JP2784706B2 - Gas laser device - Google Patents

Gas laser device

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JP2784706B2
JP2784706B2 JP4321249A JP32124992A JP2784706B2 JP 2784706 B2 JP2784706 B2 JP 2784706B2 JP 4321249 A JP4321249 A JP 4321249A JP 32124992 A JP32124992 A JP 32124992A JP 2784706 B2 JP2784706 B2 JP 2784706B2
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laser
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准一 藤本
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はガスレーザ装置に係り、
特に放電チャンバの両端に設けられたウインドウの汚損
防止機構に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas laser device,
In particular, the present invention relates to a mechanism for preventing fouling of windows provided at both ends of a discharge chamber.

【0002】[0002]

【従来の技術】気体状態の活性媒質を用いるガスレーザ
装置の中に、チャンバ内に封入したガスをファンにより
電極間に流し、放電によりガスの分子を励起させてレー
ザ媒質の反転分布を形成させ、高温になったガスを熱交
換器で冷却した後、ファンに戻しているCOレーザや
エキシマレーザがある。
2. Description of the Related Art In a gas laser apparatus using an active medium in a gaseous state, a gas sealed in a chamber is caused to flow between electrodes by a fan, and gas molecules are excited by discharge to form a population inversion of the laser medium. There are a CO 2 laser and an excimer laser which return a fan after cooling a high-temperature gas with a heat exchanger.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記ガスレーザ装置に
おいて、レーザ発振の長寿命化を阻害する要因の一つに
光学系の汚れが挙げられる。レーザ発振を繰り返すこと
によって生成される粉体の化合物等がウインドウに付着
すると、光の透過率が低下し、レーザ出力の低下を招
く。この対策として特公昭60−26312やUSP−
5018161は、フィルタによって清浄化したガスを
ウインドウ表面に強制的に吹きつけているが、塵を含む
レーザ媒質ガスを巻き込まないようにするため多量のパ
ージ流量が必要である。一方、特開昭58−18698
5は、ウインドウ領域に清浄化したガスの入口を設け、
放電管のガス出口から電気集塵装置と休止ゾーンとを介
して前記ガス入口に至るガス循環路を設けて、ウインド
ウを清浄なガスで洗浄する方式であるが、前記ガス循環
路は放電管の外部に設置されているため、キャビティ長
の増大、配管接続部からのリークの可能性などの問題点
がある。また従来、アパーチャはチャンバの外側、すな
わち大気側に配設されていたので、パージしないと汚れ
る、紫外光と雰囲気ガスとによってアパーチャが反応し
て劣化または不純物を発生して周囲の光学部品を汚損す
る等の問題がある。本発明は上記従来の問題点に着目し
てなされたもので、ウインドウを清浄な状態に保つため
に多量のパージガスを必要とせず、キャビティ長の増
大、配管接続部からのリークの可能性などの問題発生が
なく、かつアパーチャの劣化を防止することができるよ
うなガスレーザ装置を提供することを目的としている。
In the above-mentioned gas laser device, one of the factors that hinder the extension of laser oscillation life is contamination of an optical system. When a powder compound or the like generated by repeating laser oscillation adheres to the window, the light transmittance is reduced, and the laser output is reduced. As a countermeasure for this, Japanese Patent Publication No. 60-26312 and USP-
5018161 forcibly blows the gas cleaned by the filter onto the window surface, but requires a large purge flow rate in order to prevent entrainment of the laser medium gas containing dust. On the other hand, JP-A-58-18698
5 provides an inlet for the purified gas in the window area,
A gas circulation path is provided from the gas outlet of the discharge tube to the gas inlet via the electric precipitator and the pause zone, and the window is cleaned with a clean gas. Since it is installed outside, there are problems such as an increase in cavity length and a possibility of leakage from a pipe connection. Conventionally, the aperture is disposed outside the chamber, that is, on the atmosphere side, so that the aperture becomes dirty unless purged.The aperture reacts with ultraviolet light and atmospheric gas to cause deterioration or impurities, thereby contaminating surrounding optical components. Problem. The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and does not require a large amount of purge gas to keep a window in a clean state, increases the cavity length, and possibly causes a leak from a pipe connection. It is an object of the present invention to provide a gas laser device which does not cause a problem and can prevent deterioration of the aperture.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明に係るガスレーザ装置は、ガスレーザ装置におい
て、ウインドウの内側のレーザ光路上にウインドウ側か
ら順に第1の副室、ラビリンスを設置し、該ラビリンス
の開口内にレーザ光路が含まれ、清浄レーザ媒質ガスを
前記第1の副室と前記ラビリンスとの間に導入するレー
ザガス導入開口を有し、前記清浄レーザ媒質ガスを前記
ラビリンスを経てチャンバ内に導入することを特徴とす
るガスレーザ装置とした。また、ガスレーザ装置におい
て、ウインドウの内側に第2の副室及びラビリンスを設
置し、清浄レーザ媒質ガスを前記第2の副室の前記ウイ
ンドウから離隔した位置へ導入して静圧に戻した上、前
記ラビリンスを経てチャンバ内に導入することとした。
In order to achieve the above object, a gas laser device according to the present invention is a gas laser device, wherein a first sub-chamber and a labyrinth are installed in order from the window side on a laser light path inside a window, The labyrinth
Laser light path is included in the opening, the rate of introducing the clean laser medium gas between the labyrinth and the first sub-chamber
A gas laser device having a gas introduction opening, wherein the clean laser medium gas is introduced into the chamber through the labyrinth. Further, in the gas laser device, a second sub-chamber and a labyrinth are installed inside the window, and a clean laser medium gas is introduced to a position of the second sub-chamber separated from the window to return to a static pressure. It was introduced into the chamber via the labyrinth.

