JPH071634B2 - Magnetic memory element - Google Patents

Magnetic memory element

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JPH071634B2
JPH071634B2 JP61140551A JP14055186A JPH071634B2 JP H071634 B2 JPH071634 B2 JP H071634B2 JP 61140551 A JP61140551 A JP 61140551A JP 14055186 A JP14055186 A JP 14055186A JP H071634 B2 JPH071634 B2 JP H071634B2
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vbl
film
domain
pair
bloch
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靖治 檜高
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は不揮発性の超高密度固体磁気記憶素子に関す
る。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a nonvolatile ultra-high density solid-state magnetic memory element.

(従来の技術) 高密度固体磁気記憶素子を目指すものとして従来から磁
気バブル素子が開発されてきた。しかし、現在使用され
ているガーネット材料では、到達可能な最小バブル径が
0.3μmといわれている。したがって、0.3μm径以下の
バブルを保持するバブル材料はガーネット材料以外に求
めなければならない。これは容易ではなく、ここがバブ
ル高密度化の限界であるとさえ考えられている。
(Prior Art) A magnetic bubble element has been conventionally developed as a target for a high-density solid magnetic memory element. However, with the garnet materials currently used, the smallest bubble diameter that can be reached is
It is said to be 0.3 μm. Therefore, a bubble material that holds bubbles having a diameter of 0.3 μm or less must be determined in addition to the garnet material. This is not easy and is even thought to be the limit of bubble densification.

このようなバルブ保持層の特性に基く高密度化限界を大
幅に改善し、かつ、情報読出し時間は従来の素子と同程
度に保つことができる超高密度固体磁気記憶素子として
膜面垂直方向を磁化容易方向とする強磁性体(フェリ磁
性体を含む)膜に形成されるストライプドメインの境界
を形成するブロッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂
直ブロッホライン2個からなるブロッホライン対(以
下、VBL対と称する。)を記憶単位として用いる素子が
発明された(特願昭57-182346)。
As a super-high density solid magnetic memory element capable of significantly improving the densification limit based on such characteristics of the valve holding layer and keeping the information read time at the same level as the conventional element, A Bloch line pair consisting of two vertical Bloch lines that are statically and stably present in the Bloch domain wall that forms the boundary of the stripe domain formed in the ferromagnetic (including ferrimagnetic) film with the easy magnetization direction. Hereinafter, an element using a VBL pair) as a memory unit was invented (Japanese Patent Application No. 57-182346).

本素子においてもっとも重要な部分の一つは情報をVBL
対の形でストライプドメイン磁壁内に安定化し、かつ、
必要に応じて該VBL対をブロッホ磁壁内で転送すること
である。
One of the most important parts of this device is VBL
Stabilized in the stripe domain domain wall in the form of a pair, and
The VBL pair is transferred within the Bloch domain wall as needed.

VBL対安定保持法については、特願昭8065826に、マイナ
ーループを構成するストライプドメイン周辺のブロッホ
磁壁に沿って、膜面内の磁気異方性の向きを局所的に変
化させることにより、ストライプドメイン磁壁に沿っ
て、VBL対が安定に存在する位置とそうでない位置を作
りつけられることが示されている。
Regarding the VBL vs. stable retention method, Japanese Patent Application No. 8065826 discloses that stripe domain is locally changed along the Bloch domain wall around the stripe domain forming the minor loop by changing the direction of magnetic anisotropy in the film plane. It has been shown that along the domain wall VBL pairs can be engineered into stable and non-stable positions.

