JPH07124775A - Microfabrication method - Google Patents

Microfabrication method

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JPH07124775A
JPH07124775A JP5293953A JP29395393A JPH07124775A JP H07124775 A JPH07124775 A JP H07124775A JP 5293953 A JP5293953 A JP 5293953A JP 29395393 A JP29395393 A JP 29395393A JP H07124775 A JPH07124775 A JP H07124775A
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JP
Japan
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groove
laser beam
mirror reaction
silver mirror
silver
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Application number
JP5293953A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Oohara
淳士 大原
Yoshitaka Goto
吉孝 後藤
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Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/362Laser etching
    • B23K26/364Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form a deeper groove and a hole, and to form the groove and the hole with a high aspect ratio in the microfabrication of the groove, the hole, etc., by using a laser beam. CONSTITUTION:An object 1 to be worked, is immersed in silver mirror reaction solution 4, and a laser beam 2 is perpendicularly made incident on the working surface 1a of the object 1 to be worked. The silver mirror reaction solution 4 is prepared by adding formic acid to silver nitrate solution added with excessive ammonia. A silver reflection film 5 is formed in a part where a temperature is locally increased, that is, in the parts of a groove and near the groove by irradiating with a laser beam. The reflectance of the laser beam on the side wall of the groove becomes large, etching in the lateral direction of the side wall is suppressed, the laser beam is propagated to the tip part of the groove by multipath reflection on the side wall, and is converged at its tip part. Consequently, the energy of the laser beam at the tip part of the groove is improved, and the formation of a deeper groove is possible. This is equivalent to a high aspect ratio.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、溝、穴等の微細加工技
術に関し、溝又は穴を極めて深くできるようにするこ
と、及び、横方向のエッチングを極力防止した、即ち、
高アスペクト比の加工を実現する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microfabrication technique for grooves, holes, etc., by making the grooves or holes extremely deep and by preventing lateral etching as much as possible.
The present invention relates to a method for realizing high aspect ratio processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、YAGレーザを用いて、セラミッ
クス基板を微細加工する方法が知られている。この方法
は、被加工物をKOH 水溶液、又は、純水に浸した状態
で、レーザを照射することで、溶融物が加工面に付着す
ることが防止されている。この方法を用いることで、溝
の側面を非常に滑らかにすることができる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a method for finely processing a ceramic substrate using a YAG laser has been known. In this method, the melt is prevented from adhering to the processed surface by irradiating a laser while the work is immersed in a KOH aqueous solution or pure water. By using this method, the side surface of the groove can be made extremely smooth.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法を用
いても、レーザビームの強度分布がガウス分布をしてい
ることから、レーザビームを1度だけ走査すると、溝
は、中心軸が一番深くなり周辺部が浅くなる。即ち、溝
の断面形状は、略半円形となる。この走査を何度か繰り
返して多重走査を行うと、溝の断面形状はV字形状とな
る。又、走査回数を如何に増加させても、溝の深さは、
レーザビームの強度に比例したある一定の値で飽和して
しまい、それ以上、溝を深く形成することができない。
However, even if this method is used, the intensity distribution of the laser beam has a Gaussian distribution. Therefore, when the laser beam is scanned only once, the groove has the largest center axis. It becomes deep and the peripheral part becomes shallow. That is, the groove has a substantially semicircular cross-sectional shape. When this scanning is repeated several times to perform multiple scanning, the cross-sectional shape of the groove becomes V-shaped. Also, no matter how the number of scans is increased, the depth of the groove is
It saturates at a certain value proportional to the intensity of the laser beam, and the groove cannot be formed deeper than that.

【0004】この原因について、発明者らは、次のよう
に考察した。レーザ光による微細加工では、レーザ光が
溝の側壁で反射されながら前進して、溝の先端部に達
し、その先端部でレーザ光が吸収されて加工が行われ
る。溝が深くなると、レーザ光の側壁での反射回数が増
加し、側壁で減衰するエネルギーが大きくなるため、溝
の先端部におけるレーザ光のエネルギーが増加しない結
果、溝の先端部の加工が進行しないものと思われる。
The inventors considered the cause as follows. In the fine processing using laser light, the laser light advances while reflecting on the side wall of the groove, reaches the tip of the groove, and the laser light is absorbed by the tip to perform the processing. When the groove becomes deeper, the number of times the laser light is reflected by the side wall increases, and the energy attenuated by the side wall increases. As a result, the energy of the laser light at the tip of the groove does not increase. It seems to be.

