JPH07118556B2 - Excimer laser device - Google Patents
Excimer laser deviceInfo
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- JPH07118556B2 JPH07118556B2 JP62198137A JP19813787A JPH07118556B2 JP H07118556 B2 JPH07118556 B2 JP H07118556B2 JP 62198137 A JP62198137 A JP 62198137A JP 19813787 A JP19813787 A JP 19813787A JP H07118556 B2 JPH07118556 B2 JP H07118556B2
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はエキシマレーザ装置に関し、特にレーザ光学
部材の長寿命化に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an excimer laser device, and more particularly to extending the life of a laser optical member.
第４図は例えば日経マイクロデバイス1987年２月号、80
頁に示された従来のエキシマレーザ装置の断面図であ
る。図において、（１）はレーザガス、（２）はレーザ
ガス（１）を密封する容器、（３）は（3a），（3b）よ
り成る一対の放電電極、（４）は放電電極（3a），（3
b）間で発生するレーザ励起放電、矢印（５）は放電電
極（3a），（3b）の間を流れるレーザガス（１）の高速
循環ガス流、（６）および（７）はガス容器（２）に取
付けられたレーザ光学部材で、この従来例においては各
々反射鏡および出力鏡である。（８）はレーザ光、
（９）はガス清浄化装置であり、この従来例において
は、液体窒素トラップ（10）、ダスト・フィルタ（11）
及びポンプ（12）より成る。（13）は容器（２）とガス
清浄化装置（９）の入口を結ぶ吸気用配管、（14）、
（15）はガス清浄化装置（９）の出口部と反射鏡
（６），（７）の近傍をそれぞれ結ぶ配管、（16）は、
ガス清浄化装置（９）によってクリーン化された清浄レ
ーザガス、矢印（17a），（17b），（17c）は清浄レー
ザガス（16）の流れの方向を示す。Figure 4 shows, for example, Nikkei Microdevices February 1987 issue, 80
It is sectional drawing of the conventional excimer laser apparatus shown by page. In the figure, (1) is a laser gas, (2) is a container for sealing the laser gas (1), (3) is a pair of discharge electrodes composed of (3a) and (3b), (4) is a discharge electrode (3a), (3
laser-excited discharge generated between b), arrow (5) is a high-speed circulating gas flow of laser gas (1) flowing between discharge electrodes (3a) and (3b), and (6) and (7) are gas containers (2). ), Which are a reflection mirror and an output mirror in this conventional example. (8) is a laser beam,
(9) is a gas purifier, and in this conventional example, a liquid nitrogen trap (10), a dust filter (11)
And a pump (12). (13) is an intake pipe connecting the container (2) and the inlet of the gas cleaning device (9), (14),
(15) is a pipe connecting the outlet of the gas cleaning device (9) and the vicinity of the reflecting mirrors (6) and (7), respectively, and (16) is
The clean laser gas cleaned by the gas cleaning device (9), arrows (17a), (17b) and (17c) indicate the directions of the flow of the clean laser gas (16).
次に動作について説明する。エキシマレーザ装置の場
合、レーザガス（１）として例えば４％のクリプトンガ
ス、0.2％のフッ素ガス、95.8％のヘリウムガスを成分
として含み、ガス圧力として約３気圧程度が容器（２）
に密封されている。このレーザガス（１）は放電電極
（3a），（3b）間で発生するパルス状のレーザ励起放電
（４）によって励起され、その結果発生する励起光レー
ザ光学部材である反射鏡（６）と出口鏡（７）の間を往
復反射し、レーザ光（８）が発生する。Next, the operation will be described. In the case of an excimer laser device, the laser gas (1) contains, for example, 4% krypton gas, 0.2% fluorine gas, 95.8% helium gas as components, and the gas pressure is about 3 atm in the container (2).
It is sealed to. This laser gas (1) is excited by a pulsed laser excitation discharge (4) generated between discharge electrodes (3a) and (3b), and as a result, a reflection mirror (6) which is an excitation light laser optical member and an outlet. A laser beam (8) is generated by being reflected back and forth between the mirrors (7).
