JPH06140492A - Cluster device - Google Patents

Cluster device

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Publication number
JPH06140492A
JPH06140492A JP28976792A JP28976792A JPH06140492A JP H06140492 A JPH06140492 A JP H06140492A JP 28976792 A JP28976792 A JP 28976792A JP 28976792 A JP28976792 A JP 28976792A JP H06140492 A JPH06140492 A JP H06140492A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alignment
cluster
chamber
processing
devices
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP28976792A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshimasa Miyajima
良政 宮嶋
Hidenobu Shirai
秀信 白井
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Priority to JP28976792A priority Critical patent/JPH06140492A/en
Publication of JPH06140492A publication Critical patent/JPH06140492A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To provide a cluster device which is provided with positioning devices in a chamber and can shorten not only the carrying time, but also positioning time of objects to be treated. CONSTITUTION:This device is provided with a chamber 1 to the walls of which treatment devices 4a, 4b, 4c, 4d, and 4e are respectively connected, carrying arm 2 which can carry objects to be treated into the devices 4a, 4b, 4c, 4d, and 4e and is incorporated in the chamber 1, and a plurality of positioning devices 3a, 3b, 3c, 3d, and 3e which can position the objects to be treated to the placing positions of the devices 4a, 4b, 4c, 4d, and 4e and is incorporated in the chamber 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、チャンバ内に位置合わ
せ装置を具備するクラスタ装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cluster device having an alignment device in a chamber.

【0002】近年の半導体装置の微細化・高集積化に伴
い処理工程が多くなったので工程が複雑になり、各工程
間の半導体基板の搬送を清浄な雰囲気内で行うことが必
要になっている。
Since the number of processing steps has increased with the recent miniaturization and high integration of semiconductor devices, the steps become complicated, and it becomes necessary to carry the semiconductor substrate between the steps in a clean atmosphere. There is.

【0003】このような搬送方法の解決策として内部を
高真空にしたクラスタ装置を介して複数の処理装置を結
合することにより、複数の処理装置間の半導体基板の搬
送を高真空雰囲気内で行うことが可能となったが、一度
に搬送可能な枚数が限られている搬送アームを用いて複
数の処理装置間で半導体基板を搬送するために搬送順序
が複雑になり、搬送時間が増加して総処理時間が長くな
っており、また、処理装置内における半導体基板の載置
位置の正確さが要求されており、処理装置内において半
導体基板の位置ずれが起こる場合があるため、次工程の
処理装置に搬送する直前に半導体基板の位置合わせを行
うことが必要になっている。
As a solution of such a transfer method, by connecting a plurality of processing devices via a cluster device having a high vacuum inside, the semiconductor substrates are transferred between the plurality of processing devices in a high vacuum atmosphere. However, since the semiconductor substrates are transferred between a plurality of processing devices by using the transfer arm, which can transfer only a limited number of sheets at one time, the transfer sequence becomes complicated and the transfer time increases. Since the total processing time is long and the mounting position of the semiconductor substrate in the processing apparatus is required to be accurate, the semiconductor substrate may be displaced in the processing apparatus. It is necessary to align the semiconductor substrate immediately before it is transferred to the device.

【0004】以上のような状況から、搬送経路を短縮す
ることが可能で、処理装置に搬入する直前にチャンバ内
において位置合わせを行うことが可能なクラスタ装置が
要望されている。
Under the circumstances as described above, there is a demand for a cluster apparatus which can shorten the transfer path and can perform the alignment in the chamber immediately before it is loaded into the processing apparatus.

【0005】[0005]

【従来の技術】外部に二台の処理装置と一台の位置合わ
せ装置を備えた従来のクラスタ装置について図12〜図
13により詳細に説明する。
2. Description of the Related Art A conventional cluster device having two processing devices and one alignment device outside will be described in detail with reference to FIGS.

【0006】図12は従来のクラスタ装置の構成及び動
作を示す図、図13は従来のクラスタ装置のタイムチャ
ートである。図12に示すように外部に二台の処理装置
14a 及び14d と一台の位置合わせ装置13b を備えたクラ
スタ装置において、処理装置14a から処理装置14d へ搬
送アーム2により処理物を搬送する場合には、図13の
タイムチャートに示すようにまず処理装置14a から処理
物を取り出して搬送(11)し、つぎに処理物を位置合わせ
装置13bに搬送(12)する。この位置合わせ装置13bにお
いて処理物を所定の位置に位置合わせ(13)した後、処理
物を位置合わせ装置13bから搬送(14)した後、更に次工
程の処理装置14d に処理物を搬送(15)する。
FIG. 12 is a diagram showing the configuration and operation of a conventional cluster device, and FIG. 13 is a time chart of the conventional cluster device. As shown in FIG. 12, two external processing units
In a cluster device including 14a and 14d and one alignment device 13b, when a processing object is transferred from the processing device 14a to the processing device 14d by the transfer arm 2, first, as shown in the time chart of FIG. The processed product is taken out from the device 14a and conveyed (11), and then the processed product is conveyed (12) to the alignment device 13b. After aligning (13) the processed product to a predetermined position in this alignment device 13b, the processed product is transported (14) from the alignment device 13b, and then the processed product is further transported (15) to the processing device 14d of the next step. ) Do.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来のク
ラスタ装置においては、位置合わせ装置をクラスタ装置
の壁面の外部に設けているので、クラスタ装置内から位
置合わせ装置まで往復して搬送しなければならないか
ら、搬送時間自体が長くなるという問題点があり、また
位置合わせ装置と処理装置とをクラスタ装置の壁面の外
部に設けているのでクラスタ装置に接続可能な位置合わ
せ装置の台数が制限されるため、位置合わせするのに時
間が必要になり、処理物の位置合わせが完了するまで搬
送アーム2が待機しなければならないので、待機時間が
増加するという問題点があった。
In the conventional cluster device described above, since the alignment device is provided outside the wall surface of the cluster device, the alignment device must be transported back and forth from inside the cluster device to the alignment device. Therefore, there is a problem that the transfer time itself becomes long, and since the alignment device and the processing device are provided outside the wall surface of the cluster device, the number of alignment devices connectable to the cluster device is limited. Therefore, it takes time to perform the alignment, and the transfer arm 2 has to wait until the alignment of the objects to be processed is completed, which causes a problem that the standby time increases.

