JPH0717119B2 - Template for IC drawing - Google Patents
Template for IC drawingInfo
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- JPH0717119B2 JPH0717119B2 JP62165656A JP16565687A JPH0717119B2 JP H0717119 B2 JPH0717119 B2 JP H0717119B2 JP 62165656 A JP62165656 A JP 62165656A JP 16565687 A JP16565687 A JP 16565687A JP H0717119 B2 JPH0717119 B2 JP H0717119B2
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- slits
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路のパターン設計に用いられるIC
製図用テンプレートに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an IC used for pattern design of a semiconductor integrated circuit.
Regarding a drafting template.
従来から、バイポーラアナログICの机上設計段階のパタ
ーン設計においては、各種のコンポーネントをシンボル
化して、レイアウトしているが、最近の設計基準の微細
化とプロセスの複雑化と素子数の増大に伴って、パター
ン設計の設計期間は長くなる一方であり、又設計ミスも
増大している。Conventionally, in pattern design at the desk top design stage of bipolar analog ICs, various components are symbolized and laid out, but with recent miniaturization of design standards, process complexity, and increase in the number of elements, The design period of pattern design is increasing, and design mistakes are increasing.
これらの問題を解決するために、IC製図用テンプレート
がプロセスごとに設計され、バイポーラアナログICのパ
ターン設計に使用されている。専用のIC製図用テンプレ
ートの大きさは、ハンドリングの容易さから80mm×160m
m程度であるが、この限られた大きさの中にチップに使
用される全てのトランジスタのシンボル図形を網羅する
ことは不可能である。In order to solve these problems, an IC drawing template is designed for each process and used for pattern design of bipolar analog ICs. The size of the dedicated IC drafting template is 80mm x 160m due to easy handling.
Although it is about m, it is impossible to cover the symbolic figures of all the transistors used in the chip in this limited size.
又、机上設計が完了した図面は多岐にわたるチェックの
後、デジタイズを行ってデータをアートワーク処理シス
テムにデータベース化していくが、ボンティングパッド
等の正方形のデータに関しては中心にリファレンスクロ
スポイントを定義しておくと一回のデジタイズで入力で
きる利点がある。従来のIC製図用テンプレートは、コー
ナ部のL字形のスリットのみで正方形の図形を定義して
いたので、2回以上のデジタイズ作業が必要だった。In addition, after the drawings that have been designed on the desk have undergone various checks, they are digitized and the data is stored in the artwork processing system as a database.For square data such as bonding pads, a reference cross point is defined at the center. It has the advantage that it can be input with one digitization. In the conventional IC drawing template, a square figure was defined only by the L-shaped slits at the corners, so digitizing work was required twice or more.
又、トランジスタ領域を規定する絶縁層領域を表わすL
字状のスリットはスリットの中心と方眼紙上の線の中心
を目測により位置合せしていた為、正確さを欠き位置合
せに手間どった。Also, L representing an insulating layer region that defines the transistor region
Since the character-shaped slit was aligned with the center of the slit and the center of the line on the graph paper by visual inspection, the accuracy was lacking and it took time to align.
上述した従来のIC製図用テンプレートは、限られた大き
さの中に製図に必要とする各種コンポーネントのシンボ
ル図形を収容しているので、基準サイズのトランジスタ
のシンボル図形のみを有しており、又、正方形データに
対してはコーナ部のみであり、外枠を規定するL字形ス
リットは中心の表示がない。従って、基準サイズ外のト
ランジスタの設計に使用できないという欠点がある。
又、デジタイズに時間を要し位置合せが不正確になり手
間がかかるという欠点がある。Since the conventional IC drawing template described above accommodates the symbol graphics of various components required for drawing in a limited size, it has only the symbol graphics of the reference size transistor. For square data, only the corner portion is provided, and the L-shaped slit defining the outer frame has no center indication. Therefore, it has a drawback that it cannot be used for designing transistors out of the standard size.
In addition, there is a disadvantage that digitizing requires time, inaccurate alignment, and is time-consuming.