【0005】[0005]

【作用】上記構成によれば、ウインドウの内側のレーザ
光路上にウインドウ側から順に第1の副室、ラビリンス
を設置し、清浄レーザ媒質ガスを前記第1の副室と前記
ラビリンスとの間に導入した上、前記ラビリンスを経て
チャンバ内に導入することにし、また第2の副室をウイ
ンドウの内側に設け、除塵装置によって清浄化したレー
ザ媒質ガスをラビリンスあるいはウインドウの内側に直
接導入せず、いったん第2副室に導入して静圧に回復さ
せた後、前記ラビリンスを経てチャンバ内に導入するこ
とにしたので、前記いずれの構成によってもウインドウ
の内側近傍には常に清浄なレーザ媒質ガスを滞留させる
ことができる。従って、塵を含むレーザ媒質ガスが前記
ウインドウの内側に到達することはなく、多量のパージ
ガスをウインドウに吹きつけなくてもウインドウ表面を
清浄に保つことができる。また、除塵装置から前記副室
に至るガス導入路をチャンバの側壁に内蔵したので、キ
ャビティ長の増大、配管接続部からのリークの可能性な
どの問題が起こらない。更に、レーザ光を整形するアパ
ーチャを取着する場合は、ウインドウ近傍の清浄なレー
ザ媒質ガス雰囲気内に配設することにしたので、アパー
チャの汚損、劣化あるいは不純物発生による周囲の光学
部品の汚損等の問題発生を防止することができる。
According to the above construction, the first sub-chamber and the labyrinth are installed in order from the window side on the laser beam path inside the window, and the clean laser medium gas is supplied between the first sub-chamber and the labyrinth. After being introduced, it is decided to be introduced into the chamber through the labyrinth, and the second sub-chamber is provided inside the window, and the laser medium gas cleaned by the dust removing device is not directly introduced into the labyrinth or the inside of the window, Once introduced into the second sub-chamber and restored to the static pressure, it is introduced into the chamber via the labyrinth. Therefore, in any of the above-described configurations, a clean laser medium gas is always supplied near the inside of the window. Can be retained. Therefore, the laser medium gas containing dust does not reach the inside of the window, and the surface of the window can be kept clean without blowing a large amount of purge gas onto the window. Further, since the gas introduction path from the dust removal device to the sub-chamber is built in the side wall of the chamber, problems such as an increase in the cavity length and a possibility of leak from the pipe connection portion do not occur. Furthermore, when an aperture for shaping the laser beam is attached, the aperture is disposed in a clean laser medium gas atmosphere near the window, so that the aperture is contaminated, deteriorated, and the surrounding optical components are contaminated due to generation of impurities. Problem can be prevented.

