JPS62298084A - Magnetic memory element - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
発明の詳細な説明
(産業上の利用分野)
本発明は不揮発性の超高密度固体磁気記憶素子1−明一
ト ア
(従来の技術)
高密度固体磁気記憶素子を目指すものとして従来から磁
気バブル素子が開発されてきた。しかし、現在使用され
ているガーネット材料では、到達可能な最小バブル径が
0.3pmといわれている。したがって、0.3pm径
以下のバブルを保持するバブル材料はガーネット材料以
外に求めなければならない。これは容易ではなく、ここ
がバブル高密度化の限界であるとさえ考えられている。[Detailed Description of the Invention] Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention provides a non-volatile ultra-high density solid-state magnetic memory element 1-Meiichito (Prior Art) A high-density solid-state magnetic memory element. To this end, magnetic bubble elements have been developed for some time. However, with the currently used garnet materials, the minimum attainable bubble diameter is said to be 0.3 pm. Therefore, a bubble material that retains bubbles with a diameter of 0.3 pm or less must be found other than garnet material. This is not easy and is even considered to be the limit of bubble density.
このようなバブル保持層の特性に基く高密度化限界を大
幅に改善し、かつ、情報読出し時間は従来の素子と同程
度に保つことができる超高密度固体磁気記憶素子として
膜面垂直方向を磁化容易方向とする強磁性体(フェリ磁
性体を含む)膜に形成されるストライプドメインの境界
を形成するブロッホ磁壁の中に静的に安定に存在する垂
直ブロッホライン2個からなるブロッホライン対(以下
、VBL対と称する。)を記憶単位として用いる素子が
発明された(特願昭57−182346)。We have developed an ultra-high-density solid-state magnetic memory element that significantly improves the density limit based on the characteristics of the bubble retention layer and can maintain information readout time at the same level as conventional elements. A Bloch line pair (consisting of two perpendicular Bloch lines that exist statically and stably within a Bloch domain wall that forms the boundary of a striped domain formed in a ferromagnetic (including ferrimagnetic) film with an easy magnetization direction) An element using VBL pairs (hereinafter referred to as VBL pairs) as a memory unit was invented (Japanese Patent Application No. 182346/1982).
本素子においてもっとも重要な部分の一つは情報をVB
L対の形でストライプドメイン磁壁内に安定化し、かつ
、必要に応じて該VBL対をブロッホ磁壁内で転送する
ことである。One of the most important parts of this device is the information VB
The VBL pairs are stabilized within the striped domain wall in the form of L pairs, and the VBL pairs are transferred within the Bloch domain wall as necessary.
VBL対安定保持法については、特願昭57−0658
26に、マイナーループを構成するストライプドメイン
周辺のブロッホ磁壁に沿って、膜面内の磁気異方性の向
きを局所的に変化させることにより、ストライプドメイ
ン磁壁に沿って、VBL対が安定に存在する位置とそう
でない位置を作りつけられることを示されている。Regarding the VBL stability maintenance method, please refer to the patent application No. 57-0658.
26, by locally changing the direction of magnetic anisotropy in the film plane along the Bloch domain wall around the striped domain that constitutes the minor loop, VBL pairs stably exist along the striped domain domain wall. It has been shown that it is possible to create a position where it does and a position where it does not.
