JPH07111990B2 - PROBE METHOD AND DEVICE THEREOF - Google Patents

PROBE METHOD AND DEVICE THEREOF

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JPH07111990B2
JPH07111990B2 JP62240358A JP24035887A JPH07111990B2 JP H07111990 B2 JPH07111990 B2 JP H07111990B2 JP 62240358 A JP62240358 A JP 62240358A JP 24035887 A JP24035887 A JP 24035887A JP H07111990 B2 JPH07111990 B2 JP H07111990B2
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probe
positioning means
probe device
positioning
wafer
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至 高尾
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は供給された半導体ウエハ等の被検査体を位置決
めしたのち、プローブ針を接触させて検査するプローブ
方法およびその装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Object of the Invention (Industrial field of application) The present invention is directed to a probe method and an apparatus for inspecting an object to be inspected such as a supplied semiconductor wafer by contacting it with a probe needle. Regarding

(従来の技術) 半導体ウエハ(以下、ウエハという)の表面に設けた半
導体チップを検査するのにプローブ装置で行っている。
このプローブ装置はウエハを供給するローダ部とウエハ
の半導体チップの電極部にプローブ針を接触する検査部
と、プローブ針と電極部との接触によって外部テスタと
導通させて、半導体チップを検査する構成になってい
る。
(Prior Art) A probe device is used to inspect a semiconductor chip provided on the surface of a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer).
This probe device is configured to inspect a semiconductor chip by connecting a loader for supplying a wafer, an inspection unit for contacting a probe needle with an electrode unit of a semiconductor chip on the wafer, and an electrical connection with an external tester by contact between the probe needle and the electrode unit. It has become.

このような技術としては、特公昭59−50942号、実開昭6
1−88240号、実開昭61−96544号、特開昭61−206237
号、特開昭61−220349号、特開昭61−222231号、特開昭
61−234543号及び特開昭61−237443号公報等に記載され
ている。
Examples of such technologies include Japanese Patent Publication No. 59-50942 and Shokai Sho6.
No. 1-88240, No. 61-96544, No. 61-206237
No. 61-220349, 61-222231, 61-222231
61-234543 and JP-A-61-237443.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、従来のプローブ装置では、検査部に設け
たプローブカードのプローブ針にウエハの半導体チップ
の電極部を接触するプロービング領域と、ウエハ上の半
導体チップの整列方向を一方に位置決めする位置決め手
段とが、平面的に一定の距離を設けて配置されている。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conventional probe apparatus, the probing region where the electrode portion of the semiconductor chip of the wafer is brought into contact with the probe needle of the probe card provided in the inspection unit and the alignment of the semiconductor chip on the wafer Positioning means for positioning the direction in one direction are arranged with a certain distance in plan view.

したがって、ローダからウエハを供給された載置体が位
置決め手段まで移動される。そして、この手段で載置体
上のウエハが位置決めされる。つぎに、位置決めされた
ウエハは検査部に設けたプローブ針の真下まで、載置体
を移動する構成であり、搬送レール等の機械的誤差が上
記移動量に含まれるので不正確な位置決めになる問題点
があった。また、検査部のプロービング領域と、ローダ
から載置体にウエハを供給する位置との間に、平面的に
位置決め、手段が配置されているので、プローブ装置を
小型化することができないという問題点があった。そし
て、本発明の目的とするところは、上述した従来の問題
点を解決し、位置決め精度をより高精度に維持し、さら
に小型化が可能なプローブ方法およびその装置を提供す
ることにある。
Therefore, the mounting body supplied with the wafer from the loader is moved to the positioning means. Then, the wafer on the mounting body is positioned by this means. Next, the positioned wafer has a configuration in which the mounting body is moved to just below the probe needle provided in the inspection unit, and the mechanical error of the transfer rail or the like is included in the above movement amount, resulting in inaccurate positioning. There was a problem. Further, since the positioning and means are arranged two-dimensionally between the probing area of the inspection unit and the position where the wafer is supplied from the loader to the mounting body, the probe device cannot be downsized. was there. It is an object of the present invention to provide a probe method and an apparatus thereof which solve the above-mentioned conventional problems, maintain the positioning accuracy with higher accuracy, and can be further downsized.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

(問題点を解決するための手段) 第1の発明は、供給された被検査体を位置決めしたの
ち、プローブ針を接触させて検査するプローブ装置にお
いて、前記被検査体を載置する載置体と、前記被検査体
を認識する手段を備えた位置決め手段とを具備し、前記
位置決め手段が前記被検査体を検査する領域まで移動可
能に設けられていることを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) A first aspect of the present invention is a probe apparatus for positioning a supplied test object and then inspecting it by bringing a probe needle into contact with the test object. And a positioning means having means for recognizing the object to be inspected, wherein the positioning means is provided so as to be movable to a region for inspecting the object to be inspected.

第2の発明は、供給された被検査体を位置決めしてプロ
ーブ針を前記被検査体に接触させて検査するプローブ方
法において、被検査体の方向を一定方向に揃えて前記被
検査体を載置台に移載する第1の工程と、前記載置台上
に移載された前記被検査体の位置決めを行う位置決め手
段を、前記載置台まで移動させて前記被検査体の位置決
めをする第2の工程と、前記位置決め後、前記位置決め
手段を退去する第3の工程とを具備したことを特徴とす
る。
A second aspect of the present invention is a probe method for positioning a supplied inspection object and bringing a probe needle into contact with the inspection object to inspect, and mounting the inspection object by aligning a direction of the inspection object in a certain direction. A first step of transferring to the mounting table and a second step of moving the positioning means for positioning the inspection object transferred onto the mounting table to the mounting table to position the inspection object. The method is characterized by including a step and a third step of withdrawing the positioning means after the positioning.