本発明の特徴は、半導体集積回路のパターン設計に用い
られるコンポーネントのシンボル図形を透明な基板上に
複数かつ複種類穿設したIC製図用テンプレートにおい
て、前記シンボル図形にはトランジスタ領域の外郭を表
わす4個のL字形のスリットと、前記トランジスタのエ
ミッタとベースとコレクタの各電極部を表わす矩形の穴
と、前記4個のL字形のスリットで囲まれて形成される
四辺形のいずれかの一辺に平行でかつ前記四辺形の外側
に所定の間隔で印刷された少なくとも一つの直線とを有
するIC製図用テンプレートである。The feature of the present invention resides in an IC drawing template in which a plurality of symbol graphics of components used for pattern design of a semiconductor integrated circuit are perforated on a transparent substrate, wherein the symbol graphics represent the outline of a transistor region. L-shaped slits, rectangular holes representing the electrode portions of the emitter, base and collector of the transistor, and one side of a quadrangle surrounded by the four L-shaped slits. It is an IC drawing template having at least one straight line which is parallel and is printed at a predetermined interval outside the quadrangle.
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は本第1の発明の第1の実施例の平面図である。FIG. 1 is a plan view of the first embodiment of the first invention.
第1図に示すように、透明な基板1に形成されたNPN型
のトランジスタに対する矩形のベースB1とコレクタC1と
エミッタE1の各電極部を示す位置に正確に穿設されたそ
れぞれの穴と、トランジスタ領域を規定する絶縁層の中
心を表わす4個のL字状のスリット2〜5と、スリット
3,4を結ぶ辺の外側にその辺と所定の間隔をもって平行
に異なる色で印刷された直線6,7とから成るシンボル図
形を含む。As shown in FIG. 1, a rectangular base B 1 , a collector C 1 and an emitter E 1 which are formed on a transparent substrate 1 and are precisely formed at positions showing respective electrode portions of a collector C 1 and an emitter E 1 , respectively. Holes, four L-shaped slits 2 to 5 representing the center of the insulating layer defining the transistor region, and slits
A symbol figure composed of straight lines 6 and 7 printed in different colors in parallel with the side with a predetermined distance is included outside the side connecting the points 3 and 4.
基板1は、その色が緑色であることが長時間使用するの
に目の疲労を少くする上で有効であり、厚さは0.7mmが
強度と作図上の精度との兼合から適切である。表面には
乱反射防止処理がされていて、印刷は視点による誤差を
なくすため裏面に行う。The substrate 1 having a green color is effective for reducing eye fatigue even when used for a long time, and a thickness of 0.7 mm is appropriate in terms of strength and accuracy in drawing. . Diffuse reflection prevention processing is applied to the front surface, and printing is performed on the back surface to eliminate errors due to viewpoints.
IC製図用テンプレートは、論理回路図用テンプレートと
異なり作図する上で精度が重要である。本発明のIC製図
用テンプレートは、芯径0.5mmの繰出鉛筆の芯の太さで
基板1にあけられた矩形の穴及びスリットをなぞったと
き、原図と同じ作図が出来るように設計されている。基
板1の厚さが厚いと反りにくいという利点があるが、他
方、繰出鉛筆の芯先を垂直に立てなければならず精度が
悪くなり、又、逆に薄くなると基板1が反り易くなるの
で0.7mm程度が適切である。Unlike the logic circuit diagram template, the accuracy of the IC drawing template is important for drawing. The IC drawing template of the present invention is designed so that the same drawing as the original drawing can be made when tracing the rectangular holes and slits formed in the substrate 1 with the thickness of the lead of a drawing pencil with a core diameter of 0.5 mm. . If the thickness of the substrate 1 is thick, there is an advantage that it is difficult to warp, but on the other hand, the tip of the payout pencil must be set upright and the accuracy becomes poor. mm is appropriate.
第1図において、エミッタE1、ベースB1、コレクタC1は
それぞれの電極の金属引出しの電極部を示し、又、L字
形のスリット2〜5は絶縁層の中心を示している。基板
1を裏返して使用することによって、エミッタE1とベー
スB1の電極部の位置が左右逆となるトランジスタは容易
に設計できる。In FIG. 1, an emitter E 1 , a base B 1 , and a collector C 1 show the metal-leading electrode portions of the respective electrodes, and the L-shaped slits 2-5 show the center of the insulating layer. By turning the substrate 1 over and using it, a transistor in which the positions of the electrode portions of the emitter E 1 and the base B 1 are reversed can be easily designed.
