JPH07142560A - Wafer gripper - Google Patents
Wafer gripperInfo
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- JPH07142560A JPH07142560A JP5308584A JP30858493A JPH07142560A JP H07142560 A JPH07142560 A JP H07142560A JP 5308584 A JP5308584 A JP 5308584A JP 30858493 A JP30858493 A JP 30858493A JP H07142560 A JPH07142560 A JP H07142560A
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- wafers
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造工程
においてカセットレス式洗浄装置でウェハを洗浄する際
に、処理途中で故障等によりウェハの搬送装置が停止し
た場合にそのウェハを洗浄槽から取り出すウェハ把持具
に関し、特に、多数枚のウェハでも簡単確実に把持して
取り出すことができるウェハ把持具に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention, for example, when cleaning a wafer with a cassette-less cleaning device in a semiconductor manufacturing process, if the wafer transfer device is stopped due to a failure during processing, the wafer is removed from the cleaning tank. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer gripping tool that can be taken out, and more particularly to a wafer gripping tool that can easily and reliably grip and take out a large number of wafers.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体製造工程においてカセット
レス式洗浄装置でウェハを洗浄する際には、図3(a)
に示すように、搬送装置1のチャック部2a,2bでウ
ェハ3の外周縁を外側方から挟み込んで把持し、上記ウ
ェハ3を図示外のローダ部から取り出して洗浄槽(図示
省略)の上方まで搬送し、同図(b)に示すように、そ
の位置で搬送装置1の全体を矢印Aのように下降させて
ウェハ3の下縁部を洗浄槽内のウェハガイド4a,4b
の溝内にセットし、その後同図(c)に示すように、上
記搬送装置1のチャック部2a,2bを矢印B,Cのよ
うに両側方に開いてウェハ3の把持を解除し、該ウェハ
3を洗浄槽内のウェハガイド4a,4bに載せたまま搬
送装置1を矢印Dのように上昇させる。これにより、洗
浄槽内のウェハガイド4a,4b上に洗浄対象のウェハ
3が複数枚並べられ、その後洗浄液により洗浄処理が行
われる。そして、洗浄槽内での洗浄処理が終ると、上記
搬送装置1が下降してきて、ウェハ3をチャック部2
a,2bで把持した後に上昇し、図示外のアンローダ部
へ搬送して収納する。2. Description of the Related Art Conventionally, when cleaning a wafer with a cassetteless cleaning apparatus in a semiconductor manufacturing process, FIG.
As shown in FIG. 3, the outer peripheral edge of the wafer 3 is sandwiched and gripped by the chuck portions 2a and 2b of the transfer device 1 from the outside, and the wafer 3 is taken out from the loader portion (not shown) to a position above the cleaning tank (not shown). As shown in FIG. 3B, the entire carrier device 1 is lowered at the position as indicated by arrow A so that the lower edge of the wafer 3 is moved to the wafer guides 4a and 4b in the cleaning tank.
, And then, as shown in FIG. 2C, the chuck portions 2a and 2b of the transfer device 1 are opened to both sides as indicated by arrows B and C to release the wafer 3 from the grip. While the wafer 3 is placed on the wafer guides 4a and 4b in the cleaning tank, the carrier device 1 is raised as indicated by arrow D. As a result, a plurality of wafers 3 to be cleaned are arranged on the wafer guides 4a and 4b in the cleaning tank, and then the cleaning process is performed with the cleaning liquid. Then, when the cleaning process in the cleaning tank is completed, the transfer device 1 is lowered and the wafer 3 is chucked by the chuck portion 2.
After being gripped by a and 2b, it rises and is conveyed and stored in an unloader unit (not shown).
