JPH07106404A - Positioning unit - Google Patents

Positioning unit

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JPH07106404A
JPH07106404A JP26571893A JP26571893A JPH07106404A JP H07106404 A JPH07106404 A JP H07106404A JP 26571893 A JP26571893 A JP 26571893A JP 26571893 A JP26571893 A JP 26571893A JP H07106404 A JPH07106404 A JP H07106404A
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JP
Japan
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substrate
stage
alignment
holding plate
moving
Prior art date
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Application number
JP26571893A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Chiba
裕司 千葉
Koji Marumo
光司 丸茂
Mitsutoshi Kuno
光俊 久野
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
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    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials

Abstract

PURPOSE:To enhance the throughput of an exposing unit by providing means for detecting the positional shift of a substrate held on a holding board and a driving means for shifting a moving tables based on the output therefrom thereby shortening the waiting time significantly. CONSTITUTION:The positioning unit comprises moving tables 3b, 3d reciprocative in a predetermined axial direction along a guide means 3f, and a holding board 3a supported thereby. The positioning unit further comprises means 3i for detecting the positional shift of a substrate W1 held on the holding board 3a, and driving means 3e, 3g for shifting the moving tables 3b, 3d based on the output therefrom. The detecting means 3i is supported by the moving tables 3b, 3d. This structure detects positional shift of the substrate W1 while shifting the moving tables 3b, 3d toward the guide means 3f and eliminates at least a part of the positional shift thus shortening the waiting time of a positioning unit significantly.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、荷電粒子蓄積リング放
射光を露光光とする露光装置等において露光されるウエ
ハ等基板のプリアライメントを行う位置決め装置に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positioning device for pre-aligning a substrate such as a wafer to be exposed in an exposure device which uses charged particle storage ring radiation as exposure light.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造のための露光装置は、一般的
に、露光光に対するウエハ等基板(以下、「基板」とい
う。)の最終的な位置決めを行う位置決めステージと、
基板を位置決めステージに供給する過程で基板の予備的
な位置決め(プリアライメント)を行う位置決め装置
(プリアライメント装置)を備えている。また、近年、
荷電粒子蓄積リング放射光を露光光とする露光装置の開
発が進み、このような露光装置においては、基板の最終
的な位置決めを行う位置決めステージやプリアライメン
ト装置は減圧雰囲気に制御される減圧チャンバ内に配置
され、基板の搬出入は、位置決めステージの裏側に設け
られたサブチャンバを介して行われる。
2. Description of the Related Art Generally, an exposure apparatus for manufacturing semiconductors includes a positioning stage for performing final positioning of a substrate such as a wafer (hereinafter referred to as "substrate") with respect to exposure light.
A positioning device (pre-alignment device) that performs preliminary positioning (pre-alignment) of the substrate in the process of supplying the substrate to the positioning stage is provided. In recent years,
The development of an exposure apparatus that uses charged particle storage ring radiated light as the exposure light is progressing. In such an exposure apparatus, the positioning stage and the pre-alignment apparatus that perform the final positioning of the substrate are inside a decompression chamber controlled to a decompression atmosphere. The substrate is loaded and unloaded through a sub-chamber provided on the back side of the positioning stage.

【0003】図5は荷電粒子蓄積リング放射光を露光光
とする露光装置の従来例を示すもので、これは、ヘリウ
ムガスの減圧雰囲気に制御される減圧チャンバ101の
一方の側壁にビームダクト101aを経て導入される荷
電粒子蓄積リング放射光L0の取出窓101bを設ける
とともに、前記側壁と反対側の側壁に基板を搬出入する
ための開口101cを設けたもので、開口101cはス
ライドドア101dを有する。減圧チャンバ101内に
は、荷電粒子蓄積リング放射光L0 に対する基板の最終
的位置決めを行う位置決めステージ102と、その側傍
に配設されたプリアライメント装置103と、位置決め
ステージ102とプリアライメント装置103との間で
基板W0 を搬送する第1の搬送装置104と、減圧チャ
ンバ101の開口101cに隣接するサブチャンバ10
5とプリアライメント装置103との間で基板を搬送す
る第2の搬送装置106が設けられ、サブチャンバ10
5は減圧チャンバ101の開口101cの外側に配設さ
れ、サブチャンバ105の一側壁には基板を入れた基板
キャリヤC0 の搬出入を行うための開口105aが設け
られ、該開口105aはスライドドア105bを有す
る。
FIG. 5 shows a conventional example of an exposure apparatus which uses charged particle storage ring radiation as exposure light. It has a beam duct 101a on one side wall of a decompression chamber 101 controlled to a decompressed atmosphere of helium gas. In addition to providing an extraction window 101b for the charged particle storage ring radiated light L 0 that is introduced via the above, an opening 101c for loading and unloading a substrate is provided on a side wall opposite to the side wall. The opening 101c is a slide door 101d. Have. In the decompression chamber 101, a positioning stage 102 for final positioning of the substrate with respect to the charged particle storage ring radiation L 0, a pre-alignment device 103 arranged beside it, a positioning stage 102 and a pre-alignment device 103. And a first transfer device 104 for transferring the substrate W 0 between the sub chamber 10 and the opening 101c of the decompression chamber 101.
5 and the pre-alignment device 103, a second transfer device 106 for transferring the substrate is provided, and the sub-chamber 10
5 is provided outside the opening 101c of the decompression chamber 101, and one side wall of the sub-chamber 105 is provided with an opening 105a for loading and unloading a substrate carrier C 0 containing a substrate. The opening 105a is a slide door. 105b.

