JPH07138754A - マグネトロンスパッタリング用カソード - Google Patents

マグネトロンスパッタリング用カソード

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JPH07138754A
JPH07138754A JP28650293A JP28650293A JPH07138754A JP H07138754 A JPH07138754 A JP H07138754A JP 28650293 A JP28650293 A JP 28650293A JP 28650293 A JP28650293 A JP 28650293A JP H07138754 A JPH07138754 A JP H07138754A
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JP
Japan
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target
backing plate
erosion
lower member
cathode
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Withdrawn
Application number
JP28650293A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshikazu Morita
芳和 守田
Minoru Saito
実 斎藤
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Nippon Steel Nisshin Co Ltd
Original Assignee
Nisshin Steel Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nisshin Steel Co Ltd filed Critical Nisshin Steel Co Ltd
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Publication of JPH07138754A publication Critical patent/JPH07138754A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 安価に製造でき、利用効率が高く且つカソー
ドに対する取付け,交換も容易なマグネトロンスパッタ
リング装置用ターゲットを提供する。 【構成】 厚み方向に関して上部材3u と下部材3d
ターゲットを分割し、下部材3d を上部材3u との間に
バッキングプレート2との間に挟み込む。上部材3u
は、ターゲットホルダ4でバッキングプレート2に圧着
固定される。下部材3d は、更にエロージョンを受ける
下部材3d と周辺部材3e とに分割しても良い。周辺部
材3e としては、熱伝導性の良好な材質でできたものを
使用し、バッキングプレートとしての機能を兼ねさせる
こともできる。 【効果】 エロージョンの形状に合せた分割型としてい
るので、スパッタ粒子として有効に消費される割合が高
く、組立て,交換等も容易になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、減圧雰囲気中で鋼板等
の基板に薄膜を形成するマグネトロンスパッタリング装
置に使用されるカソードに関する。
【0002】
【従来の技術】高速製膜法として、スパッタ粒子に磁界
を印加するマグネトロンスパッタリング法が開発されて
いる。たとえば、マグネトロンスパッタリング法で使用
されるプレナー型の装置は、図1に示すように、カソー
ド本体1上にバッキングプレート2を載せ、その上に平
板状のターゲット3を配置する構造のカソード部をもっ
ている。ターゲット3としては、カソードの大きさにも
よるが、一対物ではなく、図示する分割型を採用するこ
ともできる。ターゲット3は、バッキングプレート2に
押し付け固定するターゲットホルダ4,5等によって所
定位置に保持される。カソード部は、図1の点線に沿っ
て切断した断面を図2に示すように、ヨーク6で互いに
連結された磁石7,8を内蔵している。符番9は、ター
ゲットホルダ4,5をカソード本体1に固定するネジで
ある。
