JPH03270039A - Inspection device - Google Patents

Inspection device

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Publication number
JPH03270039A
JPH03270039A JP6922190A JP6922190A JPH03270039A JP H03270039 A JPH03270039 A JP H03270039A JP 6922190 A JP6922190 A JP 6922190A JP 6922190 A JP6922190 A JP 6922190A JP H03270039 A JPH03270039 A JP H03270039A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
positioning
workpiece
inspection
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP6922190A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Haruhiko Yoshioka
晴彦 吉岡
Shigetoshi Hosaka
重敏 保坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP6922190A priority Critical patent/JPH03270039A/en
Publication of JPH03270039A publication Critical patent/JPH03270039A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To position a substrate positively and enable electrical contacts having high precision, and to improve the high precision of inspection and the high efficiency of inspection by conducting positioning to the substrate by a positioning means again when the inclination of the substrate is detected by an inclination detecting means when the substrate is positioned. CONSTITUTION:A work 3 transferred is shifted onto work shifting pins 19 lifted from the inspection section 10 side. The tip sections of the work shifting pins 19 are inserted into positioning holes formed at the four corners of a support boat 8 in the work 3 at that time, thus positioning the work 3. When the work 3 is made to abut against only a contact sensor 41a mounted to a holding section 41 at that time, the positive positioning of the work 3 is decided. When the work 3 is made to abut against either of contact sensors 41b, on the contrary, imperfect positioning is decided because the work 3 is supported under an inclined state. Positioning by the work shifting pins 19 is performed again at that time.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、被検体の検査装置に関する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to an inspection device for a subject.

(従来の技術) ICチップ等を利用した種々の半導体装置の製造工程に
おいては、一般に、半導体ウェハ上に多数のICチップ
等が形成されている段階で行うプローブテスト(−次検
査)と、例えばパッケージングされて製品化された段階
で行うファイナルテスト(二次検査)とが行われている
(Prior Art) In the manufacturing process of various semiconductor devices using IC chips, etc., there is generally a probe test (-next inspection) performed at the stage when a large number of IC chips, etc. are formed on a semiconductor wafer, and, for example, A final test (secondary inspection) is conducted after packaging and commercialization.

ところで、ICチップやLSIチップ(以下、チップと
記す)等を個別にパッケージングしたQFP 。
By the way, QFP is a product in which IC chips, LSI chips (hereinafter referred to as chips), etc. are individually packaged.

SOP等に代表される半導体装置の二次検査においては
、71p1定部のユニット等を交換することにより1台
で多くの形状の半導体素子の測定が可能な検査装置(I
Cハンドラ)、いわゆるユニバーサルハンドラ等が開発
されており、検査工数の短縮化や検査精度の向上が図ら
れている。
In the secondary inspection of semiconductor devices represented by SOP, we use an inspection device (I
C handler), a so-called universal handler, etc. have been developed, and efforts are being made to shorten the number of inspection steps and improve inspection accuracy.

しかし、最近の半導体分野においては、各種検査処理の
高速化等に対応するために、内部配線が施された多層セ
ラミックス基板上等に機能の光なる複数のチップを搭載
してモジニール化し、チップアレイとして直接利用する
ことが徐々に増加しつつあるため、このような半導体モ
ジュールの二次検査への対応が強く望まれている。
However, in recent years in the semiconductor field, in order to cope with the speeding up of various inspection processes, multiple functional chips are mounted on a multilayer ceramic substrate with internal wiring to create a modular chip array. Since the direct use of semiconductor modules as a semiconductor module is gradually increasing, there is a strong desire to support such secondary inspection of semiconductor modules.