【0004】プリアライメント装置103は、図6に示
すように、基板W0 を吸着する保持盤103aと、保持
盤103aをその中心軸のまわりに回転自在に支持する
Xステージ103bと、保持盤103aを回転させるモ
ータ103cと、Xステージ103bを保持盤103a
の表面に平行な2軸の一方(以下、「X軸」という。)
の方向に往復移動自在に支持するYステージ103d
と、Xステージ103bをX軸方向に移動させるX駆動
装置103eと、Yステージ103dを床面に固定され
た固定ガイド103fに沿って前記2軸の他方(以下、
「Y軸」という。)の方向に移動させるY駆動装置10
3gと、減圧チャンバ101の床面に固定された支持体
103hに支持されたオリフラ検出装置103iからな
り、X駆動装置103eとY駆動装置103gはそれぞ
れXステージ103b,Yステージ103dと一体であ
るナットに螺合するボールねじとこれを回転させるモー
タからなる公知のボールねじ駆動装置である。オリフラ
検出装置103iは、CCDユニット103jと、これ
に向って平行ビームを発生する発光装置103kを有
し、CCDユニット103jは、基板W0 を保持する保
持盤103aをモータ103cによって回転させながせ
ら基板W0 の外周部分によって遮られる平行ビームの光
量の変化を測定することで、所定の基準位置に対する基
板W0 の偏心量と基板W0 のオリフラ面A0 を検知する
ように構成されている(特開平4−1446647号公
報参照)。基板W0 のプリアライメントは、CCDユニ
ット103jの出力に基づいて、X駆動装置103eと
Y駆動装置103gをそれぞれ必要量だけ駆動して基板
0 を前記基準位置へ移動させるとともに、オリフラ面
0が所定の回転位置に移動したところでモータ103
cの回転を停止させることによって行われる。
As shown in FIG. 6, the pre-alignment apparatus 103 includes a holding plate 103a for sucking the substrate W 0 , an X stage 103b for rotatably supporting the holding plate 103a around its central axis, and a holding plate 103a. The motor 103c for rotating the X-stage 103b and the holding plate 103a
One of the two axes parallel to the surface of the surface (hereinafter referred to as "X axis")
Y stage 103d that supports reciprocally in the direction of
And an X drive device 103e that moves the X stage 103b in the X axis direction, and a Y axis 103d along the fixed guide 103f that is fixed to the floor surface.
It is called "Y-axis". ) Y drive device 10 for moving in the direction of
3g and an orientation flat detection device 103i supported by a support body 103h fixed to the floor of the decompression chamber 101. The X drive device 103e and the Y drive device 103g are nuts that are integrated with the X stage 103b and the Y stage 103d, respectively. It is a known ball screw driving device that includes a ball screw that is screwed into a motor and a motor that rotates the ball screw. The orientation flat detection device 103i includes a CCD unit 103j and a light emitting device 103k that generates a parallel beam toward the CCD unit 103j. The CCD unit 103j rotates a holding plate 103a holding a substrate W 0 by a motor 103c. by measuring the change in light amount of the collimated beam is blocked by the outer peripheral portion of the substrate W 0, it is configured to detect the orientation flat surface a 0 eccentricity and the substrate W 0 of the substrate W 0 with respect to a predetermined reference position (See Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-146647). In the pre-alignment of the substrate W 0 , the X drive device 103 e and the Y drive device 103 g are each driven by a necessary amount based on the output of the CCD unit 103 j to move the substrate W 0 to the reference position and the orientation flat surface A 0. Is moved to a predetermined rotation position, the motor 103
This is done by stopping the rotation of c.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、サブチャンバ内に搬入された基板キャ
リヤから基板を取出してこれをプリアライメント装置ま
で搬送する間にプリアライメント装置を待機させること
が必要であり、基板を搬送する搬送路が長いと待機時間
が長くなって、露光装置のスループットを向上させるう
えで大きな障害となっていた。
However, according to the above-mentioned conventional technique, the pre-alignment apparatus can be put on standby while the substrate is taken out from the substrate carrier carried into the sub-chamber and conveyed to the pre-alignment apparatus. This is necessary, and if the transport path for transporting the substrate is long, the standby time becomes long, which is a major obstacle to improving the throughput of the exposure apparatus.