【0003】ターゲット3から放出された二次電子は、
ターゲット3の下方に配置された磁石7,8からターゲ
ット3上に漏洩する磁界及びターゲット3の上面との間
に拘束され、プラズマとの衝突が活発になる。その結
果、プラズマの電離が促進され、強力なプラズマが発生
する。二次電子の密度は、磁力線がターゲット3の表面
と平行になる領域で最も大きくなる。したがって、この
領域で、最も強力なプラズマが発生する。電子によって
イオン化されたプラズマガスは、電界のエネルギーを受
け、ターゲット3に対してほぼ垂直に入射し、ターゲッ
ト3から原子を放出させる。放出された原子は、飛翔し
て基板表面に皮膜を形成する。
【0004】ターゲット原子の放出は、プラズマにより
ターゲット3がスパッタリングされる現象でもある。こ
のとき、ターゲット3の消耗量は、プラズマの強度に比
例する。通常のマグネトロンスパッタリング法では、磁
石7と8とのほぼ中央に当るターゲット3の中央部に高
速プラズマが集中するため、図2に斜線で示した領域A
e のエロージョンが多くなる。すなわち、ターゲット3
が不均一に消耗し、周辺部が十分な肉厚をもっているに
も拘らず、新規なターゲットと取り替える必要が生じ
る。ターゲット3の利用効率は、当初の体積A0 に対し
てスパッタリングに消費された体積Ae の比率Ae /A
0 で表される。通常のマグネトロンスパッタリング法で
は、ターゲット3の不均一な消耗のため、利用効率がA
e /A0 =20〜30%と低く、コスト高の原因になっ
ている。ターゲット3の不均一な消耗に起因する低い利
用効率を改善するため、従来から種々の提案が行われて
いる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ターゲットの不均一な
消耗は、磁界の発生状態を調整することにより抑制され
る。この種の方法としては、補助的な磁石の配置によっ
て磁界を変化させること(特開昭62−263637号
公報),ターゲットに対して磁界発生手段を相対的に移
動させること(特開昭63−1255675号公報)等
がある。しかし、補助磁石の使用や磁界発生手段の移動
は、設備の製造コストを上昇させ、皮膜形成時の操作を
複雑にする原因となる。また、ターゲットの利用効率を
高めるために既設の装置を改造すると、磁界の変化に応
じてプラズマ発生状態が変化する。その結果、製膜速度
や製膜した皮膜の厚み分布等が変動し、作業の標準化が
再度必要とされ、作業時間が長くなる。
【0006】ターゲットの形状を改良することにより、
ターゲットの利用効率を高めることも試みられている。
たとえば、特開昭61−3881号公報では、図3に示
すように、不均一な消耗の原因となるエロージョンが発
生し易い部位のターゲット表面を凸状に形成することが
紹介されている。一部表面を凸状にしたターゲット3を
使用するとき、平板状のターゲット(図2)に比較して
確かに見掛け上の利用効率は大幅に向上する。しかし、
溶解・圧延により図3のターゲット3を作製するとき、
平板状ターゲット(図2)の厚みtに比較して2倍の厚
み2tをもつターゲット素材を用意する必要がある。具
体的には、図4に示すように厚み2tをもつターゲット
素材30 を加工して、図3のターゲットを得る。この場
合、素材費は、単純計算で平板状ターゲット(図2)の
2倍となる。しかも、凸部を加工するため、図4に斜線
で示す部分31 をカットする必要が生じるが、エロージ
ョンの形状に合せた凸部を作り出す加工は困難である。
加工は、凸部を図5に示す単純形状にすることにより、
図4の場合に比較して簡単にできる。しかし、この場合
も厚み2tのターゲット素材30 を必要とすることか
ら、素材費が高くなる。
【0007】ターゲット素材30 から目標形状を持つタ
ーゲット3を作製する際、種々の問題が随伴する。たと
えば、Ti,Cr等の金属やある種の金属間化合物のよ
うに硬くて脆い材質のターゲット素材では、加工中にタ
ーゲットを破損する虞れがある。ターゲット素材30
ら分離された部分31 は、再利用のために溶解される
が、カッティングの際に工具等に由来する不純物の混入
が避けられず、溶解も単純には行われない。そのため、
加工費や歩留り等が反映され、結果的にターゲット3の
コストが高くなる。部分的に凸部を形成したターゲット
3(図3)を使用してスパッタリングを行うと、ターゲ
ット3の凸部における表面から磁石7,8までの距離が
長くなる。マグネトロン放電を生じさせる磁界は、距離
