JPS6161900A - Template for ic drawing - Google Patents

Template for ic drawing

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Publication number
JPS6161900A
JPS6161900A JP18480484A JP18480484A JPS6161900A JP S6161900 A JPS6161900 A JP S6161900A JP 18480484 A JP18480484 A JP 18480484A JP 18480484 A JP18480484 A JP 18480484A JP S6161900 A JPS6161900 A JP S6161900A
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JP
Japan
Prior art keywords
symbol
template according
electrodes
design
resistive contact
Prior art date
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Pending
Application number
JP18480484A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
布施 守
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS6161900A publication Critical patent/JPS6161900A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路のパターン設計に用いられるI
C製図用テンプレートに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] The present invention relates to an I.
Regarding C drawing templates.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体集積回路(IC)等のパターン設計は、回路図に
基づいて机上で各種のコンポーネントをレイアウトし配
線を行うことでア)、机上設計完了後、パターン設計図
面をデジタイズして磁気ディスク等に書き込み、パター
ンジェネレータや電子露光装置で処理できるアートワー
クテータを作成することによシ完了する。
Pattern design for semiconductor integrated circuits (ICs), etc. is done by laying out various components on a desk based on a circuit diagram and wiring them. After completing the desk design, the pattern design drawings are digitized and written onto a magnetic disk, etc. This is accomplished by creating an artwork data that can be processed with a pattern generator or electronic exposure equipment.

机上設計段階では、各種のコンポーネント、例えばトラ
ンジスタ(Tr)、ダイオードCDI)、抵抗、容量等
および機能ブロックをシンボル化してレイアウトを行な
い、これらのコンポーネントを相互配線する。
At the theoretical design stage, various components such as transistors (Tr), diodes CDI), resistors, capacitors, etc., and functional blocks are symbolized and laid out, and these components are interconnected.

IC全体図のレイアウトを行う際は、通常方眠紙上に実
際寸法の200倍程(例えば5μmf:1mmに)K拡
大した状態でコンポーネントのシンボル図を正確にレイ
アウトする。例えば、第1図に示すようなNPN)ラン
ジスタを描く場合は、トランジスタ1のサイズa、b(
素子分離層の中心線2)と、リファレンスクロスポイン
トF(素子分離層2の中心線左下のコーナー)からのエ
ミッタ(E)、ベース(B)、コレクタ(C)のコンタ
クト部電極3.4.5を、各コンタク部の電極の位置お
よびサイズに注意して図面上に正確に省く必要がある。
When laying out the overall IC diagram, the symbol diagram of the component is usually accurately laid out on a sheet of paper, enlarged about 200 times its actual size (for example, to 5 μm f: 1 mm). For example, when drawing an NPN) transistor as shown in Figure 1, the sizes of transistor 1 are a, b (
Contact portion electrodes 3.4. of the emitter (E), base (B), and collector (C) from the center line 2) of the element isolation layer and the reference cross point F (lower left corner of the center line of the element isolation layer 2). 5 must be accurately omitted on the drawing, paying attention to the position and size of the electrodes of each contact part.

このシンボル図は、定規や矩形、円形等の単純な形状の
穴のあいたプレートを用いて書かれるため、コンポーネ
ント数が増えるにつれて設計者の負担は増大するととも
に設計期間増大の一因とな・りている。特KICO高集
積化のため方眼紙の半目盛(0,5mm)′t−使用し
て書く頻度が多くなるにつれ、煩雑さから作図ミスの発
生が多くなシ、修正を繰シ返さなけれはならないため設
計ミス勿生じやすい欠点がある。
This symbol diagram is drawn using a ruler or a plate with holes in simple shapes such as rectangles and circles, so as the number of components increases, the burden on the designer increases and also contributes to an increase in design time. ing. Specially due to the high integration of KICO, as the frequency of writing using graph paper (0.5mm) increases, the complexity of the drawings causes many errors, and corrections have to be made repeatedly. Therefore, there is a drawback that design errors are likely to occur.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明の目的は、上記欠点を除去し、ICのパターンI
& 計で使用するコンポーネントのシンボル図形を正確
に早く書くことのできるIC製図用テンプレートを提供
することにある。
The object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks and to
& To provide an IC drawing template that allows accurate and quick drawing of symbol figures of components used in a meter.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明のIC製図用テンプレートは、半導体集積回路の
パターン設計に用いられるコンポーネントのシンボル図
形を複数個穿設して構成される。
The IC drawing template of the present invention is constructed by punching a plurality of symbol figures of components used in pattern design of semiconductor integrated circuits.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明を実施例を用い、図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained using examples and with reference to the drawings.