【0003】このようにして、上記ウェハ3を洗浄槽内
で洗浄処理している途中に、何らかのトラブルにより上
記搬送装置1が停止した場合は、図4に示すように、図
示外の真空ポンプに接続されたホース5の先端に取り付
けられた真空ピンセット6を用いて、該真空ピンセット
6の先端部に設けられた吸着部7で上記ホース5を介し
て供給される真空圧によりウェハ3の板面を真空吸着
し、該ウェハ3を1枚ずつ洗浄槽内から取り出してい
た。In this way, when the transfer device 1 is stopped due to some trouble during the cleaning process of the wafer 3 in the cleaning tank, a vacuum pump (not shown) is used as shown in FIG. Using the vacuum tweezers 6 attached to the tip of the connected hose 5, the suction surface 7 provided at the tip of the vacuum tweezer 6 uses the vacuum pressure supplied through the hose 5 to cause the plate surface of the wafer 3 to move. Were vacuum-adsorbed and the wafers 3 were taken out one by one from the cleaning tank.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の真空ピンセット6を用いた場合は、吸着部7でウェ
ハ3の板面を真空吸着して取り出していたので、一つの
真空ピンセット6では一枚ずつしかウェハ3を取り出す
ことができず、前記洗浄槽内に複数枚並べられたウェハ
3を全部取り出すのに長時間を要するものであった。ま
た、ウェハ3の板面を真空吸着することから、該ウェハ
3の全体が洗浄液中に浸っている場合は使用することが
できず、上記ウェハ3を洗浄槽内から取り出すことがで
きないことがあった。However, when such a conventional vacuum tweezers 6 is used, since the plate surface of the wafer 3 is vacuum-sucked by the suction part 7 and taken out, one vacuum tweezer 6 is used. Only one wafer 3 could be taken out, and it took a long time to take out all the wafers 3 arranged in the cleaning tank. Further, since the plate surface of the wafer 3 is vacuum-adsorbed, it cannot be used when the entire wafer 3 is immersed in the cleaning liquid, and the wafer 3 may not be taken out from the cleaning tank. It was
【0005】そこで、本発明は、このような問題点に対
処し、多数枚のウェハでも簡単確実に把持して取り出す
ことができるウェハ把持具を提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a wafer gripping tool which can deal with such a problem and can easily and surely grip and take out a large number of wafers.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるウェハ把持具は、ウェハを把持するた
めに開閉操作するハンドル部と、このハンドル部に連続
して二方向に対向して伸び上記ハンドル部の操作により
把持対象のウェハの直径より大きい範囲で開閉動作する
把持部と、この把持部の先端に設けられ1枚ずつのウェ
ハの外周縁を外側方から挟み込むチャック溝を1個又は
複数個列状に有するチャック部とを有して成るものであ
る。In order to achieve the above object, a wafer gripper according to the present invention has a handle portion which is opened and closed for gripping a wafer, and a handle portion which is continuously opposed to the handle portion in two directions. The grip portion that is opened and closed by operating the handle portion in a range larger than the diameter of the wafer to be gripped, and the chuck groove that is provided at the tip of the grip portion and that sandwiches the outer peripheral edge of each wafer from the outside is And a chuck part having a plurality of pieces or rows.
【0007】[0007]
【作用】このように構成されたウェハ把持具は、ハンド
ル部によりウェハを把持するための開閉操作をし、この
ハンドル部に連続して二方向に対向して伸びる把持部を
上記ハンドル部の操作により把持対象のウェハの直径よ
り大きい範囲で開閉動作をし、この把持部の先端に設け
られウェハのチャック溝を1個又は複数個列状に有する
チャック部で1枚ずつのウェハの外周縁を外側方から挟
み込むように動作する。これにより、多数枚のウェハで
も簡単確実に把持して取り出すことができる。The wafer gripper thus constructed is operated to open and close the wafer by the handle part, and the grip part extending continuously opposite to the handle part in two directions is operated. The opening and closing operation is performed in a range larger than the diameter of the wafer to be held by the chuck part, and the outer peripheral edge of each wafer is separated by the chuck part provided at the tip of the holding part and having one or a plurality of wafer chuck grooves. It works so as to be pinched from the outside. As a result, even a large number of wafers can be easily grasped and taken out.
【0008】[0008]
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
詳細に説明する。図1は本発明によるウェハ把持具の実
施例を示す説明図であり、(a)図は使用状態の正面図
であり、(b)図はその側面図である。このウェハ把持
具は、例えば半導体製造工程において図3に示すような
カセットレス式洗浄装置でウェハ3を洗浄する際に、処
理途中で故障等によりウェハの搬送装置1が停止した場
合にそのウェハ3を洗浄槽(図示省略)から取り出すも
ので、図1(a)に示すように、ハンドル部10a,1
0bと、把持部11a,11bと、チャック部12a,
12bとから成る。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a wafer gripper according to the present invention, FIG. 1 (a) is a front view of a use state, and FIG. 1 (b) is a side view thereof. This wafer gripping tool is used, for example, when cleaning the wafer 3 with a cassette-less cleaning device as shown in FIG. Is taken out from the cleaning tank (not shown). As shown in FIG.