【0006】[0006]

【実施例】以下に本発明に係るガスレーザ装置の実施例
について、図面を参照して説明する。図1はエキシマレ
ーザ装置の構造を模式的に示す断面図、図2は図1のP
部拡大図である。これらの図において、1は所定のガス
を封入するチャンバ、2はファン、3,4は主電極、5
はファン駆動用モータ、6はウインドウ、7はウインド
ウホルダ、8はラビリンスである。前記チャンバ1には
ダストフィルタケース9が連結され、チャンバ1とダス
トフィルタケース9とは、光軸方向のほぼ中央に設けら
れたダストフィルタ入口10と、チャンバ1の両端の壁
面内に設けられたガス導入路11とダストフィルタケー
ス9の両端に設けられたダストフィルタ出口12とによ
って連通している。前記ダストフィルタケース9内に
は、フロント側ウインドウ用、リア側ウインドウ用のフ
ィルタ13がそれぞれ配設されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the gas laser device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an excimer laser device, and FIG.
It is a part enlarged view. In these figures, 1 is a chamber for filling a predetermined gas, 2 is a fan, 3 and 4 are main electrodes, 5
Is a fan drive motor, 6 is a window, 7 is a window holder, and 8 is a labyrinth. A dust filter case 9 is connected to the chamber 1, and the chamber 1 and the dust filter case 9 are provided in a dust filter inlet 10 provided substantially at the center in the optical axis direction and inside wall surfaces at both ends of the chamber 1. The gas introduction path 11 communicates with the dust filter outlets 12 provided at both ends of the dust filter case 9. In the dust filter case 9, filters 13 for a front window and a rear window are provided, respectively.

【0007】レーザ媒質ガスはファン2の駆動によって
主電極3,4間を流れ、主電極3,4間のガスを吹き払
った後、図示しない熱交換器で冷却されて再びファン2
に戻る。このファン2によって生じる圧力差を利用して
ダストフィルタケース9内に流れを発生させ、レーザ媒
質ガスは前記ダストフィルタ入口10からダストフィル
タケース9内に入り、フィルタ13を通過することによ
って濾過される。ダストフィルタ出口12を出た清浄な
ガスは、チャンバ壁面内のガス導入路11を通り、図2
に示すようにラビリンス8を収納する第2副室14に入
る。第2副室14はレーザ光路上に設けられ、流入した
ガスの流れを静定させるバッファ領域B(第2の副室)
を形成している。ここで静圧に回復したガスは、ウイン
ドウ6の内面近傍の静定領域A(第1の副室16)の部
分に滞留する清浄なガスを動かすことなく、ラビリンス
8を通過してチャンバ1内の放電領域Cすなわち主電極
3,4の方向に流れる。従って、塵を含む放電領域Cの
ガスがウインドウ6に向かって流入することを防止す
る。
The laser medium gas flows between the main electrodes 3 and 4 by driving the fan 2, and after blowing off the gas between the main electrodes 3 and 4, the gas is cooled by a heat exchanger (not shown), and
Return to A flow is generated in the dust filter case 9 using the pressure difference generated by the fan 2, and the laser medium gas enters the dust filter case 9 from the dust filter inlet 10 and is filtered by passing through the filter 13. . The clean gas that has exited the dust filter outlet 12 passes through the gas introduction passage 11 in the chamber wall, and
As shown in (2), it enters the second sub-chamber 14 in which the labyrinth 8 is stored. The second sub-chamber 14 is provided on the laser beam path, and a buffer area B (second sub-chamber) for stabilizing the flow of the inflowing gas.
Is formed. Here, the gas restored to the static pressure passes through the labyrinth 8 and moves inside the chamber 1 without moving the clean gas remaining in the portion of the statically defined area A (the first sub-chamber 16) near the inner surface of the window 6. In the direction of the discharge region C, that is, the main electrodes 3 and 4. Therefore, the gas in the discharge region C including dust is prevented from flowing toward the window 6.

【0008】図3は、アパーチャを取着した請求項3の
ガスレーザ装置のウインドウ近傍の断面図である。アパ
ーチャ15は、ウインドウホルダ7の段付き穴の底面、
すなわち上記静定領域A(第1の副室16)とバッファ
領域B(第2の副室14)との境界面に取着されてい
る。従って、アパーチャ15は常に清浄なレーザ媒質ガ
ス雰囲気中にあるため、材質を選ぶことにより汚損、劣
化等の不具合が起こらない。例えば、フッ素をレーザ媒
質ガスに用いるエキシマレーザ装置ではアルミニウムに
Niめっきを施したアパーチャを用いると良好な結果が
得られる。また、アパーチャ15は静定領域A(第1の
副室16)とバッファ領域B(第2の副室14)とを分
離する仕切りとしての機能も備え、領域A(第1の副室
16)をさらに安定に保つことが出来る。
FIG. 3 is a sectional view showing the vicinity of a window of the gas laser device according to the third embodiment, wherein the aperture is mounted. The aperture 15 is provided at the bottom of the stepped hole of the window holder 7,
That is, it is attached to the boundary surface between the above-mentioned statically-determined area A (first sub-chamber 16) and the buffer area B (second sub-chamber 14). Therefore, since the aperture 15 is always in a clean laser medium gas atmosphere, problems such as contamination and deterioration do not occur by selecting the material. For example, in an excimer laser device using fluorine as a laser medium gas, good results can be obtained by using an aperture in which aluminum is plated with Ni. Further, the aperture 15 also has a function as a partition for separating the statically defined area A (first sub-chamber 16) and the buffer area B (second sub-chamber 14), and the area A (first sub-chamber 16). Can be kept more stable.

【0009】[0009]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
の効果が得られる。 (1)ウインドウのレーザチャンバ内側のレーザ光路上
にウインドウ側から順に第1の副室、ラビリンスを設置
し、該ラビリンスの開口内にレーザ光が含まれ、清浄レ
ーザ媒質ガスを前記第1の副室と前記ラビリンスとの間
に導入するレーザ ガス導入開口を有し、該導入口から導
入される前記清浄レーザ媒質ガスを、前記ラビリンス
開口を経てチャンバ内に導入することにしたので、ウイ
ンドウの内側近傍には常に清浄なレーザ媒質ガスを滞留
させることができると共に放電の衝撃波がダストを含む
レーザガスをウインドウ方向へ流す作用を弱めることが
でき、従って、塵を含むレーザ媒質ガスが前記ウインド
ウの内側に到達することはなく、多量のパージガスを用
いなくてもウインドウ表面を清浄に保つことができる。 (2)ウインドウの内側のレーザ光路上に、除塵装置に
よって清浄化したレーザ媒質ガスを導入して静定する副
室を設け、前記ラビリンスを経てチャンバ内に導入する
ことしたので、ウインドウの内側近傍には常に清浄な
レーザ媒質ガスを滞留させることができる。従って、放
電領域に浮遊する塵を含むレーザ媒質ガスが前記ウイン
ドウの内面に到達することはなく、多量のパージガスを
用いなくてもウインドウ表面を常に清浄に保つことがで
きる。 (3)除塵装置から副室に至るレーザ媒質ガス導入路を
チャンバの側壁に内蔵したので、キャビティ長の増大、
配管接続部からのリークの可能性などの問題が起こらな
い。 (4)レーザ光を整形するアパーチャを取着する場合
は、ウインドウの内側近傍の清浄なレーザ媒質ガス雰囲
気内に配設することしたので、アパーチャの汚損、劣
化あるいは不純物発生による周囲の光学部品の汚損等の
問題発生を防止することができるとともに、アパーチャ
専用のパージ機構を必要としない。また、アパーチャの
おかれる雰囲気レーザ媒質ガスが完全ドライであり、化
学反応を起こす可能性のあるガスはハロゲンのみである
から、アパーチャの材質選定が容易になる。更に、アパ
ーチャを上記静定領域A(第1の副室)とバッファ領域
B(第2の副室)との境界面に取着することにより、静
定領域内の清浄なガスをより安定に保つことができるの
で、ウインドウの汚れ防止効果が増大する。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (1) A first sub-chamber and a labyrinth are installed in order from the window side on a laser beam path inside a laser chamber of a window , and a laser beam is contained in an opening of the labyrinth , and a clean laser medium gas is supplied to the first sub-chamber. chamber and has a laser gas inlet opening for introducing between the labyrinth, guiding the conductor inlet
It said cleaning laser medium gas inlet, of the labyrinth
Having to introduce into the chamber through the opening, the shock wave can be of Rutotomoni discharge it near the inside of the window to always stay clean laser medium gas contains dust
Weakening the effect of flowing the laser gas in the window direction
It can, therefore, can be kept rather than the laser medium gas to reach the inside of the window containing the dust, the window surface without using a large amount of purge gas to clean. (2) On the laser beam path inside the window, a sub-chamber for introducing and stabilizing the laser medium gas cleaned by the dust remover is provided, and is introduced into the chamber through the labyrinth. A clean laser medium gas can always stay in the vicinity. Therefore, the laser medium gas containing dust floating in the discharge region does not reach the inner surface of the window, and the window surface can be always kept clean without using a large amount of purge gas. (3) Since the laser medium gas introduction path from the dust removal device to the sub chamber is built in the side wall of the chamber, the cavity length can be increased.
There is no problem such as the possibility of leakage from the pipe connection. (4) When attaching an aperture for shaping a laser beam, so it was decided to arrange in clean laser medium gas atmosphere inside the vicinity of the window, fouling of the aperture, the optical component around due to degradation or impurities generated In addition, it is possible to prevent the occurrence of a problem such as contamination of the device, and does not require a purge mechanism dedicated to the aperture. Further, since the atmosphere laser medium gas in which the aperture is placed is completely dry and the gas which may cause a chemical reaction is only halogen, the material selection of the aperture becomes easy. Further, by attaching the aperture to the boundary between the static area A (first sub-chamber) and the buffer area B (second sub-chamber), the clean gas in the static area can be more stably removed. Since it can be maintained, the effect of preventing the window from being stained increases.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ガスレーザ装置の構造を模式的に示す断面図で
ある。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a gas laser device.

【図2】図1のP部拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a part P in FIG.

【図3】アパーチャを取着したガスレーザ装置のウイン
ドウ近傍の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the vicinity of a window of the gas laser device with an aperture attached.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チャンバ 6 ウインドウ 8 ラビリンス 9 ダストフィルタケース 11 ガス導入路 13 フィルタ 14 第2の副室 15 アパーチャ16 第1の 副室17 ラビリンスの開口 18 レーザガス導入開口 19 清浄レーザ媒質ガスを第2の副室内へ導入する開
Reference Signs List 1 chamber 6 window 8 labyrinth 9 dust filter case 11 gas introduction path 13 filter 14 second sub-chamber 15 aperture 16 first sub-chamber 17 labyrinth opening 18 laser gas introduction opening 19 clean laser medium gas into second sub-chamber Opening to introduce
mouth

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ガスレーザ装置において、ウインドウの
レーザチャンバ内側のレーザ光路上にウインドウ側から
順に第1の副室、ラビリンスを設置し、該ラビリンスの
開口17内にレーザ光路が含まれ、清浄レーザ媒質ガス
を前記第1の副室と前記ラビリンスとの間に導入するレ
ーザガス導入開口18を有し、該導入開口18から導入
される前記清浄レーザ媒質ガスを、前記ラビリンスの開
口17を経てチャンバ内に導入することを特徴とするガ
スレーザ装置。
1. A gas laser device, comprising:
A first sub-chamber and a labyrinth are installed in order from the window side on the laser beam path inside the laser chamber , and the labyrinth
Laser light path is included in the opening 17, Surure introduce clean laser medium gas between the labyrinth and the first sub-chamber
Has a gas inlet opening 18, and is introduced through the inlet opening 18.
The cleaned laser medium gas is released from the labyrinth .
A gas laser device, which is introduced into a chamber through a port 17 .
【請求項2】 ガスレーザ装置において、ウインドウの
レーザチャンバ内側のレーザ光路上にウインドウ側から
順に第1の副室、アパーチャ、ラビリンスを設置し、
ラビリンスの開口17内にレーザ光路が含まれ、清浄レ
ーザ媒質ガスを前記アパーチャと前記ラビリンスとの間
に導入するレーザガス導入開口18を有し、該導入開口
18から導入される前記清浄レーザ媒質ガスを、前記ラ
ビリンスの開口17を経てチャンバ内に導入することを
特徴とするガスレーザ装置。
2. A gas laser device, comprising:
First subchamber, the aperture, a labyrinth is placed from the window side in order in the laser beam path of the laser chamber inside the
The labyrinth opening 17 includes a laser light path , and has a laser gas introduction opening 18 for introducing a clean laser medium gas between the aperture and the labyrinth.
A gas laser device, wherein the clean laser medium gas introduced from 18 is introduced into the chamber through the labyrinth opening 17 .
【請求項3】 ガスレーザ装置において、ウインドウの
内側に第2の副室をレーザ光路周囲に設置し、清浄レー
ザ媒質ガスを前記第2の副室内へ導入する開口19を有
し、前記第2の副室内のレーザガスを前記第1の副室と
前記ラビリンスとの間に導入する開口18を有し、前記
ラビリンスを経てチャンバ内に導入することを特徴とす
る請求項1記載のガスレーザ装置。
3. A gas laser device, wherein a second sub-chamber is provided around a laser optical path inside a window, and has an opening 19 for introducing a clean laser medium gas into the second sub-chamber.
2. The apparatus according to claim 1, further comprising an opening for introducing the laser gas in the second sub-chamber between the first sub-chamber and the labyrinth, and introducing the laser gas into the chamber via the labyrinth. Gas laser equipment.