(発明が解決しようとする問題点)
特願昭58−065826に述べられている膜面内の磁
気異方性の向きを局所的に変化させる具体的な方法は1
)膜への選択的イオン注入による格子歪に基づく逆磁歪
効果を利用するとか、または、2)内部応力が大きい材
料を用いてストライプドメイン保持膜表面にパターンを
形成し、膜に応力分布を与え、それに基く逆磁歪効果を
利用するアイ・イー・イー・イー・トランザクション・
オン・マグネティクス(IEEETransactio
n on Magnetics)Vol、 MA
G−20,No、5pp1135〜1137(1984
)などである。1)では膜表面1部においてのみ、膜面
内磁気異方性の向きを制御している。この膜面内磁低異
方性の局所変化は磁壁の移動速度をほとんど変えず、単
にVBL対の難易だけを制御する方法である。したがっ
て、膜厚方向に亘って均一に面内磁気異方性が制御され
ていれば問題ないが、その一部だけ面内磁気異方性が変
えてあり、かつ、イオン注入した表面層としていない層
との境界が明瞭であると、与えられた磁壁移動速度に対
して発生するジャイロ力は一定であるから、VBL対の
移動の難易に依存して、必然的にVBL対の移動の様子
は膜厚方向に沿って不均一になる。その結果、場合によ
ってはVBLが膜厚の中間部で分断されてしまい、VB
L対の消滅に至ることがある。これは素子の信頼性の上
から大きな問題になる。この障害を取除くためには、膜
厚方向に均一にイオン注入することが望ましいが、イオ
ン注入法の本質的特性またはイオン注入装置の性能など
のため、かなり難しい。2)の方法は1)の方法に比べ
て、膜面内磁低異方性の膜厚方向変化はゆるやかであり
、(1)に比べてVBL対の移動時の不安定化の確率は
小さいが、傾向としてはイオン注入と同じである。(Problems to be Solved by the Invention) The specific method for locally changing the direction of magnetic anisotropy in the film plane described in Japanese Patent Application No. 58-065826 is 1.
) Utilizing the inverse magnetostriction effect based on lattice strain caused by selective ion implantation into the film, or 2) Forming a pattern on the surface of the striped domain holding film using a material with large internal stress to give stress distribution to the film. , an IEE transaction using the inverse magnetostriction effect based on it.
on Magnetics (IEEETransaction
on Magnetics) Vol, MA
G-20, No, 5pp1135-1137 (1984
) etc. In 1), the direction of the in-plane magnetic anisotropy of the film is controlled only in one part of the film surface. This local change in the in-plane magnetic anisotropy hardly changes the moving speed of the domain wall, and is a method of simply controlling the difficulty of VBL pairing. Therefore, there is no problem if the in-plane magnetic anisotropy is controlled uniformly over the film thickness direction, but the in-plane magnetic anisotropy is changed only in a part of the film, and there is no ion-implanted surface layer. If the boundary between the layers is clear, the gyroscopic force generated for a given domain wall movement speed is constant, so the movement of the VBL pair will inevitably change depending on the difficulty of the movement of the VBL pair. The film becomes non-uniform along the thickness direction. As a result, in some cases, VBL may be separated in the middle of the film thickness, and VBL
This may lead to the disappearance of L pairs. This poses a serious problem in terms of device reliability. In order to eliminate this obstacle, it is desirable to implant ions uniformly in the film thickness direction, but this is quite difficult due to the essential characteristics of the ion implantation method or the performance of the ion implantation device. In method 2), the in-plane magnetic low anisotropy changes more slowly in the film thickness direction than in method 1), and the probability of instability when the VBL pair moves is smaller than in method (1). However, the trend is the same as that of ion implantation.
本発明の目的はこのような従来の問題点を除去したVB
L対安定保持法を施したストライプドメイン磁壁を有し
ている超高密度記録素子を提供することにある。The purpose of the present invention is to provide a VB that eliminates such conventional problems.
An object of the present invention is to provide an ultrahigh-density recording element having a striped domain domain wall subjected to the L-pair stabilization method.
(問題を解決するための手段)
すなわち、本発明は情報読出し手段、情報書込み手段お
よび情報蓄積手段を有し、がっ、膜面に垂直な方向を磁
化容易方向とする強磁性体(フェリ磁性体膜を含む)膜
に存在するストライプドメインの境界のブロッホ磁壁中
につくった相隣る2つの垂直なブロッホラインからなる
垂直ブロッホライン対を記憶情報単位として用い、かつ
、該垂直ブロッホライン対をブロッホ磁壁内で転送する
手段を有する素子において、該ストライプドメイン保持
層表面にもう一種類のフェリ磁性体を直接っ1十 ズ1
−−yメプpノスンr診μ辛L〜・ン凸−で9つの■霞
ぼか局所的に変化させていることを特徴とする磁気記憶
素子を提示する。(Means for solving the problem) That is, the present invention has an information reading means, an information writing means, and an information storage means. A vertical Bloch line pair consisting of two adjacent perpendicular Bloch lines formed in a Bloch domain wall at the boundary of a striped domain in a film (including a body membrane) is used as a storage information unit, and the vertical Bloch line pair is In an element having means for transfer within a Bloch domain wall, another type of ferrimagnetic material is directly applied to the surface of the striped domain retention layer.