エキシマレーザを繰返し発振させるためには、放電電極
（3a），（3b）のレーザガス（１）をレーザ励起放電
（４）のたびに置換する必要があり、そのためにレーザ
ガス（１）を容器（２）内に設けられたファン（図示せ
ず）によって容器（２）内で高速循環し、放電によって
発生した熱を同じく容器（２）内に設けられた熱交換器
（図示せず）で除去する。この高速循環ガス流（５）の
放電電極（3a），（3b）間における流速は、繰返し回数
に比例して増加させる必要があり、例えば１秒間に250
回のレーザ発振を行う場合には約10m/sガス流速が必要
となる。In order to repeatedly oscillate the excimer laser, it is necessary to replace the laser gas (1) of the discharge electrodes (3a) and (3b) with each laser-excited discharge (4), and therefore the laser gas (1) is replaced with the container (2). ) A fan (not shown) provided in the container (2) circulates the container (2) at high speed to remove heat generated by the discharge by a heat exchanger (not shown) also provided in the container (2). . The flow velocity of the high-speed circulating gas flow (5) between the discharge electrodes (3a) and (3b) needs to be increased in proportion to the number of repetitions, for example, 250 per second.
A gas flow rate of about 10 m / s is required when performing laser oscillation once.
エキシマレーザの場合、レーザ励起放電（４）によるス
パッタもしくはアークによって、放電電極（３）より金
属粉末、蒸気などが発生し、これらの一部はレーザガス
（１）中のフッ素ガスと反応してフッ化物を生成する。
また、容器（２）内に存在する構成物と上記フッ素ガス
とが反応してフッ化物を生成する。従って、レーザを発
振し続けると容器（２）内のレーザガス（１）には微粒
子及びレーザガス以外の不純ガスが増加してくる。これ
らの微粒子及び不純ガスは、レーザ励起放電（４）に悪
影響を及ぼし、レーザ光（８）を吸収してレーザ出力を
低下させる。また、レーザ光学部材（６），（７）の表
面にも付着し、レーザ光（８）を吸収するので、レーザ
出力が低下する。このようにレーザ出力の低下をもたら
す微粒子と不純ガスを取除くためレーザガス（１）をガ
ス清浄化装置（９）を通して循環する。この従来例にお
いて微粒子はダスト・フィルタ（11）によって除去さ
れ、不純ガスは液体窒素トラップ（10）により取除かれ
る。このようにしてクリーン化された清浄レーザガス
（16）は配管（14），（15）によって、それぞれレーザ
光学部材（６），（７）に吹付けられ、レーザ光学部材
（６），（７）が汚染するのを防いでいる。In the case of an excimer laser, metal powder, vapor, etc. are generated from the discharge electrode (3) by sputtering or arc by laser-excited discharge (4), and a part of these reacts with fluorine gas in the laser gas (1) to generate fluorine gas. Generate a compound.
Further, the constituents present in the container (2) react with the above-mentioned fluorine gas to generate a fluoride. Therefore, if the laser is continuously oscillated, the fine particles and the impure gas other than the laser gas increase in the laser gas (1) in the container (2). These fine particles and impure gas adversely affect the laser excitation discharge (4) and absorb the laser light (8) to reduce the laser output. In addition, since the laser light adheres to the surfaces of the laser optical members (6) and (7) and absorbs the laser light (8), the laser output decreases. In this way, the laser gas (1) is circulated through the gas cleaning device (9) in order to remove the fine particles and the impure gas that cause a reduction in the laser output. In this conventional example, fine particles are removed by the dust filter (11) and impure gas is removed by the liquid nitrogen trap (10). The clean laser gas (16) thus cleansed is blown onto the laser optical members (6) and (7) by the pipes (14) and (15), respectively, and the laser optical members (6) and (7). To prevent pollution.