このような半導体モジュールの二次検査は、個々のチッ
プのボンディング状態や多層セラミックス基板内の配線
状態等の検査、さらにはモジュールとしての動作特性の
検査の他に、個々のチップの基本性能や人力から出力ま
での中間過程における動作特性等の検査も必要とされる
が、機能や規格(電極パッド数、電極パッド配列等)の
異なる個々のチップへの対応は充分とは言えない。
Such secondary inspections of semiconductor modules include inspections of the bonding conditions of individual chips, wiring conditions within multilayer ceramic substrates, and inspections of the operating characteristics of the module, as well as the basic performance and human labor of each chip. Although it is also necessary to test the operating characteristics during the intermediate process from output to output, it is not sufficient to handle individual chips with different functions and standards (number of electrode pads, electrode pad arrangement, etc.).

(発明が解決しようとする課題) 上述したように、規格の穴なる複数のチップを内部配線
が施された基板上に搭載し、モジュールとしての動作を
可能にした半導体モジュールの総合的な検査は、検査精
度の向上を図る上でチップの電極パッドに対して高精度
にプローブビンを電気的に接触させることが必要不可決
であり、このような要求を満足する半導体モジュールの
検査装置の開発が強く望まれている。
(Problems to be Solved by the Invention) As mentioned above, a comprehensive inspection of a semiconductor module in which multiple chips of standard holes are mounted on a substrate with internal wiring and is made possible to operate as a module is required. In order to improve inspection accuracy, it is essential to electrically contact the probe bottle with the electrode pad of the chip with high precision, and it is necessary to develop a semiconductor module inspection device that satisfies such requirements. Highly desired.

本発明は、このような課題に対処するためになされたも
ので、基板の位置決めを確実に行うことにより、高精度
な電気的接触を可能とし、高検査猜度および高検査効率
を向上させることができる検査装置を提供することを目
的とするものである。
The present invention was made to address these issues, and by reliably positioning the board, it is possible to make highly accurate electrical contact and improve high inspection accuracy and high inspection efficiency. The purpose is to provide an inspection device that can perform the following tasks.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明の検査装置は、上記目的を達成するために、基板
に設けられた複数の被検査体の電極端子に検査端子を接
触させて検査を行う装置において、所定位置にセットさ
れた基板を保持しこの基板を検査すべき位置側へ搬送す
る搬送手段と、この搬送手段によって搬送された基板を
移動することによって位置決めした後、前記搬送手段か
ら基板を前記検査すべき位置へ移載する位置決め手段と
、この位置決め手段によって基板が位置決めされる際に
、この基板の傾きを検出する傾き検出手段と、この傾き
検出手段によって基板の傾きが検出された際には、前記
位置決め手段による基板への位置決めのし直しを行わせ
る位置決め制御手段とを具備することを特徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the inspection device of the present invention performs inspection by bringing the inspection terminal into contact with the electrode terminals of a plurality of objects to be inspected provided on the substrate. In an apparatus for performing this, there is a transport means for holding a board set at a predetermined position and transporting the board to a position to be inspected, and after positioning the board by moving the board transported by the transport means, the transport means a positioning means for transferring the board from the substrate to the position to be inspected; a tilt detecting means for detecting the tilt of the board when the board is positioned by the positioning means; and a tilt detecting means for detecting the tilt of the board by the tilt detecting means. and a positioning control means for causing the positioning means to reposition the substrate when the positioning means is located.

(作 用) 本発明の検査装置では、位置決め手段が搬送手段によっ
て搬送された基板を移動することによって位置決めした
後、搬送手段から基板を検査すべき位置へ移載する。こ
のとき、傾き検出手段が位置決め手段による基板の位置
決めの際に基板の傾きを検出した場合には、位置決め制
御手段により位置決め手段による基板への位置決めのし
直しを行わせるようにしたので、基板の位置決めを確実
に行うことができる。
(Function) In the inspection apparatus of the present invention, the positioning means moves and positions the substrate transported by the transport means, and then transfers the substrate from the transport means to a position to be inspected. At this time, if the tilt detection means detects the tilt of the board when the positioning means is positioning the board, the positioning control means causes the positioning means to reposition the board. Positioning can be performed reliably.