(発明が解決しようとする問題点) 特願昭58-065826に述べられている膜面内の磁気異方性
の向きを局所的に変化させる具体的な方法は1)膜への
選択的イオン注入による格子歪に基づく逆磁歪効果を利
用するかまたは、2)内部応力が大きい材料を用いてス
トライプドメイン保持膜表面にパターンを形成し、膜に
応力分布を与え、それに基く逆磁歪効果を利用するアイ
・イー・イー・イー・トランザクション・オン・マグネ
ティクス(IEEE Transaction on Magnetics)Vol,MAG-2
0,No.5pp1135〜1137(1984)などである。1)では膜表
面層部においてのみ、膜面内磁気異方性の向きを制御し
ている。この膜面内磁気異方性の局所変化は磁壁の移動
速度をほとんど変えず、単にVBL対の難易だけを制御す
る方法である。したがって、膜厚方向に亘って均一に面
内磁気異方性が制御されていれば問題ないが、その一部
だけ面内磁気異方性が変えてあり、かつ、イオン注入し
た表面層としていない層との境界が明瞭であると、与え
られた磁壁移動速度に対して発生するジャイロ力は一定
であるから、VBL対の移動の難易に依存して、必然的にV
BL対の移動の様子は膜厚方向に沿って不均一になる。そ
の結果、場合によってはVBLが膜厚の中間部で分断され
てしまい、VBL対の消滅に至ることがある。これは素子
の信頼性の上から大きな問題になる、この障害を取除く
ためには、膜厚方向に均一にイオン注入することが望ま
しいが、イオン注入法の本質的特性またはイオン注入装
置の性能などのため、かなり難しい。2)の方法は1)
の方法に比べて、膜面内磁気異方性の膜厚方向変化はゆ
るやかであり、(1)に比べてVBL対の移動時の不安定
化の確率は小さいが、傾向としてはイオン注入と同じで
ある。
(Problems to be solved by the invention) The specific method for locally changing the direction of the magnetic anisotropy in the film plane described in Japanese Patent Application No. 58-065826 is 1) Selective ions to the film. Use the inverse magnetostriction effect based on the lattice strain due to implantation, or 2) use a material with high internal stress to form a pattern on the surface of the stripe domain retention film, give a stress distribution to the film, and use the inverse magnetostriction effect based on it IEEE Transaction on Magnetics Vol, MAG-2
0, No. 5pp 1135-1137 (1984). In 1), the direction of the in-plane magnetic anisotropy is controlled only in the film surface layer portion. This local change of in-plane magnetic anisotropy is a method of controlling only the difficulty of the VBL pair without changing the moving velocity of the domain wall. Therefore, there is no problem if the in-plane magnetic anisotropy is uniformly controlled in the film thickness direction, but only a part of the in-plane magnetic anisotropy is changed, and the surface layer is not ion-implanted. When the boundary with the layer is clear, the gyroscopic force generated for a given domain wall motion velocity is constant, so VV inevitably depends on the difficulty of movement of the VBL pair.
The movement of the BL pair becomes nonuniform along the film thickness direction. As a result, in some cases, VBL may be divided in the middle part of the film thickness, and VBL pairs may disappear. This is a big problem in terms of device reliability. To remove this obstacle, it is desirable to implant ions uniformly in the film thickness direction. However, the essential characteristics of the ion implantation method or the performance of the ion implanter It is quite difficult because Method 2) is 1)
Compared to method (1), the change in the in-plane magnetic anisotropy in the film thickness direction is gentler, and the probability of destabilization during VBL pair movement is smaller than in (1), but there is a tendency for ion implantation to occur. Is the same.

本発明の目的はこのような従来の問題点を除去したVBL
対安定保持法を施したストライプドメイン磁壁を有して
いる超高密度記録素子を提供することにある。
The purpose of the present invention is to eliminate the above-mentioned conventional problems in VBL.
An object of the present invention is to provide an ultrahigh density recording element having a stripe domain domain wall subjected to the anti-stable method.

(問題を解決するための手段) すなわち、本発明は情報読出し手段、情報書込み手段お
よび情報蓄積手段を有し、かつ、膜面に垂直な方向を磁
化容易方向とする強磁性体(フェリ磁性体膜を含む膜に
存在するストライプドメインの境界のブロッホ磁壁中に
つくった相隣る2つの垂直なブロッホラインからなる垂
直ブロッホライン対を記憶情報単位として用い、かつ、
該垂直ブロッホライン対をブロッホ磁壁内で転送する手
段を有する素子において、該ストライプドメイン保持層
表面にもう一種類の強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含
む)を直接つけ、ストライプドメイン磁壁に沿って2つ
の膜厚を局所的に変化させていることを特徴とする磁気
記憶素子を提示する。
(Means for Solving the Problem) That is, the present invention has a ferromagnetic material (ferrimagnetic material) having an information reading means, an information writing means, and an information storage means, and having a direction perpendicular to the film surface as an easy magnetization direction. A vertical Bloch line pair composed of two adjacent vertical Bloch lines formed in a Bloch domain wall at the boundary of a stripe domain existing in a film including a film is used as a memory information unit, and
In an element having a means for transferring the pair of vertical Bloch lines in the Bloch domain wall, another type of ferromagnetic film (including a ferrimagnetic film) is directly attached to the surface of the stripe domain holding layer, and along the stripe domain domain wall. A magnetic memory element characterized in that the two film thicknesses are locally changed is presented.