0b, grip portions 11a and 11b, and chuck portion 12a,
12b and.
【0009】上記ハンドル部10a,10bは、ウェハ
3を把持するために開閉操作するもので、一対の棒状の
部材から成り、その一端部は支点軸13で回動自在に結
合されると共に、他端部は開放されて矢印E,F;G,
Hのように開閉可能とされている。なお、このハンドル
部10a,10bの中間部には、圧縮スプリング14が
両者間に張設されており、該ハンドル部10a,10b
の他端部を常時矢印E,G方向に付勢して開いている。The handle portions 10a and 10b are operated to open and close to hold the wafer 3, and are formed of a pair of rod-like members, one end of which is rotatably coupled by a fulcrum shaft 13 and the other. The ends are open and the arrows E, F; G,
It can be opened and closed like H. A compression spring 14 is stretched between the handle portions 10a and 10b, and the compression spring 14 is stretched between the handle portions 10a and 10b.
The other end is always biased in the directions of arrows E and G to open.
【0010】上記ハンドル部10a,10bの支点軸1
3で結合された部分から他端部と反対側には、それぞれ
把持部11a,11bが伸びている。この把持部11
a,11bは、上記ハンドル部10a,10bの開閉操
作により把持対象のウェハ3の直径より大きい範囲で開
閉動作するもので、上記ハンドル部10a,10bの結
合部分に連続して二方向に対向して円弧状に伸びてい
る。すなわち、一方のハンドル部10aに連続して一方
の把持部11aが同一サイドに伸び、他方のハンドル部
10bに連続して他方の把持部11bが同一サイドに伸
びている。The fulcrum shaft 1 of the handle portions 10a and 10b
Gripping portions 11a and 11b extend from the portion joined at 3 to the side opposite to the other end. This grip 11
a and 11b are opened and closed within a range larger than the diameter of the wafer 3 to be gripped by the opening and closing operation of the handle parts 10a and 10b. And extends in an arc shape. That is, one grip portion 11a extends to the same side continuously to the one handle portion 10a, and the other grip portion 11b extends to the same side continuously to the other handle portion 10b.
【0011】上記把持部11a,11bの先端には、チ
ャック部12a,12bが設けられている。このチャッ
ク部12a,12bは、実際にウェハ3を把持する部分
となるもので、図2に示すように、1枚ずつのウェハ3
の外周縁を外側方から挟み込むチャック溝15を1個又
は複数個列状に有している。図2においては、チャック
溝15が1個だけ形成されて1枚のウェハ3を把持する
チャック部12a,12bを示したが、複数枚のウェハ
3を一度に把持する場合は、図1(b)に示すように、
把持部11a,11bに直交して横長に伸びる部材の内
側面に図2に示すようなチャック溝15を複数個列状に
形成したチャック部12a,12bを用いればよい。こ
れにより、例えば1〜50枚のウェハ3を把持することが
できる。なお、上記チャック部12a,12bは、前記
把持部11a,11bの先端に取り付けられているの
で、前記ハンドル部10a,10bの開閉操作により、
図1(a)に矢印J,K;L,Mで示すように開閉動作
してウェハ3を把持したり、解除するようになってい
る。Chuck portions 12a and 12b are provided at the tips of the grip portions 11a and 11b. The chuck portions 12a and 12b are the portions that actually hold the wafer 3, and as shown in FIG.
One or a plurality of chuck grooves 15 sandwiching the outer peripheral edge from the outside are provided in a row. In FIG. 2, only one chuck groove 15 is formed and the chuck portions 12a and 12b for holding one wafer 3 are shown. However, when a plurality of wafers 3 are held at a time, the chuck portions 12a, 12b shown in FIG. ),
Chuck portions 12a, 12b may be used in which a plurality of chuck grooves 15 as shown in FIG. 2 are formed in a row on the inner surface of a member that extends in a laterally long direction orthogonal to the grip portions 11a, 11b. Thereby, for example, 1 to 50 wafers 3 can be gripped. Since the chuck portions 12a and 12b are attached to the tips of the grip portions 11a and 11b, opening / closing operation of the handle portions 10a and 10b causes
As shown by arrows J, K; L, M in FIG. 1A, the opening / closing operation is performed to grip or release the wafer 3.