(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図および第2図は本発明の一実施例の半導体検査装
置の構成を模式的に示す図であり、装置本体1は、半導
体モジュール2を搬送および検査riJ能な状態とした
ワーク3の所定の検査を行う検査部10と、半導体モジ
ュール2上に搭載された複数の半導体素子(以下、チッ
プと記す)に対応した複数の検査用接触端子が収容され
、これらの交換および位置合せを行う接触端子供給部2
oとから構成されている。
1 and 2 are diagrams schematically showing the configuration of a semiconductor inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, in which the apparatus main body 1 includes a workpiece 3 in which a semiconductor module 2 is in a state where it can be transported and inspected. A test section 10 that performs a predetermined test and a plurality of test contact terminals corresponding to a plurality of semiconductor elements (hereinafter referred to as chips) mounted on the semiconductor module 2 are accommodated, and these are replaced and aligned. Contact terminal supply section 2
It is composed of o.

装置本体1の検査部10側の端部には、上記ワーク3を
ロード・アンロードするためのワークローダ一部30が
着脱内作に設置されている。また、装置本体1上には、
それぞれワークローダ一部30、検査部10.接触端子
供給部2のの並列方向(以下、X方向とよぶ)に沿って
移動可能とされたワーク搬送機構40と接触端子移動機
構50とが搭載されている。
A work loader portion 30 for loading and unloading the workpiece 3 is removably installed at the end of the apparatus main body 1 on the inspection section 10 side. Also, on the device main body 1,
Work loader part 30, inspection part 10. A workpiece transport mechanism 40 and a contact terminal moving mechanism 50 are mounted, which are movable along the parallel direction (hereinafter referred to as the X direction) of the contact terminal supply section 2 .

なお上記ワーク3には、例えば第3図に示すように、複
数例えば36個のチップ2aが内部配線を有する多層セ
ラミックス基板2b上にボンディングされて構成された
半導体モジュール2が設けられている。
As shown in FIG. 3, the workpiece 3 is provided with a semiconductor module 2 configured by bonding a plurality of, for example, 36 chips 2a onto a multilayer ceramic substrate 2b having internal wiring.

この半導体モジュール2の下部には、図示を省略した各
人出力ピンと電気的に接触されたソヶット4およびソケ
ットボード5が配置されている。
At the bottom of the semiconductor module 2, a socket 4 and a socket board 5 are arranged, which are electrically connected to individual output pins (not shown).

また半導体モジュール2の外周側には、押え板6と0リ
ング7とによって液密に形成されている。
Further, on the outer peripheral side of the semiconductor module 2, a presser plate 6 and an O-ring 7 are formed to be liquid-tight.

半導体モジュール2とソケットボード5との間には、4
隅に設けられた位置決め孔8aを有するサポートボード
8が配置されている。
Between the semiconductor module 2 and the socket board 5, there are 4
A support board 8 having positioning holes 8a provided at corners is arranged.

上記検査部10は、装置本体1の基台1a上に接されて
いる検査部基台11の上面側に突設された槽外壁11a
および檜内壁11bと、例えばネオプレンゴム等のシー
ルを有して載置台12及びワーク3自体とによって形成
される液槽13を有している。ワーク3はクランプ14
によってワク載置台12に対し、液密シールを形成する
ように密着固定される。なお、検査部基台11内には、
非導電性不活性液体15の排出管16aと、ワーク交換
時の排出管16bとが設けられている。また、上記口字
状のワーク載置台12の開口部下方には、ワークセット
ベースユニット17および下アライメントカメラ18a
、18bが併置されている。さらに載置台12には、ワ
ーク搬送機構40およびワーク載置台12間におけるワ
ーク3の移載を行う昇降可能なワーク移載ビン19が設
けられている。
The inspection section 10 has a tank outer wall 11a that is protruded from the upper surface side of the inspection section base 11 which is in contact with the base 1a of the apparatus main body 1.
It also has a liquid tank 13 formed by the cypress inner wall 11b, the mounting table 12, and the workpiece 3 itself with a seal made of, for example, neoprene rubber. Work 3 is clamp 14
It is tightly fixed to the workpiece mounting table 12 so as to form a liquid-tight seal. In addition, inside the inspection unit base 11,
A discharge pipe 16a for the non-conductive inert liquid 15 and a discharge pipe 16b for replacing the workpiece are provided. Further, below the opening of the mouth-shaped workpiece mounting table 12, a workpiece set base unit 17 and a lower alignment camera 18a are provided.
, 18b are placed side by side. Further, the mounting table 12 is provided with a workpiece transfer bin 19 that can be raised and lowered to transfer the workpiece 3 between the workpiece transport mechanism 40 and the workpiece mounting table 12.