【0006】本発明は、上記従来の技術の有する問題点
に鑑みてなされたものであり、待機時間を大幅短縮して
露光装置のスループットを向上させることができる位置
決め装置を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a positioning apparatus capable of significantly reducing the waiting time and improving the throughput of the exposure apparatus. To do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の位置決め装置は、案内手段に沿って所定の軸
方向に往復移動自在である移動台と、これに支持された
保持盤と、該保持盤に保持された基板の位置ずれを検出
する検出手段と、その出力に基づいて前記移動台を移動
させる駆動手段からなり、前記検出手段が前記移動台に
支持されていることを特徴とする。
In order to achieve the above-mentioned object, a positioning device of the present invention comprises a movable base which is reciprocally movable in a predetermined axial direction along a guide means, and a holding plate supported by the movable base. Characterized in that it comprises a detecting means for detecting a positional deviation of the substrate held on the holding board and a driving means for moving the moving base based on the output thereof, and the detecting means is supported by the moving base. And

【0008】また、駆動手段が、案内手段に向って移動
台を所定距離だけ移動させたうえで検出手段の出力に基
づいて前記移動台を移動させるように構成されていると
よい。
Further, it is preferable that the drive means is configured to move the movable table by a predetermined distance toward the guide means and then move the movable table based on the output of the detection means.

【0009】[0009]

【作用】上記装置によれば、検出手段が移動台に支持さ
れているため、移動台を案内手段に向って移動させなが
ら基板の位置ずれを検出し、少くともその一部分を解消
できる。その結果、位置決め装置の待機時間を大幅に短
縮できる。
According to the above apparatus, since the detecting means is supported by the movable table, the displacement of the substrate can be detected while moving the movable table toward the guide means, and at least a part thereof can be eliminated. As a result, the waiting time of the positioning device can be greatly reduced.

【0010】[0010]

【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0011】図1は第1実施例を用いた縦型の露光装置
を示す平面図であって、該露光装置は、ヘリウムガスの
減圧雰囲気に制御される減圧チャンバ1を有し、減圧チ
ャンバ1は一方の側壁にビームダクト1aを経て導入さ
れる荷電粒子蓄積リング放射光L1 の取出窓1bを備え
ており、前記側壁と反対側の側壁に基板を搬出入するた
めの開口1cを有し、開口1cにはスライドドア1dが
設けられている。減圧チャンバ1内には、荷電粒子蓄積
リング放射光L1 に対する基板の最終的位置決めを行う
位置決めステージ2と、本実施例の位置決め装置である
プリアライメント装置3と、位置決めステージ2とプリ
アライメント装置3との間で基板W1 を搬送する公知の
搬送装置4と、減圧チャンバ1のスライドドア1dに隣
接するサブチャンバ5に搬入された基板キャリヤC1
ら基板を取出してプリアライメント装置3へ受渡す作業
を行う受渡しハンド6が設けられている。
FIG. 1 is a plan view showing a vertical exposure apparatus using the first embodiment. The exposure apparatus has a decompression chamber 1 controlled to a decompressed atmosphere of helium gas. Has a window 1b for taking out the charged particle storage ring radiation L 1 introduced through the beam duct 1a on one side wall, and an opening 1c for carrying in / out a substrate on the side wall opposite to the side wall. A slide door 1d is provided in the opening 1c. In the decompression chamber 1, a positioning stage 2 for final positioning of the substrate with respect to the charged particle storage ring radiation L 1 , a pre-alignment device 3 which is the positioning device of this embodiment, a positioning stage 2 and a pre-alignment device 3 A known transfer device 4 for transferring the substrate W 1 between the substrate W and the substrate carrier C 1 carried in the sub-chamber 5 adjacent to the slide door 1d of the decompression chamber 1 and taking out the substrate to the pre-alignment device 3. A delivery hand 6 for performing work is provided.