第3の発明は、ウエハ上に形成された半導体チップの電
極部にプローブカードのプローブ針を接触させて半導体
チップの検査を行うプローブ装置において、供給された
ウエハを吸着固定する載置体と、この載置体上のウエハ
の半導体チップを認識し、半導体チップの配列を一定方
向に位置決めする位置決め手段と、この位置決め手段を
プローブカードの真下に搬送する搬送機構と、前記ウエ
ハの半導体チップの電極部にプローブ針を接触させる駆
動機構とを備えたことを特徴とする。
A third invention is a probe apparatus for inspecting a semiconductor chip by bringing a probe needle of a probe card into contact with an electrode portion of a semiconductor chip formed on a wafer, and a mounting body for sucking and fixing the supplied wafer, Positioning means for recognizing the semiconductor chips of the wafer on the mounting body and positioning the arrangement of the semiconductor chips in a fixed direction, a transfer mechanism for transferring the positioning means to directly below the probe card, and electrodes of the semiconductor chips of the wafer. A drive mechanism for bringing the probe needle into contact with the portion.

(作 用) 上記のように構成することにより、本発明のプローブ装
置の検査部に被検査体を位置決めする位置決め手段と、
上記被検査体を接触させるプローブカードとが、略同位
置に形成されている。
(Operation) With the configuration described above, a positioning means for positioning the object to be inspected in the inspection section of the probe device of the present invention,
The probe card that comes into contact with the object to be inspected is formed at substantially the same position.

したがって、上記位置決め手段が上記被検査体を位置決
めした後、上記被検査体を移動させることなく、上記被
検査体にプローブカードのプローブ針を接触させて検査
することになる。
Therefore, after the positioning unit positions the inspection object, the inspection is performed by bringing the probe needle of the probe card into contact with the inspection object without moving the inspection object.

(実施例) 次に本発明のプローブ装置の実施例を図面を用いて説明
する。
(Example) Next, the Example of the probe apparatus of this invention is described using drawing.

第1図に示すようにプローブ装置(1)の全体構成を大
別すると、ウエハ(2)を収納したウエハカセット
(3)からウエハ(2)を取出し載置体に供給するロー
ダ部(4)と、このローダ部(4)から供給されたウエ
ハ(2)をプローブカード(5)のプローブ針(5a)の
真下まで搬送して検査する検査部(6)とから構成され
ている。
As shown in FIG. 1, the overall structure of the probe apparatus (1) is roughly classified into a loader section (4) for taking out the wafer (2) from a wafer cassette (3) accommodating the wafer (2) and supplying it to a mounting body. And a wafer inspection unit (6) for inspecting the wafer (2) supplied from the loader unit (4) by transporting it to just below the probe needle (5a) of the probe card (5).

上記ローダ部(4)はプーロブ装置(1)の側部に設け
られている。
The loader part (4) is provided on the side part of the purob device (1).

上記ローダ部(4)はウエハカセット(3)から一枚づ
つ取出し、任意な方向をもって供給されてきたウエハ
(2)を一定方向に揃えた状態で検査部(6)の載置体
(7)に供給するように構成されている。
The loader unit (4) takes out the wafers (3) one by one from the wafer cassette (3), and the wafers (2) supplied in an arbitrary direction are aligned in a certain direction, and a mounting body (7) of the inspection unit (6) is arranged. Is configured to supply.

この構成は、すでに特開昭60−245134号公報に記載され
ているので説明を省略する。
This structure has already been described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-245134, and a description thereof will be omitted.

この検査部(6)の構成は、第1図に示すように、供給
されたウエハ(2)を吸着固定する載置体(7)と、こ
の載置体(7)上のウエハ(2)の半導体チップの配列
を一定方向に位置決めする位置決め手段(8)と、この
位置決め手段(8)をプローブカード(5)の真下に搬
送する搬送機構(9)と、上記ウエハ(2)の半導体チ
ップの電極部にプローブ針(5a)を接触させるプローブ
カード(5)から構成されている。
As shown in FIG. 1, the structure of the inspection unit (6) is such that a mounting body (7) for adsorbing and fixing the supplied wafer (2) and a wafer (2) on the mounting body (7). Positioning means (8) for positioning the array of semiconductor chips in a fixed direction, a transfer mechanism (9) for transferring the positioning means (8) directly below the probe card (5), and the semiconductor chips of the wafer (2). The probe card (5) for contacting the probe needle (5a) with the electrode part of the.

上記載置体(7)は、第2図に示すようにプローブ装置
(1)の基台(10)に載設したレール部材(11)上をY
軸方向に移動するY駆動部と、このY駆動部の内部に同
じくX方向に移動するレールが敷設されており、このレ
ール上をX軸方向に移動するX駆動部があり、これらを
一体にした駆動機構(12)が設けられている。この駆動
機構(12)の頂面に載置体(7)がプローブ装置(1)
の基台(10)と平行に設けられている。この載置体
(7)の表面には吸着孔が複数個設けられている。
As shown in FIG. 2, the above-mentioned mounting body (7) is mounted on the rail member (11) mounted on the base (10) of the probe device (1) so that the rail member (11) is mounted on the rail member (11).
An Y drive unit that moves in the axial direction and a rail that also moves in the X direction are laid inside the Y drive unit, and there is an X drive unit that moves in the X axis direction on the rail. The drive mechanism (12) is provided. The mounting body (7) is mounted on the top surface of the drive mechanism (12) by the probe device (1).
It is installed parallel to the base (10). A plurality of suction holes are provided on the surface of the mounting body (7).

上記吸着孔は外部のバキューム源(図示せず)に連通さ
れている。また、上記載置体(7)が検査部(6)のプ
ローブカード(5)の下方の所定位置まで移動した際
に、検査部(6)のプローブカード(5)のプローブ針
(5a)と接触させるために上昇する上下動(Z軸方向)
駆動部(12a)が設けられている。さらに、上記載置体
(7)上のウエハ(2)を周方向に回転させる周(θ)
方向回転駆動(12b)も同様に設けられている。
The suction holes are connected to an external vacuum source (not shown). When the mounting body (7) described above moves to a predetermined position below the probe card (5) of the inspection unit (6), the probe needle (5a) of the probe card (5) of the inspection unit (6) Vertical movement that rises to make contact (Z-axis direction)
A drive unit (12a) is provided. Further, a circumference (θ) for rotating the wafer (2) on the mounting body (7) in the circumferential direction.
Directional rotation drive (12b) is also provided.