A magnetic memory element is presented which is characterized by locally changing the nine haze and blur in the following directions.
(作用)
本発明は上述の構成をとることにより、ストライプドメ
イン磁壁に沿って情報単位であるVBL対を安定して保
持し、また転送できることを示した。以下、本発明の原
理を詳細に説明する。第3図に示すように、ストライプ
ドメイン保持層1の表面に該強磁性体と比べて磁壁移動
度pwが異なる強磁性体膜2をコートすると、パルスバ
イアス磁界を加えて磁壁を移動させたとき、磁壁中のV
BLに働くジャイロ力がストライプドメイン保持層層と
コート層とで異なるため、ストライプドメイン保持層と
コート層との境界に交換相互作用エネルギーが貯えられ
る。このため、VBLはその状態を避けようとする。そ
こで、コート層の膜厚をストライプドメイン磁壁に沿っ
て局所的に変化させると、VBL対はコート層膜厚が小
さいところに安定化される。第1図は本発明におけるス
トライプドメイン磁壁部における膜厚の変化の与え方を
示してぃる。ストライプドメイン3の両側の磁壁(ブロ
ッホ磁壁)中のVBL対6は膜厚が薄い部分に安定化さ
れる。(Function) The present invention has shown that by employing the above-described configuration, VBL pairs, which are information units, can be stably held and transferred along the stripe domain magnetic wall. The principle of the present invention will be explained in detail below. As shown in FIG. 3, when the surface of the striped domain holding layer 1 is coated with a ferromagnetic film 2 having a domain wall mobility pw different from that of the ferromagnetic material, when a pulse bias magnetic field is applied to move the domain wall. , V in the domain wall
Since the gyroscopic force acting on the BL is different between the striped domain retention layer and the coating layer, exchange interaction energy is stored at the boundary between the striped domain retention layer and the coating layer. Therefore, VBL tries to avoid that situation. Therefore, when the thickness of the coating layer is locally changed along the stripe domain domain wall, the VBL pair is stabilized where the coating layer thickness is small. FIG. 1 shows how the film thickness is varied in the striped domain domain wall portion in the present invention. The VBL pair 6 in the domain walls (Bloch domain walls) on both sides of the stripe domain 3 is stabilized in the thin film thickness portion.
これはVBLが周囲のブロッホ磁壁に比べてエネルギー
密度が高いため、VBL自体の占有容積が小さいところ
(膜厚が小さいところ)に安定化されやすいためである
。このVBL対6はストライプドメインを形成する強磁
性体膜の膜面に垂直な方向に加えられたパルスバイアス
磁界により生じるジャイロ力によって、ブロッホ磁壁中
を移動することができる。This is because the VBL has a higher energy density than the surrounding Bloch domain walls, so it is likely to be stabilized where the volume occupied by the VBL itself is small (where the film thickness is small). This VBL pair 6 can move in the Bloch domain wall by a gyroscopic force generated by a pulse bias magnetic field applied in a direction perpendicular to the film surface of the ferromagnetic film forming the stripe domain.