【0005】従って、深い溝を形成するには、相対的に
出力値を上げなければならず、必然的に溝幅までも増加
してしまうという問題がある。よって、レーザ出力の増
加は、より微細で深い加工や、アスペクト比の高い加工
を行う場合に問題となる。
Therefore, in order to form a deep groove, the output value must be relatively increased, and the groove width inevitably increases. Therefore, an increase in laser output becomes a problem when performing finer and deeper processing or processing with a high aspect ratio.

【0006】本発明は上記の課題を解決するために成さ
れたものであり、その目的は、レーザを用いた溝や穴等
の微細加工において、より深い溝や穴の形成及びアスペ
クト比の高い溝や穴の形成を可能とすることである。
The present invention has been made to solve the above problems, and its object is to form deeper grooves and holes and to increase the aspect ratio in fine processing of grooves and holes using a laser. That is, it is possible to form grooves and holes.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、被加
工材料の所定部位にレーザビームを照射することで、
溝、穴等を形成する微細加工方法において、レーザビー
ムの照射によって形成される溝の側壁にレーザビームを
反射させる反射膜を形成しながら、レーザビームを照射
して、溝、穴等の加工を行うことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, by irradiating a predetermined portion of a material to be processed with a laser beam,
In a fine processing method for forming a groove, a hole, etc., a laser beam is irradiated to form a groove, a hole, etc. while forming a reflective film for reflecting the laser beam on the side wall of the groove formed by the irradiation of the laser beam. It is characterized by performing.

【0008】又、請求項2〜6は、銀鏡反応溶液に被加
工物を浸して加工することを特徴としている。請求項2
は銀鏡反応溶液に被加工物を浸して加工することで、溝
や穴の側壁に反射膜が形成されつつ、レーザビームによ
る加工を行うものである。請求項3は、このうち、銀鏡
反応溶液が加熱時に銀鏡反応を起こす溶液を用いたこと
を特徴とする。よって、溝や穴のレーザビームが照射さ
れて加熱されている被加工物の加工部分にのみ反射膜が
形成される。請求項5は、この加熱時に反応する銀鏡反
応溶液として、過剰にアンモニアを加えた硝酸銀溶液
に、銀鏡反応に加熱を必要とするアルデヒド類を加えた
溶液としたことを特徴とし、請求項6はこの加熱時に反
応する銀鏡反応溶液のアルデヒド類を蟻酸としたことを
特徴とする。尚、請求項4は、加熱時又は非加熱におい
て銀鏡反応をする銀鏡反応溶液の成分を特定したもので
あり、過剰にアンモニアを加えた硝酸銀溶液にアルデヒ
ド類を加えた溶液であることを特徴とする。
The second to sixth aspects are characterized in that the object to be processed is processed by immersing it in a silver mirror reaction solution. Claim 2
Is a method of immersing a workpiece in a silver mirror reaction solution for processing, thereby performing processing with a laser beam while forming a reflective film on the side walls of grooves and holes. A third aspect of the invention is characterized in that the silver mirror reaction solution is a solution that causes a silver mirror reaction when heated. Therefore, the reflective film is formed only on the processed portion of the workpiece which is heated by being irradiated with the laser beam of the groove or hole. A fifth aspect of the present invention is characterized in that the silver mirror reaction solution which reacts at the time of heating is a silver nitrate solution to which ammonia is excessively added, and an aldehyde which requires heating for the silver mirror reaction is added. Formic acid is used as the aldehyde in the silver mirror reaction solution that reacts when heated. In addition, claim 4 specifies the components of a silver mirror reaction solution that undergoes a silver mirror reaction when heated or not heated, and is a solution in which an aldehyde is added to a silver nitrate solution in which excess ammonia is added. To do.

【0009】請求項7は、被加工物が金属である場合
に、反射膜の形成を、被加工物をメッキ液に浸して、電
気メッキで行うことを特徴とし、請求項8は、反射膜
を、スパッタリング、真空蒸着等の薄膜形成方法により
形成することを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, when the work piece is made of metal, the reflection film is formed by electroplating by immersing the work piece in a plating solution. Is formed by a thin film forming method such as sputtering or vacuum deposition.