上記載置体(7)のX.Y.Z軸方向及びθ方向に回転する
移動量は予め記憶されたプログラムで各方向に移動また
は回転する場合と、位置決め手段で補正誤差を認識した
移動量を自動的に移動または回転するように構成されて
いる。
The amount of movement of the mounting body (7) that rotates in the XYZ axis directions and the θ direction is automatically determined by the amount of movement when the correction error is recognized by the positioning means and when it is moved or rotated in each direction by the program stored in advance. It is configured to move or rotate.

上記位置決め手段(8)はウエハ(2)を検査する検査
部(6)に設けたプローブカード(5)の真下に配置さ
れるようにプローブ装置(1)のY方向に移動自在に設
けられている。ここで、上記位置決め手段(8)が、Y
方向に移動自在に設けたのは、プローブ装置(1)の全
体の大きさのY方向の奥行きを小型化する目的であり、
もしX方向の長さを小型化する場合には、上記位置決め
手段(8)をY方向に移動自在に設ければ良いことにな
る。
The positioning means (8) is movably provided in the Y direction of the probe device (1) so as to be arranged directly below the probe card (5) provided in the inspection unit (6) for inspecting the wafer (2). There is. Here, the positioning means (8) is
The probe device (1) is movably provided for the purpose of reducing the depth of the entire probe device (1) in the Y direction.
If the length in the X direction is reduced, the positioning means (8) should be provided so as to be movable in the Y direction.

上記位置決め手段(8)の構成は、第3図に示すよう
に、ウエハ(2)の所定の大きさの半導体チップを所定
のピッチで2次元的に複数配列したウエハ(2)を直交
座標系XYに沿って位置決め手段(8)において、上記ウ
エハ(2)上の第1部分の領域(13)中のパターンに応
じた第1情報と、載置体(7)を移動させて、第1部分
の領域(13)中から半導体チップの配列方向にピッチの
整数倍の距離、例えば半導体チップの大きさが4mm幅×5
mm長で20個目の第2部分の距離は5mm×20=100mmの距離
だけ離れた第2部分の領域(14)のパターンに応じた第
2情報とを抽出するパターン情報抽出手段と、第1情報
と第2情報の比較に基づいてウエハ(2)の座標系X−
Yに関する回転誤差が検出される。
As shown in FIG. 3, the positioning means (8) has an orthogonal coordinate system in which a wafer (2) in which a plurality of semiconductor chips of a predetermined size are two-dimensionally arranged at a predetermined pitch is arranged. In the positioning means (8) along XY, the first information corresponding to the pattern in the region (13) of the first portion on the wafer (2) and the mounting body (7) are moved to move the first information. A distance that is an integral multiple of the pitch from the partial region (13) in the semiconductor chip arrangement direction, for example, the size of the semiconductor chip is 4 mm width × 5
A pattern information extracting means for extracting the second information corresponding to the pattern of the area (14) of the second part, which is separated by a distance of 5 mm × 20 = 100 mm, is used as the distance of the 20th second part of mm length, Based on the comparison of the first information and the second information, the coordinate system X- of the wafer (2)
A rotation error with respect to Y is detected.

この検出された情報に基づいて、予め記憶されたプログ
ラムでX軸.Y軸及びθ方向を補正移動される構成になっ
ている。ここで、ウエハ(2)上の第1部分の第1情報
を抽出した後、第2部分の第2情報を得るために、ウエ
ハ(2)を載置した載置体(7)が、矢印(15)に移動
するようになっている。また、上記周方向(θ方向)に
回転する駆動部の一例は、特開昭60−242621号及び特開
昭62−806号公報等に記載されている。
Based on the detected information, the X-axis.Y-axis and the [theta] direction are corrected and moved by a program stored in advance. Here, in order to obtain the second information of the second portion after extracting the first information of the first portion on the wafer (2), the mounting body (7) on which the wafer (2) is mounted is indicated by an arrow. It is designed to move to (15). Further, an example of the drive unit that rotates in the circumferential direction (θ direction) is described in JP-A-60-242621 and JP-A-62-806.

上記位置決め手段(8)の原理は、第4図に示すように
レザービームをウエハ(2)に照射するものと、ウエハ
(2)の表面を撮像管で撮像する方式の2種類が多く用
いられている。
As the principle of the positioning means (8), as shown in FIG. 4, two types are widely used: one for irradiating a laser beam on a wafer (2) and one for imaging the surface of the wafer (2) with an image pickup tube. ing.

上記レーザ方式はレザー発生部を有し、このレザー発生
部から発したビームをシリンドリカルレンズで線状に変
形する。この変形したビームをウエハ(2)に照射し
て、その反射ビームをレンズで収束して回折像を抽出
し、この回折像を特殊な配列に組込まれた感知センサ
(8b)でウエハ(2)の状態を読みとるものである。
The laser system has a laser generating portion, and a beam emitted from the laser generating portion is linearly deformed by a cylindrical lens. The wafer (2) is irradiated with this deformed beam, the reflected beam is converged by a lens to extract a diffraction image, and the diffraction image is detected by a sensor (8b) incorporated in a special array on the wafer (2). To read the state of.

上記位置決め手段の原理を用いたものとして、詳しくは
特開昭60−245134号及び特公昭61−42422号公報に記載
されているので、ここでは説明を省略する。
Details of using the principle of the above-mentioned positioning means are described in JP-A-60-245134 and JP-B-61-42422, and therefore description thereof is omitted here.