本発明におけるVBL対安定化法においてはVBL対を
保持している層には何も加工していない。単にコート層
の存在によってVBLにコート層との相互作用を与えて
いる。従来の方法ではVBLのエネルギー密度を磁壁に
沿って局所的に変化させている。この変化を与えるため
、具体的にはイオン注入等を利用する。これらの方法で
は、膜厚方向に特性の不均一を生じることを避けられな
い。したがって、VBLの移動速度が膜厚方向に沿って
不均一になり、VBLが分断されたりする。In the VBL pair stabilization method of the present invention, no processing is performed on the layer holding the VBL pair. The mere presence of the coating layer allows the VBL to interact with the coating layer. In the conventional method, the energy density of VBL is locally changed along the domain wall. In order to provide this change, specifically, ion implantation or the like is used. These methods inevitably cause non-uniformity of properties in the film thickness direction. Therefore, the moving speed of the VBL becomes non-uniform along the film thickness direction, and the VBL may become fragmented.
本発明ではこのような従来法の欠点を取除くことができ
る。The present invention can eliminate these drawbacks of the conventional method.
第2図を用いてその原理を説明する。第2図(a)は第
1図の一部をストライプドメイン磁壁を含む平面でカッ
トした断面を表わしている。VBL対6が膜厚が薄い領
域に安定化されている。このVBL対を転送するため、
膜面に垂直方向にパルスバイアス磁界を加えて、それに
よって生じるジャイロ力を利用する。ジャイロ力の大き
さをどのように評価するかについて述べる。第2図(b
)にはVBLのエネルギー恥BLのX方向依存を第2図
(a)に対応して定性的に示している。EVBLが最低
のところに安定化されているVBLはその隣のEVBL
が最大になる山を乗り越えてとなりの谷へ移動する。し
たがって、VBL対に働くジャイロ力はエネルギーの谷
と山との間のEVBLの変化の勾配の最大値に比べて大
きくする必要がある。The principle will be explained using FIG. FIG. 2(a) shows a cross section of a part of FIG. 1 cut along a plane including the striped domain domain wall. VBL pair 6 is stabilized in the thin film thickness region. To transfer this VBL pair,
A pulsed bias magnetic field is applied perpendicular to the film surface, and the resulting gyroscopic force is utilized. This section describes how to evaluate the magnitude of gyroscopic force. Figure 2 (b
) qualitatively shows the dependence of the energy shame BL of VBL on the X direction, corresponding to FIG. 2(a). The VBL whose EVBL is stabilized at the lowest point is the EVBL next to it.
Climb over the mountain with the highest value and move to the next valley. Therefore, the gyroscopic force acting on the VBL pair needs to be larger than the maximum value of the gradient of the change in EVBL between the energy trough and peak.
本発明の長所はVBL対駆動駆動時BL対が安定化され
ている位置のポテンシャルウェルの底と隣の安定位置と
の間にある、いわゆるビット障壁の山頂との相対的差を
変化させることができることである。これはコート層の
¥IWがストライプドメイン保持層と異なるため、与え
られた磁壁駆動磁界に対してVBL部に1動くジャイロ
力にストライプドメイン保持層とコート層とで大きな差
ができ、ダイナミックに交換力が高まるため、VBL対
はその位置を避けるようになる。その後、磁壁のダイナ
ミックな駆動が収まると、再び、コート層の薄い位置が
VBL対にとってポテンシャルウェルがもっとも深くな
る。VBL対はそこに安定化される。An advantage of the present invention is that it is possible to change the relative difference between the bottom of the potential well at the position where the VBL pair is stabilized and the peak of the so-called bit barrier between the adjacent stable position. It is possible. This is because the ¥IW of the coat layer is different from that of the striped domain holding layer, so there is a large difference in the gyroscopic force that moves one step in the VBL region for a given domain wall driving magnetic field between the striped domain holding layer and the coated layer, and dynamic exchange occurs. Due to the increased force, the VBL pair will avoid that position. After that, when the dynamic drive of the domain wall subsides, the potential well becomes the deepest for the VBL pair again at the thinner position of the coating layer. The VBL pair is stabilized there.
