、複数個のユニット電極
2に対し、その両端部から逐次非接触状態を形成し得る
ようになる。従って、上述したように、めっき層内にエ
ッジマスクを設置することなく、オーバーコートを適確
に防止することができる。
The power supply plate 13 is horizontally movable in the width direction by a drive mechanism (not shown). Therefore,
When the power supply plate 13 is positioned so that all the portions where the notches 14 are not formed are in contact with the current collectors 7 of the plurality of unit electrodes 2, a plating current flows through all of the plurality of unit electrodes 2. be able to. Power supply plate 13
Is moved slightly horizontally, the first-stage notches on both ends
Due to 14, the power supply plate 13 is not in contact with the current collectors 7 of the unit electrodes 2 at both ends. Further, when the power feeding plate 13 is moved horizontally, the first and second notches 14 at both ends thereof are formed.
As a result, the power supply plate 13 is not in contact with the current collectors 7 of the two unit electrodes 2 at both ends. Thereafter, in the same manner, the horizontal movement of the power supply plate 13 allows the plurality of unit electrodes 2 to be successively formed in a non-contact state from both ends thereof. Therefore, as described above, overcoating can be appropriately prevented without disposing an edge mask in the plating layer.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
交換および補修が容易であって、しかも通電性およびガ
ス気密性に優れた、効率的且つ経済的なガス拡散電極が
得られ、被めっき物の表面上に均一な量の電気めっき被
膜を形成することができる、工業上有用な効果がもたら
される。
As described above, according to the present invention,
An efficient and economical gas diffusion electrode that is easy to replace and repair and has excellent electrical conductivity and gas tightness is obtained, and a uniform amount of electroplated film is formed on the surface of the object to be plated. It is possible to bring about an industrially useful effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明のガス拡散電極装置の概略平面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic plan view of a gas diffusion electrode device of the present invention.

【図2】この発明の装置のユニット電極をホルダー側か
ら見た概略斜視図である。
FIG. 2 is a schematic perspective view of a unit electrode of the device of the present invention viewed from the holder side.

【図3】この発明の装置のユニット電極をめっき液側か
ら見た概略斜視図である。
FIG. 3 is a schematic perspective view of a unit electrode of the apparatus of the present invention as viewed from the plating solution side.

【図4】図2のA−A線断面図である。4 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図5】この発明に使用されるOリングの収縮状態を示
す概略部分正面図である。
FIG. 5 is a schematic partial front view showing a contracted state of the O-ring used in the present invention.

【図6】この発明に使用されるOリングの膨張状態を示
す概略部分正面図である。
FIG. 6 is a schematic partial front view showing an expanded state of an O-ring used in the present invention.

【図7】金属ストリップのめっき付着量を示す図であ
る。
FIG. 7 is a diagram showing a coating amount of a metal strip.

【図8】電極ホルダーに対する複数個のユニット電極の
取付け状態を示す概略平面図である。
FIG. 8 is a schematic plan view showing how a plurality of unit electrodes are attached to an electrode holder.

【図9】図8のA−A線断面図である。9 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図10】ユニット電極の集電子と給電体としての給電用
ロッドとの接触状態を示す概略正面図である。
FIG. 10 is a schematic front view showing a contact state between a current collector of a unit electrode and a power feeding rod as a power feeder.

【図11】ユニット電極の集電子と給電体としての給電用
ロッドとの接触状態を示す概略斜視図である。
FIG. 11 is a schematic perspective view showing a contact state between a current collector of a unit electrode and a power feeding rod as a power feeder.

【図12】給電用ロッド11の他の例を示す概略平面図であ
る。
FIG. 12 is a schematic plan view showing another example of the power feeding rod 11.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電極ホルダー、 2 ユニット電極、 3 ユニット枠、 4 タップ穴、 5 ボルト、 6 薄膜、 7 集電子、 8 溝、 9 絶縁材、 10 Oリング、 10' 樹脂、 11 給電用ロッド、 12 切欠き、 13 給電板、 14 切欠き。 1 electrode holder, 2 unit electrode, 3 unit frame, 4 tap hole, 5 bolt, 6 thin film, 7 current collector, 8 groove, 9 insulating material, 10 O ring, 10 'resin, 11 power supply rod, 12 notch, 13 power supply plate, 14 notches.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガス拡散層と反応層とが接合された薄膜
が電極ホルダーに支持されてなるガス拡散電極装置にお
いて、 前記ガス拡散電極装置は、前記電極ホルダーに着脱可能
に取付けられた1列以上の複数個のユニット電極からな
っており、前記ユニット電極の各々は、導電性ユニット
枠と、これに取付けられた薄膜と、給電体に接触する集
電子とからなっており、前記導電性ユニット枠の放電面
側には、その全周にわたって断面円形の溝が連続して形
成されており、前記薄膜は、その周縁が前記溝内に挿入
され、膨張可能なOリングによって、前記導電性ユニッ
ト枠に固定されていることを特徴とするガス拡散電極装
置。
1. A gas diffusion electrode device in which a thin film in which a gas diffusion layer and a reaction layer are joined is supported by an electrode holder, wherein the gas diffusion electrode device is detachably attached to the electrode holder in one row. Each of the unit electrodes is composed of a conductive unit frame, a thin film attached to the conductive unit frame, and a current collector in contact with the power supply body. On the discharge surface side of the frame, a groove having a circular cross section is continuously formed over the entire circumference, and the thin film has a peripheral edge inserted into the groove, and an expandable O-ring allows the conductive unit to be formed. A gas diffusion electrode device characterized by being fixed to a frame.
【請求項2】 前記複数個のユニット電極は、前記電極
ホルダーに対し、被めっき物の移動方向に関して少なく
とも2列に千鳥状に取り付けられている、請求項1記載
の装置。
2. The device according to claim 1, wherein the plurality of unit electrodes are attached to the electrode holder in a zigzag manner in at least two rows in the moving direction of the object to be plated.
【請求項3】 前記電極ホルダーに取付けられた複数個
のユニット電極の前記集電子に接触する前記給電体は、
その軸線を中心として回転可能な給電ロッドからなって
おり、前記給電ロッドには、その周方向に、前記集電子
の幅とほぼ等しい幅の切欠きが、前記給電ロッドの長さ
方向に順次段階状に形成されている、請求項1記載の装
置。
3. The power supply body, which is in contact with the current collectors of a plurality of unit electrodes attached to the electrode holder,
The power feeding rod is rotatable about its axis, and the power feeding rod is provided with a notch having a width substantially equal to the width of the current collector in the circumferential direction thereof in the longitudinal direction of the power feeding rod. The device of claim 1, wherein the device is shaped like a circle.
【請求項4】 前記電極ホルダーに取付けられた複数個
のユニット電極の前記集電子に接触する前記給電体は、
その幅方向に水平移動可能な板片状の給電板からなって
おり、前記給電板には、その幅方向に、前記集電子の幅
とほぼ等しい幅の切欠きが、前記給電板の長さ方向に順
次段階状に形成されている、請求項1記載の装置。
4. The power supply body contacting the current collectors of a plurality of unit electrodes attached to the electrode holder,
The power supply plate is a plate-shaped power supply plate that can move horizontally in the width direction, and the power supply plate has a notch having a width substantially equal to the width of the current collector in the width direction. The device according to claim 1, wherein the device is formed stepwise in the direction.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107268018A (en) * 2017-06-19 2017-10-20 长沙理工大学 Iron-based amorphous alloy catalytic electrode and production method thereof

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