第2図(a)〜(c)はそれぞれ第1図の実施例を用い
てコレクタとベース間に配線を通す場合の作図手順を説
明するためのトランジスタの平面図である。2 (a) to 2 (c) are plan views of a transistor for explaining a drawing procedure when a wiring is passed between a collector and a base using the embodiment of FIG. 1, respectively.
第2図(a)に示すように、まず用紙14上に下側のスリ
ット3,4とエミッタE1及びベースB1を書く。次に、第2
図(b)に示すように、直線6に用紙14に画かれたスリ
ット3,4を結ぶ辺を重ねてコレクタC1とスリット2,5を書
く。As shown in FIG. 2A, first, the lower slits 3 and 4, the emitter E 1 and the base B 1 are written on the paper 14. Then the second
As shown in FIG. 2B, the collector C 1 and the slits 2 and 5 are written by overlapping the side connecting the slits 3 and 4 drawn on the paper 14 with the straight line 6.
第2図(c)に示すように、ベースB1とコレクタC1との
間に配線を1本記入する。配線はAlの幅付けされたパス
で、直線は配線の中心線を示す。スリット3,4の作る辺
と直線6,7との間隔X1,X2はそれぞれ(1)式、(2)式
で示される。As shown in FIG. 2 (c), one wire is written between the base B 1 and the collector C 1 . The wires are Al-widthed paths and the straight lines indicate the centerline of the wires. The intervals X 1 and X 2 between the sides formed by the slits 3 and 4 and the straight lines 6 and 7 are represented by the equations (1) and (2), respectively.
X1=W−a ……(1) X2=W+2l−a ……(2) 但し、aはベースB1とコレクタC1との間隔、Wは配線
幅、lは配線間隔である。X 1 = W−a (1) X 2 = W + 2l−a (2) where a is the distance between the base B 1 and the collector C 1 , W is the wiring width, and 1 is the wiring distance.
なお、コレクタC1とベースB1との間に配線を2本通す場
合は、上記の記入法で赤で印刷された直線6の代りに青
で印刷された直線7を用いればよい。When two wires are to be routed between the collector C 1 and the base B 1 , the straight line 7 printed in blue may be used instead of the straight line 6 printed in red in the above-mentioned entry method.
第3図は本第1の発明の第2の実施例の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the second embodiment of the first invention.
第3図に示すように、基板1上に形成されたNPN型のト
ランジスタに対するベースB2とコレクタC2とエミッタE2
の各電極部を示す位置に正確に穿設されたそれぞれの矩
形の穴と、トランジスタ領域を規定する絶縁層の中心を
表わす4個のスリット2a〜5aと、スリット2aと3aとを結
ぶ辺の外側にその辺と所定の間隔をもって平行して印刷
された赤色の直線8とから成るシンボル図形を含む。As shown in FIG. 3, a base B 2 , a collector C 2, and an emitter E 2 for an NPN type transistor formed on a substrate 1
Of the rectangular holes accurately formed at the positions indicating the respective electrode parts, the four slits 2a to 5a representing the center of the insulating layer defining the transistor region, and the side connecting the slits 2a and 3a. It includes a symbol figure composed of a red straight line 8 printed on the outer side in parallel with the side at a predetermined interval.
直線8は基準サイズのトランジスタからコレクタE2,ベ
ースB2,エミッタE2が横方向に長いトランジスタを作成
するとき用いるもので、例えば、コレクタC2のサイズが
2μm×6μmの場合に2μm×10μmのコレクタサイ
ズを有するトランジスタを作成する場合に用いる。The straight line 8 is used to form a transistor in which the collector E 2 , the base B 2 , and the emitter E 2 are long in the lateral direction from the standard size transistor. For example, when the size of the collector C 2 is 2 μm × 6 μm, 2 μm × 10 μm It is used when a transistor having a collector size of
第4図(a)及び(b)はそれぞれ第3図の実施例を用
いて横方向に長いトランジスタを設計する場合の作図手
順を説明するためのトランジスタの平面図である。FIGS. 4 (a) and 4 (b) are plan views of a transistor for explaining a drawing procedure for designing a laterally long transistor using the embodiment of FIG. 3, respectively.