【0012】位置決めステージ2は、垂直方向(以下、
「Z軸方向」という。)にのびる吸着面を有する吸着板
2aを有し、吸着板2aは前記吸着面に基板を吸着し、
公知の6軸駆動テーブル機構によって、水平面内で互に
直交する2軸(以下、それぞれ「X軸」、「Y軸」とい
う。)およびZ軸のそれぞれの軸方向の位置およびこれ
ら3軸のそれぞれのまわりの回転位置の位置決めを行
う。また、位置決めステージ2と取出窓1bの間には、
図示しない保持装置によってマスク2bが保持され、取
出窓1bから減圧チャンバ1内へ導入された荷電粒子蓄
積リング放射光L1 はマスク2bを経て吸着板2a上の
基板を露光する。露光後の基板は、搬送装置4によって
待機台2cに移される。
The positioning stage 2 is arranged in the vertical direction (hereinafter,
It is called "Z-axis direction". ) Has a suction plate 2a having a suction surface extending to the suction surface, and the suction plate 2a sucks the substrate on the suction surface,
By a known 6-axis drive table mechanism, two axial positions (hereinafter, respectively referred to as “X-axis” and “Y-axis”) and Z-axis, which are orthogonal to each other in a horizontal plane, and respective axial positions of the Z-axis and each of these three axes. Position the rotational position around. In addition, between the positioning stage 2 and the extraction window 1b,
The mask 2b is held by a holder (not shown), and the charged particle storage ring radiation L 1 introduced into the decompression chamber 1 through the extraction window 1b exposes the substrate on the adsorption plate 2a through the mask 2b. The exposed substrate is transferred to the standby table 2c by the transfer device 4.

【0013】プリアライメント装置3は、図2に示すよ
うに、基板W1 を吸着する保持盤3aと、保持盤3aを
その中心軸のまわりに回転自在に支持する第2の移動台
であるXステージ3bと、保持盤3aを回転させる回転
手段であるモータ3cと、Xステージ3bをX軸方向に
往復移動自在に支持する移動台であるYステージ3d
と、Xステージ3bをX軸方向に移動させる第2の駆動
手段であるX駆動装置3eと、Yステージ3dを減圧チ
ャンバ1の床面に固定された長尺の案内手段である固定
ガイド3fに沿ってY軸方向に移動させる駆動手段であ
るY駆動装置3gと、Yステージ3dに支持された検出
手段であるオリフラ検出装置3iからなり、X駆動装置
3eとY駆動装置3gは、それぞれ、Xステージ3b、
Yステージ3dと一体である図示しないナットに螺合す
るボールねじB1 ,B2 と、これを回転させるモータM
1 ,M2 からなる公知のボールねじ駆動装置である。
As shown in FIG. 2, the pre-alignment apparatus 3 is a holding plate 3a for sucking the substrate W 1 and a second moving table X for supporting the holding plate 3a rotatably around its central axis. The stage 3b, a motor 3c that is a rotating unit that rotates the holding plate 3a, and a Y stage 3d that is a moving table that supports the X stage 3b so as to be reciprocally movable in the X axis direction.
And an X drive device 3e which is a second drive means for moving the X stage 3b in the X axis direction, and a Y stage 3d which is a fixed guide 3f which is a long guide means fixed to the floor surface of the decompression chamber 1. A Y driving device 3g, which is a driving unit that moves along the Y axis direction, and an orientation flat detection device 3i, which is a detecting unit supported by the Y stage 3d, and the X driving device 3e and the Y driving device 3g each have an X-direction. Stage 3b,
Ball screws B 1 and B 2 screwed to a nut (not shown) that is integral with the Y stage 3d, and a motor M that rotates the ball screws B 1 and B 2.
This is a known ball screw driving device composed of 1 and M 2 .