また、接触端子供給部20は、複数のビンブロック21
を個々に保持する複数例えば9個のビンブロックチェン
ジャ22と、接触端子移動機ttM 50側に受は渡さ
れたビンブロック21の位置確認を行うビンブロック補
正用カメラ23とによって構成されている。
Further, the contact terminal supply unit 20 includes a plurality of bin blocks 21
The contact terminal moving machine ttM 50 is configured with a plurality of, for example, nine, bin block changers 22 that individually hold the bin blocks 21, and a bin block correction camera 23 that confirms the position of the bin blocks 21 passed to the contact terminal moving machine ttM 50 side.

上記ビンブロックチェンジャ22は、ビンブロック21
を挟持する保持部24と、この保持部24を接触端子移
動機構50側に上昇させる例えばシリンダ機構25とに
よって構成されており、検査プログラムに応して使用す
べきビンブロック21を個別に上昇させ、接触端子移動
機構50に供給する。
The bin block changer 22 includes a bin block 21
It is composed of a holding part 24 that holds the holding part 24, and a cylinder mechanism 25, for example, that raises this holding part 24 toward the contact terminal moving mechanism 50 side, and it individually raises the bottle blocks 21 to be used according to the inspection program. , is supplied to the contact terminal moving mechanism 50.

ワークローダ一部30は、装置本体1の基台1aに対し
て着脱自在に配置されたワーク通過孔31aを有するロ
ーダ一部基台31と、ワーク3を収容しつつワーク交換
位置とワーク通過孔31aの下方位置との間を移動可能
とされたワークセットテーブル32と、ワーク3をワー
ク搬送機構40へと受渡すワーク昇降機構33とにより
構成されている。また、ローダ一部基台31の上面は、
装置本体1の基台1aの上面と面一とされており、これ
らローダ一部基台31および装置本体1の基台1a上面
には、X方向に連結されたステージ用ガイド30a、l
bが設けられている。
The work loader part 30 includes a loader part base 31 having a workpiece passing hole 31a which is removably arranged with respect to the base 1a of the apparatus main body 1, and a workpiece exchange position and the workpiece passing hole while accommodating the workpiece 3. The workpiece setting table 32 is configured to be movable between the workpiece set table 32 and the lower position of the workpiece transport mechanism 31a, and a workpiece lifting mechanism 33 that transfers the workpiece 3 to the workpiece transport mechanism 40. In addition, the upper surface of the loader partial base 31 is
It is flush with the upper surface of the base 1a of the apparatus main body 1, and on the upper surface of the loader partial base 31 and the base 1a of the apparatus main body 1, there are stage guides 30a, l connected in the X direction.
b is provided.

ワーク搬送機構40は、上記ステージ用ガイド30a、
lb上をX方向に沿って移動可能とされており、上記ワ
ーク昇降機構33によって上昇したワーク3を保持する
保持部41を有している。
The work transport mechanism 40 includes the stage guide 30a,
lb along the X direction, and has a holding part 41 that holds the workpiece 3 lifted by the workpiece lifting mechanism 33.

この保持部41は、ワーク3の下面を支持するX方向に
進退自在の一対のつめ42によって構成されている。
This holding portion 41 is constituted by a pair of claws 42 that support the lower surface of the workpiece 3 and are movable back and forth in the X direction.

