JPH07153949A - Mos transistor - Google Patents
Mos transistorInfo
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- JPH07153949A JPH07153949A JP5300354A JP30035493A JPH07153949A JP H07153949 A JPH07153949 A JP H07153949A JP 5300354 A JP5300354 A JP 5300354A JP 30035493 A JP30035493 A JP 30035493A JP H07153949 A JPH07153949 A JP H07153949A
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- mos transistor
- mos
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- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は種々の電子回路に使用し
て好適なMOSトランジスタに関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a MOS transistor suitable for use in various electronic circuits.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】一般に
MOSトランジスタにおいては一つのゲート電極に対
し、一つのソース電極及びドレイン電極が設けられてお
り、入力信号をこのゲート電極に供給したときは一つの
出力信号しか取り出せなかった。2. Description of the Related Art Generally, in a MOS transistor, one source electrode and one drain electrode are provided for one gate electrode, and one source electrode and one drain electrode are provided when an input signal is supplied to this gate electrode. Only two output signals could be taken out.
【0003】この為多数のMOSトランジスタを使用す
る例えばデジタル回路ではこのMOSトランジスタのパ
ターンが大きくなり大面積となる不都合があった。Therefore, in a digital circuit using a large number of MOS transistors, for example, the pattern of the MOS transistors becomes large, resulting in a large area.
【0004】本発明は斯る点に鑑み例えばデジタル回路
におけるMOSトランジスタのパターンを小さくできる
ようにすることを目的とする。In view of the above problems, an object of the present invention is to make it possible to reduce the pattern of MOS transistors in a digital circuit, for example.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明MOSトランジス
タは例えば図1,図2,図3に示す如く、MOSゲート
1の裏をN形及びP形の多層構造2,3として深さの違
うNチャンネル及びPチャンネルを形成すると共に夫々
のチャンネルに夫々ドレイン及びソースを形成するよう
にしたものである。In the MOS transistor of the present invention, as shown in FIGS. 1, 2 and 3, for example, N-type and P-type multilayer structures 2 and 3 are provided on the back side of the MOS gate 1 and N having different depths. A channel and a P channel are formed, and a drain and a source are formed in each channel.
【0006】また本発明は上述のMOSトランジスタに
おいて、このMOSゲート1に入力信号を供給し、この
チャンネルの数の出力信号を取り出し得るようにしたも
のである。Further, according to the present invention, in the above-mentioned MOS transistor, an input signal is supplied to the MOS gate 1 and output signals of the number of channels can be taken out.
【0007】また本発明MOSトランジスタは例えば図
4に示す如く、上述において、このMOSゲート1に一
定電圧を供給すると共に上述チャンネルの一つに入力信
号を供給し、他のチャンネルより出力信号を取り出すよ
うにしたものである。Further, the MOS transistor of the present invention, for example, as shown in FIG. 4, in the above, supplies a constant voltage to the MOS gate 1, supplies an input signal to one of the above-mentioned channels, and takes out an output signal from the other channel. It was done like this.
【0008】また本発明MOSトランジスタは例えば図
4に示す如く、上述において、このMOSゲート1に供
給する一定電圧を制御して、このチャンネルのスレッシ
ュホールド電圧を制御するようにしたものである。Further, the MOS transistor of the present invention is, for example, as shown in FIG. 4, in the above description, it controls the constant voltage supplied to the MOS gate 1 to control the threshold voltage of this channel.
【0009】[0009]
【作用】本発明によればMOSゲート1の裏をN形及び
P形の多層構造として、深さの違うNチャンネル及びP
チャンネルの複数のチャンネルを形成し、夫々にドレイ
ン及びソースを形成したので、このMOSゲート1に入
力信号を供給することにより、このチャンネル数の出力
信号を得ることができ、それだけMOSトランジスタの
パターンを小さくできる。According to the present invention, the back surface of the MOS gate 1 has a multi-layered structure of N type and P type, and N channel and P of different depth
Since a plurality of channels are formed, and a drain and a source are formed respectively, by supplying an input signal to this MOS gate 1, an output signal of this channel number can be obtained, and the pattern of the MOS transistor can be obtained accordingly. Can be made smaller.