第4図(a)に示すように、用紙14上に第3図のシンボ
ル図形の右側を除くスリット2a,3aとエミッタE2及びコ
レクタC2を書く。次に、第4図(b)に示すように、ス
リット2a,3aを結ぶ辺と直線8を合せてスリット4a,5aと
ベースB2及びコレクタC2を書くと、先に書いたコレクタ
と後から書いたコレクタとが重なり1個のコレクタとな
り、横方向に長いトランジスタが作図できる。As shown in FIG. 4 (a), slits 2a, 3a, an emitter E 2 and a collector C 2 except the right side of the symbol graphic of FIG. 3 are written on the paper 14. Next, as shown in FIG. 4 (b), by writing the slits 4a and 5a, the base B 2 and the collector C 2 by aligning the side connecting the slits 2a and 3a and the straight line 8, It overlaps with the collector written from and becomes one collector, and a transistor long in the lateral direction can be drawn.
なお、直線8の左側に更に別の直線を設けて、横方向の
長さが異なる種々のトランジスタを作図できる。It should be noted that another straight line may be provided on the left side of the straight line 8 to draw various transistors having different lateral lengths.
次に、第5図は本第1の発明の他の実施例の平面図であ
る。Next, FIG. 5 is a plan view of another embodiment of the first invention.
第5図に示すように、基板1に形成されたラテラル型の
トランジスタに対するエミッタE3及びベースB3の電極部
を表わす矩形の穴とコレクタC3の電極部を表わすスリッ
ト状の穴と、トランジスタ領域を規定する絶縁層の中心
を表わすL字状の4個のスリット2b〜5bと、スリット2
b,3bを結ぶ辺の外側にその辺と所定の間隔をもって平行
して印刷された2本の直線9,10から成るシンボル図形を
含む。As shown in FIG. 5, for the lateral type transistor formed on the substrate 1, rectangular holes showing the electrode portions of the emitter E 3 and base B 3 and slit-like holes showing the electrode portion of the collector C 3 and the transistor are formed. Four L-shaped slits 2b to 5b representing the center of the insulating layer that defines the area, and the slit 2
It includes a symbol figure composed of two straight lines 9 and 10 which are printed in parallel to the side connecting the b and 3b at a predetermined interval.
第6図(a)及び(b)はそれぞれ第5図の実施例を用
いて横方向に2倍サイズのラテラルトランジスタを設計
する場合の作図手順を説明するためのラテラルトランジ
スタの平面図である。FIGS. 6 (a) and 6 (b) are plan views of the lateral transistor for explaining the drawing procedure in the case of designing the lateral transistor of the double size in the lateral direction by using the embodiment of FIG.
第6図(a)に示すように、第5図のシンボル図形を用
いてスリット2b,3bとエミッタE3,ベースB3及びコレクタ
C3を用紙14上に作図する。次に、第6図(b)に示すよ
うに、ベースB3及びコレクタC3の左端に直線9を合せ
て、再度第5図のシンボル図形を用いてスリット4b,5b
とベースB3、エミッタE3及びコレクタC3を作図すると2
倍のエミッタサイズを有するラテラルトランジスタが作
図できる。As shown in FIG. 6 (a), the slits 2b and 3b, the emitter E 3 , the base B 3 and the collector are formed by using the symbolic figure of FIG.
Draw C 3 on paper 14. Next, as shown in FIG. 6 (b), the straight line 9 is aligned with the left ends of the base B 3 and the collector C 3 , and the slits 4b and 5b are again formed by using the symbol figure of FIG.
And drawing the base B 3 , emitter E 3 and collector C 3
A lateral transistor having a double emitter size can be formed.
なお、上記の手続を繰返すことによって、整数倍のエミ
ッタサイズを有するラテラルトランジスタを作図でき
る。By repeating the above procedure, a lateral transistor having an emitter size that is an integral multiple can be formed.
第7図は第6図に示すラテラルトランジスタの等価回路
図である。FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the lateral transistor shown in FIG.
