JPH07168867A - Layout wiring processing method - Google Patents

Layout wiring processing method

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Publication number
JPH07168867A
JPH07168867A JP5312400A JP31240093A JPH07168867A JP H07168867 A JPH07168867 A JP H07168867A JP 5312400 A JP5312400 A JP 5312400A JP 31240093 A JP31240093 A JP 31240093A JP H07168867 A JPH07168867 A JP H07168867A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
wiring
interactive
layout
display device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5312400A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naomi Fujii
直美 藤井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority to JP5312400A priority Critical patent/JPH07168867A/en
Publication of JPH07168867A publication Critical patent/JPH07168867A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a layout wiring processing method which can shorten the time needed for the wiring connection check in a verifying step of the after-process. CONSTITUTION:This processing method perform the interactive addition, deletion, etc., of wirings in accordance with the layout design of a semiconductor chip. Then the processing method includes a processing step 101 where a macrocell is placed and the wiring is processed on the semiconductor chip based on the logical information received from a prescribed basic information file 1, a wiring information file 2 and a connection information file 3, a processing step 102 where the screen display processing is carried out to show the received processing result of the step 101 on a prescribed display device, and a processing step 103 where the interactive wiring processing is carried out at least to add and delete the wirings and to display a cross section.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はレイアウト配線処理方法
に関し、特に半導体集積回路のレイアウト設計フロアプ
ランの工程において用いられるレイアウト配線処理方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a layout / wiring processing method, and more particularly to a layout / wiring processing method used in a layout design floor plan process of a semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、レイアウト設計工程におけるマ
クロセルの配置およびマクロセル間の配線等の作業は自
動的に行われるが、トラック数の制限などにより自動的
に行うことのできない配線については、対話型の表示装
置システムを用いることにより、人手を介して追加削除
修正が行われる。ここで云うマクロセルとは、配線がな
く、個別に配列されているトランジスタに配線を施して
機能を持たせたものを1個ないし数個まとめて作ったロ
ジックに対応するものであり、配線とは、これらのマク
ロセル間を配線により結ぶ処理のことを指している。前
記表示装置に半導体チップのマクロセルと配線を表示さ
せるためには、まず下地情報、配線情報および接続情報
を読み込ませて、その論理情報から半導体チップ上の配
線を図面として表示させる処理が行われる。人手による
インタラクティブな配線処理を行う作業は、以上までの
段階を終了した上で行われることになる。
2. Description of the Related Art Generally, work such as placement of macro cells and wiring between macro cells in a layout design process is automatically performed. However, for wiring that cannot be automatically performed due to a limitation of the number of tracks, an interactive type By using the display device system, addition / deletion correction is performed manually. The macro cell referred to here corresponds to a logic which is made up of one or a plurality of transistors which have no wiring and which are individually arranged to have a function by wiring. , A process of connecting these macro cells by wiring. In order to display the macro cell and the wiring of the semiconductor chip on the display device, first, the background information, the wiring information and the connection information are read, and the wiring on the semiconductor chip is displayed as a drawing from the logical information. The work of interactive wiring processing by hand is performed after the above steps are completed.

【0003】図7は従来のレイアウト配線処理方式にお
ける、前記インタラクティブな配線処理手順を示す流れ
図である。図7において、まず、ステップ701におい
ては、配線処理を施す対象の配線を1本選択し、表示装
置画面上においてハイライトさせる。次に、ステップ7
02においては次に行うべき処理の選択を行う。この場
合には、完全な配線が為されていないものを対象とし
て、まず配線禁止領域、抵抗を考慮した配線間隔、ルー
プ配線の回避、および最短距離の選択等を考慮して、配
線の追加処理、削除処理または断面図表示処理の何れか
を選択する。そして、ステップ702の選択結果を受け
て、ステップ703においては配線の追加処理を行い、
ステップ704においては配線の削除処理を実行する。
そして、ステップ705においては、これら何れかの配
線処理が終了したか否かを判断して、未だ終了していな
い場合にはステップ702に戻って以降の処理を続行
し、終了した場合には、ステップ706において、変更
された配線データを登録して配線処理は終了する。
FIG. 7 is a flow chart showing the interactive wiring processing procedure in the conventional layout wiring processing method. In FIG. 7, first, in step 701, one wiring to be subjected to wiring processing is selected and highlighted on the screen of the display device. Next, step 7
In 02, the next process to be performed is selected. In this case, for the case where the complete wiring is not performed, the additional processing of the wiring is first performed considering the wiring prohibited area, the wiring interval considering the resistance, the avoidance of the loop wiring, and the selection of the shortest distance. , Delete processing or sectional view display processing is selected. Then, in response to the selection result of step 702, wiring addition processing is performed in step 703.
In step 704, wiring deletion processing is executed.
Then, in step 705, it is determined whether or not any one of these wiring processes has been completed. If not completed, the process returns to step 702 to continue the subsequent processes, and if completed, In step 706, the changed wiring data is registered and the wiring process ends.