【0014】また、オリフラ検出装置3iは、公知のC
CDユニット3jと、これに向って平行ビームを発生す
る発光装置3kを有する。Y駆動装置3gは、Yステー
ジ3dすなわちプリアライメント装置3全体を、保持盤
3aによって受渡しハンド6の基板を受取る第1のプリ
アライメント受渡し位置P1 から搬送装置4に対して基
板の受渡しを行う第2のプリアライメント受渡し位置P
2 に向って移動させるもので、この間に、基板W1 を保
持する保持盤3aがモータ3cによって回転され、従来
例と同様に基板W1 の外周部分によって遮られる平行ビ
ームの光量の変化をCCDユニット3jによって測定
し、所定の基準位置に対する基板W1 の偏心量と基板W
1 のオリフラ面A1 を検知する。Yステージ3dがひき
続いてY軸方向に移動する間に、CCDユニット3jの
出力に基づいてX駆動装置3eが駆動され、Xステージ
3bをX軸方向に所定量Δxだけ移動させ、前記偏心量
のX軸方向の成分を解消し、また、モータ3cは図示し
ない制御手段であるコントローラによってその回転量を
制御され、基板W1 のオリフラ面A1 が所定の角度へ回
転したところで停止する。
The orientation flat detection device 3i is a known C
It has a CD unit 3j and a light emitting device 3k for generating a parallel beam toward the CD unit 3j. The Y driving device 3g transfers the substrate of the Y stage 3d, that is, the entire pre-alignment device 3 from the first pre-alignment transfer position P 1 where the substrate of the transfer hand 6 is received by the holding plate 3a to the transfer device 4. 2 Pre-alignment delivery position P
The holding plate 3a for holding the substrate W 1 is rotated by the motor 3c during this time, and the change in the light quantity of the parallel beam blocked by the outer peripheral portion of the substrate W 1 is changed by the CCD as in the conventional example. Measured by the unit 3j, the eccentricity of the substrate W 1 with respect to a predetermined reference position and the substrate W 1
Detecting the orientation flat surface A 1 of 1. While the Y stage 3d continues to move in the Y-axis direction, the X drive device 3e is driven based on the output of the CCD unit 3j, and the X stage 3b is moved in the X-axis direction by a predetermined amount Δx, and the eccentricity amount is increased. Is eliminated in the X-axis direction, and the rotation amount of the motor 3c is controlled by a controller (not shown) which is a control means, and the motor 3c stops when the orientation flat surface A 1 of the substrate W 1 rotates to a predetermined angle.

【0015】Y駆動装置3gは、Yステージ3dを第2
のプリアライメント受渡し位置P2に向って所定距離だ
け移動させたうえでCCDユニット3jの出力に基づい
てYステージ3dの移動量を制御し、Yステージ3dを
第2のプリアライメント受渡し位置P2 からY軸方向に
所定量Δyだけずれた位置に停止させることで、前記偏
心量のY軸方向の成分を解消する。すなわち、保持盤3
aが受渡しハンド6から基板を受取ってから搬送装置4
に基板を受渡すまでのYステージ3dのY軸方向の移動
量は、受渡しハンド6が保持盤3aに基板を受渡す第1
のプリアライメント受渡し位置P1 と搬送装置4のハン
ド4aが保持盤3aから基板W1 を受取る第2のプリア
ライメント受渡し位置P2 のY軸方向の離間距離yにC
CDユニット3jによって測定された基板W1 のY軸方
向の偏心量を補正するためのYステージ3dの移動量Δ
yを加えたものに等しい。
The Y driving device 3g includes a second Y stage 3d.
Of toward the pre-alignment transfer position P 2 to control the amount of movement of the Y stage 3d on the basis of the output of the CCD unit 3j after having moved a predetermined distance, the Y stage 3d from the second pre-alignment transfer position P 2 By stopping at a position displaced by a predetermined amount Δy in the Y-axis direction, the component of the eccentric amount in the Y-axis direction is eliminated. That is, the holding plate 3
a receives the substrate from the delivery hand 6 and then the transport device 4
The amount of movement of the Y stage 3d in the Y-axis direction until the substrate is delivered to the first stage is determined by the delivery hand 6 delivering the substrate to the holding plate 3a.
C from the pre-alignment transfer position P 1 and the conveying device 4 of the hand 4a is retaining disc 3a in the distance y of the second pre-alignment transfer position P 2 Y-axis direction to receive the substrate W 1
Movement amount Δ of the Y stage 3d for correcting the amount of eccentricity of the substrate W 1 in the Y axis direction measured by the CD unit 3j.
Equal to y added.

【0016】なお、X駆動装置3eによるXステージ3
bの移動は、Y駆動装置3gによるYステージ3dの移
動が完了したのちに行うこともできる。
The X stage 3 by the X driving device 3e
The movement of b can also be performed after the movement of the Y stage 3d by the Y driving device 3g is completed.

【0017】次に、サブチャンバ5から減圧チャンバ1
内へ基板を搬入し、プリアライメント装置3を経て位置
決めステージ2へ供給し、位置決めステージ2において
荷電粒子蓄積リング放射光L1 による露光を行い、露光
された基板を再びプリアライメント装置3を経てサブチ
ャンバ5へ取出す全工程を説明する。
Next, the sub-chamber 5 to the decompression chamber 1
The substrate is carried into the inside, supplied to the positioning stage 2 via the pre-alignment device 3, and exposed by the charged particle storage ring radiation L 1 in the positioning stage 2, and the exposed substrate is again passed through the pre-alignment device 3 to the sub-alignment stage. All steps of taking out to the chamber 5 will be described.