第2図μ本発明の一実施例の平面図である。FIG. 2 μ is a plan view of an embodiment of the present invention.

第2図において、プクスチックや軟鋼板吟、穿孔が容易
で安価な素材からなるプレー)10には、ICのパター
ン設計に多く用いられるトランジスタおよびダイオード
のシンボル図形が正確に穿設されている。
In FIG. 2, a plate 10 made of a material that is easy to perforate and is inexpensive, such as Pukustick or mild steel plate, has the symbol shapes of transistors and diodes, which are often used in IC pattern design, accurately perforated.

例cば、RTJI P N P ト’j ;/ シ、x
、 l (v−PNP )(7)シンボル図形11にお
いては、エミッタ(E)、ベース(B)およびコレクタ
(C)のコンタクト部の電極の位置と大きさは、その周
囲の素子分離層の境界を示すかぎ形ラインllaのクロ
スポイントFから規定されており、シンボル図形11の
孔にそりてその図形を描くことによシ、正確なPNPト
ランジスタのシンボル図形を単時間に、かつ容易に作図
することができる。
For example, RTJI P N P ト'j ;/ し、x
, l (v-PNP) (7) In symbol figure 11, the positions and sizes of the electrodes of the emitter (E), base (B) and collector (C) contact parts are determined by the boundaries of the surrounding element isolation layers. By drawing the figure along the hole of the symbol figure 11, an accurate symbol figure of the PNP transistor can be drawn quickly and easily. be able to.

横型PNPトランジスタ(L−PNP)のシンボル図形
としては普通型のもの12の外に、マルチコレクタ型1
3、ベース共通型14が、そしてダイオード(Di)と
しては、コレクタ・ベースシ冒−トD115およびコレ
クタ・ベースD116がそれぞれ穿設してあり、NPN
)ランジスタのシンボル図形の場合と同様に正確なシン
ボル図形の作図に利用できる。
In addition to the normal type 12 symbol shapes for horizontal PNP transistors (L-PNP), there is also the multi-collector type 1.
3. A common base type 14 is provided, and a collector base sheet D115 and a collector base D116 are provided as diodes (Di), respectively, and NPN
) It can be used to draw accurate symbol shapes in the same way as the transistor symbol shapes.

$3図は本発明の他の実施例の平面図である。Figure $3 is a plan view of another embodiment of the present invention.

第3図におけるシンボル図形は、抵抗21、抵抗コンタ
クト22、基準線23、斜め配線24およびファンクシ
ョンブロック(F−Block) 25 テあシ、第2
図の場合と同様にプレート10に穿設されている。
The symbol figures in FIG.
A hole is provided in the plate 10 as in the case shown in the figure.

抵抗のシンボル図形21には、例えばその幅W(μm)
を示す数字を記入しておくことによシ所望の幅Wを有す
るシンボル図形を省くことができる。
The resistance symbol figure 21 has its width W (μm), for example.
By writing in the numbers indicating the width W, it is possible to omit the symbol figure having the desired width W.

特に折り曲げ部の図形は作図能率の向上に有効である。In particular, the shape of the folded portion is effective in improving drawing efficiency.

また、波形図形212は、配線と抵抗図形とが重なるよ
うな場合に、抵抗図形を略して書くのに都合がよく、波
形の粗密を抵抗図形の幅Wの大小に関連させることもで
きる。
In addition, the waveform diagram 212 is convenient for writing a resistance diagram abbreviated in cases where the wiring and the resistance diagram overlap, and the density of the waveform can also be related to the width W of the resistance diagram.

抵抗コンタクトのシンボル図形22としては、正方形の
ものや矩形のもの及びかき形の境界線を有するもの22
aが有用である。境界線を肩するもの222は、静電破
壊対策用抵抗コンタクト部のように、コンタクト部の電
極が抵抗コンタクト部のPN接合よシ、内側にある場合
に有効である。
Symbol figures 22 of resistance contacts include square ones, rectangular ones, and ones with scratch-shaped borders 22.
a is useful. The boundary line shouldering 222 is effective when the electrode of the contact portion is located inside the PN junction of the resistive contact portion, such as in a resistive contact portion for preventing electrostatic discharge damage.

