JPH07141461A - 半導体ウエハのような平面基板の認識記号の読取り方法、認識記号読取り装置及び高速ウエハ移載装置 - Google Patents

半導体ウエハのような平面基板の認識記号の読取り方法、認識記号読取り装置及び高速ウエハ移載装置

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JPH07141461A
JPH07141461A JP28708493A JP28708493A JPH07141461A JP H07141461 A JPH07141461 A JP H07141461A JP 28708493 A JP28708493 A JP 28708493A JP 28708493 A JP28708493 A JP 28708493A JP H07141461 A JPH07141461 A JP H07141461A
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JP
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recognition
semiconductor wafer
symbol
light
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JP28708493A
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English (en)
Inventor
Yuichi Miyagawa
祐一 宮川
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54493Peripheral marks on wafers, e.g. orientation flats, notches, lot number

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  • Character Input (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 半導体ウエハの平滑な平面に付された認識記
号を明瞭に判読できるようにする。 【構成】 半導体ウエハ1の平滑な平面3に付された凹
凸状の認識記号4に、その斜め上方の光源10から照射
光Lを照射し、平面3での正反射光Laの方向から受光
軸が外れるようCCDカメラ20を配置して、前記凹凸
状認識記号4で反射した多量の反射光Lbを受光するよ
うにした。 【効果】 認識記号とその周辺部との間で強いコントラ
ストを付けることができ、確実に認識記号を読み取れ、
従って、その画像処理及び製造装置の高速自動化も可能
になった。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体ウエハや光ディ
スクのような平滑面を有する平面基板に形成された凹凸
状の認識記号を光学的に読み取る方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】以下の説明では、半導体ウエハの認識記
号を読み取る方法を例示して説明する。半導体ウエハの
表面には、例えば、本出願人が出願し、昭和61年(1
986)10月28日に公開された特開公報昭61ー2
41920「透明基板に対する認識パターンの形成方
法」に詳しく記載されているように、レーザー光を用い
て凹凸状の認識記号が形成されており、また、光ディス
クの表面には、例えば、プレス金型により凹凸状の認識
記号が形成されていて、このような認識記号を一枚ごと
の平面基板に付すことにより、それらの生産ロットやプ
ロセス履歴の管理、製品の管理などが行われている。
【0003】前記公開公報に記載の発明では、図3Aに
示したように、半導体ウエハ1のオリフラ部2付近の平
滑な平面3にレーザー光を照射し、その照射面を溶融し
て、ドット状の文字、数字などで構成される凹凸状の認
識記号4を形成するようにしている。図示の例では1I
A−DO0969−001の認識記号4が刻まれてい
る。同図Bには、その認識記号4の内、1ドットの丸印
で囲んだ番号「1」だけの1文字を拡大して示した。ま
た、同図Cには同図BのC−C線上におけるこの番号
「1」の内の1ドット4Aの断面図で示していて、符号
4aの凹部と符号4bの凸部とで形成されている。な
お、この「1ドット4A」を説明の便宜上、以下の説明
では「認識記号4A」と記す。この認識記号の形成方法
は通常ソフトマーキング方式と呼ばれているが、ダスト
の発生が少ないこと、半導体ウエハへのダメージが少な
い点などで優れていて、多用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】通常、このような認識
記号4はシリコンのベアウエハに付されるが、この認識
記号4は非常に小さく、また、見る角度によって見えた
り見えなかったりし、肉眼では読み取りにくいものであ
る。また、数多くの表面処理工程を経るため、肉眼では
勿論のこと、光学的にも非常に読み取りにくくなってい
る。
【0005】現在では、このような認識記号4を光学的
に読み取るために、照射光を半導体ウエハ1の平面3に
ほぼ垂直に照射し、また、その反射光を捕らえるCCD
カメラのような光電変換装置も半導体ウエハ1の平面3
の垂線上に設置して、前記認識記号4を光学的に読み取
