JPH07126268A

JPH07126268A - １，８−ナフチリジン誘導体

Info

Publication number: JPH07126268A
Application number: JP5272507A
Authority: JP
Inventors: Naomasa Shibuya; 直応澁谷; Makoto Inoue; 誠井上; Kenichi Kawamura; 健一河村; Kinji Hashimoto; 謹治橋本; Yukio Sugimoto; 幸雄杉本; Akifumi Hagi; 彰文萩; Takuji Kamisako; 卓司上迫
Original assignee: Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1993-10-29
Filing date: 1993-10-29
Publication date: 1995-05-16

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】医薬品として有用な化合物を提供する。【構成】一般式〔式中Ｒ¹はＯＨ又はアルキルアミノ基などを、Ｒ²は
下記式などを、Ｒ³は低級アルキル基など、Ｒ⁴は水素又は低
級アルキル基、を示す〕で表わされる１，８−ナフチリ
ジン誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規な１，８−ナフチ
リジン誘導体に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明の１，８−ナフチリジン誘導体は
文献未載の新規化合物である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は医薬品として
有用な化合物の提供を目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明によれば下記一般
式（１）で表される１，８−ナフチリジン誘導体が提供
される。

【化４】〔式中、Ｒ¹はヒドロオキシ基、低級アルキルアミノ
基、ジ低級アルキルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジ
ノ基又は３−チアゾリジニル基を、Ｒ²は基

【化５】（式中、Ｒ⁵は水素原子又はヒドロオキシ基を、Ｒ⁶は
水素原子、低級アルキル基、ピリジル基、チエニル基又
は置換基として低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子
の１〜２個を有することのあるフェニル基を示す）又は
基

【化６】（式中、Ｒ⁷は低級アルキル基、フェニル基又はフェニ
ル低級アルキル基を示す）を、Ｒ³は低級アルキル基又
は置換基として低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子
の１〜２個を有することのあるフェニル基を、Ｒ⁴は水
素原子又は低級アルキル基を示す。〕

【０００５】上記一般式（１）において示される各基と
しては、具体的にはそれぞれ以下の各基を例示できる。
即ち、低級アルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ
ｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖又は分
枝鎖状低級アルキル基を例示できる。低級アルキルアミ
ノ基としては、例えばメチルアミノ、エチルアミノ、プ
ロピルアミノ、ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシ
ルアミノ基等を例示できる。ジ低級アルキルアミノ基と
しては、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプ
ロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジ
ヘキシルアミノ、エチルメチルアミノ基等を例示でき
る。低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。フェニル
低級アルキル基としては、例えばベンジル、１−フェニ
ルエチル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピ
ル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、６−
フェニルヘキシル基等を例示できる。ハロゲン原子に
は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が包含
される。チエニル基には、２−チエニル、３−チエニル
基が包含される。ピリジル基には、２−ピリジル、３−
ピリジル、４−ピリジル基が包含される。置換基として
低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子の１〜２個を有
することのあるフェニル基としては、フェニル基の他に
例えば４−クロロフェニル、３−クロロフェニル、２−
クロロフェニル、４−ブロモフェニル、４−ヨードフェ
ニル、４−フルオロフェニル、２，４−ジクロロフェニ
ル、３，４−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェ
ニル、４−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、
２−メトキシフェニル、４−エトキシフェニル、４−プ
ロポキシフェニル、４−イソプロポキシフェニル、４−
ブトキシフェニル、４−ペンチルオキシフェニル、４−
ヘキシルオキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニ
ル、３，４−ジメトキシフェニル、３，５−ジメトキシ
フェニル基等を例示できる。

【０００６】上記一般式（１）で表される本発明の１，
８−ナフチリジン誘導体は、優れた抗炎症作用、免疫調
節作用、鎮痛作用、解熱作用等を有しており、免疫調節
剤、消炎・鎮痛・解熱剤として、慢性関節リウマチ、腎
炎、乾癬、全身性エリテマトーデス、腰痛症等の治療及
び予防に有用である。

【０００７】以下、本発明の上記一般式（１）で表され
る１，８−ナフチリジン誘導体は、各種の方法により製
造できる。その具体例を下記反応工程式に示す。〔反応工程式−１〕