【請求項4】 ガスレーザ装置において、ウインドウの
内側に第2の副室をレーザ光路周囲に設置し、清浄レー
ザ媒質ガスを前記第2の副室内へ導入する開口19を有
し、前記第2の副室内のレーザガスを前記アパーチャと
前記ラビリンスとの間に導入する開口18を有し、前記
ラビリンスを経てチャンバ内に導入することを特徴とす
る請求項2記載のガスレーザ装置。
4. A gas laser device, wherein a second sub-chamber is provided around a laser beam path inside a window, and has an opening 19 for introducing a clean laser medium gas into the second sub-chamber.
The gas laser device according to claim 2 , further comprising an opening (18) for introducing the laser gas in the second sub-chamber between the aperture and the labyrinth, and introducing the laser gas into the chamber through the labyrinth.
【請求項5】 前記アパーチャを、ウインドウの内側近
傍の清浄なレーザ媒質ガス雰囲気内に配設したことを特
徴とする請求項2又は4記載のガスレーザ装置。
5. The gas laser device according to claim 2, wherein the aperture is disposed in a clean laser medium gas atmosphere near the inside of the window.
【請求項6】 前記アパーチャはレーザ光を整形するこ
とを特徴とする請求項2、4又は5記載のガスレーザ装
置。
6. The gas laser device according to claim 2, wherein the aperture shapes a laser beam.
【請求項7】 前記アパーチャの開口径よりもラビリン
開口の径が大きく、ラビリンス開口の径よりもラビリ
ンス出口の径の方が大きいことを特徴とする請求項2、
4、5又は6記載のガスレーザ装置。
7. The labyrinth opening has a diameter larger than the diameter of the labyrinth opening , and the diameter of the labyrinth outlet is larger than the diameter of the labyrinth opening .
7. The gas laser device according to 4, 5, or 6.
【請求項8】 前記ラビリンスを前記第2の副室内部に
収納した請求項3又は4記載のガスレーザ装置。
8. The gas laser device according to claim 3, wherein the labyrinth is housed inside the second sub-chamber.
【請求項9】 前記レーザ媒質ガスは除塵装置によって
清浄化されている請求項1〜8のいずれかに記載のガス
レーザ装置。
9. The gas laser device according to claim 1, wherein the laser medium gas is cleaned by a dust remover.
【請求項10】 レーザ媒質ガス中に浮遊する塵を除塵
装置によって除去し、前記除去装置から前記ガス導入部
に至るレーザ媒質ガス導入路をチャンバの側壁に内蔵し
たことを特徴とする請求項9記載のガスレーザ装置。
10. The apparatus according to claim 9, wherein dust floating in the laser medium gas is removed by a dust removing device, and a laser medium gas introducing passage from the removing device to the gas introducing portion is built in a side wall of the chamber. The gas laser device as described in the above.
JP4321249A 1992-10-15 1992-11-05 Gas laser device Expired - Lifetime JP2784706B2 (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4321249A JP2784706B2 (en) 1992-11-05 1992-11-05 Gas laser device
US08/136,448 US5373523A (en) 1992-10-15 1993-10-14 Excimer laser apparatus

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4321249A JP2784706B2 (en) 1992-11-05 1992-11-05 Gas laser device

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JPH06152030A JPH06152030A (en) 1994-05-31
JP2784706B2 true JP2784706B2 (en) 1998-08-06

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ID=18130476

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JPS59176172U (en) * 1983-05-11 1984-11-24 株式会社ダイヘン laser oscillator
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