(作用) 本発明は上述の構成をとることにより、ストライプドメ
イン磁壁に沿って情報単位であるVBL対を安定して保持
し、また転送できることを示した。以下、本発明の原理
を詳細に説明する。第3図に示すように、ストライプド
メイン保持層1の表面に該強磁性体と比べてダンピング
定数が異なる強磁性体膜2をコートする。強磁性体のダ
ンピング定数は例えば飯田修一他編による磁気工学講座
4、「磁気バブル」(丸善、昭和52年10月刊)の第94頁
に記載されているように、強磁性共鳴の吸収曲線の半値
幅と共鳴周波数から求められる値で、強磁性体中の磁化
の運動に対する制動効果に関係した量である。飯田修一
他編による磁気工学講座4、「磁気バブル」(丸善、昭
和52年10月刊)の第57頁に示されているように、ダンピ
ング定数と磁壁の移動度は反比例の関係にあり、両磁性
体のダンピング定数が異なっていると、磁壁移動度μw
が異なる。したがって、パルスバイアス磁界を加えて磁
壁を移動させたとき、磁壁中のVBLに働くジャイロ力が
ストライプドメイン保持層とコート層とで異なるため、
ストライプドメイン保持層とコート層との境界に交換相
互作用エネルギーが貯えられる。このため、VBLはその
状態を避けようとする。そこで、コート層の膜厚をスト
ライプドメイン磁壁に沿って局所的に変化させると、VB
L対はコート層膜厚が小さいところに安定化される。第
1図は本発明におけるストライプドメイン磁壁部におけ
る膜厚の変化の与え方を示している。ストライプドメイ
ン3の両側の磁壁(ブロッホ磁壁)中のVBL対6は膜厚
が薄い部分に安定化される。これはVBLが周囲のブロッ
ホ磁壁に比べてエネルギー密度が高いため、VBL自体の
占有容積が小さいところ(膜厚が小さいところ)に安定
化されやすいためである。このVBL対6はストライプド
メインを形成する強磁性体膜の膜面に垂直な方向に加え
られたパルスバイア磁界の膜面に垂直な方向に加えられ
たパルスバイアス磁界により生じるジャイロ力によっ
て、ブロッホ磁壁中を移動することができる。
(Operation) The present invention has shown that, by adopting the above-mentioned configuration, the VBL pair, which is an information unit, can be stably held and transferred along the stripe domain domain wall. Hereinafter, the principle of the present invention will be described in detail. As shown in FIG. 3, the surface of the stripe domain holding layer 1 is coated with a ferromagnetic film 2 having a damping constant different from that of the ferromagnetic material. The damping constant of a ferromagnetic substance is, for example, as described on page 94 of Magnetic Engineering Course 4, “Magnetic Bubble” (Maruzen, October 1972) by Shuichi Iida et al. It is a value obtained from the half-width and the resonance frequency, and is a quantity related to the damping effect on the motion of the magnetization in the ferromagnetic material. As shown on page 57 of Magnetic Engineering Course 4, “Magnetic Bubble” (Maruzen, October 1972) by Shuichi Iida et al., The damping constant and the domain wall mobility are in inverse proportion to each other. If the damping constants of the magnetic materials are different, the domain wall mobility μw
Is different. Therefore, when a domain wall is moved by applying a pulse bias magnetic field, the gyroscopic force acting on VBL in the domain wall is different between the stripe domain retention layer and the coat layer.
Exchange interaction energy is stored at the boundary between the stripe domain holding layer and the coat layer. Therefore, VBL tries to avoid that situation. Therefore, if the film thickness of the coat layer is locally changed along the stripe domain wall, VB
The L pair is stabilized where the coat layer thickness is small. FIG. 1 shows how to change the film thickness in the stripe domain domain wall portion according to the present invention. The VBL pairs 6 in the domain walls (Bloch domain walls) on both sides of the stripe domain 3 are stabilized in the portion where the film thickness is thin. This is because the VBL has a higher energy density than the surrounding Bloch domain walls, and is therefore easily stabilized in a place where the occupied volume of the VBL itself is small (where the film thickness is small). The VBL pair 6 is generated in the Bloch domain wall by the gyroscopic force generated by the pulse bias magnetic field applied in the direction perpendicular to the film surface of the pulse via magnetic field applied in the direction perpendicular to the film surface of the ferromagnetic film forming the stripe domain. Can be moved.