【0004】一般に、半導体チップ上に施される配線に
は複数の階層があり、マクロセル間を結ぶ1本の配線作
業中においては、隣接する配線との短絡を回避するた
め、また、抵抗などを考慮して配線間同士の配線間隔を
一定に保つため、或はまた配線禁止領域を避けるため
に、配線方向の変更および層の変更が繰返して行われ
る。
Generally, a wiring provided on a semiconductor chip has a plurality of hierarchies, and in order to avoid a short circuit with an adjacent wiring during a single wiring work for connecting macro cells, a resistance or the like is added. Considering this, in order to keep the wiring interval between the wirings constant or to avoid the wiring prohibited area, the wiring direction and the layer are repeatedly changed.

【0005】従来、表示装置上において表示される半導
体チップ上の構造は、必らず上面方向から見た平面図と
して表示され(図8を参照)、表示中における配線の層
の違いは、色または柄に変化をつけるこにより違いが示
されている。ここで、配線中における異階層間同士が接
続されている部分について考えてみるものとする。異階
層間の層を変える点(以下、層変化点と云う。図8にお
いては、層変化点22、22−1として示される)にお
いて結ぶ配線のことをVIAと云うが、このVIAは異
階層間を接続する役目を有し、1階層間には1個存在す
るのみであり、図9(a)に示されるように、上層24
および下層27に対応して、VIA25が両層間の接続
機能を果している。しかし、配線の途中において層を変
化させる場合には、必ずしも1階層だけで変化させると
いう訳ではなく、1度に2階層以上の層に亘って変化さ
せることが必要な場合も存在する。仮に、VIAを2個
発生させる場合に、一方の配線から既にVIAが発生さ
れていた時には、上面から見た図だけではVIAを幾つ
発生させるべきか、どういう状態でVIAが発生してい
るのかを判断するのは、極めて困難のことである。ま
た、VIAには、配線から発生させるものと、マクロセ
ル上の端子がVIAと一体化しており、端子そのものが
VIAになっている端子上VIAがある(図9(b)を
参照)。図9(b)において、VIA25は配線から出
ているVIAを示し、VIA26は端子上のVIAを示
している。この端子上のVIAの場合には、端子の存在
そのものがVIAとなっている訳であり、従って、改め
てVIAを発生させる必要はない。しかしながら、設計
者にとっては、VIAと端子とが一体となっていること
を、一目で理解することは極めて困難なことである。
Conventionally, the structure on a semiconductor chip displayed on a display device is always displayed as a plan view seen from the upper surface direction (see FIG. 8). Or the difference is shown by changing the pattern. Here, let us consider a portion in the wiring where different layers are connected to each other. Wirings connected at points at which layers between different layers are changed (hereinafter referred to as layer change points, which are shown as layer change points 22 and 22-1 in FIG. 8) are called VIA. It has a role of connecting the layers, and only one layer exists in one layer. As shown in FIG.
The VIA 25 has a connection function between the two layers, corresponding to the lower layer 27. However, when changing layers in the middle of wiring, it is not always necessary to change only one layer, and there are cases where it is necessary to change two or more layers at a time. If two VIAs are generated, if one of the wirings has already generated VIA, how much VIA should be generated only from the top view and in what state VIA is generated. Judgment is extremely difficult. The VIA includes a VIA generated from a wiring and a VIA on a terminal in which a terminal on a macro cell is integrated with the VIA and the terminal itself is the VIA (see FIG. 9B). In FIG. 9B, VIA 25 indicates the VIA coming out of the wiring, and VIA 26 indicates the VIA on the terminal. In the case of the VIA on this terminal, the existence of the terminal itself is the VIA, and therefore it is not necessary to generate the VIA again. However, it is extremely difficult for the designer to understand at a glance that the VIA and the terminal are integrated.