また、上述したレザービームを用いた他に、認識装置例
えば撮像手段を有し、この撮像手段からウエハ表面の2
ケ所の領域の情報を抽出して、これらの領域の特異点を
比較して、ウエハの傾きを認識した後に載置体のX.Y軸
及びθ方向の回転を補正移動させる方式もある。
Further, in addition to the above-mentioned laser beam, a recognition device, for example, an image pickup means is provided.
There is also a method of extracting information on a region of a certain place, comparing singular points of these regions, recognizing the tilt of the wafer, and then correcting and moving the rotation of the mounting body in the XY axis and the θ direction.

現在ではパターン認識が主流である。Currently, pattern recognition is the mainstream.

上記搬送機構(9)は、第5図及び第6図で示すよう
に、検査部(6)のプローブカード(5)の真下に上述
した位置決め手段(8)を進退自在に設けられている。
すなわち、プローブカード(5)の真下に配設された載
置体(7)上のウエハ(2)を位置決めするためには、
プローブカード(5)の真下に上記位置決め手段(8)
を配設する必要がある。また、ウエハ(2)の位置決め
後は、上記位置決め手段(8)の筐体(8a)がプローブ
カード(5)の真下にあれば、プローブ針(5a)と半導
体チップの電極部に針合わせが出来ない。そこで、上記
位置決め手段(8)をプローブ装置(1)の後方に退去
させる構成になっている。
As shown in FIG. 5 and FIG. 6, the transport mechanism (9) is provided with the above-mentioned positioning means (8) so as to be movable back and forth directly below the probe card (5) of the inspection section (6).
That is, in order to position the wafer (2) on the mounting body (7) disposed directly below the probe card (5),
The positioning means (8) is provided just below the probe card (5).
Need to be installed. Further, after the wafer (2) is positioned, if the housing (8a) of the positioning means (8) is directly under the probe card (5), the needle alignment with the probe needle (5a) and the electrode portion of the semiconductor chip is possible. Can not. Therefore, the positioning means (8) is configured to retreat to the rear of the probe device (1).

上記搬送機構(9)の構成は、プローブ装置(1)の基
台(10)の側端部から主柱(17)が立設されている。こ
の立設された主柱(17)にはヘッドプレート(18)と称
するプローブカード(5)受ける受台が横設されてい
る。このヘッドプレート(18)の外周を囲むように独立
した、別のブリッジ(19)と称する平面状の部材が設け
られている。上記プリッジはヘッドプレート(18)を支
えている主柱(17)からブリッジ(19)を突出するよう
にネジ等で固定して主柱(17)を共有している。
In the structure of the transport mechanism (9), the main pillar (17) is erected from the side end of the base (10) of the probe device (1). A pedestal for receiving the probe card (5), which is called a head plate (18), is laterally provided on the erected main pillar (17). An independent planar member called a bridge (19) is provided so as to surround the outer periphery of the head plate (18). The bridge shares the main pillar (17) by fixing the bridge (19) with a screw or the like from the main pillar (17) supporting the head plate (18).

従って、基台(10)と平行に設けられたヘッドプレート
(18)は上方に開閉自在に設けられているのに対して、
ブリッジ(19)は基台(10)に対して平行に設けられて
いる。
Therefore, while the head plate (18) provided parallel to the base (10) is provided so as to be openable and closable upward,
The bridge (19) is provided parallel to the base (10).

上記ブリッジ(19)の底面(19a)には、プローブ装置
(1)のY軸方向に沿って、二本のレール部材(11)が
底面に密着してビス等で設けられている。
Two rail members (11) are provided on the bottom surface (19a) of the bridge (19) along the Y-axis direction of the probe device (1) with screws or the like in close contact with the bottom surface.

上記二本のレール部材(11)はプローブカード(5)を
中心に左右対称に設けられている。
The two rail members (11) are provided symmetrically with respect to the probe card (5).

上記二本のレール部材(11)に把持形のベアリング(2
0)、例えば日本精工製LMガイド(商品名)を複数個摺
動する如く設けられている。
The above two rail members (11) have gripping type bearings (2
0), for example, it is provided so as to slide a plurality of LM guides (trade name) manufactured by NSK.

上記ベアリング(20)は左側のレール部材(11)に2ケ
所のベアリング(20)を直列に配設し、また右側のレー
ル部材(11)に1ケ所のベアリング(20)を左側のベア
リング(20)と対称的に設けられている。
The bearing (20) has two bearings (20) arranged in series on the left rail member (11), and one bearing (20) on the right rail member (11) on the left side. ) Is provided symmetrically.

また、上記の左側のレール部材(11)のベアリング(2
0)と右側レール部材(11)のベアリング(20)に位置
決め手段(8)の筐体(8a)が載置体(7)と平行に設
けられている。さらに、上記ブリッジ(19)の底面(19
a)にボールスクリュ(21)が上記レール部材(11)と
平行に設けられている。さらに、上記ボールスクリュ
(21)にはナット部材(22)が螺着されている。このナ
ット部材(22)を螺着したボールスクリュ(20)の両端
部にはブリッジ(19)の側端部から下方に垂設した支持
体(23)に軸架するように設けられている。
In addition, the bearing (2
0) and the bearing (20) of the right rail member (11) are provided with a housing (8a) of the positioning means (8) in parallel with the mounting body (7). In addition, the bottom surface (19
A ball screw (21) is provided in a) in parallel with the rail member (11). Further, a nut member (22) is screwed onto the ball screw (21). At both ends of the ball screw (20) screwed with the nut member (22), the ball screw (20) is provided so as to be suspended from a side end portion of the bridge (19) by a support body (23) vertically provided.

この軸架したボールスクリュ(21)の一端部にはボール
スクリュ(21)を回転させる駆動部(24)が設けられて
いる。この駆動部(24)は、予め記憶されたプログラム
によって所定の位置から、他の所定の位置まで駆動する
如く設けられている。
A drive unit (24) for rotating the ball screw (21) is provided at one end of the ball screw (21) mounted on the shaft. The drive section (24) is provided so as to drive from a predetermined position to another predetermined position by a program stored in advance.

