JPH0714152A - Magnetic recording medium and magnetic disk device - Google Patents

Magnetic recording medium and magnetic disk device

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JPH0714152A
JPH0714152A JP5153285A JP15328593A JPH0714152A JP H0714152 A JPH0714152 A JP H0714152A JP 5153285 A JP5153285 A JP 5153285A JP 15328593 A JP15328593 A JP 15328593A JP H0714152 A JPH0714152 A JP H0714152A
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JP
Japan
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protective film
magnetic
magnetic disk
head
film
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Application number
JP5153285A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Gomi
憲一 五味
Yoichi Inomata
洋一 猪股
Hiroshi Yashiki
博 屋鋪
Yoshihiro Moriguchi
善弘 森口
Noritoshi Ishikawa
文紀 石川
Hideaki Tanaka
秀明 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Recording Or Reproducing By Magnetic Means (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To maintain reliability over a long period of time by treating a protective film with an inert gas and incorporating the element of the inert gas into at least the surface of the protective film. CONSTITUTION:When at least a magnetic film 4 and a protective film 5 are formed on a substrate 1 to obtain a magnetic recording medium, the protective film 5 is subjected to surface treatment in plasma of inert gas and a protective film contg. the element of the inert gas in at least the surface is formed, or a film contg. 0.1-1 atomic % Ar besides carbon as the principal constituent element is used as the protective film 5. The Ar may locally exist in the surface of the protective film.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録に用いられる磁
気記録媒体及び磁気記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium and a magnetic storage device used for magnetic recording.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年コンピュータシステムの外部記憶装
置としての磁気ディスク装置の重要度は益々高まり、そ
の記録密度は年々著しい向上が図られている。
2. Description of the Related Art In recent years, the importance of a magnetic disk device as an external storage device of a computer system has been increasing, and the recording density thereof has been remarkably improved year by year.

【0003】磁気記録装置は、磁気ディスクと記録再生
磁気ヘッド(以下、単にヘッドと称する)、磁気ディス
クの回転制御機構、ヘッドの位置決め機構及び記録再生
信号の処理回路を主構成要素としている。その一般的な
記録再生方法は、操作開始前にはヘッドと磁気ディスク
が接触状態であるが、磁気ディスクを回転させることに
よりヘッドと磁気ディスクの間に微少空間を作り、この
状態で記録再生を行なう。操作終了時には磁気ディスク
の回転が止まり、ヘッドと磁気ディスクは再び接触状態
となる方式が一般的である(コンタクト・スタート・ス
トップ方式、以下CSS方式と称する)。磁気記録装置
の記録密度を向上させるためには、記録再生時のヘッド
の浮上量は小さいほど良く、その際のヘッドの浮上安定
性を確保するために、磁気ディスクの表面はできるだけ
平坦であることが要求される。
A magnetic recording device has a magnetic disk, a recording / reproducing magnetic head (hereinafter, simply referred to as a head), a magnetic disk rotation control mechanism, a head positioning mechanism, and a recording / reproducing signal processing circuit as main components. The general recording / reproducing method is that the head and the magnetic disk are in contact with each other before the operation is started, but by rotating the magnetic disk, a minute space is created between the head and the magnetic disk, and recording / reproducing is performed in this state. To do. At the end of the operation, the magnetic disk generally stops rotating, and the head and the magnetic disk are in contact with each other again (contact start / stop method, hereinafter referred to as CSS method). In order to improve the recording density of the magnetic recording device, the smaller the flying height of the head during recording and reproducing, the better. To ensure the flying stability of the head at that time, the surface of the magnetic disk should be as flat as possible. Is required.

【0004】また、装置の起動時及び停止時においてヘ
ッドと磁気ディスクの間に生ずる摩擦力は、両者の摩耗
を引き起こし、特性劣化の原因となる。さらに、磁気デ
ィスクが静止している状態でヘッドと磁気ディスクの間
に水分等が介在すると、両者が強固に吸着し、この状態
で起動するとヘッドと磁気ディスクの間に大きな力が生
じ、ヘッドや磁気ディスクの損傷を招く恐れがある。こ
の様な摩擦力や吸着力は、磁気ディスクの表面が平坦で
あるほど大きくなる傾向があり、前記した記録密度の向
上に伴うヘッドの浮上安定性に対する要求と相反する。
Further, the frictional force generated between the head and the magnetic disk at the time of starting and stopping the apparatus causes wear of both and causes characteristic deterioration. Furthermore, if moisture or the like is present between the head and the magnetic disk while the magnetic disk is stationary, they will be firmly adsorbed, and when activated in this state, a large force is generated between the head and the magnetic disk, It may damage the magnetic disk. Such a frictional force and an attracting force tend to increase as the surface of the magnetic disk becomes flatter, which conflicts with the above-mentioned requirement for the flying stability of the head accompanying the improvement in recording density.