【0018】基板5を入れた基板キャリヤC1 をサブチ
ャンバ5に搬入したのちに、サブチャンバ5の開口5a
に設けられたスライドドア5bを閉めてサブチャンバ5
内を減圧し、減圧チャンバ1と同じ真空圧に減圧する。
次いで、減圧チャンバ1のスライドドア1dを開き、受
渡しハンド6によって基板キャリヤC1 から基板(破線
で示す)を取出して第1のプリアライメント受渡し位置
1 へ移動させ、この位置に待機するプリアライメント
装置3の保持盤3aに吸着させる。次いで、Y駆動装置
3gを駆動し、Yステージ3dすなわちプリアライメン
ト装置3全体を固定ガイド3fに沿って第2のプリアラ
イメント受渡し位置P2 へ向って移動させ、その間に、
前述のように、オリフラ検出装置3iによる基板W1
偏心量の測定およびオリフラ面A1 の検知と、オリフラ
検出装置3iの出力に基づくXステージ3bの移動およ
びモータ3cの停止が行われ、最後にYステージ3dが
第2のプリアライメント受渡し位置P2 からΔyだけY
軸方向にずれた位置で停止することで基板W1 のプリア
ライメントが完了する。続いて、搬送装置4が、位置決
めステージ2の吸着面2aとの間で基板の受渡しを行う
第1の搬送装置受渡し位置P3 から、プリアライメント
装置3との間で基板の受渡しを行う第2の搬送装置受渡
し位置P4 へ移動し、プリアライメントを終えた基板W
1 をハンド4aに吸着し、第1の搬送装置受渡し位置へ
3 へ移動しつつ基板を90度回転させる。第1の搬送
装置受渡し位置P3 へもどった搬送装置4のハンド4a
から基板を受取った吸着板2aは前述の6軸駆動テーブ
ル機構によって基板の最終的位置決めを行う。この間、
プリアライメント装置3は第1のプリアライメント受渡
し位置へP1 移動し、新たにサブチャンバ5に搬入され
た基板キャリヤの基板を受取って前述のプリアライメン
トを行いながら第2のプリアライメント受渡し位置P2
へ移動する。
After the substrate carrier C 1 containing the substrate 5 is carried into the subchamber 5, the opening 5a of the subchamber 5 is opened.
Close the slide door 5b provided in the sub chamber 5
The pressure inside is reduced to the same vacuum pressure as the pressure reducing chamber 1.
Then, the slide door 1d of the decompression chamber 1 is opened, the substrate (shown by the broken line) is taken out from the substrate carrier C 1 by the delivery hand 6, moved to the first pre-alignment delivery position P 1, and the pre-alignment waiting at this position is performed. It is adsorbed to the holding plate 3a of the device 3. Then, the Y driving device 3g is driven to move the Y stage 3d, that is, the entire pre-alignment device 3 toward the second pre-alignment delivery position P 2 along the fixed guide 3f, during which,
As described above, the eccentricity amount of the substrate W 1 is measured by the orientation flat detection device 3i, the orientation flat surface A 1 is detected, the X stage 3b is moved based on the output of the orientation flat detection device 3i, and the motor 3c is stopped. The Y stage 3d moves Y from the second pre-alignment transfer position P 2 by Δy.
Pre-alignment of the substrate W 1 is completed by stopping at a position shifted in the axial direction. Then, the transfer device 4 transfers the substrate from the first transfer device transfer position P 3 for transferring the substrate to and from the suction surface 2 a of the positioning stage 2 to the pre-alignment device 3 for transfer. Of the substrate W which has been moved to the transfer position P 4 of the transfer device of FIG.
1 is sucked onto the hand 4a, and the substrate is rotated 90 degrees while moving to P 3 to the first transfer device delivery position. First hand 4a of the conveyor 4 that returned to the conveyance device transfer position P 3
The suction plate 2a which has received the substrate from the above performs the final positioning of the substrate by the above-mentioned 6-axis drive table mechanism. During this time,
The pre-alignment device 3 moves to the first pre-alignment delivery position P 1, receives the substrate of the substrate carrier newly loaded into the sub-chamber 5 and performs the above-mentioned pre-alignment, and then the second pre-alignment delivery position P 2
Move to.

【0019】この間、位置決めステージ2に保持された
基板は荷電粒子蓄積リング放射光L1 によって露光さ
れ、露光を終えた基板は搬送装置4によって待機台2c
に移される。
During this time, the substrate held on the positioning stage 2 is exposed by the charged particle storage ring radiation L 1 , and the substrate which has been exposed is transported to the standby table 2c by the transport device 4.
Moved to.