に応じて弱くなり、ターゲット3のエッチング速度が低
下する。すなわち、部分的に凸部を形成したターゲット
3(図3)は、エッチング性においても問題がある。
【0008】距離の変化に起因する問題は、特開昭63
−235471号公報で紹介されているように、表面を
平坦にし、裏面をスパッタリング後のエロージョン形状
と相似形にしたターゲットを使用することにより解消で
きる。ターゲット3は、図6に示すように、裏面形状に
沿った形状のバッキングプレート2と密着される。この
場合も、見掛け上のターゲット利用効率は向上するが、
エロージョンの形状に沿ってターゲットを加工する必要
がある。そのため、ターゲットの加工費が高く、トータ
ルでみてターゲットのコストを低減できない。加工,素
材の歩留り等を考慮したコスト面から判断すると、ター
ゲットとしては、エロージョンが大きい部分のみを厚肉
化するよりも、厚み2tの平板のままで使用する方が有
利である。平板状ターゲットの使用を前提としてターゲ
ット利用効率を向上させるためには、ターゲットを分割
方式にし、エロージョンされる部分だけを交換すること
が考えられる。
【0009】たとえば、特開平3−287763号公報
では、図7に示すように、ターゲットをエロージョンの
起こる部分32 とエロージョンが起こらない部分33
分割し、部分32 を比較的厚肉にしている。ターゲット
は、通常ろう付け等のボンディング10によってバッキ
ングプレート2に固定されているが、分割方式のターゲ
ットではボンディングが繁雑になる。その結果、コスト
が高くなる。特開昭62−20867号公報には、各分
割部分を相互に離し或いは密着させた同様な分割型ター
ゲットが紹介されている。図8に示すように各分割部分
を密着させてターゲット3を組み立てると、エロージョ
ンされる部分32 の熱変形がエロージョンされない部分
3 に及び、ターゲット3の交換が困難になる。他方、
各分割部分を相互に離してターゲット3を組み立てる
と、ターゲット3の下にあるバッキングプレート2がス
パッタリングされ、バッキングプレート2から放出され
た原子が不純物として皮膜に混入する。しかも、エロー
ジョンの起きるターゲット3をろう付け等のボンディン
グやネジ止め等によってバッキングプレート2に固定す
ることが要求され、ターゲットの交換作業が繁雑にな
る。
【0010】分割型のターゲット3においては、多くの
場合、エロージョンされる部分32をエロージョンされ
ない部分33 内に嵌め込む方式で各分割部分が接続され
ている。材質によっては、スパッタリング中に発生した
熱応力によりターゲット3が変形し、部分32 と部分3
3 との境界が強固に接合されることがある。その結果、
エロージョンされた部分32 だけを交換することが困難
になる。エロージョンされる領域は、一般にターゲット
3の面内方向で異なり、基板に対面したターゲット表面
部が最も広く、バッキングプレート2との接触面に近付
くに従って狭くなる。このエロージョンされる領域に合
せてターゲット3を分割しようとすると、複雑な分割形
状が必要とされ、ターゲットの機械加工が困難になる。
その結果、ターゲットの利用効率が向上しても、加工コ
ストが高く、トータルでみたコスト低減が図れない。こ
の欠点は、特に硬くて脆い金属間化合物等の材質でター
ゲットを作製するとき顕著になる。
【0011】ところで、ターゲットは、エロージョンの
進行に伴って加えられた熱応力等によって変形する。タ
ーゲットの変形は、バッキングプレートに対する密着性
を低下させ、バッキングプレートを介した放熱を抑制す
る原因になる。その結果、冷却効率が低下し更に変形が
助長され、ターゲットが割れることもしばしば起こって
いる。本発明は、このような問題を解消すべく案出され
たものであり、厚み方向に関して上部及び下部に分割し
たターゲットを使用することにより、ターゲットの利用
効率を改善し、ターゲットの素材費及び加工費を含めた
製造コストを低減し、且つカソードに対するターゲット
の取付けを容易にすることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明のマグネトロンス
パッタリング用カソードは、その目的を達成するため、
厚み方向に関し上部材と下部材に分割したターゲット
と、前記下部材を前記上部材との間に挟むバッキングプ
レートと、前記上部材を前記バッキングプレートに圧着
固定するターゲットホルダとを備えている。下部材は、