る方法を採っている。
【0006】しかし、この読取り方法は、半導体ウエハ
1の平面3からの正反射光がCCDカメラに進入してし
まい、認識記号4と認識記号4が付されていない周辺部
とのコントラストが十分に得られない。従って、このよ
うな構成の光学的読取り装置でできる画像は肉眼でも読
み取りにくく、また、人が補助しても認識記号4を正し
く読み取ることは難しく、ましてやその認識記号4を自
動的に読み取りするための画像を作り出すことは難し
く、信頼性の点で問題があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】それ故、この発明の半導
体ウエハの平面上の認識記号の読取り方法では、半導体
ウエハの平滑面にレーザー光を用いて形成された凹凸状
の認識記号を読み取るに当たり、その認識記号が形成さ
れている前記平面基板の平滑面の垂線に対して或る傾斜
角の照射光を前記認識記号に照射し、前記照射光の全反
射光の光路から外れた傾斜角の光路に光電変換装置の光
軸を配置して前記認識記号で反射した反射光を光電変換
装置で捕捉し、前記課題を解決した。
【0008】
【作用】従って、照射光は半導体ウエハの認識記号及び
その付近を照射するが、半導体ウエハの平面を照射し、
その平面で反射した正反射光は光電変換装置に入射せ
ず、前記認識記号で反射した反射光のみが光電変換装置
で捕捉されることになり、前記認識記号とその周辺部と
の間で強いコントストを得ることができる。
【0009】
【実施例】次に、図1を用いて、この発明による認識記
号の読取り方法を説明する。図1はこの発明の半導体ウ
エハに形成された認識記号の読取り方法及びその装置を
説明するための一部断面側面図である。この図1には、
図3Cと同様に、半導体ウエハ1の平面3に形成された
認識記号4の内の番号「1」の1ドットに照射光が照射
されている状態の断面図で示している。
【0010】この発明の認識記号の読取り装置において
は、平行な照射光Lを照射する光源10と光電変換装置
であるCCDカメラ20とから構成された認識記号読取
り装置Rを用いる。この光源10は、その照射光Lの光
軸が半導体ウエハ1の平滑な平面3に対する垂線Pに対
して或る傾斜角αで半導体ウエハ1の平面3に形成され
ている認識記号4A(4)を照射するように設置されて
いる。また、前記CCDカメラ20は、その光軸が前記
垂線Pを境にして前記傾斜角αとは逆方向に傾斜角θだ
け傾斜した角度で設置されており、この傾斜角θは前記
傾斜角αより小であって、認識記号4Aで反射した反射
光Lbの全体として最も強い反射光を捕捉できるように
調整可能に固定されている。
【0011】次に、この認識記号読取り装置Rを用い
て、半導体ウエハ1に形成された認識記号4Aの読取り
方法を説明する。先ず、光源10から照射光Lで、その
光軸が前記傾斜角αを以て、半導体ウエハ1の平面3上
の認識記号4Aを照射する。その認識記号4Aの周辺部
の平滑な平面3を照射した照射光Lは角度−αの正反射
光Laとなって矢印Xaの方向に抜ける。一方、認識記
号4Aを照射した照射光Lはその凹凸に反射し、角度θ
の全体として最も強い反射光Lbとなり、矢印Xbの方
向に在るCCDカメラ20で捕捉されることになる。
【0012】このような認識記号読取り装置Rを用いる
ことにより、CCDカメラ20に接続された映像モニタ
ーの画面に、認識記号の周辺部は暗く、認識記号部を明
るく浮き上がらせることができ、この電気信号を以て自
動文字読取り(画像処理)を行うことができる。
【0013】図2にこの認識記号読取り装置Rを搭載し
た、この発明の一つである高速ウエハ移載装置Tを示し
た。高速ウエハ移載装置Tの上面中央部にこの発明の認
識記号読取り装置Rを搭載しており、その下方にはウエ
ハステージSが設けられている。そして認識記号読取り
装置Rの左側に設けた昇降可能なキャリア受け台(図示
していない)に、異なる認識記号4が付された複数枚の
半導体ウエハ1を収納した供給キャリアKaを載置し、
そしてその右側に設けた、やはり昇降可能なキャリア受
け台(図示していない)に空の収納キャリアKbを載置
して、読み取り作業終了後、それらの半導体ウエハ1を
所定の位置に収納できるように構成されている。また、
この高速ウエハ移載装置Tの正面中央部には、映像モニ
ターMが搭載されており、その画面に前記認識記号読取
り装置Rで読み取った認識記号4を映出するように構成
されている。
【0014】この高速ウエハ移載装置Tはそのキャリア
受け台に載置された供給キャリアKaの下方から一枚毎
に半導体ウエハ1をウエハチャックCで取り出し、ウエ
ハステージSに、その中心を出し、オリフラ部2を合わ
せて吸着、固定し、その後、認識記号読取り装置Rで前
記読取り方法に則り各認識記号4を読み取る。そしてそ
の読み取り後、収納キャリアKb側に在るウエハチャッ
ク(図には表れていない)でウエハステージSからその
半導体ウエハ1を吸着しながら取り出し、一方、収納キ
ャリアKbが読み取った認識記号4に応じて昇降し、そ
の半導体ウエハ1を収納キャリアKbの所定の位置に収
納される。以降、この動作が繰り返される。認識記号読
取り装置Rは認識記号4を明瞭なコントラストで読み取
れるので、この移載作業は高速で行われる。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、半導体ウエハの平
面に、その斜め上方から照射光を照射すると同時に、そ