また、上記ナット部材(22)には、上記位置決め手段
(8)が格納された筐体(8a)と連結されている。従っ
て、駆動部(24)がプログラムの指示により駆動しボー
ルスクリュ(21)及びナット部材(22)を介して、上記
位置決め手段(8)が格納された筐体(8a)を検査部
(6)のプローブカード(5)の真下からプローブ装置
(1)後方部または、プローブ装置(1)の後方部から
プローブカード(5)の真下まで搬送されるように構成
されている。
The nut member (22) is connected to the housing (8a) in which the positioning means (8) is stored. Therefore, the drive unit (24) is driven according to the instructions of the program, and the casing (8a) in which the positioning means (8) is housed is inspected (6) via the ball screw (21) and the nut member (22). It is configured to be conveyed from directly below the probe card (5) to the rear part of the probe device (1) or from the rear part of the probe device (1) to directly below the probe card (5).

上記プローブカード(5)は、基台(10)の側端部から
主柱(17)を立設し、この主柱(17)にヘッドプレート
(18)と称するプローブカード(5)受台が横設する如
く設けられている。
In the probe card (5), a main pillar (17) is erected from the side end of the base (10), and a probe card (5) receiving base called a head plate (18) is provided on the main pillar (17). It is installed horizontally.

このヘッドプレート(18)の中央にプローブカード
(5)が着脱自在に設けられている。
A probe card (5) is detachably provided in the center of the head plate (18).

また、上記プローブカード(5)の真下に位置決め手段
(8)の筐体(8a)が、上述した搬送機構(9)を介し
て移動し、停止し、位置決めした後、退去するようにな
っている。さらに載置体(7)が上昇して、プローブカ
ード(5)のプローブ針(5a)がウエハ(2)に接触す
るように構成されている。
Further, the housing (8a) of the positioning means (8) is moved directly below the probe card (5) via the above-described transport mechanism (9), stopped, positioned, and then withdrawn. There is. Further, the mounting body (7) is raised so that the probe needles (5a) of the probe card (5) come into contact with the wafer (2).

次に作用について説明する。Next, the operation will be described.

プローブ装置(1)の基台(10)の側端部から主柱(1
7)が立設されている。この主柱(17)はヘッドプレー
ト(18)の主柱(17)と共有して設けられたブリッジ
(19)に搬送機構(9)が設けられている。さらに、こ
の搬送機構(9)に位置決め手段(8)を格納した筐体
(8a)が固着されている。
From the side end of the base (10) of the probe device (1) to the main pillar (1
7) is erected. The main pillar (17) is provided with a transfer mechanism (9) on a bridge (19) provided in common with the main pillar (17) of the head plate (18). Further, a casing (8a) accommodating the positioning means (8) is fixed to the transport mechanism (9).

上記筐体(8a)がプローブカード(5)の真下からプロ
ーブ装置(1)の後方部に搬送自在に設けられている状
態にある。
The casing (8a) is in a state of being provided so as to be conveyed from directly below the probe card (5) to the rear portion of the probe device (1).

上述した状態で、第1図に示すように先ずロータ部
(4)のウエハカセット(3)からウエハ(2)を一枚
ずつ真空ピンセット(図示せず)によってプリ・アライ
メント部(16)まで導びかれる。
In the above-mentioned state, as shown in FIG. 1, first, the wafers (2) are guided one by one from the wafer cassette (3) of the rotor part (4) to the pre-alignment part (16) by vacuum tweezers (not shown). Be freaked out.

上記真空ピンセット機構については、本願出願人に係る
実願昭61−161336号の明細書に記載されているので、こ
こでは省略する。
The vacuum tweezers mechanism is described in the specification of Japanese Patent Application No. 61-161336 of the applicant of the present application, and is omitted here.

上記プリ・アライメント部(16)で任意な方向のウエハ
(2)を一定方向に揃えた状態に調整し、回転アーム
(25)を介して載置体に供給される。
The pre-alignment unit (16) adjusts the wafer (2) in an arbitrary direction so that the wafer (2) is aligned in a fixed direction, and the wafer (2) is supplied to the mounting body via the rotary arm (25).

上記載置体(7)に供給されたウエハ(2)は第2図に
示すように、載置体(7)の駆動機構(12)の駆動によ
り、検査部(6)のプローブカード(5)の真下まで搬
送される。
As shown in FIG. 2, the wafer (2) supplied to the mounting body (7) is driven by the drive mechanism (12) of the mounting body (7) to drive the probe card (5) of the inspection unit (6). ) Just below.

ここで、上記載置体(7)がウエハ(2)をローダ部
(4)から供給された位置からプローブカード(5)の
真下まで移動する移動距離は定量的に定められている。
そして、定量的な距離を移動した載置体(7)上のウエ
ハ(2)はプローブカード(5)に対する位置が未だ求
められていない。したがって、位置決め手段(8)をプ
ローブ装置(1)の後方部(第5図中27)からプローブ
カード(5)のプローブ針(5a)群の中心に移動し、停
止させる。この時に位置決め手段(8)の中心とプロー
ブカード(5)のプローブ針(5a)群の中心が一致する
様に位置決め手段(8)の位置決めを行う。
Here, the moving distance by which the above-mentioned mounting body (7) moves the wafer (2) from the position supplied from the loader section (4) to directly below the probe card (5) is quantitatively determined.
The position of the wafer (2) on the mounting body (7) moved by the quantitative distance has not yet been determined with respect to the probe card (5). Therefore, the positioning means (8) is moved from the rear part (27 in FIG. 5) of the probe device (1) to the center of the probe needle (5a) group of the probe card (5) and stopped. At this time, the positioning means (8) is positioned so that the center of the positioning means (8) and the center of the probe needle (5a) group of the probe card (5) coincide with each other.