本発明におけるVBL対安定化法においてはVBL対を保持し
ている層には何も加工していない。単にコート層の存在
によってVBLにコート層との相互作用を与えている。従
来の方法ではVBLのエネルギー密度を磁壁に沿って局所
的に変化させている。この変化を与えるため、具体的は
はイオン注入等を利用する。これらの方法では、膜厚方
向に特性の不均一を生じることを避けられない。したが
って、VBLの移動速度が膜厚方向に沿って不均一にな
り、VBLが分断されたりする。本発明ではこのような従
来法の欠点を取除くことができる。
In the VBL pair stabilization method of the present invention, nothing is processed on the layer holding the VBL pair. The presence of the coat layer gives the VBL interaction with the coat layer. In the conventional method, the energy density of VBL is locally changed along the domain wall. To give this change, specifically, ion implantation or the like is used. These methods inevitably cause non-uniformity of characteristics in the film thickness direction. Therefore, the moving speed of the VBL becomes non-uniform along the film thickness direction, and the VBL is divided. In the present invention, such drawbacks of the conventional method can be eliminated.

第2図を用いてその原理を説明する。第2図(a)は第
1図の一部をストライプドメイン磁壁を含む平面でカッ
トした断面を表わしている。VBL対6膜厚が薄い領域に
安定化されている。このVBL対を転送するめ、膜面に垂
直方向にパルスバイアス磁界を加えて、それによって生
じるジャイロ力を利用する。ジャイロ力の大きさをどの
ように評価するかについて述べる。第2図(b)にはVB
LのエネルギーEVBLのx方向依存を第2図(a)に対応
して定性的に示している。EVBLが最低のところに安定化
されているVBLはその隣のEVBLが最大になる山を乗り越
えてとなりの谷へ移動する。したがって、VBL対に働く
ジャイロ力はエネルギーの谷と山との間のEVBLの変化の
勾配の最大値に比べて大きくする必要がある。
The principle will be described with reference to FIG. FIG. 2 (a) shows a cross section obtained by cutting a part of FIG. 1 with a plane including the stripe domain domain walls. VBL vs. 6 The film thickness is stabilized in a thin region. To transfer this VBL pair, a pulse bias magnetic field is applied in the direction perpendicular to the film surface, and the gyro force generated thereby is used. We will describe how to evaluate the magnitude of gyro force. VB is shown in Fig. 2 (b).
The x-direction dependence of the energy E VBL of L is qualitatively shown corresponding to FIG. A VBL whose E VBL is stabilized at the lowest position moves over to the valley next to it, overcoming the next highest E VBL peak. Therefore, the gyro force acting on the VBL pair needs to be larger than the maximum value of the gradient of the change in EVBL between the valley and the peak of energy.

本発明の長所はVBL対駆動時にVBL対が安定化されている
位置のポテンシャルウェルの底と隣の安定位置との間に
ある、いわゆるビット障壁の山項との相対的差を変化さ
せることができることである。これはコート層のμwが
ストライプドメイン保持層と異なるため、与えられた磁
壁駆動磁界に対してVBL部に働くジャイロ力にストライ
プドメイン保持層とコート層とで大きな差ができ、ダイ
ナミックに交換力が高まるため、VBL対はその位置を避
けるようになる。その後、磁壁のダイナミックな駆動が
収まると、再び、コート層の薄い位置がVBL対にとって
ポテンシャルウェルがもっとも深くなる。VBL対はそこ
に安定化される。
The advantage of the present invention is that when the VBL pair is driven, it is possible to change the relative difference between the bottom of the potential well at the position where the VBL pair is stabilized and the so-called bit barrier peak term between the adjacent stable positions. It is possible. This is because the μw of the coating layer is different from that of the stripe domain holding layer, so that there is a large difference between the stripe domain holding layer and the coating layer in the gyroscopic force that acts on the VBL portion with respect to the applied domain wall driving magnetic field, and dynamic exchange force is obtained. As it grows, the VBL pair will avoid that position. After that, when the dynamic drive of the domain wall subsides, the potential well becomes deepest again for the VBL pair at the thin position of the coat layer. The VBL pair is stabilized there.