次に、第8図(a)及び(b)はそれぞれ第5図に示す
実施例を用いてベース共通のラテラルトランジスタを設
計する場合の作図手順を説明するためのラテラルトラン
ジスタの平面図である。Next, FIGS. 8 (a) and 8 (b) are plan views of the lateral transistor for explaining the drawing procedure in the case of designing the lateral transistor having the common base by using the embodiment shown in FIG.
第8図(a)に示すように、用紙14上に第5図のシンボ
ル図形を用いてスリット2b,3bとエミッタE3、ベースB3
及びコレクタC3を作図する。次に、第8図(b)に示す
ように、エミッタE3の左端に直線10を合せて再度第5図
に示すシンボル図形を用いてスリット4b,5bとエミッタE
3、ベースB3及びコレクタC3を作図する。As shown in FIG. 8 (a), the slits 2b and 3b, the emitter E 3 , and the base B 3 are formed on the paper 14 by using the symbolic figure of FIG.
And draw collector C 3 . Next, as shown in FIG. 8 (b), the straight line 10 is aligned with the left end of the emitter E 3 and again the slits 4b, 5b and the emitter E are formed by using the symbol figure shown in FIG.
Draw 3 , base B 3 and collector C 3 .
これにより、ベースが共通でエミッタとコレクタが電気
的に独立したラテラルトランジスタが設計できる。As a result, a lateral transistor having a common base and electrically independent emitter and collector can be designed.
第9図は第8図に示すベース共通のラテラルトランジス
タの等価回路図である。FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of the lateral transistor having the common base shown in FIG.
なお、エミッタ及びコレクタが3個以上のラテラルトラ
ンジスタについても、上記の手続を繰返すことにより作
図できる。A lateral transistor having three or more emitters and collectors can also be formed by repeating the above procedure.
ベース共通のラテラルトランジスタは、カレントミラー
回路などで良く使用され、同一絶縁層領域中にエミッ
タ、ベース、コレクタを入れるように設計するとチップ
サイズの縮小化に大きく寄与する。A lateral transistor having a common base is often used in a current mirror circuit and the like, and if the emitter, the base and the collector are designed to be included in the same insulating layer region, the lateral transistor greatly contributes to the reduction of the chip size.
上記の直線6〜10は、各種の設計基準、例えば、絶縁ベ
ース間隔、ベース・コレクタコンタクト拡散領域間隔、
電極間隔、ラテラルトランジスタのベース幅、コレクタ
幅及びロコス幅などを全て満すように設定されている。
机上設計では、トランジスタの位置と大きさ及び電極の
位置が重要であり、その他のセル内部に関する情報は必
要でない。The above straight lines 6 to 10 are various design criteria, for example, insulating base spacing, base-collector contact diffusion region spacing,
The electrode spacing, the base width of the lateral transistor, the collector width and the locos width are all set.
In desktop design, the location and size of the transistors and the location of the electrodes are important, and no other internal cell information is needed.
上述した基準トランジスタと基準トランジスタから作成
される各種トランジスタのアートワークデータは、各種
のアートワークシステムのデータベースに登録してお
き、設計者はIC製図用テンプレートで設計した図面をも
とにデジタイズするだけでブロック又はチップのアート
ワーク処理まで可能になる。The above-mentioned reference transistor and the artwork data of various transistors created from the reference transistor are registered in the database of various artwork systems, and the designer just digitizes based on the drawing designed by the IC drawing template. With this, even block or chip artwork can be processed.
第10図はボンディングパッドのシンボル図形の一実施例
の平面図である。FIG. 10 is a plan view of an example of a symbol graphic of a bonding pad.
第10図に示すように、シンボル図形はボンディングパッ
ドを表わしていて、基板1上に形成されたボンディング
パッドのコーナ部を示すL字形のスリット3c,4c,5cと、
中心を表わす×形スリット13とを含む。As shown in FIG. 10, symbolic symbols represent bonding pads, and L-shaped slits 3c, 4c, 5c showing corners of the bonding pads formed on the substrate 1,
And a x-shaped slit 13 representing the center.
ボンディングパッドは正方形であり、本来向きを待たな
いから中心の座標だけでセルの位置を表わすことが可能
であり、一回のデジタイズでセルの入力ができる。Since the bonding pad is square and does not wait for its orientation, the cell position can be represented only by the coordinates of the center, and the cell can be input with a single digitization.