従来のエキシマレーザ装置は以上のように構成されてい
るので、清浄レーザガス（16）がレーザ光学部材（６）
及び（７）に吹付けられるものの、容器（２）内の高速
循環ガス流（５）が高速であるために、ガス流の乱れが
生じ、吹付けの効果がほとんど現れないとう問題点があ
った。Since the conventional excimer laser device is configured as described above, the clean laser gas (16) is fed to the laser optical member (6).
However, since the high-speed circulating gas flow (5) in the container (2) is high speed, the gas flow is disturbed and the effect of the spray is hardly exhibited. .
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、レーザ容器の一部を構成するレーザ光学部材
の寿命を長くしたエキシマレーザ装置を得ることを目的
とする。The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to obtain an excimer laser device in which the life of a laser optical member forming a part of a laser container is extended.
この発明に係るエキシマレーザ装置は、レーザ光学部材
と一対の放電電極との間にレーザ光が通過しうる隘路を
設けると共に、ガス清浄化装置により浄化したレーザガ
スをレーザ光部材の近傍に導入する導入口をレーザ光学
部材と隘路との間に設け、また隘路を、レーザ光を通過
し得る開口を有する１枚以上の開口板をスペースを設け
てレーザ光軸の方向に直列的に配置することにより形成
したものである。The excimer laser device according to the present invention provides a bottleneck through which laser light can pass between the laser optical member and the pair of discharge electrodes, and introduces the laser gas purified by the gas cleaning device into the vicinity of the laser light member. By providing a mouth between the laser optical member and the bottleneck, and by arranging the bottleneck in series in the direction of the laser beam axis with a space, at least one aperture plate having an opening through which laser light can pass. It was formed.
この発明におけるエキシマレーザ装置は、隘路によって
高速循環ガス流の生じている箇所とレーザ光学部材を隔
離することにより、清浄レーザガスのみがレーザ光学部
材の近傍に存在する。この結果、レーザ光学部材は循環
ガスに含まれる微粒子及び不純ガスによる汚染がなくな
る。また、１枚以上の開口板をスペースを設けてレーザ
光軸の方向に直列的に配置することにより、高速循環ガ
ス流による渦流を有効に吸収することができ、またパル
ス状のレーザ励起放電によるショックウェーブを吸収
し、清浄レーザガスの流れに乱れを起こすのを防ぐこと
ができる。In the excimer laser device according to the present invention, only the clean laser gas exists near the laser optical member by isolating the laser optical member from the place where the high-speed circulating gas flow is generated by the bottleneck. As a result, the laser optical member is free from contamination by fine particles and impure gas contained in the circulating gas. In addition, by arranging one or more aperture plates in series in the direction of the laser optical axis with a space provided therebetween, it is possible to effectively absorb the vortex flow due to the high-speed circulating gas flow, and also by the pulsed laser-excited discharge. It can absorb shock waves and prevent turbulence in the flow of clean laser gas.
〔実施例〕 第１図において、（18a），（18b）は各々、レーザ光学
部材（６），（７）と放電電極（３）の間に設けられた
隘路であり、レーザ光（８）の通過し得る断面を有す
る。矢印（19a），（19b）は清浄レーザガス（16）の隘
路（18a），（18b）における流れの方向を示す。[Embodiment] In FIG. 1, (18a) and (18b) are bottleneck provided between the laser optical members (6) and (7) and the discharge electrode (3), respectively. Has a cross section through which Arrows (19a) and (19b) indicate the flow directions of the clean laser gas (16) in the bottleneck (18a) and (18b).