次にコート層の膜厚変化のさせ方について述べる。第2
図(a)の破線は膜厚変化領域を非常に狭くした場合を
示している。これに対応してVBLのエネルギーEVBLのx
方向依存も第2図(b)に破線で示すように変わってく
る。この場合、エネルギーが低いところに安定化された
VBL対をとなりの谷まで移動させるのに必要なジャイロ
力は実線の場合に比べて非常に大きくなり、実際上、制
御しにくくなる。したがって、実線で示した波形構造が
実用上使いやすい。
Next, how to change the film thickness of the coat layer will be described. Second
The broken line in FIG. 7A shows the case where the film thickness change region is extremely narrowed. Corresponding to this, VBL energy E VBL x
The direction dependence also changes as shown by the broken line in FIG. In this case, the energy was stabilized at a low place.
The gyro force required to move the VBL pair to the next valley is much larger than that for the solid line, and is actually difficult to control. Therefore, the corrugated structure shown by the solid line is practically easy to use.

この方法では膜厚変化に伴うVBLのエネルギー変化がVBL
のエネルギー密度の変化を伴わないため、VBL対のジャ
イロに対する応答がイオン注入法のときのように膜厚方
向に亘って不連続的に変化するといったことが生じな
い。したがって、転送中にビット間障壁を乗り越えると
きVBLが膜厚の中間部で分断されるといった不安定性の
生じる確率を非常に低く抑えられ、安定したVBL対転送
が得られる。
With this method, the change in VBL energy due to the change in film thickness
Since there is no change in the energy density of the VBL, the response of the VBL pair to the gyro does not change discontinuously along the film thickness direction as in the ion implantation method. Therefore, the probability of instability such as VBL being divided at the middle part of the film thickness when overcoming the bit-to-bit barrier during transfer can be suppressed to a very low level, and stable VBL pair transfer can be obtained.

以下実施例を使って発明の内容を具体的に示す。The contents of the invention will be specifically described below with reference to examples.

(実施例1) この波型パターンの製造法を第4図を用いて説明する。Example 1 A method of manufacturing this wave pattern will be described with reference to FIG.

バブル材料膜2上にポジ型フォトレジストMP1300(シプ
レージャパン社、商品名)で、巾5μm,周期10μm膜厚
1μmのパターン8を形成する(第4図a)。パターン
形成後135℃で1時間ポストベイクを行なう。するとパ
ターンは8'のような形状になる。この温度以上でベイキ
ングを行なうと、パターン巾が変動し、好ましくない。
逆に、温度が低すぎても、パターンの断面形状が矩形の
ままであるので好ましくない(第4図B)。次に分子量
17500のポリスチレンを、キシレンを溶剤として塗布す
る。10重量パーセントのスチレンを溶解した液を用い、
スピン塗布回転数3000rpmで、平坦部で約3000Åのポリ
スチレン塗膜9が得られる。塗布後の表面はゆるやかな
波形となった。波形形状の高低差は約13μmであった。
塗布工程の前後でポジ型フォトレジストパターンの変形
はなかった(第4図c)。次にイオン注入を行なう。注
入条件は厚さ1.3μmの有機膜をイオンが貫通するよう
に決めた。
A pattern 8 having a width of 5 μm, a period of 10 μm and a film thickness of 1 μm is formed on the bubble material film 2 with a positive photoresist MP1300 (trade name of Shipley Japan Co., Ltd.) (FIG. 4A). After pattern formation, post bake is performed at 135 ° C. for 1 hour. Then the pattern looks like 8 '. If baking is performed at a temperature higher than this temperature, the pattern width changes, which is not preferable.
Conversely, if the temperature is too low, the cross-sectional shape of the pattern remains rectangular, which is not preferable (FIG. 4B). Then the molecular weight
17500 polystyrene is applied with xylene as solvent. Using a solution in which 10 weight percent of styrene is dissolved,
At a spin coating rotation speed of 3000 rpm, a polystyrene coating film 9 having a flat area of about 3000 Å is obtained. The surface after application had a gentle waveform. The difference in height of the waveform was about 13 μm.
There was no deformation of the positive photoresist pattern before and after the coating process (Fig. 4c). Next, ion implantation is performed. The implantation conditions were set so that the ions would penetrate through a 1.3 μm thick organic film.