【化７】〔式中、Ｒ^1aはアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低
級アルキルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基又は
３−チアゾリジニル基を、Ｒ^5aは低級アルキル基、ピリ
ジル基、チエニル基又は置換基として低級アルコキシ基
もしくはハロゲン原子の１〜２個を有することのあるフ
ェニル基をそれぞれ示し、Ｒ³及びＲ⁴は前記に同
じ。〕上記反応工程式−１に示す、化合物（２）のビル
スマイヤー反応は、クロロホルム、ジクロロメタン、
１，２−ジクロロエタン、トルエン、ベンゼン等の不活
性溶媒中、Ｎ，Ｎ−二置換ホルムアミドと酸化ハロゲン
化物とを用いて処理することにより実施される。Ｎ−二
置換ホルムアミドとしては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド
等を、酸化ハロゲン化物としては例えばオキシ塩化リ
ン、オキシ臭化リン等を例示でき、通常これらはそれぞ
れ化合物（２）に対して１〜１０倍モル量、好ましくは
３〜４倍モル量程度用いるのがよい。反応条件として
は、−２０〜１５０℃程度の温度で、通常４〜３０時
間、好ましくは８〜２０時間の反応時間が採用される。
次に、得られる化合物（３）とアミン類（４）との反応
は、溶媒としてメタノール、エタノール、ジクロロメタ
ン、ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）
等の不活性溶媒を単独で又は混合して用いて行われる。
アミン類（４）の使用量は、通常化合物（３）に対して
１．５〜２倍モル量とするのが一般的で、反応は０℃〜
室温付近の温度にて約３０分〜３時間を要して行われ
る。続いて、化合物（５）をグリニャール試薬（６）と
反応させることにより、化合物（１ａ）を得ることがで
きる。反応は、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）等の不活性溶媒中、１〜１．５当量のグリニ
ャール試薬（６）を用い、０℃〜溶媒の沸点付近の温度
にて約３０分〜３時間で実施される。尚、上記反応工程
式−１における出発化合物（２）は、例えば、Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．，３１，２１０８（１９８８）に記載の
方法に準じて製造することができる。

【０００８】〔反応工程式−２〕

【化８】〔式中、Ｒ^1a、Ｒ³及びＲ⁴は前記に同じ。〕反応工程
式−２に示す様に、化合物（５）を還元することによ
り、化合物（１ｂ）を得ることができる。該還元反応
は、還元剤として水素化硼素ナトリウム、水素化硼素カ
リウム、水素化硼素リチウム、水素化シアノ硼素ナトリ
ウム、水素化トリエチル硼素ナトリウム等の水素化硼素
化合物を１当量乃至過剰量用い、メタノール、エタノー
ル等のアルコール系溶媒中又は該アルコール系溶媒とジ
クロロメタン、ジエチルエーテル等との混合溶媒中、０
℃〜室温付近の温度にて約３０分〜３時間を要して行わ
れる。

【０００９】〔反応工程式−３〕

【化９】〔式中、Ｒ^1a、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記に同じ。〕上
記反応工程式−３における化合物（１ｃ）の還元反応
は、トリフルオロ酢酸、酢酸、プロピオン酸等のカルボ
ン酸系溶媒中還元剤としてトリアルキルシランを用いて
行われる。該トリアルキルシランとしては、例えばトリ
メチルシラン、トリエチルシラン、トリプロピルシラ
ン、トリイソプロピルシラン等を例示でき、これらは通
常２当量以上用いられる。反応条件は、０℃〜室温程度
の反応温度、約１５分〜２時間程度の反応時間が採用さ
れる。

【００１０】〔反応工程式−４〕

【化１０】〔式中、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁶は前記に同じ。〕上記反応
工程式−４において、化合物（３）の化合物（７）への
変換反応は、水、メタノール、エタノール、プロパノー
ル等の溶媒中、化合物（３）を約１〜１０倍当量のヒド
ロキシルアミン鉱酸塩と処理することにより行われる。
反応温度は０〜１００℃、好ましくは２０〜５０℃と
し、反応時間は０．５〜５時間、好ましくは０．５〜１
時間とするのが適当である。次に、化合物（７）の脱水
反応は、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、ジオキサン、ベン
ゼン、トルエン等の不活性溶媒中、脱水剤としてオキシ
塩化リン、オキシ臭化リン等を化合物（７）に対して１
〜１０倍モル量用い、０〜１００℃程度、好ましくは０
〜５０℃程度で、約１〜８時間、好ましくは１〜３時間
処理することにより実施される。得られる化合物（８）
は、水、メタノール、エタノール、水−メタノール、水
−エタノール等の溶媒中、アルカリ水溶液を添加して溶
媒の沸点付近の温度で処理することにより化合物（９）
に変換される。該アルカリ水溶液としては、水酸化ナト
リウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム
水溶液等が挙げられ、これらは通常２当量以上となる様
に添加される。反応時間は約３０分〜３時間の範囲が適
当である。続いて、化合物（９）をグリニャール試薬
（１０）と反応させることにより、化合物（１ｅ）を得
ることができる。反応に用いる不活性溶媒としては、前
記化合物（５）とグリニャール試薬との反応におけるも
のと同様のものが採用される。尚、グリニャール試薬
（１０）の使用量は３〜５当量とするのがよく、反応は
０℃〜溶媒の沸点付近の温度にて約３０分〜３時間を要
して行われる。