この例では、上記のように隘路（18a），（18b）を設け
たため、レーザ光学部材（６），（７）はレーザ励起放
電（４）の部分から第４図の従来例に比べて遠い位置に
配置される。そして清浄レーザガス（16）はレーザ光学
部材（６），（７）と隘路（18a）、（18b）との間に設
けられた導入口（14a），（15a）から隘路（18a），（1
8b）を通って矢印（19a），（19b）に示す方向に流れる
ため、隘路（18a），（18b）の両端で圧力差が生じる。
従って高速循環ガス流（５）によって引き起こされるガ
スの乱れの影響を受けなくなる。この結果隘路（18
a），（18b）には常に矢印（19a），（19b）に示す方向
に清浄レーザガス（16）が流れ、レーザ光学部材
（６），（７）の近傍には、浄化されたレーザガス（1
6）のみが存在することになる。従って、光学部材
（６），（７）がレーザガス中に存在する微粒子や不純
ガスによって汚染されることがなく、長寿命化が実現で
きる。In this example, since the bottleneck (18a), (18b) is provided as described above, the laser optical members (6), (7) are farther from the portion of the laser excitation discharge (4) than in the conventional example of FIG. Placed in position. The clean laser gas (16) is introduced from the introduction ports (14a), (15a) provided between the laser optical members (6), (7) and the bottleneck (18a), (18b) to the bottleneck (18a), (1).
Since it flows through 8b) in the directions shown by arrows (19a) and (19b), a pressure difference occurs at both ends of the bottleneck (18a) and (18b).
It is therefore not affected by the gas turbulence caused by the fast circulating gas stream (5). As a result, the bottleneck (18
The clean laser gas (16) always flows in the directions (a) and (18b) in the directions shown by the arrows (19a) and (19b), and the purified laser gas (1) flows near the laser optical members (6) and (7).
Only 6) will exist. Therefore, the optical members (6) and (7) are not contaminated by the fine particles or impure gas present in the laser gas, and the life can be extended.
第２図はこの発明の一実施例を示したものである。第２
図（ａ）は装置の断面図であり、図中において、（20）
はレーザ光（８）が通過し得る開口を有する開口板であ
る。レーザ光学部材（７）と隘路（18b）の部分詳細断
面図を第２図（ｂ）に、レーザ光軸方向から見た開口板
（20）の形状を第２図（ｃ）に示す。開口板（20）はこ
の図では５枚（20a），（20b），（20c），（20d），
（20e）使用されており、各々スペース（21a），（21
b），（21c），（21d）を設けて配置されている。（2
2）は開口板（20）の開口部であり、レーザ光（８）が
通過できるようになっている。FIG. 2 shows an embodiment of the present invention. Second
Figure (a) is a cross-sectional view of the device. In the figure, (20)
Is an aperture plate having an aperture through which the laser light (8) can pass. A partial detailed sectional view of the laser optical member (7) and the bottleneck (18b) is shown in FIG. 2 (b), and the shape of the aperture plate (20) viewed from the laser optical axis direction is shown in FIG. 2 (c). The aperture plate (20) is 5 sheets (20a), (20b), (20c), (20d), in this figure.
(20e) used, and space (21a), (21
b), (21c) and (21d) are provided. (2
Reference numeral 2) is an opening of the aperture plate (20) through which the laser light (8) can pass.
この実施例においては、複数の開口板（20）によって形
成される隘路（18a），（18b）の両端で圧力差が生じる
ことは第１図の例と同じであるが、スペース（21a），
（21b），（21c）、（21d）が存在するために高速循環
ガス流（５）による渦流を有効に吸収することができ
る。また、パルス状のレーザ励起放電（４）によりショ
ックウェーブが発生し、この影響によってもガス流れの
乱れが生じるが、開口板（20a），（20b），（20c），
（20d），（20e）とスペース（21a），（21b），（21
c），（21d）の組合わせによりショックウェーブを吸収
し、清浄レーザガスの流れ（19b）に乱れを起こすのを
防ぐ作用がある。従ってこの場合、第１図に示した例よ
りも隘路（18a），（18b）の長さを短くでき、装置をコ
ンパクトにできるというメリットがある。In this embodiment, the pressure difference is generated at both ends of the bottleneck (18a), (18b) formed by the plurality of aperture plates (20), as in the example of FIG. 1, but the space (21a),
Due to the presence of (21b), (21c), and (21d), the vortex flow due to the high-speed circulating gas flow (5) can be effectively absorbed. Moreover, a shock wave is generated by the pulsed laser-induced discharge (4), and the turbulence of the gas flow is also caused by this influence, but the aperture plates (20a), (20b), (20c),
(20d), (20e) and space (21a), (21b), (21
The combination of c) and (21d) has the function of absorbing the shock wave and preventing turbulence in the clean laser gas flow (19b). Therefore, in this case, there is an advantage that the length of the bottleneck (18a), (18b) can be made shorter than that of the example shown in FIG. 1, and the device can be made compact.