そこで、固定した上記位置決め手段(8)に対してウエ
ハ(2)を載置体(7)の駆動機構(12)により、X軸
方向.Y軸方向にそれぞれ横断することにより、横断距離
が検出される。この距離の半分がウエハの中心軸であ
る。
Therefore, the traverse distance is detected by traversing the wafer (2) with respect to the fixed positioning means (8) by the drive mechanism (12) of the mounting body (7) in the X-axis direction and the Y-axis direction, respectively. To be done. Half of this distance is the central axis of the wafer.

このウエハの中心が求まると同じに半導体チップの大き
さも設定されている。
When the center of the wafer is obtained, the size of the semiconductor chip is set as well.

したがって、ウエハの中心に半導体チップの中心が配置
されている場合は、上記中心を左右対称に振分けた距離
の位置を抽出すればよい。すなわち、第3図及び第4図
に示すように、ウエハ(2)の第1部分の領域(13)の
表面情報を抽出するために、位置決め手段(8)のレザ
ー光(26)をウエハ(2)の第1部分の領域(13)に照
射させる。このレーザ光(26)がウエハ(2)表面によ
って反射される。この反射光(26a)がレンズ(L3)で
収光され、回折像を特殊な配列の感知センサ(8b)で感
知する。この回折像からウエハ(2)表面の特異点を抽
出するようにしてウエハ(2)上の第1部分の領域(1
3)に応じた第1情報を抽出する。
Therefore, when the center of the semiconductor chip is arranged at the center of the wafer, it is sufficient to extract the position of the distance symmetrically distributed about the center. That is, as shown in FIGS. 3 and 4, in order to extract the surface information of the region (13) of the first portion of the wafer (2), the laser light (26) of the positioning means (8) is applied to the wafer (26). The area (13) of the first part of 2) is irradiated. The laser light (26) is reflected by the surface of the wafer (2). The reflected light (26a) is collected by the lens (L3), and the diffracted image is detected by the special sensor (8b). A singular point on the surface of the wafer (2) is extracted from this diffraction image so that the area (1
The first information corresponding to 3) is extracted.

つぎに、上記ウエハ(2)を載置した載置体(7)が予
め記憶されたプログラムにより、第2部分の領域(14)
例えば、第1部分領域からの半導体チップの配列方向に
ピッチの整数倍の第2部分の領域(14)まで載置体の駆
動機構(12)を介して移動する。
Next, the mounting body (7) on which the wafer (2) is mounted is stored in advance by the program stored in the second portion area (14).
For example, it moves via the drive mechanism (12) of the mounting body from the first partial region to the region (14) of the second portion having an integral multiple of the pitch in the arrangement direction of the semiconductor chips.

ここで、第2部分の領域(14)に応じた第2情報を抽出
する。
Here, the second information corresponding to the area (14) of the second portion is extracted.

上記に述べた第1情報と、第2情報の特異点を比較す
る。この比較によりウエハの半導体チップ列の傾き量を
抽出する。この抽出した情報に基づいて、載置体(7)
の下側に設けたX軸.Y軸.Z軸.θ方向の駆動部で補正移
動する。
The singular points of the first information and the second information described above are compared. By this comparison, the amount of inclination of the semiconductor chip array on the wafer is extracted. Based on the extracted information, the mounting body (7)
X axis.Y axis.Z axis. Correction movement is performed by the drive unit in the θ direction.

上記に述べた位置決め手段(8)は、特開昭60−245134
号後方に記載されているので簡単に概略のみにとどめ
る。このようにして、ウエハの位置決めを行った後、搬
送機構(9)によって位置決め手段(8)の筐体(8a)
はプローブ装置(1)の後方部(27)まで退去される。
ついで、位置決め終了後のウエハ(2)は、載置体
(7)のZ軸方向に上昇し、ヘッドプレート(18)に設
けられているプローブカード(5)のプローブ針(5a)
と接触して、外部テスタ(第1図中28)と導通して検査
することになる。
The positioning means (8) described above is disclosed in JP-A-60-245134.
Since it is written at the back of the issue, it will be briefly summarized only. After the wafer is thus positioned, the transfer mechanism (9) is used to move the housing (8a) of the positioning means (8).
Is moved to the rear part (27) of the probe device (1).
Then, the wafer (2) after the positioning is completed is lifted in the Z-axis direction of the mounting body (7), and the probe needle (5a) of the probe card (5) provided on the head plate (18).
It comes into contact with the external tester (28 in FIG. 1) and conducts inspection.

ここで、位置決め手段(8)をブリッジ(19)の底面
(19a)に設けたが、ヘッドプレート(18)に設けても
問題はない。このようにヘッドプレート(18)に設ける
ことにより、ブリッジ(19)が不用になり部材の減少で
プローブ装置が安価に製造することが可能になる。
Although the positioning means (8) is provided on the bottom surface (19a) of the bridge (19) here, there is no problem if it is provided on the head plate (18). By providing the head plate (18) in this way, the bridge (19) becomes unnecessary and the number of members is reduced, so that the probe device can be manufactured at low cost.

また、基台(10)に直接、ブリッジ(19)用の柱(図示
せず)を立設して、この柱の頂端に基台(10)と平行に
ブリッジ(19)を設けても良く、経済性に合った部材を
用いれば良い。
Further, a pillar (not shown) for the bridge (19) may be erected directly on the base (10), and the bridge (19) may be provided at the top end of the pillar in parallel with the base (10). It suffices to use a member that is economical.

さらに、上記搬送機構を二本のレールを用いて、かつボ
ールスクリュ(21)の回転によって移動する方式で実施
例を説明したが、流体例えば気体を用いたソレノイドに
より駆動させることも可能であり、安価に製造すること
も可能である。また、電磁波を用いて移動させることも
可能である。
Furthermore, the embodiment has been described by using the two rails and moving the ball screw (21) by rotation, but it is also possible to drive the transfer mechanism by a solenoid using a fluid, for example, gas. It can also be manufactured at low cost. It is also possible to move using electromagnetic waves.