【0010】[0010]

【作用】上記の方法で加工する場合には、加工されに溝
や穴の側壁に反射膜が形成される。従って、レーザビー
ムは溝等の側壁で十分に反射されてエネルギー損失が小
さくなり、溝の先端部までレーザビームが減衰すること
なく伝搬し、先端部分にエネルギーが収束する。よっ
て、極めて深い溝や穴の形成が可能となると共に側壁の
横方向への加工速度は極めて小さくなる。即ち、アスペ
クト比の高い加工が可能となる。
In the case of processing by the above method, a reflective film is formed on the side walls of the groove or hole after processing. Therefore, the laser beam is sufficiently reflected by the side wall of the groove or the like to reduce the energy loss, the laser beam propagates to the tip of the groove without being attenuated, and the energy converges on the tip. Therefore, extremely deep grooves and holes can be formed, and the lateral processing speed of the side wall becomes extremely low. That is, processing with a high aspect ratio becomes possible.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説
明する。第1実施例 図1は、本発明方法を実現する装置の構成図であり、図
2は加工部分の詳細を示した断面図である。セラミック
スの被加工物1が銀鏡反応溶液4の中に浸されている。
レーザビーム2はレンズ3で集光され、被加工物1の加
工面1aに垂直に入射している。銀鏡反応溶液4は過剰
にアンモニア水を加えた硝酸銀溶液にアルデヒド類を加
えたものである。これらの混合比は、アンモニア水 6〜
8 wt%,硝酸銀溶液64〜84wt%,アルデヒド類 8〜30wt% の
範囲で使用可能である。
EXAMPLES The present invention will be described below based on specific examples. First Embodiment FIG. 1 is a configuration diagram of an apparatus for implementing the method of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing details of a processed portion. A ceramic workpiece 1 is immersed in a silver mirror reaction solution 4.
The laser beam 2 is condensed by the lens 3 and is vertically incident on the processing surface 1 a of the workpiece 1. The silver mirror reaction solution 4 is obtained by adding aldehydes to a silver nitrate solution containing excess ammonia water. The mixing ratio of these is 6-
It can be used in the range of 8 wt%, silver nitrate solution 64-84 wt%, and aldehydes 8-30 wt%.

【0012】本実施例では、銀鏡反応溶液4は、加熱状
態で反応が進行する銀鏡反応溶液を用いた。この溶液
は、アルデヒド類に、蟻酸等を用いることで実現でき
る。蟻酸の割合は 8〜10wt% が望ましい。
In this embodiment, as the silver mirror reaction solution 4, a silver mirror reaction solution in which the reaction proceeds in a heated state was used. This solution can be realized by using formic acid or the like as the aldehyde. The ratio of formic acid is preferably 8-10wt%.

【0013】加熱状態でのみ銀鏡反応が生じる銀鏡反応
溶液を用いることで、図1、図2に示したように、レー
ザビームにより照射されて、局所的に温度が上昇した部
分、即ち、溝及び溝の近傍の部分に銀の反射膜5が形成
される。これにより、溝10の側壁10aでのレーザビ
ームの反射率が大きくなり、側壁横方向へのエッチング
が抑制される。
By using a silver mirror reaction solution in which a silver mirror reaction occurs only in a heated state, as shown in FIGS. 1 and 2, a portion where the temperature is locally increased by irradiation with a laser beam, that is, a groove and The silver reflection film 5 is formed in the vicinity of the groove. As a result, the reflectance of the laser beam on the side wall 10a of the groove 10 increases, and etching in the lateral direction of the side wall is suppressed.

【0014】そして、側壁での反射率が向上した分だ
け、レーザビームは溝の先端部分まで側壁での多重反射
により伝搬し、その先端部分に収束する。よって、溝の
先端部分でのレーザビームのエネルギーが向上し、より
深い溝の形成が可能となる。これは、溝の先端部分を光
軸方向に伝搬するレーザビームのエネルギーが側壁に垂
直に伝搬するレーザビームのエネルギーよりも遙に大き
くなることを意味している。この結果、深い溝が形成で
きると共にアスペクト比の極めて高い溝加工が可能とな
る。
Then, the laser beam propagates to the tip portion of the groove by the multiple reflection on the side wall and is converged on the tip portion because the reflectance on the sidewall is improved. Therefore, the energy of the laser beam at the tip of the groove is improved, and a deeper groove can be formed. This means that the energy of the laser beam propagating in the optical axis direction at the tip portion of the groove is much larger than the energy of the laser beam propagating perpendicularly to the side wall. As a result, a deep groove can be formed and a groove having an extremely high aspect ratio can be processed.