しかしながら、机上設計段階ではボンディングパッドの
大きさがわからないとチップの設計はできないので、ス
リット3c,4c,5cで大きさを表わし×形スリット13でボン
ディングパッドの座標を表わしている。However, at the desk design stage, the chip cannot be designed unless the size of the bonding pad is known, so the slits 3c, 4c, 5c represent the size and the x-shaped slit 13 represents the bonding pad coordinate.
デジタイズの際は、カーソルを×形スリット13に合せて
入力することにより1回で済むので入力ミスの低減と操
作者の負担を軽減できる。この例の場合は、左上のL字
形スリットが消略されているが、左上部分に別のセルが
あるため略したもので、実用的には第10図のようにシン
ボル化しても、レイアウト情報としては十分である。At the time of digitizing, the cursor is aligned with the x-shaped slit 13 and input is performed only once, so that it is possible to reduce input mistakes and the operator's burden. In the case of this example, the L-shaped slit on the upper left is omitted, but it is omitted because there is another cell in the upper left part. Even if it is symbolized as shown in FIG. 10, the layout information is practically used. Is enough as
第11図はL字形のスリットの変形例の平面図である。FIG. 11 is a plan view of a modified example of the L-shaped slit.
第11図に示すように、基板1上に形成されたトランジス
タの左下の絶縁層の中心を表わすL字形のスリット3d
と、スリット3dのL字を形成する2辺の中心線の延長上
にL字の外側方向にそれぞれ印刷された直線11,12とを
含む。As shown in FIG. 11, an L-shaped slit 3d representing the center of the lower left insulating layer of the transistor formed on the substrate 1
And straight lines 11 and 12 respectively printed on the outside of the L-shape on the extension of the center lines of the two sides forming the L-shape of the slit 3d.
スリット3dは芯径0.5mmの繰出鉛筆の芯がぴったり入る
ようにテーパ角がついている。The slit 3d has a taper angle so that the lead of a pay-out pencil having a lead diameter of 0.5 mm can be fitted exactly.
レイアウト設計時にスリット3dを方眼紙のます目に合せ
てトランジスタを配置するが、直線11,12と方眼紙のま
す目を重ね合すことによって、精度良く、かつ迅速に位
置合せできる。When the layout is designed, the slits 3d are aligned with the squares of the graph paper to arrange the transistors. However, by overlapping the straight lines 11 and 12 with the squares of the graph paper, the alignment can be performed accurately and quickly.
以上説明したように本発明によれば、ICのパターン設計
で使用する各種コンポーネントのシンボル図を正確に早
く書くことができ、ガイドライン用の各種の直線を用い
て直接シンボル図形として表現されていない各種のトラ
ンジスタを作図できるので、極めてコンパクトなIC製図
用テンプレートを実現でき、パターン設計の能率向上と
設計ミスの低減ができるという効果がある。As described above, according to the present invention, symbol diagrams of various components used in IC pattern design can be written accurately and quickly, and various types of straight lines for guide lines that are not directly expressed as symbol graphics can be used. Since it is possible to draw the transistor of, it is possible to realize an extremely compact IC drawing template, improve the efficiency of pattern design, and reduce design mistakes.