【0012】次に、このように構成されたウェハ把持具
の使用について説明する。まず、前述の図3(a),
(b),(c)のようにしてカセットレス式洗浄装置で
ウェハ3の洗浄処理をしているとする。そして、その洗
浄槽(図示省略)内で洗浄処理している途中に、何らか
のトラブルにより搬送装置1が停止したとする。する
と、この場合、ウェハ3を洗浄槽内から取り出すことが
できないので、操作者は、本発明のウェハ把持具を用い
る。すなわち、操作者は、図1(a)に示すハンドル部
10a,10bを手で握り、矢印F,H方向に閉じる。
すると、上記ハンドル部10a,10bに連続する把持
部11a,11bは、支点軸13を中心として外方に回
動し、それぞれの先端に設けられたチャック部12a,
12bが矢印J,L方向に開動作して開く。Next, the use of the wafer gripper thus constructed will be described. First, as shown in FIG.
It is assumed that the cleaning process of the wafer 3 is performed by the cassetteless cleaning apparatus as in (b) and (c). Then, it is assumed that the conveyance device 1 is stopped due to some trouble during the cleaning process in the cleaning tank (not shown). Then, in this case, since the wafer 3 cannot be taken out from the cleaning tank, the operator uses the wafer gripper of the present invention. That is, the operator grips the handle portions 10a and 10b shown in FIG. 1A with his hand and closes them in the directions of arrows F and H.
Then, the gripping portions 11a and 11b, which are continuous with the handle portions 10a and 10b, rotate outward about the fulcrum shaft 13, and chuck portions 12a and
12b opens and opens in the directions of arrows J and L.
【0013】次に、この状態で、図3(c)において洗
浄槽内でウェハガイド4a,4b上にセットされた複数
枚のウェハ3の位置までウェハ把持具を移動させ、上記
チャック部12a,12bがウェハ3の外周側に位置す
るようにする。その後、上記ハンドル部10a,10b
を握っていた手をゆるめ、圧縮スプリング14の付勢力
によって該ハンドル部10a,10bを矢印E,G方向
に開く。すると、上記ハンドル部10a,10bに連続
する把持部11a,11bは、支点軸13を中心として
内方に回動し、それぞれの先端に設けられたチャック部
12a,12bが矢印K,M方向に閉動作して閉じる。
このとき、図2に示すように個々のチャック溝15が1
枚ずつのウェハ3の外周縁を外側方から挟み込んで把持
する。この場合の把持力は、上記圧縮スプリング14の
付勢力によって与えられ、この圧縮スプリング14の付
勢力は複数枚のウェハ3を同時に把持できる大きさに決
められている。Next, in this state, the wafer gripper is moved to the position of the plurality of wafers 3 set on the wafer guides 4a and 4b in the cleaning tank in FIG. 12b is located on the outer peripheral side of the wafer 3. Then, the handle portions 10a, 10b
Loosen the hand that was holding, and open the handle portions 10a and 10b in the directions of arrows E and G by the urging force of the compression spring 14. Then, the grip portions 11a and 11b, which are continuous with the handle portions 10a and 10b, rotate inward about the fulcrum shaft 13, and the chuck portions 12a and 12b provided at the tips of the grip portions 11a and 11b move in the directions of arrows K and M, respectively. Closes and closes.
At this time, as shown in FIG.
The outer peripheral edge of each wafer 3 is sandwiched and gripped from the outside. The gripping force in this case is given by the urging force of the compression spring 14, and the urging force of the compression spring 14 is set to a size capable of simultaneously gripping a plurality of wafers 3.
【0014】その後、操作者が上記ウェハ把持具の全体
を洗浄槽内から持ち上げることにより、図1(a)に示
すようにチャック部12a,12bでウェハ3を把持し
た状態で、該洗浄槽内からウェハ3を取り出すことがで
きる。Thereafter, the operator lifts the entire wafer gripping tool from the inside of the cleaning tank to hold the wafer 3 by the chuck portions 12a and 12b as shown in FIG. 1 (a). The wafer 3 can be taken out from.