【0010】また本発明によれば上述MOSトランジス
タのMOSゲート1に一定電圧を供給し、この複数チャ
ンネルの一つのチャンネルに入力信号を供給するので、
他のチャンネルより出力信号を得ることができる。また
この場合、MOSゲート1に供給する一定電圧を調整す
ることにより、夫々のチャンネルのスレッシュホールド
電圧Vthを調整することができる。Further, according to the present invention, a constant voltage is supplied to the MOS gate 1 of the MOS transistor, and an input signal is supplied to one of the plurality of channels.
Output signals can be obtained from other channels. Further, in this case, the threshold voltage Vth of each channel can be adjusted by adjusting the constant voltage supplied to the MOS gate 1.
【0011】[0011]
【実施例】以下図面を参照して、本発明MOSトランジ
スタの実施例につき説明しよう。図2,図3において、
4は例えばシリコンより成るN形の基板を示し、このN
形の基板上にP形層3、このP形層3上にN形層の領域
2を形成する。Embodiments of the MOS transistor of the present invention will be described below with reference to the drawings. 2 and 3,
Reference numeral 4 denotes an N-type substrate made of, for example, silicon.
A P-type layer 3 is formed on a substrate having a shape of 3, and a region 2 of an N-type layer is formed on the P-type layer 3.
【0012】このN形層の領域2上にSiO2 層1S及
びアルミ、多結晶等の電極1Mより成る四角形のMOS
ゲート1を形成する。この場合このMOSゲート1の裏
側即ち下側のN形層の領域2にはN形MOSトランジス
タを構成するNチャンネルが形成されると共にP形層3
にはP形MOSトランジスタを構成するPチャンネルが
形成される。On the region 2 of the N-type layer, a quadrilateral MOS comprising a SiO 2 layer 1S and an electrode 1M made of aluminum, polycrystal or the like.
Gate 1 is formed. In this case, an N channel forming an N-type MOS transistor is formed in the region 2 of the N-type layer on the back side of the MOS gate 1, that is, the lower side, and the P-type layer 3 is formed.
A P channel that forms a P-type MOS transistor is formed in.
【0013】またこの四角形のMOSゲート1の図1で
示す左及び右側に図2に示す如くP + 領域3S及び3D
を形成し、P形MOSトランジスタのソース及びドレイ
ンとし、この四角形のMOSゲート1の図1で示す上及
び下側に図3に示す如くN+領域2S及び2Dを形成
し、N形MOSトランジスタのソース及びドレインとす
る。Also, in FIG. 1 of this rectangular MOS gate 1.
As shown in FIG. 2, P is shown on the left and right sides. +Regions 3S and 3D
Forming a source and a drain of a P-type MOS transistor.
1 and the rectangular MOS gate 1 shown in FIG.
On the bottom and N as shown in FIG.+Form areas 2S and 2D
The source and drain of the N-type MOS transistor.
It
【0014】斯る図1,図2,図3に示す如きMOSト
ランジスタのMOSゲート1に電圧V1 ,V2 ,V3 を
供給したときのPチャンネル及びNチャンネルの深さ方
向のポテンシャルは図5及び図6に示す如くであり、こ
の図1,図2,図3に示すMOSトランジスタは3チャ
ンネルの1ゲート、2出力のMOSトランジスタを構成
する。本例では界面のPチャンネルは使わずに残りの2
つのチャンネルを使う如く構成している。The potentials in the depth direction of the P-channel and the N-channel when the voltages V 1 , V 2 and V 3 are supplied to the MOS gate 1 of the MOS transistor as shown in FIGS. 5 and FIG. 6, the MOS transistors shown in FIGS. 1, 2 and 3 constitute a 3-channel 1-gate, 2-output MOS transistor. In this example, the P channel of the interface is not used and the remaining 2
It is configured to use one channel.
【0015】本例において、MOSゲート1に入力信号
を供給したときには、N形MOSトランジスタのドレイ
ン2D,ソース2S及びP形MOSトランジスタのドレ
イン3D,ソース3Sに夫々出力信号を得ることがで
き、2出力信号を得ることができる。In this example, when an input signal is supplied to the MOS gate 1, output signals can be obtained at the drain 2D and source 2S of the N-type MOS transistor and the drain 3D and source 3S of the P-type MOS transistor, respectively. An output signal can be obtained.