【0005】このような摩擦力や吸着力を低減するため
に、保護膜表面に微小凹凸を形成する方法が従来より提
案されている。一例として、特開昭55-84045号公報に
は、表面粗さ20-50nmの保護膜を形成した磁気ディスク
が示されている。特開昭57-20925号公報、特開平3−2
52922号公報には、保護膜の表面に微小突起を形成
した磁気ディスクが示されている。さらに、ヘッドと磁
気記録媒体間の摩擦力や吸着力を低減するために、磁気
記録媒体の表面に潤滑剤を塗布するのが一般的である。
保護膜表面への潤滑剤の付着効率を上げる方法として
は、例えば、特開平4−67429号公報に示されてい
る。
In order to reduce such frictional force and adsorption force, a method of forming fine irregularities on the surface of the protective film has been conventionally proposed. As an example, JP-A-55-84045 discloses a magnetic disk having a protective film with a surface roughness of 20-50 nm. JP-A-57-20925 and JP-A-3-2
Japanese Patent No. 52922 discloses a magnetic disk in which minute protrusions are formed on the surface of a protective film. Furthermore, in order to reduce the frictional force and the attraction force between the head and the magnetic recording medium, it is common to apply a lubricant to the surface of the magnetic recording medium.
A method for increasing the efficiency of lubricant adhesion to the surface of the protective film is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-67429.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、い
ずれも磁気ディスクと磁気ヘッドとの間に生じる摩擦力
や吸着力の低減を目的としているが、ヘッドの浮上量が
小さく、ヘッドと磁気記録媒体がほとんど接触している
ような高記録密度の磁気ディスク装置において、長期に
渡る摺動信頼性を維持するには不十分である。特に、磁
気ヘッドとして磁気抵抗効果型ヘッド(MRヘッド)を
用いて磁気デイスク装置を構成する場合、通常のインダ
クティブヘッドを用いる場合とは異なる特性の保護膜を
有する磁気記録媒体を用いないと、長期に渡る信頼性を
確保出来ない。
All of the above-mentioned prior arts aim at reducing the frictional force and the attractive force generated between the magnetic disk and the magnetic head, but the flying height of the head is small, and the head and the magnetic recording are small. In a high recording density magnetic disk device in which the medium is almost in contact, it is insufficient to maintain the sliding reliability for a long period of time. In particular, when a magnetic disk device is formed by using a magnetoresistive head (MR head) as a magnetic head, it is necessary to use a magnetic recording medium having a protective film having characteristics different from those of the case of using an ordinary inductive head for a long time. It is not possible to secure reliability across

【0007】本発明の目的は、長期に渡る信頼性を持続
できるようにした磁気ディスク及びそれを用いて構成さ
れる磁気ディスク装置、特に磁気抵抗効果型ヘッドを用
いる磁気ディスク装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a magnetic disk capable of maintaining reliability for a long period of time and a magnetic disk device constructed by using the magnetic disk, particularly a magnetic disk device using a magnetoresistive head. is there.

【0008】本発明の他の目的は耐蝕性が高く、多様な
環境下でも使用可能な磁気ディスク装置を提供すること
にある。
Another object of the present invention is to provide a magnetic disk device which has high corrosion resistance and can be used in various environments.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、次に示す構造の磁気ディスクを提供する。基板上に
少なくとも磁性膜と保護膜を有する磁気記録媒体におい
て、該保護膜を不活性ガスプラズマ中で表面処理し、少
なくとも、表面に前記不活性ガスの元素を含む保護膜を
有する。また、基板上に少なくとも磁性膜と保護膜を有
する磁気記録媒体において、該保護膜として主構成元素
である炭素以外にアルゴンを0.1〜1at%含む膜を
用いる。該アルゴンは上記保護膜表面に局在していても
構わない。
In order to achieve the above object, a magnetic disk having the following structure is provided. In a magnetic recording medium having at least a magnetic film and a protective film on a substrate, the protective film is surface-treated in an inert gas plasma, and at least the surface has a protective film containing the element of the inert gas. In addition, in a magnetic recording medium having at least a magnetic film and a protective film on a substrate, a film containing 0.1 to 1 at% of argon in addition to carbon as a main constituent element is used as the protective film. The argon may be localized on the surface of the protective film.

【0010】上記の磁気記録媒体の製造には、まず一般
的に用いられているスパッタ装置により、通常の非磁性
基板上に、下地膜(Cr膜あるいはCr合金膜が一般
的)、磁性膜(Co合金膜)及び保護膜を形成する。該
保護膜をスパッタ装置で形成する場合、一般的にはカ−
ボンをタ−ゲットとし、アルゴンあるいはアルゴンと水
素/炭化水素の混合ガス中で炭素を主構成元素とする膜
を形成する。
To manufacture the above magnetic recording medium, a base film (Cr film or Cr alloy film is generally used) and a magnetic film (generally a Cr film or a Cr alloy film) are formed on an ordinary non-magnetic substrate by a generally used sputtering apparatus. A Co alloy film) and a protective film are formed. When the protective film is formed by a sputtering device, it is generally a card.
A film containing carbon as the main constituent element is formed in argon or a mixed gas of argon and hydrogen / hydrocarbon using boron as a target.

【0011】また、スパッタ装置以外の方法としては、
例えば、プラズマCVD法で炭素を主構成元素とする保
護膜を形成することも可能である。
As a method other than the sputtering apparatus,
For example, it is possible to form a protective film containing carbon as a main constituent element by a plasma CVD method.

【0012】上記の保護膜形成後に、保護膜表面に凹凸
を形成するような処理を行うことも可能である。
After forming the above-mentioned protective film, it is possible to perform a treatment for forming irregularities on the surface of the protective film.

【0013】上記のようにして形成した炭素を主構成元
素とする保護膜を、例えば、逆スパッタのようなアルゴ
ンプラズマ中で処理することにより、本発明のアルゴン
を含有する保護膜を形成させることが出来る。次いで、
その保護膜表面に、必要であれば、パ−フロロポリエ−
テル系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を得ることが出
来る。
The protective film containing carbon as a main constituent element formed as described above is treated in an argon plasma such as reverse sputtering to form the protective film containing argon of the present invention. Can be done. Then
On the surface of the protective film, if necessary, perfluoropolyene-
A magnetic recording medium can be obtained by applying a tellurium-based lubricant.

【0014】[0014]

【作用】上記のように炭素を主構成元素とし、アルゴン
を含む保護膜を有する磁気記録媒体は、通常の炭素を主
構成元素とする保護膜を有する磁気記録媒体に比べ、ス
ライダの耐摩耗性が良く、この磁気記録媒体を用いて構
成される磁気デイスク装置は耐摺動信頼性に優れてい
る。さらに、アルゴンを含む保護膜は通常のスパッタ法
で形成した炭素を主構成元素とする保護膜に比べ、膜の
電気抵抗が大きいため、特に磁気抵抗効果型磁気ヘッド
(MRヘッド)と組み合わせた場合、ヘッドと磁気記録
媒体の不慮の接触時にも放電等による障害を防止する効
果が大きく、磁気デイスク装置の信頼性が高い。
The magnetic recording medium having the protective film containing carbon as the main constituent element and argon as described above has a higher wear resistance of the slider than the magnetic recording medium having the protective film containing carbon as the main constituent element. The magnetic disk device constituted by using this magnetic recording medium has excellent sliding resistance. Further, since the protective film containing argon has a higher electric resistance than the protective film containing carbon as a main constituent element, which is formed by a usual sputtering method, especially when combined with a magnetoresistive head (MR head). Even when the head and the magnetic recording medium are inadvertently contacted with each other, the effect of preventing a failure due to discharge or the like is great, and the reliability of the magnetic disk device is high.

【0015】[0015]

【実施例】次に本発明を図面を用いてさらに詳細に説明
する。
The present invention will now be described in more detail with reference to the drawings.

【0016】図1に本発明の磁気記録媒体、即ち磁気デ
ィスクの断面図を示し、其の製造方法を以下に述べる。
FIG. 1 is a sectional view of a magnetic recording medium of the present invention, that is, a magnetic disk, and its manufacturing method will be described below.

【0017】通常の非磁性基板1(Al合金)上にNi
P膜2をめっき法で形成したものを、必要であれば其の
表面をテクスチャ加工した後、一般的なスパッタ法で膜
を形成する。ここで、基板はAl合金にNiPめっき膜
を形成したものを例に実施例を示すが、本発明はこれに
限定されることはなく、非磁性金属、ガラス、セラミッ
クス及びプラスチックスを基板に用いた場合にも同様の
効果が得られる。また、基板面に通常テクスチャと呼ば
れる加工をするが、その形状は円周方向の溝、あるいは
円周方向の溝とそれと所定の角度を持つ方向の溝が、ク
ロスするような形状が一般的で、本発明では何れも同様
の効果が得られる。また、上記のテクスチャとは別に、
磁性膜の配向性を円周方向に高めるような表面処理、例
えば、バフによるラビング等を行うことももちろん可能
である。
Ni on a normal non-magnetic substrate 1 (Al alloy)
The P film 2 formed by the plating method is textured on its surface if necessary, and then the film is formed by a general sputtering method. Here, the substrate will be shown by way of example in which the NiP plating film is formed on the Al alloy, but the present invention is not limited to this, and non-magnetic metal, glass, ceramics and plastics can be used for the substrate. The same effect can be obtained when there is. In addition, the substrate surface is usually processed as a texture, but its shape is generally such that the circumferential groove or the circumferential groove and a groove having a predetermined angle cross each other. In the present invention, the same effect can be obtained. Also, apart from the above texture,
Of course, it is also possible to perform a surface treatment for enhancing the orientation of the magnetic film in the circumferential direction, for example, rubbing with a buff.

【0018】上記の基板面にCr膜3及びCo合金膜4
を形成した後、C保護膜5を形成する。C保護膜5の膜
厚としては、例えば20〜60nmにする。
A Cr film 3 and a Co alloy film 4 are formed on the substrate surface.
After forming, the C protective film 5 is formed. The film thickness of the C protective film 5 is, for example, 20 to 60 nm.

【0019】次に、逆スパッタ法によりAr圧力0.1
〜0.5Torr、投入電力100〜500Wの条件
で、上記C保護膜表面をエッチング処理する。C保護膜
のエッチング量は、例えば5〜30nmに制御する必要
がある。エッチング後の保護膜の残膜厚量は磁気記録信
号のS/N向上のためには薄い程好ましいが、装置の摺
動信頼性向上のためには、10nm以上にするのが好ま
しい。
Then, Ar pressure is set to 0.1 by the reverse sputtering method.
The surface of the C protective film is etched under conditions of 0.5 Torr and input power of 100 to 500W. The etching amount of the C protective film needs to be controlled to, for example, 5 to 30 nm. The residual film thickness of the protective film after etching is preferably as thin as possible for improving the S / N of the magnetic recording signal, but is preferably 10 nm or more for improving the sliding reliability of the device.

【0020】アルゴンエッチング処理したC保護膜表面
をESCAで分析すると、その表面にArが検出され
る。表1にエッチング条件を変えた場合のC保護膜表面
のAr量のESCAによる分析結果を示す。
When the surface of the C protective film subjected to the argon etching treatment is analyzed by ESCA, Ar is detected on the surface. Table 1 shows the ESCA analysis results of the amount of Ar on the surface of the C protective film when the etching conditions were changed.

【0021】[0021]

【表1】 [Table 1]

【0022】スパッタ法で形成したC保護膜には、スパ
ッタ条件や装置により微量のArが含まれる場合も有る
が、本実施例の場合、スパッタで形成したままのC保護
膜表面をESCAで分析してもArは検出されなかっ
た。このことから、本実施例のC保護膜中のArは逆ス
パッタ過程でC保護膜中に取り込まれたと推定される。
The C protective film formed by the sputtering method may contain a small amount of Ar depending on the sputtering conditions and the apparatus. In this embodiment, the surface of the C protective film as formed by sputtering is analyzed by ESCA. However, Ar was not detected. From this, it is estimated that Ar in the C protective film of this example was taken into the C protective film in the reverse sputtering process.

【0023】C保護膜のエッチング量はAr圧と投入電
力を一定にした場合、エッチング時間で制御することが
出来る。
The etching amount of the C protective film can be controlled by the etching time when the Ar pressure and the applied power are constant.

【0024】次に、上記で形成したC保護膜の強度をス
ライダを用いた連続摺動試験により評価した。スライダ
材はAl23−TiC系で、摺動速度2m/sでC保護
膜の摩耗量を測定した。連続摺動のパス回数とC保護膜
の摩耗量の変化の一例を図2に示す。
Next, the strength of the C protective film formed above was evaluated by a continuous sliding test using a slider. The slider material was an Al 2 O 3 —TiC system, and the amount of wear of the C protective film was measured at a sliding speed of 2 m / s. FIG. 2 shows an example of changes in the number of passes of continuous sliding and the wear amount of the C protective film.

【0025】この結果から、スパッタ法で形成したC保
護膜表面を逆スパッタ法でアルゴンプラズマ処理するこ
とにより、C保護膜の摩耗量が大幅に減少することがわ
かった。従って、上記の磁気ディスクを用いることによ
り、特にヘッドの浮上量が0.1μm以下で、ヘッドと
ディスクが間歇的あるいはほぼ常時接触するような磁気
ディスク装置の摺動信頼性を飛躍的に向上させることが
出来る。
From these results, it was found that the amount of wear of the C protective film was significantly reduced by subjecting the surface of the C protective film formed by the sputtering method to the argon plasma treatment by the reverse sputtering method. Therefore, by using the above-mentioned magnetic disk, the sliding reliability of the magnetic disk device in which the head and the disk are in contact with each other intermittently or almost always is dramatically improved especially when the flying height of the head is 0.1 μm or less. You can

【0026】本発明の他の実施例を示す。Another embodiment of the present invention will be described.

【0027】Al合金にNiP膜をめっきしたものを基
板とし、該NiP基板面にバフを用いて(必要で有れば
研磨液を用いても良い)円周方向にラビングしたものを
用いた。ここで、上記のラビングの代わりに研磨砥粒を
含む加工液により微細な溝(例えば、触針式表面粗さ計
で測定した表面粗さRa1〜5nm)を形成しても良
い。
A substrate was obtained by plating a NiP film on an Al alloy, and a buff was used on the surface of the NiP substrate (a polishing liquid may be used if necessary) and the substrate was rubbed in the circumferential direction. Here, instead of the above rubbing, fine grooves (for example, surface roughness Ra1 to 5 nm measured by a stylus surface roughness meter) may be formed with a working liquid containing abrasive grains.

【0028】上記の基板を用いて、スパッタ装置、例え
ば、DCスパッタ装置、により、必要であればCr膜を
形成し、ついで、Co系の磁性膜を形成する。ここで、
磁気記憶装置の記録密度の向上のためには、磁性膜の円
周方向の保磁力が半径方向にくらべて大きいことが望ま
しい。これにより、浮上量一定でもディスク装置のS/
Nが向上し、結果として、高記録密度のディスク装置を
提供することができる。
Using the above substrate, a Cr film is formed if necessary by a sputtering device, for example, a DC sputtering device, and then a Co-based magnetic film is formed. here,
In order to improve the recording density of the magnetic memory device, it is desirable that the coercive force of the magnetic film in the circumferential direction be larger than that in the radial direction. As a result, even if the flying height is constant, the S /
N is improved, and as a result, a disk device having a high recording density can be provided.

【0029】磁性膜の上に炭素を主構成元素とする保護
膜を形成した。保護膜厚は20〜60nm、好ましくは
30〜50nmである。
A protective film containing carbon as a main constituent element was formed on the magnetic film. The protective film thickness is 20 to 60 nm, preferably 30 to 50 nm.

【0030】次いで、次の工程により上記保護膜表面に
凹凸を形成した。
Then, irregularities were formed on the surface of the protective film by the following steps.

【0031】イ)上記保護膜表面に微小粒子を分散、付
着させる工程 ロ)該基板を少なくとも酸素を含むガス中でエッチング
する工程 ハ)該基板をプラズマ中で処理する工程 ニ)上記微粒子を除去する工程 ホ)潤滑剤を塗布する工程 上記のイ)及びロ)の工程で保護膜表面に形成する凹凸
の形状は、次に示すものが好ましい。
A) Step of dispersing and adhering fine particles on the surface of the protective film b) Step of etching the substrate in a gas containing at least oxygen c) Step of treating the substrate in plasma d) Removal of the fine particles Step (e) Step of applying a lubricant The shape of the unevenness formed on the surface of the protective film in the above steps (a) and (b) is preferably as follows.

【0032】丘の高さはほぼ均一で、保護膜厚を超え
ない高さが好ましい。好ましくは5〜50nm、さらに
好ましくは10〜30nmの範囲にあること。
The heights of the hills are almost uniform, and it is preferable that the height does not exceed the protective film thickness. It is preferably 5 to 50 nm, more preferably 10 to 30 nm.

【0033】前記丘形状が、その大きさが相当直径
0.01〜30μmの範囲にあるものが70%以上、好
ましくは80%以上存在すること。
70% or more, preferably 80% or more, of the hills whose size is in the range of an equivalent diameter of 0.01 to 30 μm.

【0034】前記丘と丘の間の平均距離が0.05〜
50μm、好ましくは0.1〜20μmであること。
The average distance between the hills is 0.05 to
It should be 50 μm, preferably 0.1 to 20 μm.

【0035】イ)の工程で使用出来る微粒子は、好まし
くは高分子有機物、例えば炭素とフッ素を含有する材
料、具体的には、ポリテトラフルオロエチレン(PTF
E)等が好的である。上記微粒子は平均粒子径0.05
〜20μm、好ましくは0.1〜10μmのものが使用
でき、例えば、非水性溶媒中に分散させて、噴霧させて
基板面に分散付着させることが出来る。
The fine particles which can be used in the step (a) are preferably high molecular weight organic substances, for example, a material containing carbon and fluorine, specifically polytetrafluoroethylene (PTF).
E) and the like are preferable. The fine particles have an average particle diameter of 0.05.
It can be used in an amount of -20 μm, preferably 0.1-10 μm. For example, it can be dispersed in a non-aqueous solvent and sprayed to be dispersed and adhered to the substrate surface.

【0036】また、上記ハ)の工程の処理条件は前記実
施例に記したものと同じでよい。
The processing conditions of the above step (c) may be the same as those described in the above embodiment.

【0037】表面処理するガスの種類により、保護膜中
に含まれるガスの種類は異なるが、アルゴンを使用した
場合、この処理を行った保護膜には、少なくとも表面に
はESCAで分析して、0.1〜1at%のアルゴンが
含まれていることが判明した。本発明は保護膜中に含ま
れる炭素以外の第2の元素の絶対量が本質ではなく、保
護膜を形成した後、プラズマで処理することが本質であ
るが、第2の元素の含有量は0.05〜5.0at%、
さらに好ましくは、0.05〜1.0at%含まれてい
る方がよい。また、保護膜中に含まれるガス量は保護膜
表面のエッチング量にも依存し、好ましくは5nm以上
エッチングするのが良い。
The type of gas contained in the protective film differs depending on the type of gas to be surface-treated, but when argon is used, at least the surface of the treated protective film is analyzed by ESCA, It was found to contain 0.1-1 at% argon. In the present invention, the absolute amount of the second element other than carbon contained in the protective film is not essential, and it is essential that plasma treatment is performed after forming the protective film, but the content of the second element is 0.05-5.0 at%,
More preferably, it is better to contain 0.05 to 1.0 at%. Further, the amount of gas contained in the protective film also depends on the amount of etching of the surface of the protective film, and it is preferable to perform etching by 5 nm or more.

【0038】上記の表面処理用のガスはアルゴン、窒素
等の不活性ガス、または、フッ素含有ガス、例えばCF
4等のガスを使用出来る。
The surface treatment gas is an inert gas such as argon or nitrogen, or a fluorine-containing gas such as CF.
You can use gas such as 4 .

【0039】上記(ハ)の工程で、保護膜表面の不純物
が除去されるため、潤滑剤の付着力が大きく、長期にわ
たり、潤滑剤の飛散を防止できる効果がある。
In the step (c), impurities on the surface of the protective film are removed, so that the adhesive force of the lubricant is large and the scattering of the lubricant can be prevented for a long period of time.

【0040】上記の磁気ディスクと磁気抵抗効果型ヘッ
ド(MRヘッド、スライダ材料はAl23−TiC系)
を組み込んだ装置を構成し、耐摺動性及び記録再生特性
を長時間に渡って評価した。
The above magnetic disk and magnetoresistive head (MR head, slider material is Al 2 O 3 --TiC system)
A device incorporating the above was constructed and the sliding resistance and the recording / reproducing characteristics were evaluated over a long period of time.

【0041】その結果、CSS回数1万回においても、
ディスクのダメ−ジはまったくなく、摩擦力の増加も小
さく、耐摺動性能が優れていることがわかった。また、
記録再生特性の評価においても、エラ−発生頻度が通常
のスパッタ法で形成した炭素を主構成元素とする保護膜
を有する磁気ディスクに比べて小さく、信頼性の高い装
置であることが判明した。さらに、本発明の上記のハ)
の工程を経て形成した磁気ディスクは、単にイ)ロ)
ニ)ホ)の工程で形成した磁気ディスクに比べて、耐蝕
性に優れ、長時間の連続稼働評価後にも磁気ヘッドスラ
イダ面へのコンタミの付着量もすくなく、極めて信頼性
の高い装置であることが明らかになった。
As a result, even when the number of CSS times is 10,000,
It was found that there was no damage to the disk, the increase in frictional force was small, and the sliding resistance was excellent. Also,
Also in the evaluation of the recording / reproducing characteristics, it was found that the error occurrence frequency was smaller than that of a magnetic disk having a protective film containing carbon as a main constituent element, which was formed by an ordinary sputtering method, and the device had high reliability. Further, the above-mentioned c) of the present invention).
The magnetic disk formed through the process is simply a) b)
(D) Compared with the magnetic disk formed in step (e), it has excellent corrosion resistance and the amount of contamination attached to the magnetic head slider surface is small even after continuous operation for a long time, and it is a highly reliable device. Became clear.

【0042】ここで、上記の磁気ディスクと磁気抵抗効
果型ヘッドとの組合せの磁気記憶装置の例を示したが、
本発明の本質はこれに限定されるものではなく、通常の
インダクティブ型ヘッドと組み合わせても同等の効果が
得られることは言うまでもない。
Here, an example of a magnetic memory device in which the above magnetic disk and a magnetoresistive head are combined is shown.
The essence of the present invention is not limited to this, and it goes without saying that the same effect can be obtained even when combined with a normal inductive head.

【0043】図3に本発明の磁気ディスクを用いた磁気
ディスク装置の概略図を示す。図3(a)は、磁気ディ
スク装置を上部から透過して見た磁気ディスク装置の概
略図である。図3(b)は、図3(a)のA−A’断面
から見た磁気ディスク装置の構造概略図である。
FIG. 3 is a schematic view of a magnetic disk device using the magnetic disk of the present invention. FIG. 3A is a schematic view of the magnetic disk device seen through the magnetic disk device from above. FIG. 3B is a schematic structural view of the magnetic disk device viewed from the AA ′ cross section of FIG.

【0044】磁気ディスク7が磁気ディスク駆動部8に
所定枚数取り付けられている。磁気ディスク7の表面に
は、主としてカーボンからなる保護膜が形成されている
(図示せず)。そして磁気ヘッドスライダ9は、磁気ヘ
ッド駆動部10により磁気ディスク7上の任意のトラッ
ク位置に磁気ヘッドスライダ9を移動させることができ
る。そして磁気ヘッドスライダ9に設けられた薄膜磁気
変換機(図示せず)を通じて、磁気ディスク7へ情報の
書き込み/読み出しを行なう。磁気ディスク装置と上位
装置(図示せず)との書き込み/読み出し信号の応答
は、記録再生信号処理系11を通じて行なわれる。記録
再生信号処理系11は具体的には、上記信号の応答に必
要な回路を備えた基板等からなっている。磁気ディスク
装置12は、磁気ディスク7、磁気ヘッド9を必須構成
要素とし、磁気ディスク7は磁気ディスク駆動部8によ
り回転される。磁気ヘッド9は磁気ヘッド駆動部10に
よりシ−ク動作が行われる。
A predetermined number of magnetic disks 7 are attached to the magnetic disk drive unit 8. A protective film mainly made of carbon is formed on the surface of the magnetic disk 7 (not shown). The magnetic head slider 9 can be moved to an arbitrary track position on the magnetic disk 7 by the magnetic head drive unit 10. Then, writing / reading of information to / from the magnetic disk 7 is performed through a thin film magnetic converter (not shown) provided in the magnetic head slider 9. The response of the write / read signal between the magnetic disk device and the host device (not shown) is performed through the recording / reproducing signal processing system 11. The recording / reproducing signal processing system 11 is specifically composed of a substrate or the like having a circuit necessary for responding to the above signals. The magnetic disk device 12 includes a magnetic disk 7 and a magnetic head 9 as essential components, and the magnetic disk 7 is rotated by a magnetic disk drive unit 8. The magnetic head drive unit 10 causes the magnetic head 9 to perform a seek operation.

【0045】磁気ヘッドはインダクティブ型ヘッドもも
ちろん使用できるが、本発明の磁気記録媒体の保護膜の
電気抵抗が通常のスパッタC膜に比べて大きいため、磁
気抵抗効果型ヘッド(MRヘッド)と組み合わせた場
合、より信頼性が高く高記録密度の磁気ディスク装置を
提供することが出来る。これは、ヘッドの予期しない浮
上量変動時に、ヘッドとディスクが接触しても磁気ディ
スクの保護膜の比抵抗が大きいため、MRヘッド素子部
の放電等による障害を回避することが出来るためであ
る。
As the magnetic head, of course, an inductive head can be used, but since the electric resistance of the protective film of the magnetic recording medium of the present invention is higher than that of a normal sputtered C film, it is combined with a magnetoresistive head (MR head). In this case, it is possible to provide a magnetic disk device having higher reliability and higher recording density. This is because even if the head fluctuates and the disk fluctuates unexpectedly, even if the head and the disk come into contact with each other, the resistance of the protective film of the magnetic disk is large, so that it is possible to avoid troubles due to discharge of the MR head element. .

【0046】上記の装置により、ヘッドとして磁気抵抗
効果型ヘッド(MRヘッド)を用い、Co系の磁性膜及
び本発明のカ−ボン保護膜を有する磁気ディスクと組み
合わせ、ヘッドの浮上量0.09μmで記録再生時のエラ−
レ−トを測定した。
With the above apparatus, a magnetoresistive head (MR head) was used as a head, combined with a magnetic disk having a Co-based magnetic film and the carbon protective film of the present invention, and the flying height of the head was 0.09 μm. Error during recording / playback
The rate was measured.

【0047】比較として、保護膜に通常のスパッタで形
成したカ−ボン膜を用いた磁気ディスクを用いた。この
結果、本発明の磁気ディスクを用いた場合、通常の磁気
ディスクを用いた場合に比べ、エラ−レ−トをワンオ−
ダ小さくしても装置の記録再生マ−ジンが大きく、信頼
性の高い磁気デイスク装置であることがわかった。
For comparison, a magnetic disk using a carbon film as a protective film formed by ordinary sputtering was used. As a result, when the magnetic disk of the present invention is used, the error rate is one-way higher than that when a normal magnetic disk is used.
It was found that the recording / reproducing margin of the device is large even if the size is reduced, and the magnetic disk device is highly reliable.