更にエロージョンを受ける下部材と周辺部材とに分割し
ても良い。この場合、周辺部材として熱伝導性の良好な
材質でできたものを使用し、バッキングプレートとして
の機能を兼ねさせることが好ましい。本発明に従ったタ
ーゲットは、たとえば図9に示すように、上部材3u
び下部材3d と厚み方向に関して分割されている。下部
材3d は、更にエロージョンされる部分3d 及び周辺部
材3e に分割しても良い。エロージョンされる部分3d
の幅は、エロージョンの形状に応じて定められる。エロ
ージョンが生じない周辺部材3e としては、ターゲット
3の放熱特性を改善するため、熱伝導性の良好なCu等
の材質を使用できる。また、周辺部材3e にバッキング
プレートとしての機能を兼ねさせ、或いは周辺部材3e
とバッキングプレート2とを一体物とすることも可能で
ある。各部材3u ,3d ,3e を、ターゲットホルダ4
及びターゲットホルダ5を介して上方からネジ9でカソ
ード本体1に締め付け固定する。
【0013】
【作用】この分割方式によるとき、ターゲットの利用効
率Effは、Eff=Ae /(A3u+A3d)で表される。た
だし、Ae はエロージョンされた体積,A3uは上部材3
u の体積,A3dは下部材3d の体積を示す。したがっ
て、ターゲット3全体の体積に周辺部材3e の体積が占
める割合に応じて、ターゲットの利用効率Effが向上す
る。上部材3u 及び下部材3d 共に単純な直方体形状で
あるので、材質的に加工困難なターゲット3であっても
容易に作製でき、加工費が低く抑えられる。上部材3
u ,下部材3d 及び周辺部材3e の厚みを等しくすると
き、更に加工費が低くなる。
【0014】熱伝導性が良好な材質の周辺部材3e をバ
ッキングプレートとして兼用すると、従来の一体型ター
ゲット(図2)と比較して、周辺部材3e を含めたバッ
キングプレート2に対する接触面積が増加する。特に、
下部材3d が周辺部材3e に嵌め込まれていることか
ら、非常に大きな接触面積が得られる。したがって、下
部材3d がスパッタリングされるまでエロージョンが進
行したとき、顕著な冷却効果が発現する。更に、上部材
u は、一体型ターゲット(図2)と比較して、非エロ
ージョン領域の厚みが薄くなっている。そのため、スパ
ッタリングによって上部材3u に蓄えられた熱エネルギ
ーは、効率よく周辺部材3e に伝達され放散される。こ
のようなことから、熱によるターゲット3の変形や焼付
き等による変質が防止される。仮に、ターゲットに変形
が生じても、一体型ターゲット(図2)と比較して下部
材3d の幅が小さくなっているので、変形量が非常に小
さく、ターゲット3に割れ等のトラブルが生じない。
【0015】上部材3u は、ターゲットホルダ4によっ
てバッキングプレート2に圧着固定されている。そのた
め、ろう付け等のボンディング作業を必要としない。下
部材3d も、バッキングプレート2,周辺部材3e 及び
上部材3u で圧着固定されているので、同様にろう付け
等のボンディング作業を必要としない。すなわち、本発
明に従ったターゲット3は、機械的な固定により簡単に
組み立てられ、或いは部分的に交換される。エロージョ
ンの進行により下部材3d がスパッタリングされている
とき、下部材3d は、上部材3u の残部,バッキングプ
レート2及び周辺部材3e の間に保持されている。その
ため、下部材3d にズレ等の移動が生じることなく、安
定した条件下でスパッタリングが継続される。上部材3
u の残部,バッキングプレート2及び周辺部材3e によ
る下部材3dの確実な保持は、ターゲット3の下方に基
板を配置することを可能にする。たとえば、図10に示
すように、カソード本体1を下向きに配置し、ターゲッ
ト3から放出された原子を下方に飛翔させ、基板Sに被
着させることも可能になる。図10に示した位置関係
は、鋼帯等の長尺物を連続してコーティングする際、長
尺物の保持を考慮すると有利な配置といえる。
【0016】
【実施例】上部材3u 及び下部材3d の材質をTiと
し、バッキングプレート2及び周辺部材3e の材質をC
uとした。厚み6mm及び幅100mmの上部材3u
厚み6mm及び幅20mmの下部材3d とを組み合わ
せ、図10に示すようにターゲット3を下向きに配置し
た。この状態でスパッタリングを行ったところ、エロー
ジョンの形状は、厚み12mm及び幅100mmの一体
型ターゲット3(図2)を使用した場合と同様であっ