【0016】また、図4は本発明の他の実施例を示す。
この図4例は上述図1,図2,図3に示す如く構成した
MOSトランジスタにおいて、MOSゲート1を一定電
圧V 3 を供給する電池5を介して接地すると共にN形M
OSトランジスタを構成するソース2Sに入力信号を供
給する如くする。FIG. 4 shows another embodiment of the present invention.
The example of FIG. 4 is constructed as shown in FIGS.
In the MOS transistor, keep the MOS gate 1 at a constant voltage.
Pressure V 3Grounded via a battery 5 that supplies
The input signal is supplied to the source 2S that constitutes the OS transistor.
I will supply it.
【0017】このときは、図7に示す如く、この入力信
号により、ソース2Sの電位が変動し、このNチャンネ
ルに流れる電流量が変化し、これに伴い、P形MOSト
ランジスタを構成するPチャンネルのポテンシャルが変
位し、出力回路を構成するP形MOSトランジスタの出
力信号も変調される。At this time, as shown in FIG. 7, the potential of the source 2S fluctuates due to this input signal, and the amount of current flowing through this N channel changes, and along with this, the P channel forming the P type MOS transistor. Of the P-type MOS transistor constituting the output circuit is also modulated.
【0018】この場合P形MOSトランジスタを構成す
るソース3Sに入力信号を供給すると共にMOSゲート
1に一定電圧V1 を供給し、N形MOSトランジスタを
出力回路としたときも、図8に示す如く、上述と同様に
動作することは容易に理解できよう。In this case, when an input signal is supplied to the source 3S constituting the P-type MOS transistor and a constant voltage V 1 is supplied to the MOS gate 1 and the N-type MOS transistor is used as an output circuit, as shown in FIG. It can be easily understood that the same operation as described above is performed.
【0019】また、図4において、MOSゲート1に供
給する一定電圧を調整することにより、このN形及びP
形のMOSトランジスタのスレッシュホールド電圧Vt
hを調整することができる。Further, in FIG. 4, by adjusting the constant voltage supplied to the MOS gate 1, the N type and P
-Shaped MOS transistor threshold voltage Vt
h can be adjusted.
【0020】本例は上述の如くMOSゲート1の裏即ち
下側をN形及びP形の2層構造として深さの違うN形及
びP形MOSトランジスタを形成しているので、このM
OSゲート1に入力信号を供給することにより2個の出
力信号を得ることができ、これをデジタル回路を構成す
るMOSトランジスタに適用したときには、それだけ小
面積とすることができる。In this embodiment, the back side, that is, the lower side of the MOS gate 1 has the two-layer structure of N type and P type as described above to form N type and P type MOS transistors having different depths.
By supplying an input signal to the OS gate 1, two output signals can be obtained, and when this is applied to a MOS transistor which constitutes a digital circuit, the area can be reduced by that much.
【0021】尚、上述実施例においてはMOSゲート1
の裏側にN形を1層2及びP形を1層3の2層構造とし
たが、これを2層以上の例えば図9に示す如くN形及び
P形層を交互にN層づつ設け2N層構造とし、夫々に対
応してソース2S1 ,2S2,‥‥2Sn 、3S1 ,3
S2 ,‥‥3Sn 、ドレイン2D1 ,2D2 ,‥‥2D
n 、3D1 ,3D2 ,‥‥3Dn を設ける如くしてもよ
い。この場合も上述実施例と同様の作用効果が得られる
ことは容易に理解できよう。In the above embodiment, the MOS gate 1
The N-type has a two-layer structure of one layer 2 and P-type one layer 3 on the back side of this, and this is provided with two or more N-type and P-type layers alternately as shown in FIG. Sources 2S 1 , 2S 2 , ... 2S n , 3S 1 , 3 are formed in a layered structure corresponding to each layer.
S 2 , ... 3S n , drain 2D 1 , 2D 2 , ... 2D
n , 3D 1 , 3D 2 , ... 3D n may be provided. It can be easily understood that the same effects as those of the above embodiment can be obtained in this case as well.
【0022】また本発明は上述実施例に限ることなく本
発明の要旨を逸脱することなく、その他種々の構成が採
り得ることは勿論である。Further, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, and it goes without saying that various other configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.