【0006】また、設計者は、配線の追加・削除等の処
理を何度となく繰返して行う訳であり、現時点において
修正した部分の回路が、どのような状態であるかという
ことを把握するためには、図面中の色、柄の重なりか
ら、設計した本人が予想として把握するしか方法はな
い。そのために、確実に回路および配線等が接続されて
いるか否かの判断としては、後工程において行われる検
証接続チェックと、再度繰返して行われる配線の修正と
に依存せざるを得ない状況であり、このために要する時
間は可成の工数に昇っている。
Further, the designer repeats the processes such as the addition / deletion of the wirings many times, and grasps what kind of state the circuit of the corrected portion is at the present time. In order to do so, there is no way but to grasp the design person's expectation from the overlap of colors and patterns in the drawings. Therefore, it is unavoidable to rely on the verification connection check performed in a later process and the repeated wiring correction to determine whether or not the circuit and wiring are surely connected. , The time required for this has risen to the number of man-hours that can be achieved.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のレイア
ウト配線処理方法においては、人手によるインタラクテ
ィブな配線処理を行う際に、従来の平面的表示方法のみ
による場合には、現状の異階層間の配線接続状況を把握
することが困難であり、且つ配線追加および削除等を確
実に行うことができないという欠点がある。
In the above-described conventional layout and wiring processing method, when performing interactive wiring processing manually, if the conventional planar display method alone is used, the current wiring between different layers is used. There are drawbacks that it is difficult to grasp the connection status, and it is not possible to reliably add or delete wiring.

【0008】また、配線処理を繰返して行う過程におい
て、設計者により接続部における完全な配線接続を確認
することができないために、後工程において検証接続チ
ェックを行う際に、少数回のチェックでは全てのエラー
を除去することができないために、より多くの複数回の
チェックを実行して配線修正を繰返して行う必要があ
り、設計工数が増大するという欠点がある。
In addition, in the process of repeating the wiring process, the designer cannot confirm the complete wiring connection at the connecting portion. Since it is not possible to remove the error of (2), it is necessary to execute more checks a plurality of times and repeat the wiring correction, which results in an increase in design man-hours.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のレイアウト配線
処理方法は、半導体チップのレイアウト設計に対応し
て、インタラクティブな配線の追加および削除等を行う
レイアウト配線処理方法において、所定の下地情報ファ
イル、配線情報ファイルおよび接続情報ファイルより出
力される論理情報を参照して、半導体チップ上における
マクロセル配置および配線処理を行う第1の処理ステッ
プと、前記第1の処理ステップの処理結果を受けて、当
該処理結果を所定の表示装置上に表示するための画面表
示処理を行う第2の処理ステップと、少なくとも、配線
の追加処理、削除処理および断面図表示処理を含むイン
タラクティブ配線処理を行う第3の処理ステップと、を
有することを特徴としている。
A layout and wiring processing method according to the present invention is a layout and wiring processing method for interactively adding and deleting wirings in accordance with a layout design of a semiconductor chip. With reference to the logic information output from the wiring information file and the connection information file, the first processing step of performing macrocell placement and wiring processing on a semiconductor chip and the processing result of the first processing step are received, A second processing step for performing screen display processing for displaying the processing result on a predetermined display device, and a third processing for performing interactive wiring processing including at least wiring addition processing, deletion processing, and sectional view display processing. And a step.

【0010】なお、前記第3の処理ステップにおけるイ
ンタラクティブ配線処理の処理手順としては、当該イン
タラクティブ処理の対象とする配線を選択して、所定の
表示装置画面上にハイライトする処理ステップと、選択
された配線に対する処理内容として、追加処理、削除処
理および断面図表示処理の何れかの配線処理を選択する
処理ステップと、前記追加処理、削除処理および断面図
表示処理の内より選択された配線処理を行う処理ステッ
プと、選択された配線処理が終了したか否かを判断し
て、当該配線処理が終了していない場合には、前記イン
タラクティブ処理の対象とする配線を選択して、所定の
表示装置画面上にハイライトする処理ステップに戻り、
終了した場合には、次の処理ステップに移行する処理ス
テップと、前記一連の処理ステップを介して変更された
配線データを登録する処理ステップとを有することを特
徴としてもよく、また、前記断面図表示処理における処
理手順としては、対象とする配線の接続部を表示するた
めに、表示装置上のサブウインドウをオープンする処理
ステップと、当該表示装置上のメインウインドウにおい
て、表示しようとする接続部の範囲を指定する処理ステ
ップと、指定する範囲の矩形の1点をマウスによりクリ
ックする処理ステップと、前記矩形の1点の対称点をマ
ウスによりクリックする処理ステップと、オープンされ
た前記サブウインドウをRedrawして、前記指定さ
れた範囲内にある接続部の断面図を当該サブウインドウ
に表示する処理ステップと、を有することを特徴として
もよい。
As a processing procedure of the interactive wiring processing in the third processing step, a processing step of selecting a wiring to be the target of the interactive processing and highlighting it on a predetermined display device screen is selected. As a processing content for the wiring, a processing step for selecting any one of wiring processing of addition processing, deletion processing, and sectional view display processing, and wiring processing selected from the addition processing, deletion processing, and sectional view display processing. The processing step to be performed and whether or not the selected wiring process has been completed are determined. If the wiring process has not been completed, the wiring to be subjected to the interactive process is selected and a predetermined display device is displayed. Return to the process step that highlights on the screen,
When completed, the method may have a processing step of shifting to the next processing step, and a processing step of registering the changed wiring data through the series of processing steps. As the processing procedure in the display processing, a processing step of opening a subwindow on the display device to display the connection portion of the target wiring, and a connection portion to be displayed in the main window on the display device A processing step of designating a range, a processing step of clicking one point of a rectangle in the designated range with a mouse, a processing step of clicking a symmetrical point of one point of the rectangle with a mouse, and a Redraw of the opened subwindow. Then, a processing step for displaying a cross-sectional view of the connection portion within the specified range in the sub window Tsu and up, may be characterized by having a.

【0011】[0011]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0012】図1は本発明の一実施例における処理手順
を示す流れ図である。まず、ステップ101において
は、下地情報ファイル1、配線情報ファイル2および接
続情報ファイル3より、それぞれ下地情報、配線情報お
よび接続情報が読込まれて、これらの各情報より、半導
体チップ上におけるマクロセル配置および配線処理を行
い、ステップ102においては、前記ステップ101の
処理結果を受けて、当該処理結果を所定の表示装置上に
表示するための処理を行う。次いで、ステップ103に
おいて、インタラクティブな配線処理を行うが、本発明
は、このインタラクティブな配線処理の改善に関する。
FIG. 1 is a flow chart showing a processing procedure in an embodiment of the present invention. First, in step 101, the background information, the wiring information, and the connection information are read from the background information file 1, the wiring information file 2, and the connection information file 3, respectively, and the macro cell arrangement on the semiconductor chip and the layout information are read from these information. Wiring processing is performed, and in step 102, processing for receiving the processing result of step 101 and displaying the processing result on a predetermined display device is performed. Next, in step 103, an interactive wiring process is performed, and the present invention relates to improvement of this interactive wiring process.

【0013】図2は、本発明の一実施例における前記イ
ンタラクティブな配線処理手順を示す流れ図である。図
2において、まず、ステップ201においては、配線処
理を施す対象の配線を1本選択し、表示装置画面上にお
いてハイライトさせる。次に、ステップ202において
は次に行うべき処理の選択を行う。この場合には、完全
な配線が為されていないものを対象として、まず配線禁
止領域、抵抗を考慮した配線間隔、ループ配線の回避、
および最短距離の選択等を考慮して、配線の追加処理、
削除処理または断面図表示処理の何れかを選択する。そ
して、ステップ202の選択結果を受けて、ステップ2
03においては配線の追加処理を行い、ステップ204
においては配線の削除処理を実行し、ステップ205に
おいては断面図表示処理を行う。そして、ステッ206
においては、これら何れかの配線処理が終了したか否か
を判断して、未だ終了していない場合にはステップ20
2に戻って以降の処理を続行し、終了した場合には、ス
テップ207において、変更された配線データを登録し
て配線処理は終了する。前述の図9に示される従来の処
理手順との対比により明らかなように、本発明の特徴と
する点は、このインタラクティブな配線処理手順におい
て、上記のステップ205における断面図表示処理を追
加したことにある。なお、図3は、本発明の一実施例に
おける上記断面図表示処理の処理手順を示す流れ図であ
る。
FIG. 2 is a flow chart showing the interactive wiring processing procedure in the embodiment of the present invention. In FIG. 2, first, in step 201, one wiring to be subjected to wiring processing is selected and highlighted on the screen of the display device. Next, in step 202, the process to be performed next is selected. In this case, targeting those where complete wiring has not been done, first the wiring prohibited area, the wiring interval considering the resistance, the avoidance of loop wiring,
In consideration of the selection of the shortest distance and the like, additional processing of wiring,
Either delete processing or sectional view display processing is selected. Then, in response to the selection result of step 202, step 2
In step 03, wiring is added, and step 204 is performed.
In step 205, a wiring deletion process is executed, and in step 205, a sectional view display process is executed. And step 206
Then, it is judged whether or not any one of these wiring processes is completed, and if it is not completed yet, step 20
After returning to step 2, the subsequent processing is continued, and when the processing is finished, in step 207, the changed wiring data is registered and the wiring processing is finished. As is clear from the comparison with the conventional processing procedure shown in FIG. 9, the characteristic feature of the present invention is that the cross-sectional view display processing in step 205 is added to the interactive wiring processing procedure. It is in. Note that FIG. 3 is a flow chart showing a processing procedure of the cross-sectional view display processing in one embodiment of the present invention.

【0014】以下に、図4(a)および(b)に示され
るLSIチップにおけるメインウインドウ4およびサブ
ウインドウ12の第1の実施例を引用して、図3の断面
図表示処理の処理手順について説明する。まず、ステッ
プ301において、配線処理を施す対象の配線を1本選
択し、表示装置画面上においてハイライトさせる。次
に、ステップ302において配線の接続部を表示するた
めのサブウインドウ12をオープンさせる(図4(a)
および(b)を参照)。ステップ303においては、表
示装置画面上のメインウインドウ4において、表示させ
たい接続部の表示領域7を指定する(図4(a)を参
照)。次いで、ステップ304において、指定する表示
領域の範囲を矩形の1点をマウスによりクリックし、ス
テップ305において、指定する矩形の対称点をもう一
度クリックすることにより矩形の表示領域を指定する
(図4(a)における、表示領域7、サブウインドウ5
およびマクロセル9を参照)。次いでステップ306に
おいては、ステップ302においてオープンしたサブウ
インドウ12をRedrawすることにより、指定され
た表示領域内にある接続部の断面図を、図4(b)に示
されるサブウインドウ12において表示する。そして、
ステップ307においては、ステップ306におけるR
edrawの処理が全て終了したか否かの判断を行い、
未だ終了していない場合には、ステップ303に戻っ
て、以降の処理を続行し、また処理が終了している場合
には、ステップ308において、当該サブウインドウ1
2をクローズして、断面表示処理は終了する。この場
合、ステップ306におけるRedrawにより、指定
された範囲内にある接続部の断面図がサブウインドウに
表示することが可能となり、また、メインウインドウに
おいて追加処理および削除処理を操作した結果について
も、サブウインドウをRedrawする度ごとに、その
結果表示が行われる。
Referring to the first embodiment of the main window 4 and the subwindow 12 in the LSI chip shown in FIGS. 4A and 4B, the processing procedure of the sectional view display processing of FIG. 3 will be described below. explain. First, in step 301, one wiring to be subjected to wiring processing is selected and highlighted on the display device screen. Next, in step 302, the sub-window 12 for displaying the connection part of the wiring is opened (FIG. 4A).
And (b)). In step 303, the display area 7 of the connection section to be displayed is specified in the main window 4 on the screen of the display device (see FIG. 4A). Next, in step 304, one point of the rectangle is clicked with the mouse in the range of the display area to be designated, and in step 305, the rectangular display area is designated by clicking the symmetrical point of the rectangle again (see FIG. Display area 7, sub-window 5 in a)
And macrocell 9). Next, in step 306, the sub-window 12 opened in step 302 is redrawn to display a cross-sectional view of the connection portion within the designated display area in the sub-window 12 shown in FIG. 4B. And
In step 307, R in step 306
Judge whether all the processing of edraw has ended,
If it has not ended yet, the process returns to step 303 to continue the subsequent processes, and if the process has ended, at step 308 the subwindow 1 concerned.
2 is closed and the cross-section display processing ends. In this case, by using Redraw in step 306, it becomes possible to display a cross-sectional view of the connection portion within the specified range in the sub window, and also regarding the result of operating the addition processing and the deletion processing in the main window, Each time the window is readraw, the result is displayed.

【0015】例えば、図4(a)のメインウインドウ4
における配線11が第2層配線層であるものとする。図
4(a)および(b)において、メインウインドウ4を
見る限りにおいては、第3層と第2層との間に、異層間
を接続するVIA6および13が存在することが分か
る。しかし、実際に、このVIAの下に、もう一つのV
IA14が存在しており、端子と完全に接続しているか
否かを一目にて確実に把握することは困難である。これ
を確認する方法としては、第3層配線11、VIA13
および第2層配線10を全て削除し、端子から第2層配
線10を接続するVIA14が発生していることを確認
するしか方法はない。ここにおいて、図4(b)示され
るサブウインドウ12上において、断面図を表示させる
ことにより、第3層配線11の下に、第2層と第3層と
を接続するVIAが存在し、端子から第3層までが完全
に接続されていることを容易に確認することが可能とな
る。このように、配線1本の操作回数を削減することに
より、インタラクティブな処理全体の操作回数も結果的
に低減される。また、この段階において行われた配線処
理の内容は、後工程において行われる検証接続チェック
においてチェックされ、その時点においてエラーが発生
した場合には、再度インタラクティブ処理を繰返して行
う必要がある。しかし、本発明においては、一度のイン
タラクティブ処理により接続の確認を行うことができる
ことにより、チェックから再配線実行に至るまでの実行
回数および所要時間を削減することができる。
For example, the main window 4 in FIG. 4 (a)
It is assumed that the wiring 11 in is the second wiring layer. In FIGS. 4A and 4B, as far as the main window 4 is viewed, it can be seen that the VIAs 6 and 13 connecting different layers exist between the third layer and the second layer. But in fact, under this VIA, another V
Since the IA 14 exists, it is difficult to grasp at a glance whether or not the terminal is completely connected to the terminal. As a method of confirming this, the third layer wiring 11, the VIA 13
The only way is to delete all the second layer wirings 10 and confirm that the VIA 14 connecting the second layer wirings 10 from the terminal is generated. Here, by displaying a cross-sectional view on the sub-window 12 shown in FIG. 4B, there is a VIA connecting the second layer and the third layer under the third layer wiring 11, It is possible to easily confirm that the layers from to the third layer are completely connected. As described above, by reducing the number of operations of one wiring, the number of operations of the entire interactive process is also reduced as a result. Further, the contents of the wiring process performed at this stage are checked in a verification connection check performed in a later process, and if an error occurs at that time, it is necessary to repeat the interactive process again. However, in the present invention, since it is possible to confirm the connection by a single interactive process, it is possible to reduce the number of executions and the required time from the check to the rewiring execution.

【0016】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。この実施例においては、実際に表示装置上におい
て配線の削除処理および追加処理を行う場合の例を示
す。図4(a)に示される例において、インタラクティ
ブ処理により配線の削除処理が施された場合におけるメ
インウインドウ4を図5(a)に示し、また図5(a)
のメインウインドウ4における表示領域7により指定さ
れる範囲の接続部の断面図を図5(c)に示す。図5
(a)において、マクロセル9−1および9−2は、イ
ンタラクティブ処理を行うためにピックアップした配線
に接続されるべきマクロセルであり、端子5−1に配線
を接続させるためには、まずVIA18、マクロセル9
−1および9−2、端子5−1および5−2にかかわる
第3層配線11を削除する。次に、削除した第3層配線
11と第2層配線10とを接続していたVIA18を削
除する(図5(b)参照)。この場合には、図5(b)
に示されるサブウインドウ12を参照することにより、
配線上においては意味のない第2層と第3層とを接続し
ていたVIA19が残っていることが明らかに分かる。
次に、図5(a)におけるVIA18から端子5−2に
向って配線を伸張させる必要があるが、ここにおいてサ
ブウインドウを開き、表示領域7の状態がどうなってい
るかを参照する。図5(c)に示されるように、端子H
01は、第1層レベルに存在しているが、接続されるの
は第2層レベルである。これは、端子とVIAとが一体
となっており、端子の存在そのものがVIAの発生を起
すものである。従って、このVIAは上述のように端子
上VIAと呼ばれる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, an example is shown in which wiring deletion processing and wiring addition processing are actually performed on the display device. In the example shown in FIG. 4A, FIG. 5A shows the main window 4 when the wiring deletion process is performed by the interactive process, and FIG.
FIG. 5C shows a cross-sectional view of the connection portion in the range designated by the display area 7 in the main window 4 of FIG. Figure 5
In (a), macrocells 9-1 and 9-2 are macrocells to be connected to the picked-up wiring for performing the interactive processing. To connect the wiring to the terminal 5-1, first, the VIA 18 and the macrocell are connected. 9
-1 and 9-2, and the third layer wiring 11 related to the terminals 5-1 and 5-2 are deleted. Next, the VIA 18 connecting the deleted third layer wiring 11 and second layer wiring 10 is deleted (see FIG. 5B). In this case, FIG.
By referring to the subwindow 12 shown in
It is clearly understood that the VIA 19 connecting the second and third layers, which has no meaning on the wiring, remains.
Next, it is necessary to extend the wiring from the VIA 18 to the terminal 5-2 in FIG. 5A. Here, a sub window is opened and the state of the display area 7 is referred to. As shown in FIG. 5C, the terminal H
01 exists at the first layer level, but is connected to the second layer level. This is because the terminal and the VIA are integrated, and the existence of the terminal itself causes the generation of the VIA. Therefore, this VIA is referred to as on-terminal VIA, as described above.

【0017】ここにおいて、VIA18から端子5−2
に配線を伸張させる際に、仮に第3層配線16と端子5
−2との間に第2層配線15が存在したものとする。こ
の場合には、同層が交差することはループ配線を発生さ
せる要因となるため、必らず回避しなければならない。
そうすると、図8(a)において、VIA18として、
第3層−第2層および第2層−第1層までVIAを連続
して発生させ、当該VIAの先から端子5−2に至るま
で配線を伸張することになる。しかし、端子H01は、
第2層においてのみ接続される訳であるから、端子5−
2まで伸張された配線は、端子H01との接続は不可能
ということになる。従って、追加削除処理をした配線を
全て削除して、スタート点に戻らなければならないこと
になる。この場合においては、図5(c)に示されるよ
うに、端子5−2については、第2層レベルにおいての
み接続するということが最初より理解されていたなら
ば、図5(a)におけるVIA18より、第3層配線の
まま端子H01に向けて配線を伸張し、端子H01上に
おいて第3層−端子上VIAを接続するVIAを一つ発
生させるか(図6(b)における18参照)、または図
6(a)におけるVIA18にいて上層に層を変えて、
第4層において端子H01まで配線を行い、端子上にお
いて、第4層−第3層および第3層−第2層間を接続す
るVIAを連続して発生させる方法をとることができ
る。
Here, from the VIA 18 to the terminal 5-2.
When extending the wiring to the 3rd layer, the third layer wiring 16 and the terminal 5
It is assumed that the second layer wiring 15 is present between the second line and the second line. In this case, since the crossing of the same layer causes a loop wiring, it must be avoided.
Then, in FIG. 8A, as VIA 18,
The VIA is continuously generated from the third layer to the second layer and from the second layer to the first layer, and the wiring is extended from the tip of the VIA to the terminal 5-2. However, the terminal H01 is
Since it is connected only in the second layer, the terminal 5-
The wiring extended to 2 cannot be connected to the terminal H01. Therefore, it is necessary to delete all the wires that have undergone the addition and deletion processing and return to the starting point. In this case, as shown in FIG. 5C, if it was understood from the beginning that the terminal 5-2 is connected only at the second layer level, the VIA 18 in FIG. Whether the third layer wiring is extended toward the terminal H01 and one VIA connecting the third layer-on-terminal VIA is generated on the terminal H01 (see 18 in FIG. 6B). Or in VIA 18 in FIG. 6A, change the layer to the upper layer,
Wiring can be performed up to the terminal H01 in the fourth layer, and VIA for connecting the fourth layer-third layer and the third layer-second layer can be continuously generated on the terminal.

【0018】上記のように、接続部を断面図により表示
することにより、一度で確実に配線接続処理を行うこと
が可能となり、配線処理の繰返作業と、それによる設計
作業における混乱とを排除することができる。
By displaying the connecting portion in a sectional view as described above, it is possible to reliably perform the wiring connection processing at one time, and eliminate the repetitive wiring processing and the confusion in the design work. can do.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、半導体
チップのレイアウトを行うために、接続情報、下地情報
および配線情報を入力して、前記レイアウト上において
配置配線処理を実施した後に、当該配線処理結果を表示
装置上に表示してインタラクティブな配線処理を行う際
に、指定した範囲内における接続部の断面図を表示させ
ることにより、現状における配線接続状況を正確に一目
にて把握することが可能となり、完全なインタラクティ
ブ処理の実行と、その処理結果とを得ることができると
いう効果がある。また、このように完全な処理結果を得
ることにより、その後における工程における検証の実行
回数および再配線の実行回数を低減することが可能とな
り、半導体チップのレイアウト全般の設計工数を大幅に
短縮することができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, in order to perform the layout of the semiconductor chip, the connection information, the background information and the wiring information are input, and the layout and wiring processing is performed on the layout, When displaying the wiring processing result on the display device and performing the interactive wiring processing, by displaying the cross-sectional view of the connection part within the specified range, you can grasp the current wiring connection status accurately at a glance. Therefore, there is an effect that a complete interactive process can be executed and the process result can be obtained. In addition, by obtaining a complete processing result in this way, it is possible to reduce the number of verification executions and rewiring executions in subsequent steps, and to significantly reduce the design man-hours of the overall semiconductor chip layout. There is an effect that can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】レイアウト配線処理方法におけるインタラクテ
ィブな処理手順を示す流れ図である。
FIG. 1 is a flowchart showing an interactive processing procedure in a layout wiring processing method.

【図2】本発明の一実施例におけるインタラクティブ処
理手順を示す流れ図である。
FIG. 2 is a flowchart showing an interactive processing procedure in an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例における接続部断面図表示処
理手順を示す流れ図である。
FIG. 3 is a flowchart showing a procedure for displaying a sectional view of a connecting portion in an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例における表示装置上のメイン
ウインドウおよびサブウインドウを示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a main window and a subwindow on a display device according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例において削除処理を行った場
合のメインウインドウを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a main window when a deletion process is performed in an embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施例において追加処理を行った場
合のメインウインドウを示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a main window when additional processing is performed in an embodiment of the present invention.

【図7】従来例におけるインタラクティブ処理手順を示
す流れ図である。
FIG. 7 is a flowchart showing an interactive processing procedure in a conventional example.

【図8】従来例における表示装置上の画面を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a screen on a display device in a conventional example.