【００１１】上記各反応工程式に示した各工程における
目的化合物は、通常の分離手段により容易に単離精製で
きる。該手段としては例えば吸着クロマトグラフィー、
プレパラティブ薄層クロマトグラフィー、再結晶、溶媒
抽出等を例示できる。尚、本発明化合物の一部には光学
異性体が存在するものがあり、本発明は当然それらを包
含する。上記光学異性体は、慣用の分割法、例えば光学
分割剤を使用する方法等で分離することができる。更
に、本発明化合物はこれに常法に従い適当な酸性化合物
を付加反応させることにより、容易に医薬的に許容され
る酸付加塩とすることができ、該酸付加塩は遊離形態の
本発明化合物と同様の薬理活性を有しており、本発明は
かかる酸付加塩をも包含する。上記酸付加塩を形成し得
る酸性化合物としては、例えば塩酸、硫酸、リン酸、臭
化水素酸等の無機酸及びマレイン酸、フマール酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、ベンゼンスルホン
酸等の有機酸を例示できる。

【００１２】

【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、本
発明化合物の製造例を実施例として挙げる。

【００１３】〔実施例１〕１−（３−クロロフェニル）
−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−３−（１−ヒドロ
キシエチル）−１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オ
ンの製造（工程１）１−（３−クロロフェニル）−４−ヒドロキ
シ−１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オン２０ｇを
クロロホルム１５０ｍｌに溶解し、ＤＭＦ２０ｍｌを加
えて０℃に冷却し、オキシ塩化リン２２．５ｍｌを滴下
した。その後、この混合液を１晩加熱還流した。反応混
合液を放冷し、氷の中に注ぎ込み、クロロホルムで抽出
した。クロロホルム層を集めて水洗いし、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣の粗結晶をｎ−
ヘキサンで洗浄して４−クロロ−１−（３−クロロフェ
ニル）−３−ホルミル−１，８−ナフチリジン−２（１
Ｈ）−オンを１８ｇ得た。融点：１４５〜１４７℃¹ Ｈ−ＮＭＲ７．１５−７．６１（５Ｈ，ｍ），８．
５１−８．６２（２Ｈ，ｍ），１０．５０（１Ｈ，ｓ）
〔ＣＤＣｌ₃〕（工程２）工程１で得られた化合物１５．０ｇ（４６．
７ｍｍｏｌ）をメタノール３０ｍｌ及びジクロロメタン
３０ｍｌに溶かし、５０％ジメチルアミン水溶液１０．
６ｇを加え、室温で３０分攪拌した。反応液を減圧濃縮
し、残渣に水２０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出した
（１００ｍｌ×３回）。酢酸エチル層を集めて水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留
去した。得られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して１−
（３−クロロフェニル）−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ）−３−ホルミル−１，８−ナフチリジン−２（１
Ｈ）−オン１３．６ｇ（４１．３ｍｍｏｌ）を得た。融点：１５０〜１５３℃¹ Ｈ−ＮＭＲ３．２９（６Ｈ，ｓ），７．１４−７．
５１（５Ｈ，ｍ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
８），８．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．４），１０．２８
（１Ｈ，ｓ）〔ＣＤＣｌ₃〕（工程３）工程２で得られた化合物２．５ｇ（７．６ｍ
ｍｏｌ）を無水ＴＨＦ３０ｍｌに溶解し、アルゴン気流
下０℃で攪拌し、そこに３Ｎ臭化メチルマグネシウムジ
エチルエーテル溶液３．０ｍｌを加えた。室温で３０分
攪拌した後、水２０ｍｌを加え、次いでクエン酸を加え
て中和し、酢酸エチルで抽出した（５０ｍｌ×３回）。
酢酸エチル層を集めて水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶
をｎ−ヘキサンで洗浄して目的化合物１．５ｇ（４．４
ｍｍｏｌ）を得た。得られた化合物の構造及び物性（¹
Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に記載する。〔実施例２〜２６〕実施例１と同様にして、本発明の各
化合物を製造した。得られた化合物の構造及び物性（¹
Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に併記する。