【0023】[0023]
【発明の効果】本発明によればMOSゲート1の裏をN
形及びP形の多層構造として深さの違うNチャンネル及
びPチャンネルの複数のチャンネルを形成し、夫々にド
レイン及びソース形成したので、このMOSゲート1に
入力信号を供給することにより、このチャンネル数の出
力信号を得ることができ、デジタル回路等におけるMO
Sトランジスタのパターン面積を小さくできる利益があ
る。According to the present invention, the back side of the MOS gate 1 is N
Since a plurality of channels of N-channel and P-channel having different depths are formed as a multi-type structure of P-type and P-type and a drain and a source are formed respectively, the number of channels can be increased by supplying an input signal to the MOS gate 1. Output signal can be obtained, and MO in a digital circuit or the like can be obtained.
There is an advantage that the pattern area of the S transistor can be reduced.
【0024】また本発明によれば、MOSゲートに一定
電圧を供給し、この複数チャンネルの一つのチャンネル
に入力信号を供給し、他のチャンネルより出力信号を得
るMOSトランジスタを得ることができる。Further, according to the present invention, it is possible to obtain a MOS transistor in which a constant voltage is supplied to the MOS gate, an input signal is supplied to one of the plurality of channels, and an output signal is obtained from the other channels.
【図1】本発明MOSトランジスタの一実施例を示す平
面図である。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a MOS transistor of the present invention.
【図2】図1の横断面図である。2 is a cross-sectional view of FIG.
【図3】図1の縦断面図である。FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of FIG.
【図4】本発明の他の実施例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing another embodiment of the present invention.
【図5】図1の説明に供する線図である。5 is a diagram used to explain FIG. 1. FIG.
【図6】図1の説明に供する線図である。FIG. 6 is a diagram used to explain FIG.
【図7】図4の説明に供する線図である。FIG. 7 is a diagram used to explain FIG.
【図8】図4の説明に供する線図である。FIG. 8 is a diagram used to explain FIG.
【図9】本発明の他の実施例を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing another embodiment of the present invention.
1 MOSゲート 1S SiO2 層 1M 電極 2 N形層 2S,3S ソース 2D,3D ドレイン 3 P形層 4 N形基板 5 電池1 MOS gate 1S SiO 2 layer 1M electrode 2 N type layer 2S, 3S source 2D, 3D drain 3 P type layer 4 N type substrate 5 battery
Claims (4)
構造として、深さの違うNチャンネル及びPチャンネル
を形成すると共に夫々のチャンネルにドレイン及びソー
スを形成するようにしたことを特徴とするMOSトラン
ジスタ。1. The back of the MOS gate has a multi-layered structure of N-type and P-type, and N-channel and P-channel having different depths are formed, and a drain and a source are formed in each channel. MOS transistor to do.
いて、上記MOSゲートに入力信号を供給し、上記チャ
ンネルの数の出力信号を取り出し得るようにしたことを
特徴とするMOSトランジスタ。2. The MOS transistor according to claim 1, wherein an input signal is supplied to the MOS gate, and output signals corresponding to the number of the channels can be taken out.
いて、上記MOSゲートに一定電圧を供給すると共に上
記チャンネルの一つに入力信号を供給し、他のチャンネ
ルより出力信号を取り出すようにしたことを特徴とする
MOSトランジスタ。3. The MOS transistor according to claim 1, wherein a constant voltage is supplied to the MOS gate, an input signal is supplied to one of the channels, and an output signal is taken out from the other channel. And MOS transistor.
いて、上記ゲートに供給する一定電圧を制御して、上記
チャンネルのスレッシュホールド電圧を制御するように
したことを特徴とするMOSトランジスタ。4. The MOS transistor according to claim 3, wherein a constant voltage supplied to the gate is controlled to control a threshold voltage of the channel.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5300354A JPH07153949A (en) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | Mos transistor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5300354A JPH07153949A (en) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | Mos transistor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07153949A true JPH07153949A (en) | 1995-06-16 |
Family
ID=17883780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5300354A Pending JPH07153949A (en) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | Mos transistor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07153949A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006515714A (en) * | 2003-07-08 | 2006-06-01 | セイコーエプソン株式会社 | Semiconductor device |
-
1993
- 1993-11-30 JP JP5300354A patent/JPH07153949A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006515714A (en) * | 2003-07-08 | 2006-06-01 | セイコーエプソン株式会社 | Semiconductor device |
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