【0015】[0015]
【発明の効果】本発明は以上のように構成されたので、
ハンドル部によりウェハを把持するための開閉操作を
し、このハンドル部に連続して二方向に対向して伸びる
把持部を上記ハンドル部の操作により把持対象のウェハ
の直径より大きい範囲で開閉動作をし、この把持部の先
端に設けられウェハのチャック溝を1個又は複数個列状
に有するチャック部で1枚ずつのウェハの外周縁を外側
方から挟み込むことができる。これにより、多数枚のウ
ェハでも簡単確実に把持して取り出すことができる。従
って、洗浄槽内にセットされた複数枚のウェハを短時間
で全部取り出すことができる。また、ウェハの外周縁を
全く機械的に挟み込んで把持するだけであるので、該ウ
ェハの全体が洗浄液中に浸っている場合でも支障なく使
用することができる。Since the present invention is constructed as described above,
The handle is used to open and close to hold the wafer, and the open and close operation of the grip that extends continuously in two directions facing the handle is performed in a range larger than the diameter of the wafer to be gripped by operating the handle. However, the outer peripheral edge of each wafer can be sandwiched from the outside by the chuck portion provided at the tip of the grip portion and having one or a plurality of wafer chuck grooves. As a result, even a large number of wafers can be easily grasped and taken out. Therefore, it is possible to take out all the plurality of wafers set in the cleaning tank in a short time. Further, since the outer peripheral edge of the wafer is merely mechanically sandwiched and gripped, even if the entire wafer is immersed in the cleaning liquid, it can be used without any trouble.
【図1】本発明によるウェハ把持具の実施例を示す説明
図であり、(a)図は使用状態の正面図であり、(b)
図はその側面図である。FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a wafer gripper according to the present invention, FIG. 1 (a) is a front view of a usage state, and FIG.
The figure is a side view thereof.
【図2】チャック部の構造を示す拡大説明図である。FIG. 2 is an enlarged explanatory view showing a structure of a chuck portion.
【図3】カセットレス式洗浄装置の概要を示す説明図で
ある。FIG. 3 is an explanatory diagram showing an outline of a cassetteless cleaning apparatus.
【図4】従来の真空ピンセットの使用状態を示す正面図
及び側面図である。4A and 4B are a front view and a side view showing a usage state of a conventional vacuum tweezers.
3…ウェハ 10a,10b…ハンドル部 11a,11b…把持部 12a,12b…チャック部 13…支点軸 14…圧縮スプリング 15…チャック溝 3 ... Wafer 10a, 10b ... Handle part 11a, 11b ... Gripping part 12a, 12b ... Chuck part 13 ... Support shaft 14 ... Compression spring 15 ... Chuck groove
Claims (1)
ンドル部と、このハンドル部に連続して二方向に対向し
て伸び上記ハンドル部の操作により把持対象のウェハの
直径より大きい範囲で開閉動作する把持部と、この把持
部の先端に設けられ1枚ずつのウェハの外周縁を外側方
から挟み込むチャック溝を1個又は複数個列状に有する
チャック部とを有して成ることを特徴とするウェハ把持
具。1. A handle portion which is opened and closed to hold a wafer, and a handle portion which extends continuously in two directions facing the handle portion and is opened and closed within a range larger than a diameter of a wafer to be held by the operation of the handle portion. And a chuck portion having one or a plurality of chuck grooves arranged in a row at the tip of the grip portion for sandwiching the outer peripheral edge of each wafer from the outside. Wafer gripping tool.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5308584A JPH07142560A (en) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | Wafer gripper |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5308584A JPH07142560A (en) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | Wafer gripper |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07142560A true JPH07142560A (en) | 1995-06-02 |
Family
ID=17982795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5308584A Pending JPH07142560A (en) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | Wafer gripper |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07142560A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1317753C (en) * | 2002-11-25 | 2007-05-23 | 宇东电浆科技股份有限公司 | Method and device for holding chip in package |
-
1993
- 1993-11-16 JP JP5308584A patent/JPH07142560A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1317753C (en) * | 2002-11-25 | 2007-05-23 | 宇东电浆科技股份有限公司 | Method and device for holding chip in package |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |