JP3564707B2 - Magnetic recording media - Google Patents

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JP3564707B2 JP2937193A JP2937193A JP3564707B2 JP 3564707 B2 JP3564707 B2 JP 3564707B2 JP 2937193 A JP2937193 A JP 2937193A JP 2937193 A JP2937193 A JP 2937193A JP 3564707 B2 JP3564707 B2 JP 3564707B2
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順 文岡
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石川  晃
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株式会社日立製作所
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Description

【0001】 [0001]
【産業上の利用分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は磁気ドラム、磁気テープ、磁気ディスク、磁気カード等の磁気記録媒体および磁気記録装置に係り、特に高密度磁気記録に好適な薄膜媒体およびこれを用いた磁気記録装置に関する。 The present invention is a magnetic drum, a magnetic tape, a magnetic disk, relates to a magnetic recording medium and a magnetic recording device such as a magnetic card, a magnetic recording apparatus using a thin film suitable medium and which particularly high-density magnetic recording.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
近年における電子計算機の小型化・高速化に伴い、磁気ディスク装置その他の外部記憶装置の大容量化・高速アクセス化に対する要求が高まっている。 With miniaturization and high speed of the computer in recent years, there is an increasing demand for large-capacity and high-speed access of a magnetic disk device and other external storage devices. 特に、磁気ディスク記録装置は高密度化・高速化に適した情報記憶装置であり、その需要が一段と強まりつつある。 In particular, a magnetic disk recording apparatus is an information storage device which is suitable for high density and high speed, and the demand is getting stronger more. 磁気ディスク装置に用いられる記録媒体としては、酸化物磁性体の粉末を基板上に塗布した媒体と、金属磁性体の薄膜を基板上にスパッタ蒸着した薄膜媒体が開発されている。 The recording medium used in a magnetic disk apparatus, a medium coated with powder of an oxide magnetic material on a substrate, a thin film medium sputter deposited a thin film of magnetic metal on a substrate have been developed. この薄膜媒体は、例えば特開昭58−7806号や特開昭60−111323号に示されるように、塗布型の媒体に比べて磁気記録層に含まれる磁性体の密度が高いため、高密度の記録再生に適している。 The thin film media, for example as shown in JP 58-7806 Patent and JP 60-111323, due to the high density of the magnetic material contained in the magnetic recording layer as compared with the coating type medium, high density It is suitable for recording and reproducing.
【0003】 [0003]
また、磁気ヘッドの再生部に磁気抵抗効果型(以後、MRと略記する)素子を用いることにより、再生感度を従来の誘導型の磁気ヘッドより向上したMRヘッドが開発されている(例えば、特開昭62−40610号や特開昭63−117309号に示される)。 Further, the magnetoresistance effect to the reproduction unit of the magnetic head by using a (hereinafter, abbreviated as MR) element, MR heads with improved than conventional induction type magnetic head reproduction sensitivity has been developed (for example, Japanese It is shown in HirakiAkira No. 62-40610 and JP-A-63-117309). このヘッドを用いると記録ビットの面積が小さくても充分な信号S/Nが得られるので、媒体の記録密度を飛躍的に向上することができる。 Since the area of ​​the recording bit and using the head sufficient signal S / N can be obtained even if small, can dramatically improve the recording density of the medium.
【0004】 [0004]
薄膜媒体の基板にはアルミ合金、ガラス、セラミックス、あるいは有機樹脂が用いられる。 The substrate of the thin film media is aluminum alloy, glass, ceramics, or an organic resin. また、ディスク基板の表面には硬度、平滑度等の加工成形性あるいは磁気特性向上の目的で、例えば厚さ約10μmのNi−Pメッキ層や陽極酸化膜が形成される。 Further, the surface of the disk substrate hardness, for the purposes of moldability or improving magnetic properties of smoothness, etc., for example, Ni-P plating layer and the anodic oxide film having a thickness of about 10μm is formed. このような基板表面に、国特許第4735840号、特開昭61−29418号、特開昭62−146434号、特開昭63−121123号、雑誌IEEE Trans. Such a substrate surface, national Patent No. 4735840, JP 61-29418, JP 62-146434, JP 63-121123, magazines IEEE Trans. Magn. Magn. 、 vol. , Vol. MAG−22 (5)、 p. MAG-22 (5), p. 579、 1986年、あるいは雑誌IEEE Trans. 579, 1986, or the magazine IEEE Trans. Magn. Magn. 、 vol. , Vol. MAG−23 (5)、 p. MAG-23 (5), p. 3405 1987年に記載されるような、微細な溝が略磁気ヘッド走行方向、例えば、略円周方向に形成される場合がある。 3405 as described in 1987, fine grooves are substantially magnetic head running direction, for example, it may be formed in a substantially circumferential direction. この溝はテクスチャーと称され、砥粒を用いて表面を略円周方向に切削して形成され、溝の中心線平均粗さ(Ra)は従来、約2nmから10nmの範囲であった。 This groove is referred to as texture, is formed by cutting the surface in a substantially circumferential direction with the abrasive grains, the center line average roughness of the groove (Ra) is conventionally in the range of about 2nm to 10 nm. このようなテクスチャーを形成すると磁気ヘッドが媒体と接触した時の摩擦力が減少し、コンタクト・スタート・ストップ(以後CSSと略記する)動作時にヘッドが媒体表面に粘着する問題が回避される。 Such to form a textured frictional force when the magnetic head is brought into contact with the medium is reduced, (abbreviated as hereinafter CSS) contact start-stop head during operation is avoided the problem of sticking to the surface of the medium. また、溝の中心線平均粗さ、下地膜の膜厚、あるいは媒体の成膜条件を適正化すると磁気ヘッド走行方向に磁界を印加して測定した磁性膜の磁気特性、例えば保磁力Hc、残留磁化量Br、保磁力角形比S*、あるいは基板面内に磁界を印加して基板面内で試料を回転して測定した磁気異方性エネルギーKが、テクスチャーを形成しない場合に比べて向上し、記録再生時のS/Nや分解能が向上する場合がある。 The center line average roughness of the groove, the base film having a thickness or magnetic properties of the magnetic film were measured by applying a magnetic field when optimizing the film forming conditions in the magnetic head running direction of the medium, for example the coercive force Hc, residual magnetization Br, coercivity squareness ratio S *, or magnetic anisotropy energy K measured by rotating the sample by applying a magnetic field to the substrate surface in the substrate surface is improved compared with the case of not forming the texture , there is a case where S / N and resolution upon recording and reproduction is improved. さらに、媒体成膜時の加熱温度や搬送方法によって略円周方向の磁気特性が媒体面内で不均一となり、これによって再生出力が媒体面内で変動する、モジュレーションと呼ばれる問題がある。 Further, the magnetic properties of the substantially circumferential direction becomes non-uniform within the surface of the recording medium by a heating temperature and the conveying method when the medium film formation, thereby reproducing the output fluctuates in the medium surface, there is a problem called modulation. しかし、溝の深さ、下地膜の組成、成膜条件等を適正化すると略円周方向の磁気特性が媒体面内で均一化され、その結果、モジュレーションが抑制される効果が認められている。 However, the groove depth, the composition of the base film, the magnetic properties of the substantially circumferential direction when optimizing the film forming conditions or the like is made uniform in the medium surface, and as a result, the effect of modulation is suppressed observed .
【0005】 [0005]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
薄膜媒体の記録密度を向上するには、図1に示す磁気ヘッドと記録媒体との間隙(以後、ヘッド浮上量と略記する)を可能な限り小さくすることが重要である。 To improve the recording density of the thin film media, the gap (hereinafter, abbreviated as the head flying height) between the magnetic head and the recording medium shown in FIG. 1 it is important to reduce as much as possible. これは、記録時には媒体内に急峻な磁界分布が形成されるとともに、再生時には媒体からの磁束を感度良く検出することができ、再生出力の損失を抑えることができるからである。 This, together with steep magnetic field distribution in the medium at the time of recording is formed, at the time of reproduction can be sensitively detected magnetic flux from the medium, it is because it is possible to suppress the loss of the reproduction output. しかし、テクスチャー加工を行った媒体ではヘッド浮上量を小さくすると、テクスチャーのない平滑な基板に比べて磁気ヘッドが媒体に接触する頻度が増す。 However, in the medium subjected to texturing Smaller head flying height, the magnetic head increases the frequency of contact with the medium as compared to no smooth substrate textured. 詳細な検討により、この原因はテクスチャー加工により媒体表面に不規則で微細な突起が不可避的に形成され、浮上量を小さくすると突起が磁気ヘッドと接触するためであることがわかった。 Detailed examination, this cause is formed irregular fine projections inevitably the medium surface by texturing, projections and to decrease the flying height was found to be due to contact with the magnetic head. 一方、ヘッドと媒体との接触頻度を低減する方法としては基板表面の突起を研磨工程により除去すること特開平1−162229号に述べられている。 On the other hand, as a method for reducing the frequency of contact between the head and the medium is described in JP-A-1-162229 be removed by polishing the protrusions on the substrate surface. しかし、この場合にはヘッド走行方向に磁界を印加して測定した磁性膜の磁気特性や異方性エネルギーが、突起を研磨する前に比べて低下し、記録再生時のS/Nが低下し、モジュレーションが発生する問題があった。 However, the magnetic properties and the anisotropy energy of the magnetic film were measured by applying a magnetic field to the head running direction in this case is, reduced as compared with prior to polishing the protrusions, S / N is lowered at the time of recording and reproduction , there is a problem that the modulation occurs.
【0006】 [0006]
さらに、溝の深さが大きい場合には、情報が記録されたトラックをヘッドが追従する際に必要な、予め媒体に記録されたサーボ信号の均一性やS/Nが、テクスチャーのない平滑な基板に比べて悪いため、トラック密度を高めることができない問題もあった。 Further, when the large depth of the groove, information is required when the head of the track recorded to follow, uniformity and S / N of the servo signal recorded in advance in medium, a no texture smoothing for worse than the substrate, there is a problem that it is impossible to increase the track density.
【0007】 [0007]
ヘッド浮上性やサーボ信号劣化の問題を解決するには、溝の深さを小さくすることが有効であるが、雑誌IEEE Trans. To solve the problem of head flying property and the servo signal degradation, it is effective to reduce the depth of the grooves, the magazine IEEE Trans. Magn. Magn. 、 vol. , Vol. MAG−23 (5)、 p. MAG-23 (5), p. 3405 1987年に述べられているように、溝の深さを小さくするとヘッド走行方向に磁界を印加して測定した磁性膜の磁気特性が低下する問題がある。 3405 as described in 1987, the magnetic properties of the magnetic film were measured by applying a magnetic field to the head running direction Reducing the depth of the groove there is a problem of decrease. ここで、磁気ヘッドの走行方向に磁界を印加して測定した保磁力Hc(θ)と、基板面内で磁気ヘッドの走行方向と略直角方向に磁界を印加して測定した保磁力Hc(r)を用い、 Hc(θ)−Hc(r) Hc(θ)+Hc(r) により、磁気ヘッド走行方向の保磁力Hcの配向比を定義する。 Here, the coercive force measured by applying a magnetic field in the running direction of the magnetic head Hc (theta), the coercive force Hc (r measured by applying a magnetic field in the running direction substantially perpendicular direction of the magnetic head in the substrate surface ) used by {Hc (θ) -Hc (r )} / {Hc (θ) + Hc (r)}, define the orientation ratio of the coercive force Hc of the magnetic head running direction.
【0008】 [0008]
前述のHcの配向比は媒体の記録再生特性と密接に関っている。 Orientation ratio of the aforementioned Hc is closely Seki' the recording and reproducing characteristics of the medium. 詳細な実験の結果、線記録密度50kBPI(BPI=Bits Per Inchの略)、トラック密度3kTPI(TPI=Tracks Per Inchの略)の時に再生信号のS/Nとして4以上を得るには、Hcの配向比は0.1以上、0.7以下が好ましいことが見出された。 Results of detailed experiments, the linear recording density 50kBPI (BPI = Bits Per Inch Abbreviation), to obtain a 4 or as S / N of the reproduced signal when the track density 3kTPI (TPI = Tracks Per Inch Abbreviation) is the Hc orientation ratio is 0.1 or more, it has been found that preferably 0.7 or less. また、基板面内に磁界を印加して基板面内で試料を回転して測定された面内磁気異方性エネルギーが3×10 J/m 以上、5×10 J/m 以下であると好ましいことが見出された。 Also, applied to the rotation were measured in-plane magnetic anisotropy energy of the sample in the substrate surface a magnetic field in the substrate plane is 3 × 10 4 J / m 3 or more, 5 × 10 5 J / m 3 or less preferably it has been found to be. しかし、従来の技術では溝の大きさを小さくして、Hcの配向比を上記範囲に制御することは知られておらず、溝の中心線平均粗さRaは3nmを上回る必要があった。 However, in the prior art to reduce the size of the grooves, the orientation ratio of the Hc not known to control the above range, the center line average roughness Ra of the groove had to exceed 3 nm.
【0009】 [0009]
以上の課題および状況を鑑み、本発明の第一の目的は、ヘッドの安定走行が可能で、ヘッド走行方向に高い磁気特性を有し、高密度記録時のS/Nが高い媒体を提供することである。 In view of the above problems and circumstances, a first object of the present invention is capable of stable running of the head, have high magnetic properties in the head traveling direction, providing a S / N is high medium at a high density recording it is. すなわち、ヘッドの浮上量0.1μm以下において内周から外周までのヘッドシーク試験5万回後のビットエラー数が10ビット/面以下、媒体のモジュレーションが10%以下、線記録密度50kBPI、トラック密度3kTPIの時の再生信号のS/Nの値が4以上の磁気記録媒体を提供することである。 That is, the bit number of errors after the inner head seek from periphery to the outer periphery test 50,000 times below flying height of 0.1μm of the head 10 bits / surface or less, modulation of the medium is 10% or less, the linear recording density 50KBPI, track density the value of the S / N of the reproduced signal when the 3kTPI is to provide four or more magnetic recording medium. さらに、第二の目的はこのような媒体を再現性良く製造する方法を提供することであり、第三の目的は、このような媒体を用いた大容量で信頼性の高い磁気記録装置を提供することである。 Further, a second object is to provide a process for producing with good reproducibility such media, the third object, provides a highly reliable magnetic recording apparatus in a large capacity using such medium It is to be.
【0010】 [0010]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
本発明者らは媒体の微細な表面形状と、ヘッド走行方向に磁界を印加して測定した磁気特性、面内磁気異方性エネルギー、記録再生特性、ヘッド浮上性との関係を鋭意研究した結果、上記目的は媒体表面のヘッドの走行方向に極めて微細な凹凸を存在せしめることにより達成でき、ヘッド走行方向に磁界を印加して測定した磁気特性、面内磁気異方性エネルギー、およびヘッドの安定浮上性に優れた媒体を提供できることを見出した。 The present inventors and fine surface shape of the media, the magnetic characteristics were measured by applying a magnetic field to the head running direction, the in-plane magnetic anisotropic energy, the recording and reproducing characteristics, the results of extensive studies the relationship between the head flying characteristics the object is achieved by made present a very fine irregularities in the running direction of the head of the medium surface, the magnetic characteristics were measured by applying a magnetic field to the head running direction, the in-plane magnetic anisotropic energy, and the head of the stabilizing It found to be able to offer an excellent medium flying characteristics. すなわち、磁気ヘッドの走行方向と略直角方向に測定した媒体表面の中心線平均粗さRa(r)の範囲は0.3nm以上、3nm以下であり、さらに、前述のHcの配向比が0.1以上、0.7以下である媒体を提供できることを見出した。 That is, the center line range of the average roughness Ra (r) of the measured medium surface to the running direction substantially perpendicular direction of the magnetic head is 0.3nm or more and 3nm or less, further, the orientation ratio of the aforementioned Hc 0. 1 above, it was found to offer the media is 0.7 or less. また、磁気ヘッドの走行方向と略直角方向に測定した表面中心線平均粗さRa(r)の範囲が0.3nm以上、3nm以下であり、ヘッド走行方向の磁化容易軸を有し、基板面内に磁界を印加して基板面内で試料を回転して測定された磁気異方性エネルギーが3×10 J/m 以上、5×10 J/m 以下である媒体を提供できることを見出した。 Further, the range of travel direction and the surface center line average roughness measured in a direction substantially perpendicular to the magnetic head Ra (r) is 0.3nm or more and 3nm or less, having an axis of easy magnetization of the head running direction, the substrate surface ability to provide a medium magnetic anisotropy energy were measured by applying a magnetic field to rotate the sample in the substrate surface is 3 × 10 4 J / m 3 or more and 5 × 10 5 J / m 3 or less within It was heading. この時、媒体表面の、ヘッド走行方向と略直角方向の距離1μmあたりに存在する、深さ1nm以上の溝の平均本数が0.5本以上、100本以下であることが好ましい。 At this time, the surface of the medium, present in distance per 1μm head traveling direction substantially perpendicular, the average number of depth 1nm or more grooves 0.5 or more, is preferably 100 or less. また、媒体表面の最大高さRmax(r)とRa(r)との比Rmax(r)/Ra(r)の値の範囲が10以上、30以下であることが好ましい。 The ratio Rmax of the maximum height of the medium surface Rmax and (r) and Ra (r) (r) / Ra (r) in the range of values ​​10 or more and 30 or less. また、略磁気ヘッド走行方向に測定した中心線平均粗さRa(θ)と、それと略直角方向に測定した中心線平均粗さRa(r)との比、Ra(r)/Ra(θ)が1.1以上、3.0以下であることが好ましい。 The ratio of the substantially magnetic head running direction measured center line average roughness Ra (theta), the same as the center line average roughness measured in a direction substantially perpendicular Ra (r), Ra (r) / Ra (θ) but 1.1 or more and 3.0 or less.
【0011】 [0011]
ここで、「中心線平均粗さ」、「最大高さ」の使用は、日本工業規格(JIS−B0601)に規定された定義に準拠する。 Here, the use of "centerline average roughness", "maximum height" conforms to the definition defined in Japanese Industrial Standards (JIS-B0601). また、中心線平均粗さ、および最大高さは、例えば触針式あるいは光学式の表面粗さ計、走査トンネル電子顕微鏡、原子間力顕微鏡、3次元走査電子顕微鏡、あるいは透過電子顕微鏡により測定できる。 The center line average roughness, and the maximum height may be measured for example a stylus-type or optical type surface roughness meter, scanning tunneling electron microscopy, atomic force microscopy, three-dimensional scanning electron microscopy, or by transmission electron microscopy . 触針式の表面粗さ計を用いる場合に再現性の良い測定結果を得るためには図2に示すような触針の先端径を0.5μm以下、好ましくは0.2μm以下とし、触針の押しつけ荷重を4mg以下とし、触針走査速度を1μm/s以下とし、さらに、カットオフを0.5μm以上、5μm以下とすることが好ましい。 0.5μm The tip diameter of the probe, as shown in FIG. 2 in order to obtain a good reproducibility measurements when using a surface roughness meter of a stylus or less, preferably a 0.2μm or less, stylus of the pressing force is less 4 mg, and the stylus scanning speed than 1 [mu] m / s, further cut-off 0.5μm or more, it is preferable to 5μm or less. また、保護膜の一部がエッチングや加熱等により加工されている場合は、図2に示すように未加工部の表面を触針で走査することにより溝の形状を測定でき、さらに保護膜全面が加工されている場合には、保護膜のみをエッチングにより除去して磁性膜表面の粗さを測定することが好ましい。 Further, when a part of the protective film is processed by etching or heating, etc., it can measure the shape of the groove by scanning a stylus the surface of the unprocessed portion, as shown in FIG. 2, a protective film over the entire surface There when it is processed, it is preferable that only the protective film is removed by etching to measure the roughness of the magnetic layer surface.
【0012】 [0012]
また、基板上にCr、Mo、Wもしくはこれらを主たる成分とする合金からなる下地層を膜厚5nm〜500nm形成し、下地層の(100)または(110)結晶格子面が基板と平行となるよう結晶を配向成長させると、ヘッド走行方向の磁気異方性を向上できるので好ましい。 Further, Cr on the substrate, Mo, W or these underlying layer made of an alloy whose main component with a thickness of 5nm~500nm formed, the base layer (100) or (110) crystal lattice plane is parallel to the substrate When orienting grow crystals so, it is possible to improve the magnetic anisotropy in the head running direction preferably. 磁性層としてはCo、Fe、Niもしくはこれらを主たる成分とする合金が望ましく、特にCo−Ni、Co−Cr、Co−Fe、Co−Mo、Co−W、Co−Pt、Co−Re等の合金を主たる成分とする場合に良好な磁気特性が認められる。 Co, Fe, an alloy of Ni or these as a main component preferably as a magnetic layer, in particular Co-Ni, Co-Cr, Co-Fe, Co-Mo, Co-W, Co-Pt, such as Co-Re good magnetic properties in the case of the alloy as a main component is observed. また、磁性層の(110)結晶格子面が基板と略平行となるよう結晶を配向成長させると磁気異方性が向上するので好ましい。 Further, the magnetic layer (110) crystal lattice plane is preferably improved magnetic anisotropy and is oriented growth of the crystal so that the substrate and substantially parallel. また、優れた耐食性や磁気特性を求める場合には、下地層としてCr、Mo、あるいはWを主たる成分とし、Nb、Ti、Ta、Pt、Pd、Si、Fe、V、あるいはPのいずれかを添加した合金を用い、さらに、磁性膜を構成する磁性体としてCo−Ni−Zr、Co−Cr−Pt、Co−Cr−Ta、Co−Ni−Crを主たる成分とする合金を用いることが望ましい。 Also, excellent in the case of obtaining the corrosion resistance and magnetic properties, Cr as an underlayer, Mo or W was the main component,, Nb, Ti, Ta, Pt, Pd, Si, Fe, V, or any of the P using the added alloy, furthermore, it is desirable to use an alloy Co-Ni-Zr as the magnetic material constituting the magnetic layer, Co-Cr-Pt, Co-Cr-Ta, the Co-Ni-Cr as a main component . また、磁性膜がCr、Mo、W、V、Ta、Nb、Zr、Ti、B、Be、C、あるいはNi−Pの少なくとも一つを主たる成分とする非磁性中間層により、2層以上に多層化されると媒体ノイズが減少するので好ましい。 The magnetic layer is Cr, Mo, W, V, Ta, Nb, Zr, Ti, B, Be, C, or by a non-magnetic intermediate layer whose main component at least one of Ni-P, two or more layers When multilayered preferred because the medium noise is reduced. さらに、磁性膜の保護層としてカーボンを膜厚10nm〜50nm形成し、さらに吸着性のパーフルオロアルキルポリエーテル等の潤滑層を膜厚3nm〜20nm設けることにより信頼性が高く、高密度記録が可能な磁気記録媒体が得られる。 Furthermore, carbon with a thickness of 10nm~50nm formed as a protective layer of the magnetic film, high reliability by further providing thickness 3nm~20nm lubricating layer of perfluoroalkyl polyether of adsorptive, allowing high-density recording the magnetic recording medium is obtained. また、保護層としてWC、(W−Mo)C等の炭化物、(Zr−Nb)−N、Si 等の窒化物、SiO 、ZrO 等の酸化物、あるいはB、B C、MoS 、Rh等を用いると耐摺動性、耐食性を向上できるので好ましい。 Further, WC as a protective layer, (W-Mo) carbides such as C, (Zr-Nb) -N, Si 3 N nitrides such 4, SiO 2, oxides such as ZrO 2, or B, B 4 C , sliding resistance with MoS 2, Rh or the like, is preferable because it improves the corrosion resistance. 特に、これらの保護膜は成膜後に微細マスクを用いてプラズマエッチングすることで表面に微細な凹凸を形成したり、化合物、混合物のターゲットを用いて保護膜表面に突起を生じせしめたり、あるいは熱処理によって表面に凹凸を形成することで、ヘッドと媒体との接触面積を低減でき、CSS動作時にヘッドが媒体表面に粘着する問題が回避されるので好ましい。 In particular, these protective films may be formed with fine irregularities on the surface by plasma etching using a fine mask after forming the compound, or allowed to occur protrusions on the surface of the protective film by using a target of a mixture, or a heat treatment by forming the irregularities on the surface by, it is possible to reduce the contact area between the head and the medium, since head during CSS operations can be avoided the problem of sticking to the surface of the medium preferred. 上記磁気記録媒体を形成するに当っては、中心線平均面粗さRaが2nm以下の非磁性基板を、平均粒径1μm以下、好ましくは0.5μm以下の研磨砥粒を含む研磨材により略磁気ヘッド走行方向に研磨して溝を形成した後、物理的蒸着手段によって直接、あるいは下地膜を介して磁性層および保護層を形成し、磁気ヘッドの走行方向と略直角方向に測定した表面中心線平均粗さRa(r)の範囲を0.3nm以上、3nm以下とすると、ヘッドの浮上量0.1μm以下におけるビットエラー数が低減できるので好ましい。 Is hitting the forming the magnetic recording medium, a non-magnetic substrate of the center line average surface roughness Ra of 2nm or less, an average particle diameter of 1μm or less, approximately the abrasive preferably containing less abrasive grain 0.5μm after forming the groove by polishing the magnetic head running direction, to form a magnetic layer and the protective layer directly or via a base film by physical vapor deposition means, the surface center measured in the traveling direction substantially perpendicular direction of the magnetic head line average roughness Ra (r) range 0.3nm or more, when 3nm or less, the number of bit errors can be reduced in the following flying height of 0.1μm head preferred. また、上記磁気記録媒体を形成する他の方法として、非磁性基板上に形成され、中心線平均面粗さRaが2nm以下の下地膜を、平均粒径1μm以下、好ましくは0.5μm以下の研磨砥粒を含む研磨材により略磁気ヘッド走行方向に研磨して図2に示すように溝を形成した後、物理的蒸着手段によって磁性層および保護層を形成し、磁気ヘッドの走行方向と略直角方向に測定した表面中心線平均粗さRa(r)の範囲が0.3nm以上、3nm以下とすることが可能である。 Further, as another method for forming the magnetic recording medium is formed on a non-magnetic substrate, the center line average surface roughness Ra of 2nm or less of the underlying film, the average particle diameter of 1μm or less, preferably below 0.5μm after forming the grooves as by polishing the substantially magnetic head running direction by the abrasive comprising abrasive grains shown in FIG. 2, to form a magnetic layer and a protective layer by physical vapor deposition means, the travel of the magnetic head a direction substantially perpendicular to the range 0.3nm or more measured surface center line average roughness Ra (r), it is possible to 3nm or less. この時、砥粒による研磨加工時間を過度に短く、あるいは長くせずに最適に制御することが重要である。 At this time, it is important to optimally control without excessively short or long polishing time by abrasive particles. また、溝が互いに交差するように形成することも有効である。 Further, it is effective to form such grooves intersect with each other. こうすることによりヘッド走行方向と略直角方向の距離1μmあたりに存在する、深さ1nm以上の溝の平均本数を0.5本以上、100本以下とすることが可能である。 Present per distance between the head running direction substantially perpendicular 1μm Thereby, the average number of depth 1nm or more grooves 0.5 or more, it is possible to 100 or less. また、Rmax(r)/Ra(r)の値の範囲を10以上、30以下とすることが可能である。 Furthermore, Rmax (r) / Ra range of values ​​of (r) 10 or more, may be a 30 or less. また、Ra(r)/Ra(θ)の値の範囲を1.1以上、3.0以下とすることが可能であり、これらの効果によりHcの配向度や面内磁気異方性エネルギーが向上する。 Also, Ra (r) / Ra (θ) of the range of values ​​1.1 or more, it is possible to 3.0 or less, the degree of orientation and in-plane magnetic anisotropic energy of Hc by these effects improves.
【0013】 [0013]
本磁気記録媒体は磁性膜表面の凹凸に起因するサーボ信号の揺らぎが極めて小さく高品位であるのでヘッドの位置決め精度が向上する。 This magnetic recording medium head positioning accuracy is improved since the fluctuation of servo signals due to unevenness of the magnetic film surface is extremely small high quality. また、再生部にMR素子を有し、トラック幅が5μm以下の磁気ヘッドを組合せることにより、媒体の線記録密度が50kBPI以上で、記録トラック密度が3kTPI以上の大容量で高信頼性の磁気記録装置を提供することができる。 Also has an MR element to the reproduction unit, by the track width of combine the following magnetic head 5 [mu] m, at a linear recording density of the medium is above 50KBPI, recording track density is highly reliable or more mass 3kTPI magnetic it is possible to provide a recording apparatus.
【0014】 [0014]
【作用】 [Action]
本発明者らは平均粒径を0.1〜10μmとしたダイアモンド、アルミナ、セリア砥粒を含む液体もしくはテープ状加工材を用いて、Ni−PメッキAl合金、ガラス、Ti、Si、カーボン、ZrO 等の、表面中心線平均粗さが約1nm以下の非磁性基板を研磨圧力、時間、研磨法などを変えて研磨してヘッド走行方向に微細な溝を設け、この上に直接もしくは下地膜を介して磁性膜、保護潤滑膜等を形成して、浮上性、磁気特性、記録再生特性を検討した。 The present inventors have used diamond was 0.1~10μm an average particle size, alumina, a liquid or tape-like workpiece containing ceria abrasive grains, Ni-P plated Al alloy, glass, Ti, Si, carbon, such as ZrO 2, a surface center line average roughness polishing pressure nonmagnetic substrate about 1nm or less, the time, the fine grooves in the head running direction is provided by polishing with different polishing or the like, direct or lower on this magnetic film via the Chimaku, by forming a protective lubricant film or the like, flying characteristics, magnetic properties were studied recording and reproducing characteristics. また、表面中心線平均粗さRaが約1nmの非磁性基板にCr下地膜を形成し、その表面を上記研磨条件で研磨してヘッド走行方向に微細な溝を設け、この上に磁性膜、保護潤滑膜等を形成して、浮上性、磁気特性、記録再生特性等を検討した。 Also, the Cr underlayer was formed surface center line average roughness Ra of a non-magnetic substrate of about 1 nm, the surface provided with the fine grooves by polishing the head running direction at the polishing conditions, the magnetic film thereon, forming a protective lubricant film or the like, flying characteristics, magnetic properties were studied recording and reproducing characteristics. その結果、従来は円周方向の磁気異方性を高めるためには、ヘッドの浮上性を犠牲にしても溝のRaを3nmを上回る大きい値とする必要があったが、このような常識とは全く異なり、磁性膜表面に現われる溝の粗さを小さくしてもヘッド走行方向に優れた磁気異方性を確保でき、さらに、浮上性も極めて優れた媒体を提供できることを見出した。 As a result, since the conventional enhance magnetic anisotropy in the circumferential direction, there was a Ra of the groove at the expense of flying of the head needs to be a large value exceeding 3 nm, and such knowledge completely different, even by reducing the roughness of the grooves appearing on the magnetic layer surface can be secured anisotropy excellent in the head running direction, further, we found that even flying performance can provide excellent medium. これは以下に述べる作用による。 This is due to the action described below. すなわち、加工砥粒の平均粒径を1μm以下、好ましくは0.5μm以下とするとともに、砥粒加工時間、砥粒加工圧力により媒体表面のRa(r)を制御すると、図3に示すように0.3nm≦Ra(r)≦3nmの範囲で保磁力のヘッド走行方向の配向比が0.1以上、0.7以下に向上する。 That is, the following 1μm average particle size of the working abrasive grains, with preferably a 0.5μm or less, abrasive machining time, by controlling the Ra (r) of the medium surface by abrasive machining pressure, as shown in FIG. 3 0.3nm ≦ Ra (r) in the range of ≦ 3 nm orientation ratio of the head running direction of the coercive force of 0.1 or more, thereby improving the 0.7. 一方、Raが3nmを超えるとヘッド走行方向の磁気異方性やヘッド浮上性が低下する。 On the other hand, Ra is the magnetic anisotropy and the head flying characteristics of the head running direction decreases when exceeding 3 nm. このように小さい粗さの、微細な溝を形成した媒体でも高い保磁力配向比が得られる理由は、研磨時の砥粒の切削能力が加工の初期において最も優れており、また、溝の密度が高くなるためである。 Such small roughness, why high coercivity orientation ratio can be obtained even with the formed medium fine grooves, abrasive cutting ability in polishing are the best in the initial processing, also, the groove density of the This is because the increases. 中心線平均粗さが1nmの平滑な基板をテクスチャー加工すると、図4に示すように加工時間が増すに従いヘッド走行方向と略直角方向のRa(r)が顕著に増大するが、ヘッド走行方向の面粗さRa(θ)の変化はRa(r)に比べて緩慢である。 When the center line average roughness texturing a smooth substrate 1 nm, but the head traveling direction substantially perpendicular Ra (r) is significantly increased in accordance with increasing processing time, as shown in FIG. 4, the head running direction change in surface roughness Ra (theta) is slow compared to the Ra (r). このようにRa(r)が急激に変化する初期の加工時間領域において最も有効に砥粒が研磨に作用しており、この時に高密度で、結晶粒程度の大きさの良好な溝が形成される。 Thus Ra (r) has to act in the most efficient abrasive polishing in the initial processing time region changes rapidly, at a high density at this time, good grooves grain about size is formed that. こうすることによりヘッド走行方向と略直角方向の距離1μmあたりに存在する、深さ1nm以上の溝の平均本数を0.5本以上、100本以下とすることが可能である。 Present per distance between the head running direction substantially perpendicular 1μm Thereby, the average number of depth 1nm or more grooves 0.5 or more, it is possible to 100 or less. また、Rmax(r)/Ra(r)の値の範囲を10以上、30以下とすることが可能である。 Furthermore, Rmax (r) / Ra range of values ​​of (r) 10 or more, may be a 30 or less. また、Ra(r)/Ra(θ)の値の範囲を1.1以上、3.0以下とすることが可能であり、これらの効果によりHcの配向度や面内磁気異方性エネルギーが向上する。 Also, Ra (r) / Ra (θ) of the range of values ​​1.1 or more, it is possible to 3.0 or less, the degree of orientation and in-plane magnetic anisotropic energy of Hc by these effects improves. 従来のように、大きい砥粒径を用いて加工時間を長くすると媒体表面に異常な突起やバリなどが出てヘッド浮上性が低下する上、Hcの配向度や面内磁気異方性エネルギーが低下する。 As is conventional, on such abnormal protrusions or burrs to the medium surface long processing time head flying property is lowered out using a larger abrasive particle size, the degree of orientation and in-plane magnetic anisotropic energy of Hc descend.
【0015】 [0015]
さらに、磁性層の(110)結晶格子面が基板と略平行となるよう結晶を配向成長せしめるとヘッド走行方向の配向比、面内磁気異方性エネルギーが向上する上、下地膜を設ける場合に(100)または(110)結晶格子面が基板と略平行となるよう配向成長せしめると上記磁性膜の配向成長が促進されるので好ましい。 Moreover, the magnetic layer (110) crystal lattice plane substrate and substantially parallel to the so as when allowed to oriented growth of the crystal head running direction of the orientation ratio, on improving the in-plane magnetic anisotropic energy, in the case of providing a base film (100) or (110) crystal lattice plane is preferred so oriented growth of the magnetic film when allowed to oriented growth so that the substrate and substantially parallel is promoted. さらに、上記媒体の磁性膜をCr、Mo、W、V、Ta、Nb、Zr、Ti、B、Be、C、Ni−Pの少なくとも一つを主たる成分とする非磁性中間層により多層化すると、一層の膜厚が小さくなり各層からの媒体ノイズの和が単層の磁性膜のノイズより大幅に小さくなり、特にMR再生素子を有する磁気ヘッドを用いた場合に装置のS/Nが著しく向上するので好ましい。 Further, the magnetic film of the medium Cr, Mo, W, V, Ta, Nb, Zr, Ti, B, Be, C, when the multilayer by a non-magnetic intermediate layer whose main component at least one of Ni-P , further film is the sum of the medium noise from the thickness decreases layers is significantly smaller than the noise of the magnetic film of a single layer, in particular remarkably improves the S / N of the device in the case of using the magnetic head having the MR read element preferable to. 本発明による媒体では磁化遷移領域における磁化のゆらぎの大きさが極めて小さいため媒体ノイズが小さく、トラック幅が5μm以下の高記録用磁気ヘッドで記録再生した場合に50kBPI以上の高い記録密度においてS/Nが4以上、さらに、オーバーライト(O/W)特性が26dB以上の大容量磁気記録装置が得られる。 The present invention small medium noise has an extremely small size of the magnetization fluctuation in the magnetization transition region in the medium by, at high recording density of more than 50kBPI if the track width is recorded and reproduced under the following high recording magnetic head 5 [mu] m S / N is 4 or more, further overwrite (O / W) characteristic large capacity magnetic recording apparatus having the above 26dB is obtained. 特に、磁性膜表面の凹凸が従来より小さいために、3kTPI以上の高記録密度時でもサーボ信号の品位が高く、良好なヘッド位置決めができるので好ましい。 In particular, since the unevenness of the magnetic film surface is smaller than a conventional, high quality or a high recording density even at the servo signal 3KTPI, since it is good head positioning preferable.
【0016】 [0016]
【実施例】 【Example】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。 Hereinafter, a more detailed description of the present invention through examples. 図5は、本発明に係る薄膜媒体の断面構造を模式的に示したものである。 Figure 5 is a cross-sectional structure of a thin film medium according to the present invention shown schematically. 同図において、符号51はAl−Mg合金、化学強化ガラス、有機樹脂、Ti、Si、カーボンあるいはセラミックス等からなる基板、52および52'は基板51の両面に形成したNi−P、Ni−W−P等からなる非磁性メッキ層である。 In the figure, reference numeral 51 is Al-Mg alloy, chemically strengthened glass, organic resin, Ti, Si, substrate made of carbon or ceramics such as 52 and 52 'are Ni-P was formed on both surfaces of the substrate 51, Ni-W a non-magnetic plated layer composed of -P like. Al−Mg合金を基板として用いた場合には通常、このようなメッキ層を備えたものを基板として使用する。 In the case of using Al-Mg alloy as the substrate typically use one having such a plating layer as the substrate. 53および53'はCr、Mo、W、またはこれらのいずれかを主な成分とする合金からなる金属下地膜、54および54'は当該下地膜の上に形成したCo−Ni、Co−Cr、Co−Re、Co−Pt、Co−P、Co−Fe、Co−Ni−Zr、Co−Cr−Pt−B、Co−Cr−Al、Co−Cr−Ta、Co−Cr−Pt、Co−Ni−Cr、Co−Cr−Nb、Co−Ni−P、Co−Ni−Pt、Co−Cr−Si等からなる金属磁性層、55および55'は当該磁性膜の上に形成したカーボン、ボロン、B C、SiC、SiO 、Si 、WC、(W−Mo)C、(W−Zr)C等からなる非磁性保護膜をそれぞれ示す。 53 and 53 'are Cr, Mo, W or metal base layer made of one of these an alloy whose main components, 54 and 54,' the Co-Ni formed on the said base film, Co-Cr, Co-Re, Co-Pt, Co-P, Co-Fe, Co-Ni-Zr, Co-Cr-Pt-B, Co-Cr-Al, Co-Cr-Ta, Co-Cr-Pt, Co- Ni-Cr, Co-Cr-Nb, Co-Ni-P, Co-Ni-Pt, metallic magnetic layer made of Co-Cr-Si or the like, carbon 55 and 55 'are formed on the said magnetic film, boron shows B 4 C, SiC, SiO 2 , Si 3 N 4, WC, (W-Mo) C, a non-magnetic protective layer made of (W-Zr) C, etc., respectively.
【0017】 [0017]
〈実施例1〉 <Example 1>
外径95mm、内径25mm、厚さ0.8mmのAl−4Mg(原子記号の前に付した数字は当該素材の含有量を示す。含有量の単位は重量%)からなるディスク基板の両面にNi−12Pからなるメッキ層を膜厚が13μmとなるよう形成した。 Outside diameter 95 mm, inner diameter 25 mm, thickness 0.8mm of Al-4Mg Ni on both surfaces of the disk substrate comprising (a unit of. Contents showing the content by weight% of the figures the material was subjected before the atomic symbol) from thickness plating layer consisting -12P was formed so as to be 13 .mu.m. この非磁性基板の表面を、ラッピングマシンを用いて表面中心線平均粗さRaが2nmとなるまで平滑に研磨し、洗浄、さらに乾燥した。 The surface of the non-magnetic substrate, a surface center line average roughness Ra is smoothly polished until 2nm using a lapping machine, washed, and then dried. その後、テープポリッシングマシン(例えば、特開昭62−262227号に記載)を用い、砥粒の存在下で研磨テープをコンタクトロールを通して、ディスク基板51を回転させながらディスク面の両側に押しつけることにより、ディスク基板表面に略円周方向のテクスチャーを形成した。 Thereafter, the tape polishing machine (for example, described in JP-A-62-262227) using a polishing tape in the presence of abrasive through the contact roller, by pressing on either side of the disk surface while rotating the disk substrate 51, to form a substantially circumferential direction of the texture on the disk substrate surface. この時、砥粒の平均粒径、加工時間およびコンタクトロールで研磨テープを加圧する圧力を制御することにより、媒体表面のRa(r)を変化させた。 In this case, the average particle size of the abrasive grains, by controlling the pressure applied to the polishing tape processing time and contact roll was changed Ra (r) of the medium surface. さらに、基板に付着した研磨剤等の汚れを洗浄・除去して乾燥した。 Furthermore, washed and dried and removed dirt abrasives like adhered to the substrate. このように形成されたディスク基板をマグネトロンスパッタリング装置内で250℃まで真空中で昇温し、2mTorrのアルゴン圧の条件のもとで膜厚50nmのCr下地膜を形成した。 The so-formed disc substrate heated in vacuum up to 250 ° C. in a magnetron sputtering apparatus to form a Cr underlayer having a thickness of 50nm under conditions of argon pressure of 2 mTorr. この下地膜の上に86Co−10Cr−4Ta(原子%)からなる膜厚30nmの金属磁性膜を積層した。 The 86Co-10Cr-4Ta consisting (atomic%) film thickness 30nm of the metallic magnetic film on the underlying film was laminated. その後、磁性膜上に膜厚30nmのカーボン保護膜を形成し、最後に当該保護膜上に吸着性のパーフルオロアルキルポリエーテル等の潤滑層を形成した。 Then, a carbon protective film having a thickness of 30nm was formed on the magnetic layer, to form a lubricating layer of perfluoroalkyl polyether of adsorptive finally to the protective film. こうして形成された磁気記録媒体をX線回折により分析した結果、Cr下地膜では(100)あるいは(110)結晶面が基板と略並行となるように結晶が配向成長していた。 The magnetic recording medium thus formed was analyzed by X-ray diffraction, the Cr underlayer was crystal orientation grow so that (100) or (110) substantially parallel crystal faces and the substrate. また、磁性層では(110)面が基板と略並行となるよう配向成長していた。 Further, in the magnetic layer (110) plane was oriented growth so that the substrate and substantially parallel.
【0018】 [0018]
こうして形成した媒体表面の磁気ヘッド走行方向に測定した中心線平均粗さRa(θ)、およびそれと直角方向に測定した中心線平均粗さRa(r)を、針先径0.2μmの触針式表面粗さ計を用いて求めた。 Thus formed was measured in the magnetic head running direction of the medium surface center line average roughness Ra (theta), and the center line average roughness Ra as measured in its perpendicular direction (r), the Harisaki径 0.2μm stylus It was determined using the formula surface roughness meter. この時、触針の押しつけ荷重を4mg、触針走査速度を1μm/s、カットオフを4.5μmとした。 At this time, the pressing load of the stylus 4 mg, stylus scanning speed 1 [mu] m / s, and 4.5μm cut-off. さらに、ヘッド媒体相対速度12m/s、浮上スペーシング0.08μmにおいて、実効ギャップ長0.4μm、トラック幅5μm、MR素子を用いた記録再生分離型の薄膜磁気ヘッドを用いて、内周から外周までのヘッドシーク試験5万回後のビットエラー数、モジュレーション(Md)、および線記録密度50kBPI、トラック密度3kTPIの時の再生信号のS/Nの値を求めた。 Further, the outer peripheral head medium relative speed 12m / s, the floating spacing 0.08 .mu.m, the effective gap length 0.4 .mu.m, the track width 5 [mu] m, using a recording reproducing separate type thin film magnetic head using an MR element, from the inner periphery head seek test 50,000 number of bit errors after times up and modulation (Md), and linear recording density 50KBPI, the value of S / N of the reproduced signal when the track density 3kTPI determined. ここでモジュレーションMdはディスク面内における最大出力Hおよび最低出力Lとにより、Md=(H−L)/(H+L)により定義した。 Here Modulation Md by the maximum output H and the minimum output L at the disk surface, defined by Md = (H-L) / (H + L). また、最大印加磁界14kOeの振動式磁化測定機(VSM)あるいは非破壊磁気測定機により、磁気ヘッドの走行方向に磁界を印加した時の保磁力Hc(θ)と、基板面内で磁気ヘッドの走行方向と略直角な方向に磁界を印加した時の保磁力Hc(r)を求めた。 The maximum by applied magnetic field 14kOe vibratory magnetization measuring instrument (VSM) or a non-destructive magnetic measuring machine, the coercive force upon application of a magnetic field in the running direction of the magnetic head Hc (theta), of the magnetic head in the substrate surface It was determined coercivity Hc (r) upon application of a magnetic field in the traveling direction substantially perpendicular. また、最大印加磁界14kOeのトルクメーターにより、基板面内に磁界を印加して基板面内で試料を回転することにより面内磁気異方性エネルギーKを求めた。 Further, the torque meter maximum applied magnetic field 14 kOe, were determined in-plane magnetic anisotropy energy K by rotating the sample in the substrate surface by applying a magnetic field to the substrate surface.
【0019】 [0019]
図3に示すように媒体表面の中心線平均粗さRa(r)が3nmを上回る従来例に比べて、平均粒径1μm以下の砥粒を用いてテクスチャーを形成し、表面粗さを0.3nm≦Ra(r)≦3nmとした媒体は前述の保磁力配向比が0.1以上、0.7以下と顕著に高くなった。 The center line average roughness Ra of the medium surface as shown in FIG. 3 (r) is compared with the conventional example in excess of 3 nm, a texture was formed by using the following abrasive average particle size 1 [mu] m, the surface roughness 0. 3nm ≦ Ra (r) ≦ 3nm and a medium coercivity orientation ratio of above 0.1 or more, was significantly higher and 0.7 or less. また、図6に示すように中心線平均粗さRa(r)が3nmを上回る従来例に比べて、平均粒径1μm以下の砥粒を用いてテクスチャーを形成し、表面粗さを0.3nm≦Ra(r)≦3nmとした媒体は面内の磁気異方性エネルギーKが3×10 J/m 以上、5×10 J/m 以下と高くなった。 Further, as compared with the conventional example above the center line average roughness Ra (r) is 3nm as shown in FIG. 6, the texture is formed with an average particle size 1μm or less of the abrasive grains, 0.3 nm surface roughness ≦ Ra (r) ≦ 3nm and the medium is the magnetic anisotropy energy K plane is 3 × 10 4 J / m 3 or more, was as high as 5 × 10 5 J / m 3 or less. このような微細な溝を形成した媒体のヘッド走行方向と略直角方向の距離1μmあたりに存在する、深さ1nm以上の溝の平均本数は0.5本以上、100本以下、Rmax(r)/Ra(r)の値の範囲は10以上、30以下、さらに、Ra(r)/Ra(θ)の値の範囲は1.1以上、3.0以下であった。 Such existing in the head traveling direction substantially per perpendicular distance 1μm fine grooves formed was medium, the average number of depth 1nm or more grooves 0.5 or more, 100 or less, Rmax (r) / Ra range of the value of (r) is 10 or more, 30 or less, more, Ra (r) / Ra (theta) range of values ​​of 1.1 or more was 3.0 or less. また、ヘッド浮上量0.08μmにおいて内周から外周までのヘッドシーク試験5万回後のビットエラー数は10ビット/面以下、媒体のモジュレーションMdは10%以下、線記録密度50kBPI、トラック密度3kTPIの時のS/Nの値は4以上であった。 The number of bit errors after the head seek test 50,000 times from inner periphery to the outer periphery at the head flying height 0.08μm is 10 bits / surface or less, the modulation Md medium 10% or less, the linear recording density 50KBPI, track density 3kTPI the value of S / N at the time of was 4 or more. 一方、Ra(r)が3nm以上の従来の磁気記録媒体ではヘッド浮上性が劣り、ヘッドの浮上量0.08μmにおいてヘッドシーク試験5万回後のビットエラー数は15ビット/面以上であった。 On the other hand, Ra (r) is inferior head flying performance in the above conventional magnetic recording medium 3 nm, the bit error rate after the head seek test 50,000 times in flying height of 0.08μm of the head were 15 bits / surface or .
【0020】 [0020]
同様の微細な溝を形成した基板を用い、下地膜としてCr、Mo、W、Nb、Taもしくはこれを主たる成分とする合金からなる下地膜を膜厚5nm以上、500nm以下で形成した場合も同様の表面粗さ、磁気異方性、および記録再生特性が得られた。 Using the substrate formed with the same fine grooves, Cr as the base film, Mo, W, Nb, Ta or which a base film thickness 5nm or more of an alloy whose main component, also when formed at 500nm or less surface roughness of the magnetic anisotropy, and recording and reproduction characteristics were obtained. また、図2に示すように磁性膜をCr、Mo、W、V、Ta、Nb、Zr、Ti、B、Be、C、Ni−Pの少なくとも一つの元素を主たる成分とする非磁性中間層により2層以上に多層化した場合には、媒体からのノイズは単層の磁性膜を用いた場合に比べて30%低減し、S/Nの値として5以上が得られた。 Further, Cr magnetic layer as shown in FIG. 2, Mo, W, V, Ta, Nb, Zr, Ti, B, Be, C, non-magnetic intermediate layer whose main component at least one element of Ni-P by when multilayered in two or more layers, the noise from the medium is reduced by 30% compared with the case of using the magnetic film of a single layer, 5 or more was obtained as the value of S / N.
【0021】 [0021]
〈実施例2〉 <Example 2>
実施例1と同様の装置を用い、テクスチャーを形成する際に用いる砥粒の平均粒径を0.5μmとして、加工時間、加工方向およびコンタクトロールで研磨テープを加圧する圧力を制御することにより、媒体表面のRa(r)を0.5μm以上、1.0μm以下とし、媒体表面のヘッド走行方向と直角方向距離1μm当りに存在する深さ1nm以上の溝の平均本数Nを変化させた。 Using the same apparatus as in Example 1, as 0.5μm average particle size of the abrasive grains used for forming the texture, processing time, by controlling the pressure applied to the polishing tape processing direction and the contact roll, the medium surface Ra (r) of 0.5μm or more, and 1.0μm or less, changing the average number N of the depth 1nm or more grooves present in the head running direction and per direction perpendicular distance 1μm surface of the medium. 溝の平均本数Nと、前述の保磁力配向比、および面内磁気異方性エネルギーKとの関係を図7に示す。 The average number N of the groove, shown coercive force orientation ratio of the foregoing, and the relationship between the in-plane magnetic anisotropy energy K in FIG. Nが0.5以上、100以下では配向比は0.15以上、0.7以下となり、面内磁気異方性エネルギーは4×10 J/m 以上、5×10 J/m 以下となった。 N is 0.5 or more, 100 or less in orientation ratio is 0.15 or more, becomes 0.7 or less, the in-plane magnetic anisotropic energy is 4 × 10 4 J / m 3 or more, 5 × 10 5 J / m 3 equal to or less than. このような微細な溝を形成した媒体のRmax(r)/Ra(r)の値の範囲は10以上、30以下、Ra(r)/Ra(θ)の値の範囲は1.1以上、3.0以下であった。 Such Rmax fine grooves formed was medium (r) / Ra range of the value of (r) is 10 or more, 30 or less, Ra (r) / Ra (θ) range of values ​​of 1.1 or more, 3.0 was less than. また、ヘッド浮上量0.08μmにおいて内周から外周までのヘッドシーク試験5万回後のビットエラー数は10ビット/面以下、媒体のモジュレーションは10%以下であり、線記録密度50kBPI、トラック密度3kTPIの時のS/Nの値は4以上であった。 The number of bit errors after the head seek test 50,000 times from inner periphery in the head flying height 0.08μm to the outer periphery is 10 bits / surface or less, modulation of the medium is 10% or less, the linear recording density 50KBPI, track density the value of S / N at the time of the 3kTPI was 4 or more.
【0022】 [0022]
〈実施例3〉 <Example 3>
外径65mm、内径20mm、厚さ0.4mm、表面粗さ1nmのガラスディスク基板の両面に、実施例1と同様のスパッタリング装置、および条件により、図2に示すように膜厚1μmのCr下地膜を形成した。 Outside diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, thickness 0.4 mm, both surfaces of the glass disk substrate of the surface roughness 1 nm, similar to the sputtering apparatus as in Example 1, and the conditions, Cr of a thickness 1μm as shown in FIG. 2 to form a Chimaku. さらに真空チャンバ内でCr下地膜表面を砥粒平均径1μm以下の研磨剤を含む研磨テープにより研磨し、略円周方向のテクスチャーを形成した。 Further polished by the polishing tape containing abrasive grains average size 1μm or less abrasives Cr underlayer surface in a vacuum chamber to form a substantially circumferential direction of the texture. Cr下地膜表面のRaは0.8nm、溝の平均本数Nは0.7であった。 Ra of the Cr underlayer surface 0.8 nm, the average number N of the grooves was 0.7. この上に膜厚50nmの90Cr−10Ti(原子%)下地膜を形成し、さらに、膜厚15nmの84Co−12Cr−4Pt(原子%)磁性膜、膜厚2.5nmのCr中間膜、さらに膜厚15nmの84Co−12Cr−4Ta(原子%)磁性膜を形成した。 The 90Cr-10Ti (at%) underlayer film having a film thickness of 50nm is formed on this further, 84Co-12Cr-4Pt of thickness 15 nm (atomic%) Magnetic film thickness 2.5nm of Cr intermediate layer, further layer thickness 15nm 84Co-12Cr-4Ta (atomic%) was formed a magnetic film. その後、膜厚30nmのカーボン保護膜を形成した。 Then, to form a carbon protective film having a thickness of 30 nm. さらに、カーボン保護膜表面に、開口部の平均距離が50μm以上、100μm以下のエッチングマスクを設け、マスクに覆われない領域のカーボン保護膜を酸素プラズマエッチングにより深さ15nmエッチングした。 Further, the carbon protective film surface, the average distance of the opening is 50μm or more, provided the following etching mask 100 [mu] m, and the depth 15nm etched by oxygen plasma etching of the carbon protective film in a region not covered with the mask. その結果、図2に示すように、カーボン保護膜表面に平均径50μm以上、100μm以下の島状の凹凸が形成された。 As a result, as shown in FIG. 2, average carbon protective film surface diameter 50μm or more, following the island-like unevenness 100μm was formed. 最後に当該保護膜上に吸着性のパーフルオロアルキルポリエーテル等の潤滑層を形成した。 Thereby forming a lubricating layer of perfluoroalkyl polyether of adsorptive finally to the protective film. 本媒体の保護膜の島状部上の中心線平均粗さRa(r)は1.0nmであり、面内の磁気異方性エネルギーKは3.5×10 J/m であった。 The center line average roughness Ra on the islands of the protection layer of the present medium (r) is 1.0 nm, the magnetic anisotropy energy K of the plane was 3.5 × 10 4 J / m 3 . また、ヘッド走行方向と略直角方向の距離1μmあたりに存在する、深さ1nm以上の溝の平均本数は0.7本、Rmax(r)/Ra(r)の値は12、さらに、Ra(r)/Ra(θ)の値は1.6であった。 Moreover, present per distance between the head running direction substantially perpendicular direction 1 [mu] m, the average number of depth 1nm or more grooves 0.7 present, the value of Rmax (r) / Ra (r) is 12, further, Ra ( the value of r) / Ra (θ) was 1.6. また、ヘッドの浮上量0.1μmにおいて内周から外周までのヘッドシーク試験5万回後のビットエラー数は10ビット/面以下、媒体のモジュレーションMdは10%以下、線記録密度90kBPI、トラック密度4kTPIの時のS/Nの値は4.5であった。 The number of bit errors after the head seek test 50,000 times from inner periphery to the outer periphery in the flying height of 0.1μm heads 10 bits / surface or less, modulation Md media 10% or less, the linear recording density 90KBPI, track density the value of S / N at the time of the 4kTPI was 4.5. また、媒体が停止したときにヘッドが媒体と接触しないロードアンロード方式では、本媒体は実施例1に述べた媒体と同等の耐摺動信頼性を示したが、CSS方式でヘッドを浮上させた場合には実施例1の媒体よりヘッドの粘着を低減することができ、信頼性が向上した。 Further, in the loading and unloading system in which the head does not contact with the medium when the medium is stopped, the medium showed anti-sliding reliability equivalent to the medium described in Example 1, to float the head in the CSS method can reduce the sticking of the head from the medium of example 1 in the case were, with improved reliability.
【0023】 [0023]
〈実施例4〉 <Example 4>
実施例1と同様に、ディスク基板上に平均径1μm以下の砥粒を用いて微細なテクスチャーを形成した。 In the same manner as in Example 1 to form a fine texture with abrasive grains following mean diameter 1μm on a disk substrate. この時、ディスク基板上にテクスチャーを形成する際の加工時間、およびコンタクトロールで研磨テープを加圧する圧力を制御することにより、ヘッド走行方向に測定した中心線平均粗さRa(θ)と、それに直角方向に測定した中心線平均粗さRa(r)との比、Ra(r)/Ra(θ)を変化させた。 At this time, the processing time for forming the texture on the disc substrate, and by controlling the pressure applied to the polishing tape contact roller, the center line average roughness Ra as measured in the head running direction (theta), it the ratio of the average center line measured at right angles roughness Ra (r), changing the Ra (r) / Ra (θ). さらに、基板上に磁性膜および保護膜を成膜した。 Further, by forming a magnetic film and a protective film on a substrate. その後、実施例3と同様の方法により、保護膜上に平均径5μm以上、10μm以下、高さ10nmの島状の凹凸を形成した。 Thereafter, in the same manner as in Example 3, the average diameter of 5μm or more on the protective film, 10 [mu] m or less, to form an island-shaped unevenness of height 10 nm. 媒体の磁気異方性、ヘッド浮上性、記録再生特性を測定した後、保護膜を酸素プラズマエッチングにより除去し、磁性膜表面のRa(r)/Ra(θ)を測定した。 Magnetic anisotropy of the medium, the head flying characteristics, after measuring the recording and reproducing characteristics, the protective film is removed by oxygen plasma etching was measured Ra (r) / Ra (θ) of the magnetic film surface. この時、Ra(r)は0.5nm以上、3nm以下であった。 In this case, Ra (r) is 0.5nm or more was 3nm or less. Ra(r)/Ra(θ)と面内異方性エネルギーKの関係を図8に示す。 Ra and the relationship between the in-plane anisotropy energy K (r) / Ra (θ) shown in FIG. 8. Ra(r)/Ra(θ)が1.1以上、3.0以下の範囲で面内の磁気異方性エネルギーKが3×10 J/m 以上、5×10 J/m 以下と高くなった。 Ra (r) / Ra (θ ) is 1.1 or more, the magnetic anisotropy energy K in the plane in the range of 3.0 or less is 3 × 10 4 J / m 3 or more, 5 × 10 5 J / m 3 It was as high as below. また、媒体のヘッド走行方向と略直角方向の距離1μmあたりに存在する、深さ1nm以上の溝の平均本数は0.5本以上、100本以下、また、Rmax(r)/Ra(r)の値の範囲は10以上、30以下であった。 Also present in the head traveling direction substantially per perpendicular distance 1μm media, the average number of depth 1nm or more grooves 0.5 or more, 100 or less, also, Rmax (r) / Ra (r) the range of values ​​10 or more was 30 or less. また、ヘッドの浮上量0.06μmにおいて内周から外周までのヘッドシーク試験5万回後のビットエラー数は10ビット/面以下、媒体のモジュレーションは10%以下、線記録密度50kBPI、トラック密度3kTPIの時のS/Nの値は4以上であった。 The number of bit errors after inner head seek from periphery to the outer periphery test 50,000 times in flying height of 0.06μm of the head 10 bits / surface or less, the modulation of the medium 10% or less, the linear recording density 50KBPI, track density 3kTPI the value of S / N at the time of was 4 or more.
【0024】 [0024]
〈実施例5〉 <Example 5>
実施例1と同様に、ディスク基板上にテクスチャーを形成する際に用いる砥粒の平均粒径、加工時間、およびコンタクトロールで研磨テープを加圧する圧力を変化させることにより媒体表面のRa(r)、Rmax(r)/Ra(r)を変化させた時のビットエラー数、モジュレーションおよびS/Nの値を表1に示す。 As in Example 1, the average particle size of the abrasive grains used for forming the texture on the disk substrate, processing time, and by varying the pressure applied to the polishing tape contacts the roll surface of the medium Ra (r) indicates Rmax (r) / Ra number of bit errors when changing the (r), the value of the modulation and S / N in Table 1.
【0025】 [0025]
【表1】 [Table 1]
【0026】 [0026]
表1より、媒体表面のRa(r)を0.3nm以上、3nm以下とするとともにRmax(r)/Ra(r)を10以上、30以下とすることにより、本実施例の媒体は比較例に比べてビットエラー数、モジュレーションMdが小さく、面内異方性エネルギーおよびS/Nが高くなり、ビットエラー数は10ビット/面以下、モジュレーションは10%以下、S/Nは4以上となった。 From Table 1, the Ra (r) of the medium surface 0.3nm or more, with Rmax (r) / Ra (r) of 10 or more to 3nm or less, by 30 or less, medium of this embodiment Comparative Example number of bit errors in comparison with the modulation Md small, the higher the in-plane anisotropy energy and S / N, the number of bit errors is 10 bits / surface or less, the modulation of 10% or less, S / N is a 4 or more It was. この時、Ra(r)/Ra(θ)の比は1.1以上、3.0以下、媒体のヘッド走行方向と略直角方向の距離1μmあたりに存在する、深さ1nm以上の溝の平均本数は0.5本以上、100本以下であった。 In this case, Ra (r) / Ra ratio (theta) is 1.1 or more, 3.0 or less, present per distance 1μm head running direction substantially perpendicular direction of the medium, the average depth 1nm or more grooves the number is 0.5 or more, was 100 or less.
【0027】 [0027]
〈実施例6〉 <Example 6>
実施例3に示した磁気記録媒体4枚を使用し、Co−Ta−Zr合金を記録用磁極材とし、再生部に磁気抵抗効果型素子を有する複合型薄膜磁気ヘッドを7個組み合わせた磁気記録装置を試作した。 Using the four magnetic recording medium shown in Example 3, Co-Ta-Zr alloy was used as a recording magnetic pole material, the magnetic recording which combines seven composite type thin film magnetic head having a magnetoresistive element to the reproduction section It was a prototype device. 本装置は、図9に示すように磁気記録媒体91、磁気記録媒体駆動部92、磁気ヘッド93、磁気ヘッド駆動部96、記録再生信号処理系95などの部品から構成される。 The apparatus, the magnetic recording medium 91 as shown in FIG. 9, the magnetic recording medium driving unit 92, a magnetic head 93, the magnetic head driving unit 96, and a component such as a recording and reproducing signal processing system 95. この磁気記録装置を使用し、スペーシング0.08μmにおいてエラーが発生するまでの平均時間を求めたところ、比較例の記録媒体を用いた磁気記録装置と比較して10倍以上の寿命があり、信頼性が極めて高いことを実証できた。 The use of magnetic recording apparatus, was determined the average time until an error occurs in the spacing 0.08 .mu.m, there compared with the magnetic recording apparatus 10 times more service life using a recording medium of Comparative Example, reliability was able to demonstrate that extremely high. また、本実施例で試作した磁気記録装置はヘッド浮上量が低いため、信号の記録再生における位相マージンが広く、また、サーボ信号の品位が高いためヘッド位置決め精度が向上したため、面記録密度を比較例の媒体を用いた場合の2倍に高めることができ、小形で大容量の磁気記録装置を提供できた。 The comparison for the magnetic recording apparatus was fabricated in the present embodiment is low head flying height, wide phase margin in recording and reproduction of signals, also, since the quality of the servo signal is improved head positioning accuracy for high areal recording density It can be increased to twice in the case of using the medium of example was able to provide a magnetic recording device having a large capacity small. 本装置を用いてトラック幅が5μm以下のMRヘッドで再生した場合に90kBPI、4kTPIの高記録密度においてS/Nが4以上、さらに、オーバーライト(O/W)特性が26dB以上の大容量磁気記録装置が得られた。 90kBPI when the track width by using the present apparatus is reproduced by the following MR head 5 [mu] m, S / N is 4 or more in a high recording density of 4KTPI, further overwrite (O / W) characteristic of the higher 26dB large magnetic recording device was obtained.
【0028】 [0028]
本実施例では、記録用にCo−Ta−Zr合金を磁極材とする薄膜磁気ヘッドを用いた場合について説明したが、Ni−Fe、Co−Fe合金等を記録用磁極材とする録再分離型薄膜磁気ヘッド、Co−Ta−Zr、Fe−Al−Si合金等をギャップ部に設けたメタル・イン・ギャップ型(MIG)録再分離複合磁気ヘッド、誘導型薄膜ヘッドまたはMIGヘッドを用いた場合にも同様の効果が得られることを確認した。 In this embodiment, the description has been given of the case of using a thin-film magnetic head for a magnetic pole material of Co-Ta-Zr alloy for recording, Ni-Fe, recording and reproducing separating the Co-Fe alloy or the like as the recording magnetic pole material type thin-film magnetic head, using Co-Ta-Zr, Fe-Al-Si alloy metal-in-gap type provided in the gap portion (MIG) recording and reproducing separation composite magnetic head, an inductive type thin film head or MIG head it was confirmed that the same effect can be obtained even in the case.
【0029】 [0029]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
本発明によれば、高密度記録が可能な磁気記録媒体、およびこれを用いた小形で大容量の磁気記録装置を提供できる。 The present invention can provide a magnetic recording device having a large capacity compact using magnetic recording medium capable of high density recording, and the same.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】本発明の一実施例の薄膜型磁気記録媒体の縦断面構造、および媒体とMRヘッドの関係を示す図である。 Figure 1 is a vertical cross-sectional structure of the thin film type magnetic recording medium of an embodiment of the present invention, and is a diagram showing the relationship between the medium and the MR head.
【図2】本発明の一実施例の薄膜型磁気記録媒体の縦断面構造を示す図である。 It shows a longitudinal sectional structure of a thin film type magnetic recording medium of an embodiment of the present invention; FIG.
【図3】本発明の一実施例の媒体表面の中心線平均粗さと保磁力の配向度の関係を示す図である。 3 is a diagram showing the orientation of the relationship between the central line average roughness and coercive force of the medium surface of one embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一実施例の媒体表面のヘッド走行方向、およびそれと直角方向に測定した中心線平均粗さとテクスチャー加工時間の関係を示す図である。 4 is a diagram illustrating an head running direction of the embodiment of the media surface, and therewith the measured center line average roughness and texture processing time involved in the perpendicular direction of the present invention.
【図5】本発明の一実施例の媒体の縦断面構造を示す図である。 5 is a diagram showing a longitudinal sectional structure of the medium of an embodiment of the present invention.
【図6】本発明の一実施例の媒体表面の中心線平均粗さと面内磁気異方性エネルギーの関係を示す図である。 6 is a diagram showing the relationship between the center line average roughness and an in-plane magnetic anisotropy energy of the medium surface of one embodiment of the present invention.
【図7】本発明の一実施例の媒体表面の溝の平均本数密度と保磁力の配向比、面内異方性エネルギーの関係を示す図である。 [7] The average number density and orientation ratio of coercivity of the groove of the medium surface of one embodiment of the present invention, is a diagram showing the relationship between the in-plane anisotropy energy.
【図8】本発明の一実施例の磁性膜表面のヘッド走行方向およびそれと直角方向に測定した中心線平均粗さの比と面内磁気異方性エネルギーの関係を示す図である。 8 is a diagram showing an embodiment of a magnetic film surface head running direction and relationships it and measured in a direction perpendicular center line average roughness of the ratio and in-plane magnetic anisotropic energy of the present invention.
【図9】本発明の一実施例の磁気記録装置の縦断面構造図である。 9 is a longitudinal sectional structure view of a magnetic recording apparatus of an embodiment of the present invention.
【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS
11…MR再生素子を有する磁気ヘッド、12…保護膜、13…金属磁性膜、14…金属下地膜、15…非磁性メッキ膜、16…テクスチャー溝、17…磁気ディスク基板、20…触針、21…保護膜、22…金属磁性膜、23…非磁性中間膜、24…上層金属下地膜、25…下層金属下地膜、26…テクスチャー溝、27…ガラスディスク基板、28…保護膜島状部、29…保護膜エッチング部、51…磁気ディスク基板、52,52'…非磁性メッキ層、53,53'…金属下地膜、54,54'…金属磁性膜、55,55'…非磁性保護膜、91…磁気記録媒体、92…磁気記録媒体駆動部、93…磁気ヘッド、94…磁気ヘッド駆動部、95…記録再生信号処理系。 11 ... magnetic head having an MR read element 12 ... protective film, 13 ... metal magnetic film, 14 ... metal base layer, 15 ... nonmagnetic plating film, 16 ... texture groove 17 ... magnetic disk substrate, 20 ... probe, 21 ... protective film, 22 ... metal magnetic film, 23 ... nonmagnetic intermediate layer, 24 ... upper layer metal base layer, 25 ... lower metal base layer, 26 ... texture groove 27 ... glass disk substrate, 28 ... protective film islands , 29 ... protective film etching unit, 51 ... magnetic disk substrate, 52, 52 '... nonmagnetic plating layer, 53, 53' ... metal base layer, 54, 54 '... metal magnetic film 55, 55' ... nonmagnetic protective film, 91 ... magnetic recording medium, 92 ... magnetic recording medium driving unit, 93 ... magnetic head, 94 ... magnetic head drive unit, 95 ... recording reproduction signal processing system.

Claims (8)

  1. 非磁性ディスク基板と、該ディスク基板上に下地膜を介して形成された磁性膜を有する磁気記録媒体において、 A non-magnetic disk substrate, a magnetic recording medium having a magnetic film formed over the base film on the disk substrate,
    磁気ヘッドの走行方向と略直角方向に測定した媒体の表面中心線平均粗さRa(r)の範囲が0.3nm以上、3nm以下であり、さらに、磁気ヘッドの走行方向に磁界を印加して測定した保磁力Hc(θ)と、基板面内で磁気ヘッドの走行方向と略直角方向に磁界を印加して測定した保磁力Hc(r)を用い、{Hc(θ)−Hc(r)}/{Hc(θ)+Hc(r) }により定義される、磁気ヘッド走行方向の保磁力の配向比が、0.1以上、0.7以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 Range of surfaces centerline average roughness of the medium was measured in the traveling direction substantially perpendicular direction of the magnetic head Ra (r) is 0.3nm or more and 3nm or less, further, by applying a magnetic field in the running direction of the magnetic head and the measured coercive force Hc (theta), and applying a magnetic field in the running direction substantially perpendicular direction of the magnetic head using the coercive force Hc (r), measured in the substrate plane, {Hc (θ) -Hc (r) } / {Hc (θ) + Hc (r)} is defined by the orientation ratio of the coercive force of the magnetic head running direction is 0.1 or more, a magnetic recording medium, characterized in that is 0.7 or less.
  2. 上記非磁性基板上に略磁気ヘッド走行方向に沿って溝が存在し、磁気ヘッド走行方向と略直角方向の距離1μmあたりに存在する深さ1nm以上の溝の平均本数が0.5本以上、100本以下存在することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。 The non-magnetic on the substrate along the substantially magnetic head running direction there is a groove, the average number of depth 1nm or more grooves present per distance of the magnetic head traveling direction substantially perpendicular 1μm 0.5 or more, the magnetic recording medium according to claim 1, characterized in that there below 100.
  3. 請求項1に記載の磁気記録媒体において、前記ディスク基板と前記磁性膜との間に形成された下地膜を有し、該下地膜の表面には溝が形成され、磁気ヘッド走行方向と略直角方向の距離1μm当たりに存在する深さ1nm以上の溝の平均本数が0.5本以上、100本以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 In the magnetic recording medium of claim 1, comprising a base film formed between the disc substrate and the magnetic layer, the surface of the lower fabric layer groove is formed, the magnetic head running direction substantially perpendicular the distance in the direction of the average number of depth 1nm or more grooves present per 1μm 0.5 or more, a magnetic recording medium, characterized in that it is 100 or less.
  4. 前記下地層は、Cr、Mo、W、Nb、Taもしくはこれを主たる成分とする合金を含み、、該下地膜の膜厚は5nm以上、500nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。 The underlayer, Cr, Mo, W, Nb, Ta or which the thickness of the ,, lower fabric layer comprises an alloy whose main component is 5nm or more, according to claim 1, characterized in that at 500nm or less magnetic recording medium.
  5. 上記磁性膜上に保護膜が存在し、該保護膜がエッチング加工されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。 The magnetic recording medium of claim 1, the protective film on the magnetic layer is present, the protective film is characterized in that it is etched.
  6. 上記磁性膜がCr、Mo、W、V、Ta、Nb、Zr、Ti、B、Be、C、Ni−Pの少なくとも一つを主たる成分とする非磁性中間層により、2層以上に多層化されたことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。 The magnetic layer is Cr, Mo, W, V, Ta, Nb, Zr, Ti, B, Be, C, the non-magnetic intermediate layer whose main component at least one of Ni-P, multilayered two or more layers the magnetic recording medium according to claim 1, characterized in that it is.
  7. 請求項1に記載の磁気記録媒体において、磁気ヘッド走行方向と直角方向に測定した表面中心線平均粗さRa(r)と、磁気ヘッド走行方向に測定した表面中心線平均粗さRa(θ)との比、Ra(r)/Ra(θ)が1.1以上、3.0以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 In the magnetic recording medium of claim 1, a surface center line average measured the magnetic head running direction and the direction perpendicular roughness Ra (r), measured in the magnetic head running direction surface center line average roughness Ra (theta) the ratio between, Ra (r) / Ra (θ) is 1.1 or more, a magnetic recording medium, characterized in that is 3.0 or less.
  8. 請求項1に記載の磁気記録媒体において、前記ディスク基板の面内に磁界を印加しディスク基板面内で試料を回転して測定された磁気異方性エネルギーが3×10 4 J/m 3以上、5×10 5 J/m 3以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 In the magnetic recording medium of claim 1, wherein applying a magnetic field in the plane of the disc substrate magnetic anisotropy energy measured by rotating the sample disk substrate surface is 3 × 10 4 J / m 3 or more a magnetic recording medium, characterized in that it is 5 × 10 5 J / m 3 or less.
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