次にコート層の膜厚変化のさせ方について述べる。第2
図(a)の破線は膜厚変化領域を非常に狭くした場合を
示している。これに対応してVBLのエネルギーEVB
LのX方向依存も第2図(b)に破線で示すように変わ
ってくる。この場合、エネルギーが低いところに安定化
されたVBL対をとなりの谷まで移動させるのに必要な
ジャイロ力は実線の場合に比べて非常に大きくなり、実
際上、制御しにくくなる。したがって、実線で示した波
型構造が実用上使いやすい。Next, we will discuss how to change the thickness of the coating layer. Second
The broken line in Figure (a) shows the case where the film thickness changing region is made very narrow. Correspondingly, the energy EVB of VBL
The dependence of L on the X direction also changes as shown by the broken line in FIG. 2(b). In this case, the gyroscopic force required to move the VBL pair stabilized at a low energy point to the next valley becomes much larger than in the case of the solid line, and becomes difficult to control in practice. Therefore, the wavy structure shown by the solid line is easy to use in practice.
この方法では膜厚変化に伴うVBLのエネルギー変化が
VBLのエネルギー密度の変化を伴わないため、VBL
対のジャイロ力に対する応答がイオン注入法のときのよ
うに膜厚方向に亘って不連続的に変化するといったこと
が生じない。したがって、転送中にビット間障壁を乗り
越えるときVBLが膜厚の中間部で分断されるといった
不安定性の生じる確率を非常に低く抑えられ、安定した
VBL対転送が得られる。In this method, the VBL energy change due to the film thickness change is not accompanied by a change in the VBL energy density, so the VBL
Unlike the ion implantation method, the response to the pair of gyro forces does not change discontinuously across the film thickness direction. Therefore, the probability of instability such as VBL being divided at the middle of the film thickness when crossing the inter-bit barrier during transfer can be suppressed to a very low level, and stable VBL pair transfer can be obtained.
以下実施例を使って発明の内容を具体的に示す。The content of the invention will be specifically illustrated below using examples.
(実施例1) この波型パターンの製造法を第4図を用いて説明する。(Example 1) A method of manufacturing this wave pattern will be explained using FIG. 4.
バブル材料膜11上にポジ型フォトレジストMP130
0(シプレージャパン、商品名)で、巾5μm2周期1
0pm膜厚1pmのパターン7を形成する(第4図a)
。Positive photoresist MP130 on the bubble material film 11
0 (Shipley Japan, product name), width 5μm2 period 1
Form a pattern 7 with a film thickness of 0 pm and 1 pm (Figure 4a)
.
パターン形成後135°Cで1時間ポストベイクを行な
う。するとパターンは7゛のような形状になる。この温
度以上でペイキングを行なうと、パターン巾が変動し、
好ましくない。逆に、温度が低すぎても、パターンの断
面形状が矩形のままであるので好ましくない(第4図b
)。次に分子量17500のポリスチレンを、キシレン
を溶剤として塗布する。10重量パーセントのスチレン
を溶解した液を用い、スピン塗布回転数3000rpm
で、平坦部で約3000人のポリスチレン塗膜9が得ら
れる。塗布後の表面はゆるやかな波形となった。波形形
状の高低差は約1゜311mであった。塗布工程の前後
でポジ型フォトレジストパターンの変形はなかった(第
4図C)。次にイオン注入を行なう。注入条件は厚さ1
.3μmの有機膜をイオンが貫通するように決めた。After pattern formation, post-bake is performed at 135°C for 1 hour. The pattern will then look like 7゛. If paking is performed above this temperature, the pattern width will fluctuate,
Undesirable. On the other hand, if the temperature is too low, the cross-sectional shape of the pattern will remain rectangular, which is undesirable (see Figure 4b).
). Next, polystyrene having a molecular weight of 17,500 is applied using xylene as a solvent. Using a solution containing 10% by weight of styrene, spin coating was performed at a rotational speed of 3000 rpm.
Thus, a polystyrene coating film 9 of about 3,000 layers is obtained on a flat area. The surface after application had a gentle waveform. The height difference of the waveform shape was approximately 1°311m. There was no deformation of the positive photoresist pattern before and after the coating process (FIG. 4C). Next, ion implantation is performed. The injection condition is thickness 1
.. It was determined that ions would penetrate through a 3 μm organic membrane.