またこの保持部41は、例えば第4図に示すように、半
導体モジュール2のチップ2aが搭載された面と対向す
る面に接触センサ41aおよび41bが設けられて構成
されている。
Further, as shown in FIG. 4, for example, this holding portion 41 is configured such that contact sensors 41a and 41b are provided on a surface opposite to the surface on which the chip 2a of the semiconductor module 2 is mounted.

なお、各接触センサ41aおよび41bの配置は、接触
センサ41aにおいてはサポートボード8の中心に当接
する箇所、各接触センサ41bにおいてはサポートボー
ド8の角に当接する箇所とされている。
The contact sensors 41a and 41b are arranged such that the contact sensor 41a contacts the center of the support board 8, and the contact sensor 41b contacts the corner of the support board 8.

そして、上記ワーク載置台12のワーク移載ビン19が
上昇して位置決め孔8aに嵌り込み、ワーク3が位置決
めされる際にサポートボード8への各接触センサ41a
または41bの接触によりワーク3の傾きを検出する。
Then, the workpiece transfer bin 19 of the workpiece mounting table 12 rises and fits into the positioning hole 8a, and when the workpiece 3 is positioned, each contact sensor 41a to the support board 8
Alternatively, the inclination of the workpiece 3 is detected by contact of 41b.

上記の接触端子移動機+M 50は、上記ステージ用ガ
イド30a、lb上に搭載された口字形状を6゛するX
ステージ5〕、このXステージ上に配置された同様の開
口面積を有する口字形状のYステプ52および上記Xス
テージ51およびYステプ52の開口部内に配置された
Xステージ5〕を備えて構成されている。
The above-mentioned contact terminal moving machine +M 50 is an X
stage 5], a mouth-shaped Y step 52 having a similar opening area disposed on the X stage, and an X stage 5 disposed within the openings of the X stage 51 and Y step 52. ing.

このXステージ5〕には、チャック部54と上アライメ
ント用カメラ55とを有した測定部56が設置されてい
る。なお、チャック部54は、図示を省略したθ駆動機
構によって回転自在とされている。
A measuring section 56 having a chuck section 54 and an upper alignment camera 55 is installed on the X stage 5]. Note that the chuck portion 54 is rotatable by a θ drive mechanism (not shown).

測定部56には、上記チャック部54に近接して図示を
省略した冷却機構に接続される非導電性不活性液体導入
管57が配設されている。またチャック部54の上部に
はタッチプレートが配置されており、このタッチプレー
トによってピンブロック21とテスタとの電気的な接続
が行われる。
The measuring section 56 is provided with a non-conductive inert liquid introduction pipe 57 that is close to the chuck section 54 and connected to a cooling mechanism (not shown). Further, a touch plate is arranged on the upper part of the chuck part 54, and the pin block 21 and the tester are electrically connected by this touch plate.

上記構成の半導体測定装置における検査手順について、
第5図を参照して以下に説明する。
Regarding the inspection procedure in the semiconductor measuring device with the above configuration,
This will be explained below with reference to FIG.

まず、ワークローダ一部30におけるワークセットテー
ブル32のワーク収容部32a内にワーク3を載置する
とともに、ワークセットテーブル32を駆動してワーク
3をワーク昇降機構33の上方の受渡位置まで移動させ
る。次いで、ワーク昇降機構33の昇降テーブル33a
によってワク3を位置決めしつつワーク搬送機構40の
保持部41位置まで上昇させる。ワーク3の上昇を確認
した後、保持部41の一対のつめ42によってワーク3
は保持される。
First, the work 3 is placed in the work accommodating portion 32a of the work setting table 32 in the work loader part 30, and the work setting table 32 is driven to move the work 3 to the delivery position above the work lifting mechanism 33. . Next, the lifting table 33a of the workpiece lifting mechanism 33
While positioning the workpiece 3, the workpiece 3 is raised to the position of the holding part 41 of the workpiece transport mechanism 40. After confirming that the workpiece 3 has risen, the workpiece 3 is lifted by the pair of pawls 42 of the holding part 41.
is retained.