た。一体型ターゲット3(図2)を使用した場合、ター
ゲット3の利用効率は28%に過ぎなかった。他方、上
部材3u と下部材3d とを組み合わせた本発明例のター
ゲット3では、利用効率が47%となった。この対比か
ら、本発明例では、ターゲット3の利用率が1.7倍と
高くなっていることが判る。また、スパッタリング終了
後に残りの上部材3u 及び下部材3d を観察したとこ
ろ、割れ,変形等の欠陥は何ら検出されなかった。
【0017】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、厚み方向に分割したターゲットを使用することによ
り、高いターゲット利用効率でスパッタリングを行うこ
とができる。また、個々の分割部材が容易に作製され、
組立てや交換も簡単であるため、加工費及び素材歩留り
を考慮したターゲットのコストが大幅に低減される。し
かも、バッキングプレートに対する接触面積を大きく取
れることから、冷却効率が向上し、ターゲットの変形や
割れが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来のプレナー型マグネトロンスパッタリン
グ装置におけるカソード部の構造
【図2】 同カソード部の断面構造
【図3】 ターゲットの一部を凸状にしたカソード部の
構造
【図4】 同ターゲットの作製を説明する図
【図5】 単純な凸部を形成した従来のターゲット
【図6】 エロージョンの形状に裏面を合せた従来のタ
ーゲット
【図7】 エロージョンが起きる部分と起きない部分と
に分割した従来のターゲット
【図8】 同じくエロージョンが起きる部分と起きない
部分とに分割した従来のターゲット
【図9】 本発明に従ったカソード部の断面構造
【図10】 ターゲットを下向きに配置したカソード部
の断面構造
【符号の説明】 1:カソード本体 2:バッキン
グプレート 3:ターゲット 3u :ターゲ
ットの上部材 3d :エロージョンされる下部材 3e :エロージョンされない周辺部材 4,5:ター
ゲットホルダ 6:ヨーク 7,8:磁石 9:ネジ Ae :エロージョンされた領域 S:コーティ
ングされる基板

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 厚み方向に関し上部材と下部材に分割し
    たターゲットと、前記下部材を前記上部材との間に挟む
    バッキングプレートと、前記上部材を前記バッキングプ
    レートに圧着固定するターゲットホルダとを備えている
    マグネトロンスパッタリング用カソード。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の下部材は、エロージョン
    される下部材と、エロージョンされない周辺部材とに更
    に分割されているマグネトロンスパッタリング用カソー
    ド。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の周辺部材は、熱伝導性の
    良好な材質であるマグネトロンスパッタリング用カソー
    ド。
JP28650293A 1993-11-16 1993-11-16 マグネトロンスパッタリング用カソード Withdrawn JPH07138754A (ja)

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JP28650293A JPH07138754A (ja) 1993-11-16 1993-11-16 マグネトロンスパッタリング用カソード

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002039480A3 (en) * 2000-11-09 2003-02-13 Williams Advanced Materials In Ion beam deposition targets having a replaceable insert
JP2012158096A (ja) * 2011-01-31 2012-08-23 Dainippon Printing Co Ltd ガスバリア性シート及びその製造方法

Cited By (3)

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Effective date: 20010130