【0048】本発明の実施例では、保護膜としてスパッ
タで形成したカ−ボン膜の例のみを示したが、本発明は
これに限定されることはない。保護膜としてはアルゴン
中でスパッタして形成したカ−ボン膜のみならず、アル
ゴンと水素あるいは炭化水素の混合ガス中でスパッタし
て形成したカ−ボン系の保護膜、プラズマCVD法で形
成したダイアモンドライクカ−ボン膜を用いても、本発
明の処理を行うことにより、同様の効果を得ることが出
来る。
In the embodiment of the present invention, only the carbon film formed by sputtering as the protective film is shown, but the present invention is not limited to this. As the protective film, not only a carbon film formed by sputtering in argon, but also a carbon-based protective film formed by sputtering in a mixed gas of argon and hydrogen or hydrocarbon, formed by plasma CVD method Even if a diamond-like carbon film is used, the same effect can be obtained by performing the treatment of the present invention.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明の保護膜を有する磁気ディスク
は、保護膜の摩耗強度が高く、また、保護膜の電気抵抗
が大きいため、該磁気ディスクを搭載した磁気デイスク
装置は摺動信頼性が高く、さらに、特に磁気抵抗効果型
磁気ヘッドと組合せた場合には、記録再生特性も優れた
磁気記憶装置が得られる。
The magnetic disk having the protective film of the present invention has a high abrasion strength of the protective film and a large electric resistance of the protective film. Therefore, the magnetic disk device equipped with the magnetic disk has a sliding reliability. A magnetic storage device which is high and has excellent recording / reproducing characteristics can be obtained especially when combined with a magnetoresistive magnetic head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に関わる磁気ディスクの断面構造概略図
である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a magnetic disk according to the present invention.

【図2】本発明に関わる磁気ディスクの摩耗特性を示す
グラフである。
FIG. 2 is a graph showing wear characteristics of the magnetic disk according to the present invention.

【図3】本発明に関わる磁気記憶装置の構造概略図であ
る。
FIG. 3 is a structural schematic diagram of a magnetic storage device according to the present invention.

【表1】本発明に関わる保護膜の特性を示す表である。Table 1 is a table showing characteristics of the protective film according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 NiP膜 3 Cr膜 4 磁性膜 5 保護膜 6 潤滑剤 7 磁気ディスク 8 磁気ディスク駆動部 9 磁気ヘッド 10 磁気ヘッド駆動部 11 記録再生信号処理系 12 磁気ディスク装置 1 Substrate 2 NiP Film 3 Cr Film 4 Magnetic Film 5 Protective Film 6 Lubricant 7 Magnetic Disk 8 Magnetic Disk Drive 9 Magnetic Head 10 Magnetic Head Drive 11 Recording / Reproducing Signal Processing System 12 Magnetic Disk Device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森口 善弘 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 石川 文紀 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 田中 秀明 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshihiro Moriguchi 2880 Kozu, Odawara, Kanagawa Stock Company Hitachi Storage Systems Division (72) Inventor Fumiki Ishikawa 7-1, 1-1 Omika-cho, Hitachi-shi, Ibaraki Inside the Hitachi Research Laboratory, Hitachi Ltd. (72) Hideaki Tanaka, Inventor Hideaki Tanaka, 7-1, 1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside the Hitachi Research Laboratory, Hitachi Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも磁性膜と保護膜を有
する磁気記録媒体において、前記保護膜を不活性ガスプ
ラズマ中で表面処理し、少なくとも、前記保護膜の表面
に前記不活性ガスの元素を含むことを特徴とする磁気記
録媒体。
1. In a magnetic recording medium having at least a magnetic film and a protective film on a substrate, the protective film is surface-treated in an inert gas plasma, and at least the surface of the protective film is coated with the element of the inert gas. A magnetic recording medium comprising:
【請求項2】 前記不活性ガスがアルゴンであることを
特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the inert gas is argon.
【請求項3】 基板上に設けた磁性層を保護する保護膜
が不活性ガスプラズマ表面処理により前記不活性ガスの
元素を表面に有する磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体
に対して情報の書き込み/読み出しを行なう磁気ヘッド
と、前記磁気記録媒体と前記磁気ヘッドとを相対的に移
動させ情報の記録/再生を行なう記録/再生手段とを有す
ることを特徴とする磁気記録装置。
3. A magnetic recording medium having a protective film for protecting a magnetic layer provided on a substrate, the surface of which contains an element of the inert gas by an inert gas plasma surface treatment, and writing of information to the magnetic recording medium. A magnetic recording apparatus comprising: a magnetic head for reading / writing, and a recording / reproducing means for relatively moving the magnetic recording medium and the magnetic head to record / reproduce information.
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