ここでは130KeV/He/4.8×1015個/cm2,50KeV/He/1.7×10
15個/cm2とした。第4図(d)の10'で示すストライプ
ドメイン保持層表面にコートした層の部分にイオン注入
がなされる。コート層材料にイオン注入を行なうと、格
子歪が注入層に誘起されるため、一般に化学エッチング
耐性が変化することが知られているが、前記手順で作製
した試料を酸素プラズマにさらし、有機膜を除去した
後、90℃のリン酸に10分間浸積したところ第4図(e)
に示すように高低差0.4μmの波形形状にコート層が加
工できた。
Here, 130 KeV / He / 4.8 × 10 15 pieces / cm 2 , 50 KeV / He / 1.7 × 10
It was set to 15 pieces / cm 2 . Ions are implanted into the portion of the layer coated on the surface of the stripe domain holding layer shown by 10 'in FIG. 4 (d). It is known that when ion-implantation is performed on the coating layer material, lattice strain is induced in the implantation layer, and thus the chemical etching resistance is generally changed. Fig. 4 (e) when the sample was immersed in phosphoric acid at 90 ° C for 10 minutes after removing
As shown in Fig. 3, the coat layer could be processed into a corrugated shape with a height difference of 0.4 µm.

前記のストライプドメイン保持材料はGd3Ga5O12(111)
基板にLPE成長した5μmバブル材料(YSmLuCa)(Fe
Ge)5O12膜(膜厚=3.88μm、ストライプ幅=5.0μ
m、4πMs=202Gaussの上に直接ストライプドメイン保
持層に比べて、ダンピング定数qが小さい(YEuCa)
(FeGe)5O12を液相エピタキシャル成長した。第1図に
示す波型構造とした5μm周期(マスクパターン幅3μ
mまたは2μm)、山の高さ0.4μmになるように形成
した試料について、この領域にストラプドメインを配
し、VBL対の安定性を調べ、VBL対が波型構造の谷部に安
定化されていることが確認された。また安定化されてい
るVBL対に幅10nsの矩形波状パルスバイアス磁界を加え
ていくと、振幅150e付近で、VBL対が波型構造の山を乗
り越えた。
The stripe domain holding material is Gd 3 Ga 5 O 12 (111)
5μm bubble material (YSmLuCa) 3 (Fe
Ge) 5 O 12 film (thickness = 3.88 μm, stripe width = 5.0 μ
m, 4πMs = 202Gauss on top of which the damping constant q is smaller than that of the stripe domain retention layer directly (YEuCa) 3
Liquid phase epitaxial growth of (FeGe) 5 O 12 was performed. The wave-like structure shown in FIG. 1 has a period of 5 μm (mask pattern width 3 μm
m or 2 μm), a sample formed to have a peak height of 0.4 μm was arranged with a strap domain in this region, and the stability of the VBL pair was investigated. The VBL pair was stabilized at the valley of the corrugated structure. Was confirmed. In addition, when a rectangular pulse-shaped pulse bias magnetic field with a width of 10 ns was applied to the stabilized VBL pair, the VBL pair climbed over the peaks of the wavy structure around an amplitude of 150e.