第1図は本第1の発明の第1の実施例の平面図、第2図
(a)〜(c)はそれぞれ第1図の実施例を用いてコレ
クタとベース間に配線を通す場合の作図手順を説明する
ためのトランジスタの平面図、第3図は本第1の発明の
第2の実施例の平面図、第4図(a)及び(b)はそれ
ぞれ第3図の実施例を用いて横方向に長いトランジスタ
を設計する場合の作図手順を説明するためのトランジス
タの平面図、第5図は本第1の発明の他の実施例の平面
図、第6図(a)及び(b)はそれぞれ第5図の実施例
を用いて横方向に2倍サイズのラテラルトランジスタを
設計する場合の作図手順を説明するためのラテラルトラ
ンジスタの平面図、第7図は第6図に示すラテラルトラ
ンジスタの等価回路図、第8図(a)及び(b)はそれ
ぞれ第5図の実施例を用いてベース共通のラテラルトラ
ンジスタを設計する場合の作図手順を説明するためのラ
テラルトランジスタの平面図、第9図は第8図に示すベ
ース共通のラテラルトランジスタの等価回路図、第10図
はボンディングパッドのシンボル図形の平面図、第11図
はL字形のスリットの変形例の平面図である。 1……基板、2〜5,2a〜5a,2b〜5b,3c〜5c,3d……L字
形のスリット、6〜12……直線、13……×形スリット、
14……用紙、B1,B2,B3……ベース、C1,C2,C3……コレク
タ、E1,E2,E3……エミッタ。FIG. 1 is a plan view of the first embodiment of the present invention, and FIGS. 2A to 2C are diagrams showing the case where wiring is provided between the collector and the base using the embodiment of FIG. 1, respectively. A plan view of a transistor for explaining a drawing procedure, FIG. 3 is a plan view of a second embodiment of the first invention, and FIGS. 4 (a) and 4 (b) are respectively embodiments of FIG. FIG. 5 is a plan view of a transistor for explaining a drawing procedure in the case where a laterally long transistor is designed by using FIG. 5, FIG. 5 is a plan view of another embodiment of the first invention, FIGS. b) is a plan view of a lateral transistor for explaining a drawing procedure when laterally sized lateral transistors are designed by using the embodiment of FIG. 5, respectively, and FIG. 7 is a lateral view of FIG. The equivalent circuit diagram of the transistor is shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), respectively. 10 is a plan view of a lateral transistor for explaining a drawing procedure when a lateral transistor having a common base is designed by using FIG. 9, FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of the lateral transistor having a common base shown in FIG. 8, and FIG. 10 is a bonding diagram. FIG. 11 is a plan view of a symbol graphic of the pad, and FIG. 11 is a plan view of a modified example of the L-shaped slit. 1 ... Substrate, 2-5, 2a-5a, 2b-5b, 3c-5c, 3d ... L-shaped slit, 6-12 ... Straight line, 13 ... X-shaped slit,
14 ...... paper, B 1, B 2, B 3 ...... base, C 1, C 2, C 3 ...... collector, E 1, E 2, E 3 ...... emitter.
Claims (1)
るコンポーネントのシンボル図形を透明な基板上に複数
複種類穿設したIC製図用テンプレートにおいて、前記シ
ンボル図形にはトランジスタ領域の外郭を表わす4個の
L字形のスリットと、前記トランジスタのエミッタとベ
ースとコレクタの各電極部を表わす矩形の穴と、前記4
個のL字形のスリットで囲まれて形成される四辺形のい
ずれかの一辺に平行でかつ前記四辺形の外側に所定の間
隔で印刷された少なくとも一つの直線とを有することを
特徴とするIC製図用テンプレート。1. An IC drawing template in which a plurality of types of symbol graphics of components used for pattern design of a semiconductor integrated circuit are perforated on a transparent substrate, wherein the symbol graphics include four contours representing a contour of a transistor region. The L-shaped slit, the rectangular holes representing the electrode portions of the emitter, base and collector of the transistor, and
An IC having at least one straight line parallel to any one side of a quadrangle formed by being surrounded by L-shaped slits and printed outside the quadrangle at a predetermined interval. Drafting template.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62165656A JPH0717119B2 (en) | 1987-07-01 | 1987-07-01 | Template for IC drawing |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62165656A JPH0717119B2 (en) | 1987-07-01 | 1987-07-01 | Template for IC drawing |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS649800A JPS649800A (en) | 1989-01-13 |
JPH0717119B2 true JPH0717119B2 (en) | 1995-03-01 |
Family
ID=15816504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62165656A Expired - Lifetime JPH0717119B2 (en) | 1987-07-01 | 1987-07-01 | Template for IC drawing |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0717119B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2590770A1 (en) * | 2004-12-13 | 2006-06-22 | Kym Joanne Graham | A marking template |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS558187U (en) * | 1978-07-04 | 1980-01-19 | ||
JPS6131892U (en) * | 1984-07-31 | 1986-02-26 | 株式会社 カミヤ定規 | Drafting template |
JPS6161900A (en) * | 1984-09-04 | 1986-03-29 | 日本電気株式会社 | Template for ic drawing |
-
1987
- 1987-07-01 JP JP62165656A patent/JPH0717119B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS649800A (en) | 1989-01-13 |
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