【0020】続いて、搬送装置4は第2の搬送装置受渡
し位置P4 へ移動し、第2のプリアライメント受渡し位
置P2 へ到達したプリアライメント装置3から新たな基
板を受取ってこれを90度回転させながら第1の搬送装
置受渡し位置P3 へ移動し、新たな基板を位置決めステ
ージ2の吸着面2aに吸着させたのちに、待機台2cに
待機する露光済みの基板を吸着して第2の搬送装置受渡
し位置P4 へ移動し、基板を第2のプリアライメント受
渡し位置P2 に待機するプリアライメント装置3へ受渡
す。露光済みの基板はプリアライメント装置3によって
第1のプリアライメント受渡し位置P1 へ搬送され、受
渡しハンド6によってサブチャンバ5へ移されたうえで
サブチャンバ5のスライドドア5bを開けて取出され
る。この間、位置決めステージ2に保持された新たな基
板の露光が行われる。
Subsequently, the transport device 4 moves to the second transport device delivery position P 4 , receives a new substrate from the pre-alignment device 3 which has reached the second pre-alignment delivery position P 2, and receives it at 90 degrees. The substrate is moved to the first transfer device delivery position P 3 while being rotated, and a new substrate is adsorbed on the adsorption surface 2a of the positioning stage 2, and then the exposed substrate waiting on the standby table 2c is adsorbed on the second stage. Go to the conveying device delivery position P 4 of, to transfer to the pre-alignment apparatus 3 to wait for the substrate to a second pre-alignment transfer position P 2. The exposed substrate is transported to the first pre-alignment delivery position P 1 by the pre-alignment device 3, transferred to the sub chamber 5 by the delivery hand 6, and then the slide door 5b of the sub chamber 5 is opened and taken out. During this time, a new substrate held on the positioning stage 2 is exposed.

【0021】本実施例は、基板のプリアライメントを行
うプリアライメント装置が、基板を位置決めステージへ
搬送する搬送手段の一部分を兼ねているため、露光装置
全体の部品点数が大幅に削減されるとともに基板の受渡
し回数が減少し、かつ、減圧チャンバに供給された基板
が位置決めステージへ到達するまでの時間も大幅に短縮
される。その結果、露光装置のスループットの向上と製
造コストの削減が容易である。
In this embodiment, the pre-alignment device for pre-aligning the substrate also serves as a part of the transfer means for transferring the substrate to the positioning stage, so that the number of parts of the exposure apparatus as a whole is significantly reduced and the substrate is significantly reduced. The number of times of delivery of the substrate is reduced, and the time required for the substrate supplied to the decompression chamber to reach the positioning stage is significantly shortened. As a result, it is easy to improve the throughput of the exposure apparatus and reduce the manufacturing cost.

【0022】図3および図4は、第2実施例を用いた縦
型の露光装置を示すもので、本実施例の位置決め装置で
あるプリアライメント装置23は、第1実施例のYステ
ージ3dと同様のYステージ23dにXステージ23b
を固定し、オリフラ検出装置3iによって検出された基
板W1 の偏心量のX軸方向の成分を解消するためにXス
テージ23bをΔxだけ移動させる替わりに、第2の搬
送装置受渡し位置P4にある搬送装置24をΔxだけ移
動させるように構成したものである。減圧チャンバ1、
位置決めステージ2、保持盤3a、モータ3c、固定ガ
イド3f、Y駆動装置3g、オリフラ検出装置3j、サ
ブチャンバ5、受渡しハンド6等については第1実施例
と同様であるので同一符号で表わし説明は省略する。
3 and 4 show a vertical type exposure apparatus using the second embodiment. The pre-alignment apparatus 23, which is the positioning apparatus of this embodiment, is the same as the Y stage 3d of the first embodiment. Similar Y stage 23d to X stage 23b
Is fixed and the X stage 23b is moved by Δx in order to eliminate the component of the eccentricity amount of the substrate W 1 detected by the orientation flat detection device 3i in the X-axis direction, instead of moving to the second transfer device delivery position P 4 . The transport device 24 is configured to be moved by Δx. Decompression chamber 1,
The positioning stage 2, the holding plate 3a, the motor 3c, the fixed guide 3f, the Y drive device 3g, the orientation flat detection device 3j, the sub-chamber 5, the delivery hand 6 and the like are the same as those in the first embodiment, and therefore the same reference numerals are used and the description is omitted. Omit it.