第３図はこの発明の他の実施例であり、レーザ光学部材
に清浄レーザガス（16）を吹付ける部分の断面詳細図で
ある。（23）は清浄レーザガス（16）の均一吹付け装置
であり、隘路（18b）を包囲するように設けられ、かつ
ガス浄化装置（９）により浄化されたレーザガスを受け
入れて一時的に蓄えるリング状の空洞部（24）、この空
洞部（24）に蓄えられたレーザガスを隘路（18b）に臨
むレーザ光学部材（７）のまわりから中心部方向に吹付
ける吹付け用隘路（25）からなっている。矢印（26）は
この吹付け用隘路（25）から吹出た清浄レーザガスの流
れを示す。吹付け用隘路（25）では圧損が大きく、空洞
部（24）は圧損が小さいので、配管（15）より空洞部
（24）内に注入された清浄レーザガス（16）は、周方向
から均一に内側に向かって吹出されるので、レーザ光学
部材（７）の表面は常に清浄レーザガスで覆われ、汚染
されることがない。FIG. 3 is another embodiment of the present invention and is a detailed cross-sectional view of a portion where the clean laser gas (16) is blown onto the laser optical member. (23) is a device for uniformly spraying the clean laser gas (16), which is provided so as to surround the bottleneck (18b) and which receives the laser gas purified by the gas purification device (9) and temporarily stores it. Of the hollow part (24) of the laser beam, and the laser gas stored in the hollow part (24) is sprayed from around the laser optical member (7) facing the bottleneck (18b) toward the center part (25). There is. The arrow (26) indicates the flow of the clean laser gas blown from the spray bottleneck (25). Since the pressure loss is large in the spray bottleneck (25) and the pressure loss in the cavity (24) is small, the clean laser gas (16) injected into the cavity (24) from the pipe (15) is uniform in the circumferential direction. Since it is blown inward, the surface of the laser optical member (7) is always covered with the clean laser gas and is not contaminated.
なお、第３図に示した実施例では、空洞部（24）と吹付
け用隘路（25）によって外周方向から均一に清浄レーザ
ガス（16）を吹付ける場合を示したが、配管（15）の先
を多数に分岐し、周方向から分割して吹付ける構造とし
ても同様の効果を奏する。In the embodiment shown in FIG. 3, the case where the clean laser gas (16) is uniformly sprayed from the outer peripheral direction by the cavity (24) and the spray bottleneck (25) is shown. The same effect can be obtained even if the tip is branched into a large number and divided from the circumferential direction and sprayed.
また、上記実施例において、ガス清浄化装置（９）とし
て、液体窒素トラップ（10）、ダスト・フィルタ（1
1）、ポンプ（12）の組合わせを示したが、これに限定
されるものではなく、不純ガスと微粒子を取除き、ガス
循環させる機能を持っていればどのような組合わせのも
のを用いても同様の効果を奏する。In addition, in the above-mentioned embodiment, as the gas cleaning device (9), a liquid nitrogen trap (10), a dust filter (1)
1) and the combination of the pump (12) are shown, but the combination is not limited to this, and any combination can be used as long as it has a function of removing impure gas and fine particles and circulating the gas. However, the same effect is obtained.
また、上記実施例では、レーザ光学部材（６），（７）
は反射鏡，出力鏡であったが、外部鏡とし、レーザ光学
部材（６），（７）の一方もしくは両方がレーザ取出し
窓であっても同等の効果を奏する。その他、この発明の
精神の範囲内で種々の変形や変更が可能であることはい
うまでもない。Further, in the above embodiment, the laser optical members (6) and (7) are used.
Is a reflecting mirror and an output mirror, but an external mirror is used, and the same effect can be obtained even if one or both of the laser optical members (6) and (7) is a laser extraction window. It goes without saying that various modifications and changes can be made within the spirit of the present invention.