【0015】尚、本装置では、加工時に溝10内で生成
される加工残査を超音波振動子6を励振させることで除
去しており、より、深溝の形成及びアスペクト比の高い
溝の形成を可能としている。但し、レーザビームを照射
している時は、液面が波打つため、レーザビームの照射
と同時には超音波振動子6の励振を行わない。
In this apparatus, the processing residue generated in the groove 10 at the time of processing is removed by exciting the ultrasonic vibrator 6, so that the deep groove and the groove having a high aspect ratio are formed. Is possible. However, when the laser beam is being irradiated, the liquid surface is wavy, so the ultrasonic transducer 6 is not excited at the same time as the laser beam is being irradiated.

【0016】又、加工終了後には、大気中、又は、純水
中にて充分に弱い強度のレーザビームを照射すること
で、熱プロセスにより銀の反射膜5を昇華、飛散させて
除去することが可能である。
After the processing, the silver reflection film 5 is sublimated and scattered by a thermal process by irradiating a laser beam having a sufficiently weak intensity in the atmosphere or pure water to remove the silver reflection film 5. Is possible.

【0017】第2実施例 本実施例では、室温で銀鏡反応が進行する銀鏡反応溶液
を用いた。アルデヒド類には、ベンズアルデヒド,吉草
酸,アルデヒド等を用いることが可能である。それら
の、混合割合は硝酸銀溶液の規定濃度の1/2 程度が望ま
しい。この場合には、室温で銀鏡反応が生じるので、加
工中の溝の側壁を含む被加工物1の表面全体に銀の反射
膜が形成される。
Second Example In this example, a silver mirror reaction solution in which the silver mirror reaction proceeds at room temperature was used. As the aldehyde, benzaldehyde, valeric acid, aldehyde, etc. can be used. The mixing ratio of them is preferably about 1/2 of the specified concentration of the silver nitrate solution. In this case, since a silver mirror reaction occurs at room temperature, a silver reflection film is formed on the entire surface of the workpiece 1 including the side walls of the groove being processed.

【0018】加工中の溝の側壁に反射膜が形成されるこ
とは、第1実施例と同様であるので、第1実施例で記載
したのと同様な効果が得られる。
Since the formation of the reflection film on the side wall of the groove being processed is similar to that of the first embodiment, the same effect as that described in the first embodiment can be obtained.

【0019】第3実施例 本実施例では、反射膜を電気メッキで形成した。赤外領
域の波長を持つレーザに対して、銀と同程度(98%)
の反射率を持つ金属としては、他に金、銅がある。被加
工物が導電性を有する金属の場合には、電気メッキを用
いて反射膜を溝の側壁に形成することができる。このメ
ッキ液は硝酸銅溶液が使用でき、硝酸銅溶液中に銅板の
正極を浸し、被加工物を負極として、両電極間に外部電
源から一定の電位差を与えることで、被加工物の表面に
銅を析出させることができる。この電気メッキをレーザ
ビームの照射と同時に行う。これにより、加工される溝
の側壁に銅の反射膜を形成することが可能となる。この
場合も、第1実施例と同様な効果が得られる。
Third Embodiment In this embodiment, the reflection film is formed by electroplating. Similar to silver (98%) for lasers with wavelengths in the infrared region
Other metals that have a reflectivity include gold and copper. When the object to be processed is a metal having conductivity, electroplating can be used to form the reflective film on the sidewall of the groove. A copper nitrate solution can be used as this plating solution, and by immersing the positive electrode of the copper plate in the copper nitrate solution and using the work piece as the negative electrode, a constant potential difference is applied between the two electrodes from the external power source, so that the surface of the work piece is processed. Copper can be deposited. This electroplating is performed simultaneously with the laser beam irradiation. This makes it possible to form a copper reflection film on the side wall of the groove to be processed. Also in this case, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0020】第4実施例 本実施例では反射膜を金のスパッタリングで形成した。
先ず、KOH 又は純水に被加工物を浸して、レーザビーム
を照射して、少し、溝を形成する。次に、この被加工物
を取り出して、溝の付近に、金をスパッタリングして、
反射膜を形成する。次に、この被加工物をKOH 又は純水
に被加工物を浸して、レーザビームを照射して、溝を加
工する。この操作を繰り返す。このことで、深いところ
で、新たに溝が形成されると、次に金の蒸着処理が実行
されて、その新たな溝の部分にも反射膜が形成される。
よって、第1実施例と同様に溝の側壁に反射膜が形成さ
れた状態で溝の加工を行うことができるので、第1実施
例と同様な効果が得られる。
Fourth Embodiment In this embodiment, the reflection film was formed by sputtering gold.
First, the work piece is dipped in KOH or pure water and irradiated with a laser beam to slightly form a groove. Next, take out this work piece, sputter gold near the groove,
A reflective film is formed. Next, the workpiece is dipped in KOH or pure water and irradiated with a laser beam to form a groove. Repeat this operation. As a result, when a new groove is formed at a deep position, a gold vapor deposition process is performed next, and a reflective film is also formed on the new groove.
Therefore, like the first embodiment, the groove can be processed in the state where the reflective film is formed on the side wall of the groove, and the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例方法を実現する装置の構成図。FIG. 1 is a block diagram of an apparatus that realizes an embodiment method of the present invention.