次に、ワーク搬送機構40を駆動して、ワーク3を検査
部10のワーク載置台12上方のワーク受渡位置まで搬
送する。この際、接触端子移動機構50は、接触端子供
給部側へと移動する。
Next, the work transport mechanism 40 is driven to transport the work 3 to the work transfer position above the work mounting table 12 of the inspection section 10. At this time, the contact terminal moving mechanism 50 moves toward the contact terminal supply section.

ワーク受渡位置まで搬送されたワーク3は、検査部10
側から上昇したワーク移載ピン19上に移載される。こ
の際にワーク移載ピン1つの先端部は、ワーク3におけ
るサポートボード8の4角に設けられた位置決め孔内に
押入され、ワーク3の位置決めが行われる。
The workpiece 3 transported to the workpiece delivery position is inspected by the inspection section 10
The workpiece is transferred onto the workpiece transfer pin 19 raised from the side. At this time, the tip of one workpiece transfer pin is pushed into positioning holes provided at the four corners of the support board 8 for the workpiece 3, and the workpiece 3 is positioned.

このとき、ワーク3が保持部41に設けられた接触セン
サ41aにのみ当接した場合には、その位置決めが確実
に行われたものと判断される。これに対し、ワーク3が
接触センサ41bのいずれかに当接した場合には、ワー
ク3が傾いた状態で支持されたものであるから、その位
置決めが不完全なものと判断される。
At this time, if the workpiece 3 contacts only the contact sensor 41a provided on the holding part 41, it is determined that the workpiece 3 has been reliably positioned. On the other hand, when the workpiece 3 comes into contact with any of the contact sensors 41b, it is determined that the positioning of the workpiece 3 is incomplete because the workpiece 3 is supported in an inclined state.

このように、その位置決めが不完全なものと判断された
場合には、ワーク移載ビン1つによる位置決めのし直し
が行われる。
In this way, if it is determined that the positioning is incomplete, repositioning is performed using one workpiece transfer bin.

この後、ワーク移載ビン19は下降し、ワーク載置台1
2上にワーク3が載置されクランプ14によってワーク
載置台12に対して液密に固定されると共に、ワーク3
のソケ・ソトボード5と検査部10側のワークセットベ
ースユニ・ソト17との電気的な接続が行われる。
After this, the workpiece transfer bin 19 is lowered and the workpiece transfer bin 19 is lowered.
A workpiece 3 is placed on the workpiece 2 and fixed liquid-tightly to the workpiece mounting table 12 by a clamp 14.
Electrical connection is made between the socket/soto board 5 and the work set base uni-soto 17 on the inspection section 10 side.

ワーク移載ビン19によって検査が終了した後、検査部
10上方まで移動したワーク搬送機構40によってワー
ク3を移載する。そして、ワーク搬送機構40をワーク
ローダ一部30まで移動してワーク3を搬出し、一連の
検査工程が終了する。
After the inspection is completed by the workpiece transfer bin 19, the workpiece 3 is transferred by the workpiece transport mechanism 40 that has been moved above the inspection section 10. Then, the work transport mechanism 40 is moved to the work loader part 30 to unload the work 3, and the series of inspection steps is completed.

このように、本丈施例の半導体flFI定装置では、ワ
ーク搬送機構によって搬送されたワークをワーク移載ビ
ンにより位置決めする際に、ワーク搬送機構の保持部に
設けた接触センサによってそのワクの傾きを検出するよ
うにしたので、確実な位置決めを行うことができる。
In this way, in the semiconductor flFI fixing device of this embodiment, when the workpiece transported by the workpiece transport mechanism is positioned by the workpiece transfer bin, the inclination of the workpiece is determined by the contact sensor provided in the holding part of the workpiece transport mechanism. Detection is made so that reliable positioning can be performed.