以上のようにこの発明によれば、レーザ光学部材と一対
の放電電極との間にレーザ光が通過しうる隘路を設けた
ので、レーザ光学部材と高速循環ガス流の生じている放
電電極間とは流体的に隔離されてレーザ光学部材は高速
循環ガス流の影響を受けにくくなるという効果がある。
また、ガス清浄化装置により浄化したレーザガスをレー
ザ光学部材の近傍に導入する導入口をレーザ光学部材と
隘路との間に設けたので、レーザ光学部材の近傍には常
に清浄レーザガスが存在し、レーザ光学部材が汚染され
ることがなく、長寿命にすることができる効果もある。
さらに、隘路を、レーザ光を通過し得る開口を有する１
枚以上の開口板をスペースを設けてレーザ光軸の方向に
直列的に配置することにより形成したので、スペースが
存在するために高速循環ガス流による渦流を有効に吸収
することができる。また、パルス状のレーザ励起放電に
よりショックウェーブが発生し、この影響によってもガ
ス流の乱れが生じるが、開口板の組み合わせによりショ
ックウェーブを吸収し、清浄レーザガスの流れに乱れを
起こすのを防ぐ作用がある。As described above, according to the present invention, since a bottleneck through which laser light can pass is provided between the laser optical member and the pair of discharge electrodes, between the laser optical member and the discharge electrodes in which a high-speed circulating gas flow is generated. Has the effect that it is fluidly isolated and the laser optics are less susceptible to the effects of high-speed circulating gas flow.
Further, since the introduction port for introducing the laser gas purified by the gas cleaning device in the vicinity of the laser optical member is provided between the laser optical member and the bottleneck, the clean laser gas is always present in the vicinity of the laser optical member, and the laser There is also an effect that the optical member is not contaminated and can have a long life.
Further, it has an opening through which a laser beam can pass through the bottleneck 1
Since at least one aperture plate is provided by providing a space and arranging in series in the direction of the laser optical axis, the presence of the space allows the swirling flow due to the high-speed circulating gas flow to be effectively absorbed. Further, a shock wave is generated by the pulsed laser-induced discharge, and a turbulence of the gas flow is also caused by this effect, but the combination of the aperture plate has an action of absorbing the shock wave and preventing the turbulence in the flow of the clean laser gas. .
第１図はエキシマレーザ装置を示す要部断面図、第２図
（ａ）はこの発明の一実施例によるエキシマレーザ装置
の要部断面図、第２図（ｂ）は第２図（ａ）の部分詳細
断面図、第２図（ｃ）は第２図（ａ）のレーザ光軸方向
から見た部分断面図、第３図はこの発明の他の実施例を
示す要部断面図、第４図は従来のエキシマレーザ装置を
示す断面図である。 （１）はレーザガス、（２）は容器、（３）は放電電
極、（６），（７）はレーザ光学部材、（９）はガス清
浄化装置、（14a），（15a）は導入口、（18a）（18b）
は隘路、（23）は均一吹付け装置である。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。FIG. 1 is a sectional view of an essential part showing an excimer laser device, FIG. 2 (a) is a sectional view of an essential part of an excimer laser device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 (b) is FIG. 2 (a). 2C is a partial sectional view as seen from the direction of the laser optical axis of FIG. 2A, and FIG. 3 is a sectional view of a main part showing another embodiment of the present invention. FIG. 4 is a sectional view showing a conventional excimer laser device. (1) is a laser gas, (2) is a container, (3) is a discharge electrode, (6) and (7) are laser optical members, (9) is a gas cleaning device, and (14a) and (15a) are inlets. , (18a) (18b)
Is a bottleneck, and (23) is a uniform spraying device. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
Claims (4)
させる一対の放電電極とを収納する容器、前記放電電極
の両側に配設され前記放電励起による励起光よりレーザ
光を得るためのレーザ光学部材、前記容器に接続され、
前記容器内のレーザガスを循環して浄化するガス清浄化
装置を備えたエキシマレーザ装置において、前記レーザ
光学部材と一対の放電電極との間にレーザ光が通過しう
る隘路を設けると共に、前記ガス清浄化装置により浄化
したレーザガスを前記レーザ光学部材の近傍に導入する
導入口を前記レーザ光学部材と前記隘路との間に設け、
また前記隘路を、レーザ光を通過し得る開口を有する１
枚以上の開口板をスペースを設けてレーザ光軸の方向に
直列的に配置することにより形成したことを特徴とする
エキシマレーザ装置。1. A container for accommodating a laser gas and a pair of discharge electrodes for discharge-exciting the laser gas, a laser optical member arranged on both sides of the discharge electrode for obtaining laser light from excitation light by the discharge excitation, Connected to the container,