尚、ボールスクリュ(21)の替りにプーリ間にタイミン
グベルト(図示せず)も張架する。この張架したタイミ
ングベルトをレール、またはガイド棒に沿って筐体(8
a)を移動することも可能であり、特にボールスクリュ
(21)に限定したものではない。
A timing belt (not shown) is also stretched between the pulleys instead of the ball screw (21). This timing belt stretched along the rail or guide bar
It is also possible to move a), and it is not particularly limited to the ball screw (21).

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

プローブ装置の検査部に被検査体を位置決めする手段を
設けたので、被検査体を位置決めしたのち、直ちに被検
査体とプローブ針とが接触動作(プロービング)を行う
ことができるので、正確な検査が行える。したがって、
高品質で歩留のよい検査が行える。
Since the means for positioning the object to be inspected is provided in the inspection part of the probe device, the object to be inspected and the probe needle can immediately perform contact operation (probing) after positioning the object to be inspected. Can be done. Therefore,
High quality and high yield inspection can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明のプローブ装置の全体を説明する説明
図、第2図は第1図の検査部の機構を説明する説明図、
第3図は第1図のウエハと位置決めする動作との関係を
説明する説明図、第4図は第1図に用いているレザーを
用いた位置決め手段を説明する説明図、第5図は第1図
に用いている位置決め手段を搬送する搬送機構をプロー
ブ装置の上面から見た上面図、第6図は同上の正面図で
ある。 1……プローブ装置、2……ウエハ 3……ウエハカセット、4……ローダ部 5……プローブカード、5a……プローブ針 6……検査部、7……載置体 8……位置決め手段、8a……筐体 9……搬送機構(位置決め手段) 10……基台、11……レール部材 12……駆動機構(X−Y軸方向用) 13……第1部分の領域、14……第2部分の領域 16……プリアライメント位置 17……主柱、18……ヘッドプレート 19……ブリッジ、20……レール 21……ボールスクリュ、22……ナット部材
FIG. 1 is an explanatory view for explaining the entire probe apparatus of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory view for explaining the mechanism of the inspection unit in FIG. 1,
FIG. 3 is an explanatory view for explaining the relationship between the wafer and the positioning operation of FIG. 1, FIG. 4 is an explanatory view for explaining the positioning means using the laser used in FIG. 1, and FIG. FIG. 6 is a top view of the transport mechanism for transporting the positioning means used in FIG. 1 seen from the top of the probe device, and FIG. 6 is a front view of the same. 1 ... probe device, 2 ... wafer 3 ... wafer cassette, 4 ... loader section 5 ... probe card, 5a ... probe needle 6 ... inspection section, 7 ... placement body 8 ... positioning means, 8a …… Case 9 …… Transport mechanism (positioning means) 10 …… Base, 11 …… Rail member 12 …… Drive mechanism (for XY axis direction) 13 …… First part area, 14 …… Area of the second part 16 …… Pre-alignment position 17 …… Main pillar, 18 …… Head plate 19 …… Bridge, 20 …… Rail 21 …… Ball screw, 22 …… Nut member