【図2】同実施例方法で加工された溝の詳細な構造を示
した断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing a detailed structure of a groove processed by the method of the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…被加工物 2…レーザービーム 3…レンズ 4…銀鏡反応溶液 5…反射膜 6…超音波振動子 10…溝 10a…側壁 1 ... Workpiece 2 ... Laser beam 3 ... Lens 4 ... Silver mirror reaction solution 5 ... Reflective film 6 ... Ultrasonic transducer 10 ... Groove 10a ... Side wall

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被加工材料の所定部位にレーザビームを照
射することで、溝、穴等を形成する微細加工方法におい
て、 前記レーザビームの照射によって形成される溝の側壁に
前記レーザビームを反射させる反射膜を形成しながら、
前記レーザビームを照射して、溝、穴等の加工を行うこ
とを特徴とする微細加工方法。
1. A microfabrication method for forming a groove, a hole or the like by irradiating a predetermined portion of a material to be processed with a laser beam, wherein the laser beam is reflected on a side wall of the groove formed by the irradiation of the laser beam. While forming a reflective film to
A fine processing method comprising irradiating the laser beam to process grooves, holes and the like.
【請求項2】請求項1に記載の微細加工方法において、 前記反射膜は、前記被加工材料を銀鏡反応溶液中に浸し
た状態で加工することによって、形成されることを特徴
とする。
2. The microfabrication method according to claim 1, wherein the reflective film is formed by processing the material to be processed in a state of being immersed in a silver mirror reaction solution.
【請求項3】請求項2に記載の微細加工方法において、 前記反射膜は、前記被加工材料を、加熱時に銀鏡反応の
起こる銀鏡反応溶液中に浸した状態で加工し、前記レー
ザビームの照射により加熱された前記加工材料の加工部
分にのみ形成されることを特徴とする。
3. The microfabrication method according to claim 2, wherein the reflective film is processed by immersing the material to be processed in a silver mirror reaction solution in which a silver mirror reaction occurs during heating, and irradiating with the laser beam. It is characterized in that it is formed only on the processed portion of the processing material heated by.
【請求項4】請求項2に記載の微細加工方法において、 前記銀鏡反応溶液は、過剰にアンモニアを加えた硝酸銀
溶液にアルデヒド類を加えた溶液であることを特徴とす
る。
4. The fine processing method according to claim 2, wherein the silver mirror reaction solution is a solution of aldehydes added to a silver nitrate solution containing excess ammonia.
【請求項5】請求項3に記載の微細加工方法において、 前記銀鏡反応溶液は、過剰にアンモニアを加えた硝酸銀
溶液に、銀鏡反応に加熱を必要とするアルデヒド類を加
えた溶液であることを特徴とする。
5. The microfabrication method according to claim 3, wherein the silver mirror reaction solution is a solution in which an aldehyde that requires heating for the silver mirror reaction is added to a silver nitrate solution in which excess ammonia is added. Characterize.
【請求項6】請求項5に記載の微細加工方法において、 前記アルデヒド類は、蟻酸であることを特徴とする。6. The fine processing method according to claim 5, wherein the aldehyde is formic acid. 【請求項7】請求項1に記載の微細加工方法において、 前記被加工物が金属である場合には、前記反射膜の形成
は、前記被加工物をメッキ液に浸して、電気メッキを行
って形成することを特徴とする。
7. The microfabrication method according to claim 1, wherein when the workpiece is a metal, the reflection film is formed by immersing the workpiece in a plating solution and performing electroplating. It is characterized by being formed.
【請求項8】請求項1に記載の微細加工方法において、 前記反射膜は、スパッタリング、真空蒸着等の薄膜形成
方法により形成されることを特徴とする。
8. The microfabrication method according to claim 1, wherein the reflective film is formed by a thin film forming method such as sputtering or vacuum deposition.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100649061B1 (en) * 2006-01-10 2006-11-28 광주과학기술원 Process and apparatus for forming high-aspect-ratio micro-channels on metal foil and method for fabricating a micro heat pipe utilizing the same
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