In an excimer laser device equipped with a gas cleaning device for circulating and purifying the laser gas in the container, a bottleneck through which laser light can pass is provided between the laser optical member and a pair of discharge electrodes, and the gas cleaning device is provided. An introduction port for introducing a laser gas purified by a gasification device in the vicinity of the laser optical member is provided between the laser optical member and the bottleneck,
In addition, it has an opening through which a laser beam can pass through the bottleneck 1
An excimer laser device formed by arranging at least one aperture plate in series in the direction of the laser optical axis with a space provided.
レーザガスを隘路に臨むレーザ光学部材の外周部より中
心部方向に均一に吹付ける均一吹付け装置を有すること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のエキシマレー
ザ装置。2. The circulation path has a uniform spraying device for uniformly spraying the laser gas purified by the gas cleaning device toward the central portion from the outer peripheral portion of the laser optical member facing the bottleneck. An excimer laser device according to claim 1.
設けられ、かつガス浄化装置により浄化されたレーザガ
スを受け入れて一時的に蓄えるリング状の空洞部と、こ
の空洞部に蓄えられたレーザガスを隘路に臨むレーザ光
学部材のまわりから中心部方向に吹付ける吹付け用隘路
とから成ることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載
のエキシマレーザ装置。3. A uniform spraying device is provided so as to surround a bottleneck, and has a ring-shaped hollow portion for receiving and temporarily storing laser gas purified by a gas purifying device, and the hollow portion is stored in this hollow portion. The excimer laser device according to claim 2, further comprising: a blowing bottleneck for blowing the laser gas toward the center from around the laser optical member facing the bottleneck.
を隘路に臨むレーザ光学部材のまわりの複数の部分から
前記レーザ光学部材の中心部方向に吹付けるものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載のエキシマ
レーザ装置。4. The uniform spraying device sprays the purified laser gas from a plurality of portions around the laser optical member facing the bottleneck toward a central portion of the laser optical member. An excimer laser device as set forth in claim 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62198137A JPH07118556B2 (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Excimer laser device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62198137A JPH07118556B2 (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Excimer laser device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6442188A JPS6442188A (en) | 1989-02-14 |
| JPH07118556B2 true JPH07118556B2 (en) | 1995-12-18 |
Family
ID=16386064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62198137A Expired - Lifetime JPH07118556B2 (en) | 1987-08-10 | 1987-08-10 | Excimer laser device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07118556B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01115179A (en) * | 1987-10-28 | 1989-05-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas laser apparatus |
| JP2653216B2 (en) * | 1990-04-19 | 1997-09-17 | 松下電器産業株式会社 | Excimer laser device |
| CA2043512A1 (en) * | 1990-06-01 | 1991-12-02 | Mitsugu Terada | Gas laser apparatus |
| JP2997606B2 (en) * | 1992-11-13 | 2000-01-11 | 株式会社小松製作所 | Narrowband excimer laser equipment |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS639178A (en) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Komatsu Ltd | Gas laser device |
| JPS63108786A (en) * | 1986-10-25 | 1988-05-13 | Hitachi Ltd | Gas laser generator |
-
1987
- 1987-08-10 JP JP62198137A patent/JPH07118556B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6442188A (en) | 1989-02-14 |
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