【0023】本実施例は、X駆動装置を必要としないた
めにプリアライメント装置23全体の構成が極めて簡略
化されてその軽量化が容易であり、省力化や騒音防止の
点で極めてすぐれている。
The present embodiment does not require an X driving device, so that the entire structure of the pre-alignment device 23 is extremely simplified and its weight can be easily reduced, and it is extremely superior in terms of labor saving and noise prevention. .

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明は、上述のように構成されている
ので、以下に記載するような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0025】位置決め装置(プリアライメント装置)の
待機時間を大幅に短縮し、露光装置のスループットを向
上させることができる。
The waiting time of the positioning device (pre-alignment device) can be greatly shortened, and the throughput of the exposure device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例を用いた露光装置の主要部を示す模
式平面図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing a main part of an exposure apparatus using a first embodiment.

【図2】第1実施例の詳細を示すもので、(a)はその
模式平面図、(b)は模式立面図である。
2A and 2B show details of the first embodiment, in which FIG. 2A is a schematic plan view thereof, and FIG. 2B is a schematic elevational view thereof.

【図3】第2実施例を用いた露光装置の主要部を示す模
式平面図である。
FIG. 3 is a schematic plan view showing a main part of an exposure apparatus using a second embodiment.

【図4】第2実施例の詳細を示すもので、(a)はその
模式平面図、(b)は模式立面図である。
4A and 4B show details of the second embodiment, in which FIG. 4A is a schematic plan view thereof, and FIG. 4B is a schematic elevational view thereof.

【図5】従来例を用いた露光装置の主要部を示す模式平
面図である。
FIG. 5 is a schematic plan view showing a main part of an exposure apparatus using a conventional example.

【図6】図5の従来例の詳細を示すもので、(a)はそ
の模式平面図、(b)は模式立面図である。
6A and 6B show details of the conventional example of FIG. 5, in which FIG. 6A is a schematic plan view thereof, and FIG. 6B is a schematic elevational view thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 減圧チャンバ 2 位置決めステージ 2a 吸着面 3,23 プリアライメント装置 3a 保持盤 3b,23b Xステージ 3d,23d Yステージ 3e X駆動装置 3f 固定ガイド 3g Y駆動装置 3i オリフラ検出装置 4,24 搬送装置 5 サブチャンバ 6 受渡しハンド 1 Decompression chamber 2 Positioning stage 2a Suction surface 3,23 Pre-alignment device 3a Holding plate 3b, 23b X stage 3d, 23d Y stage 3e X drive device 3f Fixed guide 3g Y drive device 3i Orifla detector 4,24 Transfer device 5 sub Chamber 6 Delivery hand

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 9/00 H 9122−2H G21K 5/00 R H01L 21/027 7352−4M H01L 21/30 531 J ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G03F 9/00 H 9122-2H G21K 5/00 R H01L 21/027 7352-4M H01L 21/30 531 J

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 案内手段に沿って所定の軸方向に往復移
動自在である移動台と、これに支持された保持盤と、該
保持盤に保持された基板の位置ずれを検出する検出手段
と、その出力に基づいて前記移動台を移動させる駆動手
段からなり、前記検出手段が前記移動台に支持されてい
ることを特徴とする位置決め装置。
1. A moving table which is reciprocally movable in a predetermined axial direction along a guide means, a holding plate supported by the moving table, and a detecting means for detecting a positional deviation of a substrate held by the holding plate. A positioning device comprising drive means for moving the movable table based on its output, and the detection means being supported by the movable table.
【請求項2】 駆動手段が、案内手段に向って移動台を
所定距離だけ移動させたうえで検出手段の出力に基づい
て前記移動台を移動させるように構成されていることを
特徴とする請求項1記載の位置決め装置。
2. The drive means is configured to move the movable table by a predetermined distance toward the guide means, and then move the movable table based on the output of the detection means. The positioning device according to item 1.
【請求項3】 保持盤が、移動台に沿って第2の軸方向
に往復移動自在である第2の移動台に回転自在に支持さ
れており、検出手段の出力に基づいて前記第2の移動台
を移動させる第2の駆動手段と、前記保持盤を回転させ
る回転手段と、前記検出手段の出力に基づいて前記回転
手段を制御する制御手段が設けられていることを特徴と
する請求項1または2記載の位置決め装置。
3. A holding plate is rotatably supported by a second movable table which is reciprocally movable along a movable table in a second axial direction, and the second movable table is rotatably supported by the second movable table based on an output of a detecting means. A second drive means for moving the moving base, a rotation means for rotating the holding plate, and a control means for controlling the rotation means based on the output of the detection means are provided. The positioning device according to 1 or 2.
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