の正反射光の方向からCCDカメラの受光軸を外すよう
にしたので、認識記号とその周辺部との間に強いコント
ラストを付けることができた。従って、CCDカメラで
撮った認識記号を画像処理し、自動読み取りをすること
が可能となり、高速ウエハ移載装置を実現することがで
きた。また、無照明条件では肉眼で判読しにくい認識記
号も、CCDカメラのような光電変換装置を通して、映
像モニター上に明瞭に映し出すことができ、誤読を防止
することもでき、高速ウエハ移載装置の初期条件の確認
などの作業が確実に、そして速やかに行えることができ
るようになった。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の半導体ウエハに形成された認識記
号の読取り方法及びその装置を説明するための一部断面
側面図である。
【図2】 この発明の認識記号読取り装置を搭載した、
この発明の他の一つである高速ウエハ移載装置の概念的
斜視図である。
【図3】 この発明の説明に用いられる認識記号が形成
された半導体ウエハを示していて、同図Aはその平面図
であり、同図Bは図Aの認識記号の内、丸印で囲んだ番
号「1」だけの1文字を拡大した拡大図であり、そして
同図Cは図BのC−C線上におけるこの番号「1」の内
の1ドットの断面図である。
【符号の説明】
1 半導体ウエハ 2 オリフラ部 3 半導体ウエハ1の平滑な平面 4 認識記号 4A 1ドットの認識記号 4a 凸部 4b 凹部 10 光源 20 CCDカメラ(光電変換装置) C ウエハチャック Ka 供給キャリア Kb 収納キャリア L 照射光 La 正反射光 Lb 凹凸状認識記号での反射光 M 映像モニター P 垂線 R 認識記号読取り装置 S ウエハステージ T 高速ウエハ移載装置
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年2月8日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハのような平面基板に付され
    た凹凸状の認識記号を読み取るに当たり、その認識記号
    が形成されている前記平面基板の平滑面の垂線に対して
    或る傾斜角の照射光を前記認識記号に照射し、前記認識
    記号で反射した反射光を光電変換装置で捕捉することを
    特徴とする半導体ウエハのような平面基板の認識記号の
    読取り方法。
  2. 【請求項2】 半導体ウエハのような平面基板に付され
    た凹凸状の認識記号読取り装置において、その認識記号
    が形成されている前記平面基板の平滑面の垂線に対して
    或る傾斜角の照射光を前記認識記号に照射する光源と、
    前記照射光の全反射光の光路から外れた傾斜角の光路に
    沿って受光軸を配置し、前記認識記号で反射した多量の
    反射光を受光できる光電変換装置とから構成されている
    ことを特徴とする半導体ウエハのような平面基板の認識
    記号読取り装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の認識記号読取り装置を
    中央部に設置し、その下方に設置されたウエハステージ
    と、その一側部に、異なる認識記号が付された複数の半
    導体ウエハを収納した供給キャリアを昇降可能に載置で
    きるキャリア受け台と、その他の側部に収納キャリアを
    昇降可能に載置できるキャリア受け台と、前記供給キャ
    リアから一枚毎に半導体ウエハを取り出し、前記ウエハ
    ステージに載置するウエハチャックと、前記認識記号読
    取り装置で認識記号を読み取られた半導体ウエハを前記
    収納キャリアの所定の位置に収納するウエハチャック
    と、前記認識記号読取り装置で読み取った認識記号を映
    出する映像モニターとから構成されていることを特徴と
    する高速ウエハ移載装置。
JP28708493A 1993-11-16 1993-11-16 半導体ウエハのような平面基板の認識記号の読取り方法、認識記号読取り装置及び高速ウエハ移載装置 Pending JPH07141461A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5942763A (en) * 1997-04-11 1999-08-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Apparatus and method for identifying an identification mark of a wafer
US6721443B1 (en) 1999-10-20 2004-04-13 Tdk Corporation Method of reading mark and apparatus for the same

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5942763A (en) * 1997-04-11 1999-08-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Apparatus and method for identifying an identification mark of a wafer
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