(実施例2) 実施例1の代りにコート層としてダンピング定数αがス
トライプドメイン保持層き比べて、大きい(YSmLuCa)
(FeGe)5O12エピタキシャル膜を使い、実施例1と同
様にVBL対が波型構造の谷部に安定化されていることが
確認された。また、谷部に安定化されているVBL対に幅1
0nsecの矩形状パルスバイアス磁界を加えていくと、振
幅250e付近でVBL対が波型構造の山を乗り越えた。
(Example 2) As a coating layer instead of Example 1, the damping constant α is larger than that of the stripe domain retention layer (YSmLuCa).
It was confirmed that the VBL pair was stabilized in the valley portion of the corrugated structure using the 3 (FeGe) 5 O 12 epitaxial film as in Example 1. Also, the width of the VBL pair that is stabilized in the valley is 1
When a rectangular pulse bias magnetic field of 0 nsec was applied, the VBL pair climbed over the ridges of the wavy structure around an amplitude of 250e.

(発明の効果) 本発明により、ブロッホラインメモリでもっとも重要な
要素の一つであるストライプドメイン磁壁上へのブロッ
ホライン対の安定化および磁壁に沿っての転送の安定性
を従来の方法にくらべて改善できた。
(Effects of the Invention) According to the present invention, stabilization of Bloch line pairs on a stripe domain domain wall, which is one of the most important elements in a Bloch line memory, and stability of transfer along the domain wall, compared to conventional methods. I was able to improve.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による垂直ブロッホラインの安定化保持
手段の概観図、第2図(a),(b)はそれぞれ磁壁を
含む面で切断したときの強磁性体ストライプドメイン保
持層および強磁性体コート層の断面とブロッホラインエ
ネルギーの位置依存を示す図である。第3図はストライ
プドメイン保持層の構成図、第4図は素子を形成する過
程の実施例を示す図、図において、1……ストライプド
メイン保持層、2……強磁性体コート層、3……ストラ
イプドメイン、4,4′……ストライプドメイン磁壁、5
……ストライプドメイン内の磁化、5′……ストライプ
ドメインの外の磁化、6……垂直ブロッホライン(VB
L)対、7……基板、8……ポジ型フォトレジスト、
8′……ポストベイク後のフォトレジストパターン、9
……ポリスチレン、10′……イオン注入されたフェリ磁
性体コート層。
FIG. 1 is a schematic view of a stabilizing means for holding a vertical Bloch line according to the present invention, and FIGS. 2 (a) and 2 (b) are respectively a ferromagnetic stripe domain holding layer and a ferromagnetic material when cut along a plane including a domain wall. It is a figure which shows the cross section of a body coat layer, and the position dependence of Bloch line energy. FIG. 3 is a configuration diagram of a stripe domain holding layer, and FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of a process of forming an element. In the figure, 1 ... Stripe domain holding layer, 2 ... Ferromagnetic material coating layer, 3 ... … Striped domain, 4,4 ′ …… Striped domain domain wall, 5
...... Magnetization in stripe domain, 5 '…… Magnetization outside stripe domain, 6 …… Vertical Bloch line (VB
L) Pair, 7 ... Substrate, 8 ... Positive photoresist,
8 '... photoresist pattern after post-baking, 9
...... Polystyrene, 10 '…… Ion-implanted ferrimagnetic coating layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】情報読出し手段と情報書込み手段と情報蓄
積手段を備え、膜面に垂直な方向を磁化容易方向とする
強磁性体膜(フェリ磁性体膜を含む)に存在するストラ
イプドメイン周辺のブロッホ磁壁の中に作った相隣る垂
直ブロッホライン対を記憶情報単位として用いる磁気記
憶素子において、前記強磁性体膜の表面にダンピング定
数が該強磁性体膜と異なる強磁性体膜を直接コートし、
かつ該コート層の膜厚がストライプドメイン保持層のブ
ロッホ磁壁に沿って局所的に変化していることを特徴と
する磁気記憶素子。
1. A stripe domain peripheral to a ferromagnetic film (including a ferrimagnetic film) having an information reading unit, an information writing unit, and an information storage unit and having a direction perpendicular to the film surface as an easy magnetization direction. In a magnetic memory element using adjacent vertical Bloch line pairs formed in Bloch domain walls as a memory information unit, a ferromagnetic film having a damping constant different from that of the ferromagnetic film is directly coated on the surface of the ferromagnetic film. Then
In addition, the magnetic storage element is characterized in that the film thickness of the coat layer locally changes along the Bloch domain wall of the stripe domain holding layer.
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