ここでは130KeV/He/4.8X 1015個/
am2.50KeV/He/17 X 1015個7c
m2とした。第4図(d)の11′で示すストライプド
メイン保持層表面にコートした層の部分にイオン注入が
なされる。コート層材料にイオン注入を行なうと、格子
歪が注入層に誘起されるため、一般に化学エツチング耐
性が変化することが知られているが、前記手順で作製し
た試料を酸素プラズマにさらし、有機膜を除去した後、
90°Cのリン酸に10分間浸積したところ第4図(e
)に示すように高低差0.Qmの波形形状にコート層が
加工できた。Here, 130KeV/He/4.8X 1015 pieces/
am2.50KeV/He/17 x 1015 pieces 7c
m2. Ion implantation is performed in the portion of the layer coated on the surface of the striped domain holding layer shown at 11' in FIG. 4(d). It is generally known that chemical etching resistance changes when ion implantation is performed on the coating layer material because lattice strain is induced in the implanted layer. After removing the
When immersed in phosphoric acid at 90°C for 10 minutes, the results shown in Figure 4 (e
), the height difference is 0. The coating layer could be processed into a waveform shape of Qm.
前記のストライプドメイン保持材料は
Gd5Ga50.2(111)基板にLPE成長した5
pmバブル材料(YSmLuCa)3(FeGe)5o
1□膜(膜厚=3.88pm、ストライプ幅= 5.0
pm、4nMs = 202Gaussの上に直接、ス
トライプドメイン保持層に比べて、ダンピング定数αが
小さい(YEuCa)3(FeGe)50□を液相エピ
タキシャル成長した。第1図に示す波型構造とした5p
m周期(マスクパターン幅3pmまたは2pm)、山の
高さ0゜4pmになるように形成した試料について、こ
の領域にストライプドメインを配し、VBL対の安定性
に調べ、VBL対が波型構造の谷部に安定化されている
ことが確認された。また安定化されているVBL対に輻
10nsの矩形波状パルスバイアス磁界を加えていくと
、振幅150e付近で、VBL対が波型構造の山を乗り
越えた。The stripe domain-retaining material described above is 5 LPE-grown on a Gd5Ga50.2(111) substrate.
pm bubble material (YSmLuCa)3(FeGe)5o
1□ film (film thickness = 3.88 pm, stripe width = 5.0
pm, 4 nMs = 202 Gauss, (YEuCa) 3 (FeGe) 50 □, which has a smaller damping constant α than the stripe domain holding layer, was grown directly on the liquid phase epitaxial layer. 5p with wavy structure shown in Figure 1
For a sample formed to have m period (mask pattern width 3 pm or 2 pm) and peak height 0° 4 pm, a stripe domain was placed in this region and the stability of the VBL pair was investigated. It was confirmed that it was stabilized in the trough. Furthermore, when a rectangular wave-like pulsed bias magnetic field with a intensity of 10 ns was applied to the stabilized VBL pair, the VBL pair climbed over the peak of the wave-like structure at an amplitude of around 150e.
(実施例2)
実施例1の代りにコート層としてダンピング定数αがス
トライプドメイン保持層に比べて、大きい(YSmLu
Ca)3(FeGe)5012エピタキシヤル膜を使い
、実施例1と同様にVBL対が波型構造の谷部に安定化
されていることが確認された。また、谷部に安定化され
ているVBL対に幅10nsecの矩形状パルスバイア
ス磁界を加えていくと、振幅25Oe付近でVBL対が
波型構造の山を乗り越えた。(Example 2) A coating layer was used instead of Example 1, and the damping constant α was larger than that of the striped domain retention layer (YSmLu
Using the Ca)3(FeGe)5012 epitaxial film, it was confirmed that the VBL pair was stabilized in the troughs of the wavy structure as in Example 1. Furthermore, when a rectangular pulsed bias magnetic field with a width of 10 nsec was applied to the VBL pair stabilized in the valley, the VBL pair climbed over the peak of the wave-like structure at an amplitude of around 25 Oe.