【００１４】〔実施例２７〕１−（３−クロロフェニ
ル）−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−３−ヒドロキ
シメチル−１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オンの
製造１−（３−クロロフェニル）−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノ）−３−ホルミル−１，８−ナフチリジン−２
（１Ｈ）−オン（実施例１の工程１〜２で得られた化合
物）１．０ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン５ｍ
ｌ及びエタノール５ｍｌに溶解し、室温で攪拌しながら
水素化硼素ナトリウム１５０ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）を
加えた。室温で３０分攪拌した後、水１０ｍｌを加え、
更にクエン酸を加えて中和し、ジクロロメタンで抽出し
た（３０ｍｌ×３回）。ジクロロメタン層を集めて水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減
圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出液・・・酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：１）
で精製して目的化合物０．７５ｇを得た。得られた化合
物の構造及び物性（¹Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に
記載する。〔実施例２８〜３９〕実施例２７と同様にして、本発明
の各化合物を製造した。得られた化合物の構造及び物性
（¹Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に併記する。

【００１５】〔実施例４０〕１−（３−クロロフェニ
ル）−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−３−エチル−
１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オンの製造実施例１で得られた化合物３００ｍｇ（０．８７ｍｍｏ
ｌ）をトリフルオロ酢酸５ｍｌに溶解し、トリエチルシ
ラン０．５ｍｌを室温で加え、室温で３０分攪拌した。
反応終了後、トリフルオロ酢酸を減圧留去し、残渣を酢
酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水
で順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液・・・酢酸エチル：ｎ−ヘキサン
＝２：１）で精製し、目的化合物２４０ｍｇ（０．７３
ｍｍｏｌ）を得た。得られた化合物の構造及び物性（¹
Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に記載する。〔実施例４１〜６２〕実施例４０と同様にして、本発明
の各化合物を製造した。得られた化合物の構造及び物性
（¹Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に併記する。〔実施例６３〕３−メチル−４−（Ｎ−メチルアミノ）
−１−（ｎ−プロピル）−１，８−ナフチリジン−２
（１Ｈ）−オンの製造適当な原料化合物を用い、実施例１と同様にして３−ヒ
ドロキシメチル−４−（Ｎ−メチルアミノ）−１−（ｎ
−プロピル）−１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オ
ンを製造した。次に、これを用いて実施例４０と同様に
して目的化合物を得た。得られた化合物の構造及び物性
（¹Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に記載する。