又抵抗コンタクトは、絶縁中心線から設計基準に従って
配置しておくことによって抵抗のレイアウト及びチェッ
クを容易に行うことが出来る。
Further, by arranging the resistor contacts from the center line of the insulation according to design standards, the layout and checking of the resistors can be easily performed.

基準線の図形23は、例えば素子分離層の中心線を基準
として抵抗の中心線部を作図したり、チェックしたシす
る場合に有用でちJ、ICo設計基準にそった間隔を有
する複数本の線を基準間隔値を記入して形成しておくこ
とが望ましい。
The reference line figure 23 is useful, for example, when drawing or checking the center line part of a resistor using the center line of the element isolation layer as a reference. It is desirable to form lines by writing reference interval values.

斜め配線24は、斜め配線間隔を意識しながら何本も作
図する煩雑省を軽減するのに役立つ。
The diagonal wiring 24 is useful for reducing the complexity of drawing multiple lines while being aware of the diagonal wiring spacing.

F−B1ock25としてフリッププロップのシンボル
図を示したが、この外、パターン設計に多く用いられる
電源、発振器等のシンボル図を穿設しておくことが望ま
しく、作図の効率化に寄与する。
Although a symbol diagram of a flip-flop is shown as F-B1ock25, it is desirable to include symbol diagrams of power supplies, oscillators, etc., which are often used in pattern design, and this contributes to efficiency in drawing.

伺、誤使用を防ぐためにこれらシンボル図形には簡単な
名称をその周囲に記入しておくとよい。
It is a good idea to write simple names around these symbol shapes to prevent misuse.

上記実施例に訃いては、ICのパターン設計に比較的多
く利用される各ねコンポーネントのシンボル図形をプレ
ートに穿設した場合について説明したが、図示したシン
ボル図形に限定されるものではなく、目合せパターン、
TEG用バンド等の図形を穿設してもよいことは勿論で
ある。また、第2図および第3図に示したシンボル図形
を1枚のプレートに穿設してもよく、更に、設計基準ご
とに複数枚のIC!!!Q用テンプレートを用意するこ
とも可能である。この場合、シンボル図形には名称と共
に基準値も記入しておくと便利でちシ誤使用をなくすこ
とができる。
In the above embodiment, the case where the symbol figures of each component, which are relatively often used in IC pattern design, are drilled into the plate has been described, but the present invention is not limited to the illustrated symbol figures. matching pattern,
Of course, a figure such as a TEG band may be provided. Further, the symbol figures shown in FIGS. 2 and 3 may be perforated on one plate, and furthermore, a plurality of ICs may be formed according to design standards. ! ! It is also possible to prepare a template for Q. In this case, it is convenient to write the reference value as well as the name on the symbol figure to avoid misuse.

上記説明ではシンボル図形はバイポーラICの場合につ
いて述べたが、MOS LSIについても同様に適用で
きる。
In the above explanation, the symbol figure is for a bipolar IC, but it can be similarly applied to a MOS LSI.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳細に説明したように1本発明によれば、ICのパ
ターン・設計で使用する各種コンポーネントのシンボル
図を正確に早く書くことのできるIC製図用テンプレー
トが得られるので、パターン設計の能率向上に大きな効
果がある。
As explained in detail above, according to the present invention, it is possible to obtain an IC drawing template that can accurately and quickly draw symbol diagrams of various components used in IC pattern/design, thereby improving the efficiency of pattern design. It has a big effect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はパターン設計におけるトランジスタのシンボル
図形を説明するための図、第2図は本発明の一実施例の
平面図、第3図は本発明の他の実施例の平面図である。 1・・・・・・トランジスタ、2・・・・・・素子分離
層の中心線、3・・・・・・エミッタコンタクト部の電
極、4・・・・・・べ−ス:Iンタクト部のtL 5・
・・・・・コレクタコンタクト部の電極、10・・・・
・・プレート、11・・・・・・縦ff1PNPトラン
ジスタのシンボル図、12.13゜14・・・・・・横
型PNP )ランジスタのシンボル図、15.16・・
・・・・ダイオードのシンボル図、21・・・・・・抵
抗のシンボル図、22・・・・・・抵抗コンタクト部の
シンボル図、23・・・・・・基準線のシンボル図、2
4・・・・・・斜め配線のシンボル図、25・・・・・
・ファンクションブロックのシンボル図。 竿 1 回 享 3 回
FIG. 1 is a diagram for explaining the symbol figure of a transistor in pattern design, FIG. 2 is a plan view of one embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a plan view of another embodiment of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Transistor, 2...Center line of element isolation layer, 3...Emitter contact part electrode, 4...Base: I contact part tL 5・
...Collector contact part electrode, 10...
...Plate, 11... Symbol diagram of vertical ff1 PNP transistor, 12.13° 14... Horizontal PNP) Symbol diagram of transistor, 15.16...
... Diode symbol diagram, 21... Resistor symbol diagram, 22... Resistor contact part symbol diagram, 23... Reference line symbol diagram, 2
4... Symbol diagram of diagonal wiring, 25...
- Symbol diagram of function blocks. Rod 1 time 3 times