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】供給された被検査体を位置決めしたのち、
プローブ針を接触させて検査するプローブ装置におい
て、 前記被検査体を載置する載置体と、 前記被検査体を認識する手段を備えた位置決め手段とを
具備し、 前記位置決め手段が前記被検査体を検査する領域まで移
動可能に設けられていることを特徴とするプローブ装
置。
1. After positioning the supplied inspection object,
A probe apparatus for contacting with a probe needle for inspecting, comprising: a mounting body on which the inspected object is placed; and a positioning means having means for recognizing the inspected object, wherein the positioning means is the inspected object. A probe device, wherein the probe device is provided so as to be movable to an area for inspecting a body.
【請求項2】供給された被検査体を位置決めしてプロー
ブ針を前記被検査体に接触させて検査するプローブ方法
において、被検査体の方向を一定方向に揃えて前記被検
査体を載置台に移載する第1の工程と、 前記載置台上に移載された前記被検査体の位置決めを行
う位置決め手段を、前記載置台まで移動させて前記被検
査体の位置決めをする第2の工程と、 前記位置決め後、前記位置決め手段を退去する第3の工
程と、 を具備したことを特徴とするプローブ方法。
2. In a probe method of positioning a supplied test object and bringing a probe needle into contact with the test object to perform the test, the test object is aligned with a certain direction. And a second step for positioning the inspected object by moving the positioning means for positioning the inspected object transferred on the mounting table to the mounting table. And a third step of withdrawing the positioning means after the positioning, the probe method.
【請求項3】前記位置決め手段は、撮像手段により構成
されていることを特徴とする特許請求の範囲(1)に記
載のプローブ装置。
3. The probe apparatus according to claim 1, wherein the positioning means is composed of an image pickup means.
【請求項4】前記位置決め手段は、一対のレール部材に
沿って移動可能に設けられた支持体に設けられているこ
とを特徴とする特許請求の範囲(1)に記載のプローブ
装置。
4. The probe apparatus according to claim 1, wherein the positioning means is provided on a support body provided so as to be movable along a pair of rail members.
【請求項5】前記支持体は、前記レール部材に摺動自在
に装着されたベアリングに前記載置体と平行に設けられ
ていることを特徴とする特許請求の範囲(4)に記載の
プローブ装置。
5. The probe according to claim 4, wherein the support is provided in a bearing slidably mounted on the rail member in parallel with the mounting body. apparatus.
【請求項6】前記レール部材と平行にボールスクリュが
設けられ、このボールスクリュにナット部材が螺着さ
れ、一端部に駆動部が設けられ、ナット部材は前記支持
体と連結されていることを特徴とする特許請求の範囲
(5)に記載のプローブ装置。
6. A ball screw is provided in parallel with the rail member, a nut member is screwed to the ball screw, a drive portion is provided at one end, and the nut member is connected to the support body. The probe device according to claim 5, which is characterized.
【請求項7】前記駆動部は、所定のプログラムに従って
前記位置決め手段を前記検査領域の前記プローブ針の真
下に移動させることを特徴とする特許請求の範囲5に記
載のプローブ装置。
7. The probe apparatus according to claim 5, wherein the drive section moves the positioning means to a position directly below the probe needle in the inspection area according to a predetermined program.
【請求項8】前記位置決め手段は、プローブ装置のY方
向すなわち前後方向に移動自在に設けられていることを
特徴とする特許請求の範囲(1)に記載のプローブ装
置。
8. The probe device according to claim 1, wherein the positioning means is provided so as to be movable in the Y direction of the probe device, that is, in the front-back direction.
【請求項9】前記位置決め手段は、前記プローブ装置の
後方に退去可能に設けられていることを特徴とする特許
請求の範囲(1)に記載のプローブ装置。
9. The probe device according to claim 1, wherein the positioning means is provided behind the probe device so as to be able to retreat.
【請求項10】前記位置決め手段は、プローブ装置のX
方向すなわち左右方向に移動自在に設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲(1)に記載のプローブ装
置。
10. The positioning means is an X of a probe device.
The probe device according to claim 1, wherein the probe device is provided so as to be movable in a direction, that is, in the left-right direction.
【請求項11】前記位置決め手段は、前記プローブ針が
設けられたプローブガードと前記載置体との間で移動自
在に設けられていることを特徴とする特許請求の範囲
(1)に記載のプローブ装置。
11. The positioning means is movably provided between a probe guard provided with the probe needle and the mounting body as set forth in claim 1, wherein the positioning means is movable. Probe device.
【請求項12】ウエハ上に形成された半導体チップの電
極部にプローブカードのプローブ針を接触させて半導体
チップの検査を行うプローブ装置において、 供給されたウエハを吸着固定する載置体と、 この載置体上のウエハの半導体チップを認識し、半導体
チップの配列を一定方向に位置決めする位置決め手段
と、 この位置決め手段をプローブカードの真下に搬送する搬
送機構と、 前記ウエハの半導体チップの電極部にプローブ針を接触
させる駆動機構と、 を備えたことを特徴とするプローブ装置。
12. In a probe device for inspecting a semiconductor chip by bringing a probe needle of a probe card into contact with an electrode portion of a semiconductor chip formed on a wafer, a mounting body for sucking and fixing the supplied wafer, Positioning means for recognizing the semiconductor chips of the wafer on the mounting body and positioning the arrangement of the semiconductor chips in a fixed direction, a transfer mechanism for transferring the positioning means directly below the probe card, and an electrode part of the semiconductor chip of the wafer A probe device comprising: a drive mechanism for bringing a probe needle into contact with the.
【請求項13】前記位置決め手段は、撮像手段により構
成されていることを特徴とする特許請求の範囲(12)に
記載のプローブ装置。
13. The probe device according to claim 12, wherein the positioning means is composed of an imaging means.
【請求項14】前記搬送機構は、一対のレール部材と、
このレール部材に沿って移動可能に設けられた支持体と
を備えていることを特徴とする特許請求の範囲(12)に
記載のプローブ装置。
14. The transport mechanism includes a pair of rail members,
The probe device according to claim 12, further comprising: a support body provided so as to be movable along the rail member.
【請求項15】前記支持体は、前記レール部材に摺動自
在に装着されたベアリングに前記載置体と平行に設けら
れていることを特徴とする特許請求の範囲(14)に記載
のプローブ装置。
15. The probe according to claim 14, wherein the support is provided in a bearing slidably mounted on the rail member in parallel with the mounting body. apparatus.
【請求項16】前記搬送機構は、前記レール部材と平行
に設けられたボールスクリュと、このボールスクリュに
螺着されたナット部材と、ボールスクリュの一端部に設
けられた駆動部とを備え、ナット部材は前記支持体と連
結されていることを特徴とする特許請求の範囲(15)に
記載のプローブ装置。
16. The transport mechanism includes a ball screw provided in parallel with the rail member, a nut member screwed to the ball screw, and a drive unit provided at one end of the ball screw. The probe device according to claim 15, wherein the nut member is connected to the support.
【請求項17】前記駆動部は、所定のプログラムに従っ
て前記位置決め手段を前記プローブカードの真下に移動
させることを特徴とする特許請求の範囲(16)に記載の
プローブ装置。
17. The probe device according to claim 16, wherein the drive unit moves the positioning unit to directly below the probe card according to a predetermined program.
【請求項18】前記位置決め手段は、プローブ装置のY
方向すなわち前後方向に移動自在に設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲(12)に記載のプローブ装
置。
18. The positioning means is a Y of a probe device.
The probe device according to claim 12, wherein the probe device is provided so as to be movable in a direction, that is, in the front-back direction.
【請求項19】前記位置決め手段は、前記プローブ装置
の後方に退去可能に設けられていることを特徴とする特
許請求の範囲(12)に記載のプローブ装置。
19. The probe device according to claim 12, wherein the positioning means is provided behind the probe device so as to be able to retreat.
【請求項20】前記位置決め手段は、プローブ装置のX
方向すなわち左右方向に移動自在に設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲(12)に記載のプローブ装
置。
20. The positioning means is an X of a probe device.
The probe device according to claim 12, wherein the probe device is provided so as to be movable in a direction, that is, in the left-right direction.
【請求項21】前記位置決め手段は、前記プローブカー
ドと前記載置体との間で移動自在に設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲(12)に記載のプローブ装
置。
21. The probe device according to claim 12, wherein the positioning means is movably provided between the probe card and the mounting body.
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