【００１６】〔実施例６４〕４−ヒドロキシ−３−（１
−イミノプロピル）−１−（ｎ−プロピル）−１，８−
ナフチリジン−２（１Ｈ）−オンの製造（工程１）４−ヒドロキシ−１−（ｎ−プロピル）−
１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オン１０ｇをクロ
ロホルム１００ｍｌに溶解し、ＤＭＦ１４ｍｌを加えて
−１０℃に冷却し、オキシ塩化リン１５ｍｌを滴下し
た。その後、室温で２時間攪拌し、更に７０℃で１晩攪
拌した。反応混合物に水５０ｍｌを加えてジクロロメタ
ンで抽出し（１００ｍｌ×３回）、ジクロロメタン層を
集めて減圧濃縮した。残渣の粗結晶をジイソプロピルエ
ーテルで洗浄して４−クロロ−３−ホルミル−１−（ｎ
−プロピル）−１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オ
ンを１１ｇ得た。融点：７０〜７２℃¹ Ｈ−ＮＭＲ１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４），
１．６５−１．９０（２Ｈ，ｍ），４．４９（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．４），７．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．
４，７．９），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），
８．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．４），１０．５４（１
Ｈ，ｓ）
〔ＣＤＣｌ₃〕（工程２）工程１で得られた化合物１０ｇをエタノール
１００ｍｌに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩１０ｇ
を加え、室温で４０分攪拌した。反応混液を０℃に冷却
し、析出した結晶を濾取して４−クロロ−１−（ｎ−プ
ロピル）−１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オン−
３−カルバルデヒドオキシム７．５ｇを得た。融点：１８６〜１８８℃¹ Ｈ−ＮＭＲ０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４），
１．５７−１．７５（２Ｈ，ｍ），４．３４（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．７），７．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．
７，８．２），８．２４（１Ｈ，ｓ），８．４３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），８．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
７），１１．９２（１Ｈ，ｓ）〔ＣＤＣｌ₃〕（工程３）工程２で得られた化合物３．０ｇをＴＨＦ５
０ｍｌに溶解し、オキシ塩化リン５．０ｇを０℃で滴下
した。室温で１時間攪拌した後、水１００ｍｌを加え、
析出した結晶を濾取して４−クロロ−３−シアノ−１−
（ｎ−プロピル）−１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）
−オン２．３ｇを得た。融点：１３１〜１３２℃¹ Ｈ−ＮＭＲ１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５），
１．６９−１．８５（２Ｈ，ｍ），４．４９（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．８），７．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．
６，８．６），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６），
８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６）〔ＣＤＣｌ₃〕（工程４）工程３で得られた化合物２．０ｇ（８．１ｍ
ｍｏｌ）をエタノール２５ｍｌに溶解し、そこへ水酸化
ナトリウム１．３ｇ（３３ｍｍｏｌ）を水１０ｍｌに溶
かした水溶液を加え、８０℃で１０分間攪拌した。反応
終了後、エタノールを減圧留去し、残渣に水２０ｍｌを
加え、３Ｎ塩酸を加えて酸性にした。析出した結晶を濾
取し、水で洗浄した後、８０℃で１時間減圧乾燥して３
−シアノ−４−ヒドロキシ−１−（ｎ−プロピル）−
１，８−ナフチリジン−２（１Ｈ）−オン１．７７ｇ
（７．７ｍｍｏｌ）を得た。融点：２２８〜２３０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ０．９７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９），
１．６６−１．７４（２Ｈ，ｍ），４．３３（２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．９），４．８９（１Ｈ，ｂｒｓ），７．４
３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，７．９），８．５２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９），８．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
９）〔ＤＭＳＯ−ｄ₆〕（工程５）工程４で得られた化合物１．０ｇ（４．４ｍ
ｍｏｌ）を無水ＴＨＦ２０ｍｌに溶解し、アルゴン気流
下０℃に冷却し、３Ｎ臭化エチルマグネシウムジエチル
エーテル溶液３．７ｍｌ（約２．５当量）を滴下した。
室温で１時間攪拌した後、水１０ｍｌを加え、次いでク
エン酸を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した（５０ｍ
ｌ×２回）。酢酸エチル層を集めて水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得
られた粗結晶をｎ−ヘキサンで洗浄して目的化合物０．
８８ｇ（３．４ｍｍｏｌ）を得た。得られた化合物の構
造及び物性（ ¹Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に記載す
る。

【００１７】〔実施例６５〜７２〕実施例６４と同様に
して、本発明の各化合物を製造した。得られた化合物の
構造及び物性（¹Ｈ−ＮＭＲ及び融点）を第１表に併記
する。

【表１】

【表２】

【表３】

【表４】

【表５】

【表６】

【表７】

【表８】

【表９】

【表１０】

【表１１】

【表１２】

【表１３】

【表１４】

【表１５】

【表１６】

【表１７】

【表１８】

【表１９】

【表２０】

【表２１】

【表２２】

【表２３】

【表２４】

【表２５】

【表２６】

【表２７】

【表２８】

【表２９】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者橋本謹治徳島県鳴門市撫養町北浜字宮の東７番地の８ (72)発明者杉本幸雄徳島県鳴門市大津町吉永79−１ (72)発明者萩彰文徳島県板野郡松茂町満穂字満穂開拓96−１ (72)発明者上迫卓司徳島県板野郡松茂町広島字南川向51番地の６

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式【化１】〔式中、Ｒ¹はヒドロオキシ基、低級アルキルアミノ
基、ジ低級アルキルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジ
ノ基又は３−チアゾリジニル基を、Ｒ²は基【化２】（式中、Ｒ⁵は水素原子又はヒドロオキシ基を、Ｒ⁶は
水素原子、低級アルキル基、ピリジル基、チエニル基又
は置換基として低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子
の１〜２個を有することのあるフェニル基を示す）又は
基【化３】（式中、Ｒ⁷は低級アルキル基、フェニル基又はフェニ
ル低級アルキル基を示す）を、Ｒ³は低級アルキル基又
は置換基として低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子
の１〜２個を有することのあるフェニル基を、Ｒ⁴は水
素原子又は低級アルキル基を示す。〕で表される１，８
−ナフチリジン誘導体。