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)半導体集積回路のパターン設計に用いられるコン
ポーネントのシンボル図形を複数個穿設したことを特徴
とするIC製図用テンプレート。
(1) An IC drawing template characterized in that a plurality of symbol figures of components used for pattern design of semiconductor integrated circuits are punched.
(2)シンボル図形の周辺部には図形の名称が記載され
ている特許請求の範囲第1項記載のIC製図用テンプレ
ート。
(2) The IC drawing template according to claim 1, wherein the name of the symbol is written on the periphery of the symbol.
(3)各種バイポーラトランジスタのエミッタ、ベース
、コレクタ各電極部及びダイオードのアノード、カソー
ド各電極部の形状及び前記電極間相互の配置が、設計図
面倍率に応じて正確にテンプレート上に窓開けされてお
り、かつ前記トランジスタ及びダイオードを構成する絶
縁層の絶縁中心を規定するL字形のスリットを少なくと
も相対するコーナー部に2カ所以上配置してなることを
特徴とする特許請求範囲第1項記載のテンプレート。
(3) The shapes of the emitter, base, and collector electrodes of various bipolar transistors, the anode and cathode electrodes of diodes, and the mutual arrangement of the electrodes are accurately opened on the template according to the design drawing magnification. The template according to claim 1, wherein L-shaped slits defining insulation centers of the insulating layers constituting the transistors and diodes are arranged at two or more locations at least in opposing corners. .
(4)抵抗コンタクト電極部の形状又は抵抗コンタクト
電極部の形状及びコンタクト部拡散領域を示すL字形の
スリットを有する抵抗コンタクト部と前記抵抗コンタク
トに接近してかつ、設計基準を満たして配置してある絶
縁層の絶縁中心を示す直線上のスリットからなる特許請
求範囲第1項記載のテンプレート。
(4) The shape of the resistive contact electrode portion or the shape of the resistive contact electrode portion and the resistive contact portion having an L-shaped slit indicating the contact portion diffusion region are arranged close to the resistive contact and meeting the design criteria. The template according to claim 1, which comprises a straight slit indicating the insulation center of a certain insulation layer.
(5)半導体集積回路に用いられる各種機能ブロックの
入出力、クロック、電源などの各端子部の電極部の形状
と前記電極間相互の配置が設計図面倍率に応じてテンプ
レート上に窓開けされており、かつ前記機能ブロックの
大きさを規定するL字形のスリットが少なくとも相対す
るコーナー部に2カ所以上有することを特徴とする特許
請求範囲第1項記載のテンプレート。
(5) The shape of the electrodes of each terminal for input/output, clock, power supply, etc. of various functional blocks used in semiconductor integrated circuits and the mutual arrangement of the electrodes are windowed on the template according to the design drawing magnification. 2. The template according to claim 1, wherein L-shaped slits defining the size of the functional block are provided at two or more locations at least at opposing corner portions.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS649800A (en) * 1987-07-01 1989-01-13 Nec Corp Template for ic drawing

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5636490B2 (en) * 1973-12-10 1981-08-25
JPS579595B2 (en) * 1977-10-25 1982-02-22
JPS5740552U (en) * 1980-08-20 1982-03-04

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