[発明の効果〕 以上説明したように、本発明の半導体検査装置によれば
、被検体の位置決めを確実に行うこと(こより、高精度
な電気的接触を可能とし、高検査精度および高検査効率
を向上させることができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the semiconductor inspection device of the present invention, it is possible to reliably position the object to be inspected (thereby enabling highly accurate electrical contact, and achieving high inspection accuracy and high inspection efficiency). can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図は本発明の一実施例の半導体測定装
置の構成を模式的に示す図、第3図はその半導体y+p
’r定装置に主装置検査される半導体モジュールを搬送
および検査可能に固定するワークを示す断面図、第4図
はそのワークを位置決め゛する際に傾きを検出する接触
センサの取付は状態を説明するための図、第5図(a)
〜(c)は検査手順を説明するための図である。 1・・・装置本体、1a・・・基台、2・・・半導体モ
ジュール、2a・・・チップ、2b・・・多層セラミッ
クス基板、3・・・ワーク、4・・・ソケット、5・・
・ソケットボード、8・・・サポートボード、8a・・
・位置決め孔、10・・・検査部、11・・・検査部基
台、12・・・ワーク載置台、13・・・液槽、14・
・・クランプ、15・・・非導電性不活性液体、19・
・・ワーク移載ビン、20・・・接触端子供給部、21
・・・ピンブロック、30・・・ワークローダ一部、4
0・・・ワーク搬送機構、41・・・保持部、42・・
・つめ、41a、41b・・・接触センサ、 5 0・・・接触端子移動機構、
1 and 2 are diagrams schematically showing the configuration of a semiconductor measuring device according to an embodiment of the present invention, and FIG.
A cross-sectional view showing a workpiece in which a semiconductor module to be inspected is fixed to a main device so that it can be transported and inspected. Figure 4 shows the installation state of a contact sensor that detects the inclination when positioning the workpiece. Figure 5 (a)
-(c) are diagrams for explaining the inspection procedure. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Device body, 1a... Base, 2... Semiconductor module, 2a... Chip, 2b... Multilayer ceramic substrate, 3... Work, 4... Socket, 5...
・Socket board, 8...Support board, 8a...
・Positioning hole, 10... Inspection section, 11... Inspection section base, 12... Workpiece mounting table, 13... Liquid tank, 14.
... Clamp, 15 ... Non-conductive inert liquid, 19.
...Work transfer bin, 20...Contact terminal supply section, 21
... Pin block, 30 ... Work loader part, 4
0... Workpiece conveyance mechanism, 41... Holding section, 42...
- Pawls, 41a, 41b...contact sensor, 50...contact terminal moving mechanism,

Claims (1)

【特許請求の範囲】  基板に設けられた複数の被検査体の電極端子に検査端
子を接触させて検査を行う装置において所定位置にセッ
トされた基板を保持しこの基板を検査すべき位置側へ搬
送する搬送手段と、この搬送手段によって搬送された基
板を移動することによって位置決めした後、前記搬送手
段から基板を前記検査すべき位置へ移載する位置決め手
段と、 この位置決め手段によって基板が位置決めされる際に、
この基板の傾きを検出する傾き検出手段と、この傾き検
出手段によって基板の傾きが検出された際には、前記位
置決め手段による基板への位置決めのし直しを行わせる
位置決め制御手段とを具備することを特徴とする検査装
置。
[Claims] In an apparatus that performs an inspection by bringing a test terminal into contact with the electrode terminals of a plurality of objects to be inspected provided on a board, the board is held at a predetermined position and the board is moved toward the position to be tested. a conveyance means for conveying; a positioning means for positioning the substrate by moving the substrate conveyed by the conveyance means; and a positioning means for transferring the substrate from the conveyance means to the position to be inspected; When
A tilt detecting means for detecting the tilt of the board, and a positioning control means for causing the positioning means to reposition the board when the tilt of the board is detected by the tilt detecting means. An inspection device featuring:
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59117229A (en) * 1982-12-24 1984-07-06 Hitachi Comput Eng Corp Ltd Prober device
JPS6482540A (en) * 1987-09-24 1989-03-28 Tokyo Electron Ltd Prober

Patent Citations (2)

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