(発明の効果)
本発明により、ブロッホラインメモリでもっとも重要な
要素の一つであるストライプドメイン磁壁土へのブロッ
ホライン対の安定化および磁壁に沿っての転送の安定性
を従来の方法にくらべて改善できた。(Effects of the Invention) The present invention improves the stability of Bloch line pairs to the striped domain domain wall and the stability of transfer along the domain wall, which are one of the most important elements in Bloch line memory, compared to conventional methods. I was able to improve it.
第1図は本発明による垂直ブロッホラインの安定化保持
手段の概観図、第2図(a)、(b)はそれぞれ磁壁を
含む面で切断したときの強磁性体ストライプドメイン保
持層および強磁性体コート層の断面とブロッホラインエ
ネルギーの位置依存を示す図である。第3図はストライ
プドメイン保持層の構成図、第4図は素子を形成する過
程の実施例を示す図、図において、1・・・ストライプ
ドメイン保持層、2・・・強磁性体コート層、3・・・
ストライプドメイン、4,4′・・・ストライプドメイ
ン磁壁、5・・・ストライプドメイン内の磁化、5′・
・・ストライプドメインの外の磁化、6・・・垂直ブロ
ッホライン(VBL)対、700.基板、810.ポジ
型フォトレジスト、8ζ・・ポストベイク後のフォトレ
ジストパターン、91.・ポリスチレン、10’・・・
イオン注入され代理人弁理士内原 晋、゛パ゛・′
$ 2 図
(aン
(I))FIG. 1 is an overview diagram of the vertical Bloch line stabilizing and holding means according to the present invention, and FIGS. 2(a) and (b) show the ferromagnetic stripe domain holding layer and the ferromagnetic properties when cut along the plane including the domain walls, respectively. FIG. 3 is a diagram showing the cross section of a body coat layer and the positional dependence of Bloch line energy. FIG. 3 is a configuration diagram of a striped domain retention layer, and FIG. 4 is a diagram showing an example of the process of forming an element. 3...
Stripe domain, 4,4'...Stripe domain domain wall, 5...Magnetization within the stripe domain, 5'.
... Magnetization outside the stripe domain, 6... Vertical Bloch line (VBL) pair, 700. Substrate, 810. Positive type photoresist, 8ζ... Photoresist pattern after post baking, 91.・Polystyrene, 10'...
Susumu Uchihara, a patent attorney who was injected with ions, ``Papa・' $ 2 Figure (a (I))
Claims (1)
、膜面に垂直な方向を磁化容易方向とする強磁性体膜(
フェリ磁性体膜を含む)に存在するストライプドメイン
周辺のブロッホ磁壁の中に作った相隣る垂直ブロッホラ
イン対を記憶情報単位として用いる磁気記憶素子におい
て、前記強磁性体膜の表面にダンピング定数が該強磁性
体膜と異なる強磁性体膜を直接コートし、かつ該コート
層の膜厚がストライプドメイン保持層のブロッホ磁壁に
沿って局所的に変化していることを特徴とする磁気記憶
素子。Ferromagnetic film (
In a magnetic memory element that uses a pair of adjacent perpendicular Bloch lines formed in a Bloch domain wall around a striped domain existing in a ferromagnetic film (including a ferromagnetic film) as a storage information unit, a damping constant is provided on the surface of the ferromagnetic film. A magnetic memory element, characterized in that the magnetic memory element is directly coated with a ferromagnetic film different from the ferromagnetic film, and the thickness of the coating layer varies locally along the Bloch domain wall of the striped domain retention layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61140551A JPH071634B2 (en) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | Magnetic memory element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61140551A JPH071634B2 (en) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | Magnetic memory element |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62298084A true JPS62298084A (en) | 1987-12-25 |
JPH071634B2 JPH071634B2 (en) | 1995-01-11 |
Family
ID=15271303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61140551A Expired - Lifetime JPH071634B2 (en) | 1986-06-16 | 1986-06-16 | Magnetic memory element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH071634B2 (en) |
-
1986
- 1986-06-16 JP JP61140551A patent/JPH071634B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH071634B2 (en) | 1995-01-11 |
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