【図9】配線層と層間を接続するVIAを示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram showing a VIA for connecting a wiring layer and an interlayer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 下地情報ファイル 2 配戦情報ファイル 3 接続情報ファイル 4 メインウインドウ 5、5−1、5−2、21、21−1 端子 6、13、14、18、19 VIA 7 表示領域 8 コマンド 9、9−1、9−2、23 マクロセル 10、15、17 第2層配線 11、16 第3層配線 12 サブウインドウ 20、20−1 配線 22、22−1 層変化点 1 Ground Information File 2 Battle Information File 3 Connection Information File 4 Main Window 5, 5-1, 5-2, 21, 21-1 Terminals 6, 13, 14, 18, 19 VIA 7 Display Area 8 Command 9, 9 -1, 9-2, 23 Macro cell 10, 15, 17 Second layer wiring 11, 16 Third layer wiring 12 Subwindow 20, 20-1 wiring 22, 22-1 Layer change point

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップのレイアウト設計に対応し
て、インタラクティブな配線の追加および削除等を行う
レイアウト配線処理方法において、 所定の下地情報ファイル、配線情報ファイルおよび接続
情報ファイルより出力される論理情報を参照して、半導
体チップ上におけるマクロセル配置および配線処理を行
う第1の処理ステップと、 前記第1の処理ステップの処理結果を受けて、当該処理
結果を所定の表示装置上に表示するための画面表示処理
を行う第2の処理ステップと、 少なくとも、配線の追加処理、削除処理および断面図表
示処理を含むインタラクティブ配線処理を行う第3の処
理ステップと、 を有することを特徴とするレイアウト配線処理方法。
1. A layout wiring processing method for interactively adding and deleting wirings corresponding to a layout design of a semiconductor chip, and logical information output from a predetermined ground information file, wiring information file and connection information file. A first processing step of performing macrocell placement and wiring processing on a semiconductor chip and a processing result of the first processing step, and displaying the processing result on a predetermined display device. A layout and wiring process comprising: a second processing step of performing screen display processing; and a third processing step of performing interactive wiring processing including at least wiring addition processing, deletion processing, and sectional view display processing. Method.
【請求項2】 前記第3の処理ステップにおけるインタ
ラクティブ配線処理の処理手順として、 当該インタラクティブ処理の対象とする配線を選択し
て、所定の表示装置画面上にハイライトする処理ステッ
プと、 選択された配線に対する処理内容として、追加処理、削
除処理および断面図表示処理の何れかの配線処理を選択
する処理ステップと、 前記追加処理、削除処理および断面図表示処理の内より
選択された配線処理を行う処理ステップと、 選択された配線処理が終了したか否かを判断して、当該
配線処理が終了していない場合には、前記インタラクテ
ィブ処理の対象とする配線を選択して、所定の表示装置
画面上にハイライトする処理ステップに戻り、終了した
場合には、次の処理ステップに移行する処理ステップ
と、 前記一連の処理ステップを介して変更された配線データ
を登録する処理ステップと、 を有することを特徴とする請求項1記載のレイアウト配
線処理方法。
2. As a processing procedure of the interactive wiring processing in the third processing step, a processing step of selecting a wiring to be the target of the interactive processing and highlighting it on a predetermined display device screen is selected. As a processing content for wiring, a processing step of selecting any one of wiring processing of addition processing, deletion processing, and sectional view display processing, and wiring processing selected from the addition processing, deletion processing, and sectional view display processing The processing step and whether or not the selected wiring process has been completed, and if the wiring process has not been completed, the wiring that is the target of the interactive process is selected and a predetermined display device screen is displayed. The process returns to the process step highlighted above, and when the process is completed, the process step of moving to the next process step and the series of processes described above are performed. Layout wiring processing method according to claim 1, characterized in that it comprises a processing step of registering the modified wiring data via the step.
【請求項3】 前記断面図表示処理における処理手順と
して、 対象とする配線の接続部を表示するために、表示装置上
のサブウインドウをオープンする処理ステップと、 当該表示装置上のメインウインドウにおいて、表示しよ
うとする接続部の範囲を指定する処理ステップと、 指定する範囲の矩形の1点をマウスによりクリックする
処理ステップと、 前記矩形の1点の対称点をマウスによりクリックする処
理ステップと、 オープンされた前記サブウインドウをRedrawし
て、前記指定された範囲内にある接続部の断面図を当該
サブウインドウに表示する処理ステップと、 を有することを特徴とする請求項1記載のレイアウト配
線処理方法。
3. As a processing procedure in the cross-sectional view display processing, a processing step of opening a subwindow on a display device to display a connection portion of a target wiring, and a main window on the display device, A processing step of designating a range of the connection portion to be displayed, a processing step of clicking one point of a rectangle in the designated range with a mouse, a processing step of clicking a symmetric point of the rectangle with the mouse 2. The layout and wiring processing method according to claim 1, further comprising the step of: redrawing the created sub-window and displaying a cross-sectional view of the connection portion within the specified range in the sub-window. .
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