【0008】本発明は以上のような状況から、搬送時間
自体を短縮することが可能で、かつ位置合わせ時間をも
短縮することが可能となるクラスタ装置の提供を目的と
したものである。
In view of the above situation, the present invention has an object to provide a cluster apparatus capable of shortening the transportation time itself and also shortening the positioning time.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のクラスタ装置
は、壁面に複数の処理装置が接続されているチャンバ
と、この処理装置において処理する処理物を搬送するこ
とが可能な、このチャンバ内に設けられている搬送アー
ムと、この処理装置において載置する位置に、この処理
物の位置を位置合わせすることが可能な、このチャンバ
内に設けられている複数の位置合わせ装置とを具備する
ように構成する。
A cluster apparatus of the present invention is provided with a chamber in which a plurality of processing apparatuses are connected to a wall surface and a chamber in which a processing object to be processed in the processing apparatus can be transported. A transfer arm provided, and a plurality of alignment devices provided in the chamber capable of aligning the position of the processed product with a position to be placed in the processing device. To configure.

【0010】[0010]

【作用】即ち本発明においては、チャンバの内部に搬送
アームと複数の位置合わせ装置とを内蔵させて設けてい
るので、図2に示すように処理装置4aから処理物を取り
出して搬送し、つぎに処理物を位置合わせ装置3dに搬
送する。ここでこの位置合わせ装置3dにおいて処理物
を所定の位置に位置合わせした後、処理物を位置合わ
せ装置3dから次工程の処理装置4dに搬送することがで
き、図3のタイムチャートに示すように上記の搬送と
搬送とを極めて短縮することができるから搬送時間自
体を短縮することが可能となり、また位置合わせ装置を
処理装置内に設けているので、クラスタ装置に接続して
いる外部の処理装置と同数の位置合わせ装置を設けるこ
とも可能であるから、位置合わせ装置に半導体基板を仮
置きして搬送アームを移動させることが可能となるの
で、搬送アームの待機時間を有効に用いることが可能と
なる。
That is, in the present invention, since the transfer arm and the plurality of alignment devices are provided inside the chamber, the process object is taken out from the process device 4a and transferred as shown in FIG. Then, the processed material is conveyed to the alignment device 3d. Here, after aligning the processed product to a predetermined position in this alignment device 3d, the processed product can be conveyed from the alignment device 3d to the processing device 4d of the next step, as shown in the time chart of FIG. Since the above-mentioned transfer and transfer can be extremely shortened, the transfer time itself can be shortened. Further, since the alignment device is provided in the processing device, an external processing device connected to the cluster device can be used. Since it is possible to install the same number of alignment devices as the above, it is possible to temporarily place the semiconductor substrate on the alignment device and move the transfer arm, so that the standby time of the transfer arm can be effectively used. Becomes

【0011】[0011]

【実施例】以下、外部の処理装置を5台有しており、内
部に位置合わせ装置を5台設けた本発明の一実施例のク
ラスタ装置について図1〜図11により詳細に説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A cluster apparatus according to an embodiment of the present invention, which has five external processing devices and five alignment devices inside, will be described in detail below with reference to FIGS.

【0012】図1は本発明による一実施例のクラスタ装
置の構成を示す図、図2は本発明による一実施例のクラ
スタ装置の動作を説明する図、図3は本発明による一実
施例のクラスタ装置のタイムチャート、図4は本発明の
クラスタ装置の位置合わせ機構の一実施例の構造を示す
図、図5は図4のA−A矢視図、図6は図5のB−B矢
視図、図7は図4のC−C矢視図、図8〜図11は本発
明のクラスタ装置の位置合わせ機構の一実施例の動作を
説明する図である。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a cluster device according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of the cluster device of one embodiment according to the present invention, and FIG. 3 is a diagram of an embodiment according to the present invention. 4 is a time chart of the cluster device, FIG. 4 is a diagram showing the structure of an embodiment of the alignment mechanism of the cluster device of the present invention, FIG. 5 is a view taken along the line AA of FIG. 4, and FIG. 6 is a line BB of FIG. FIG. 7 is a view taken in the direction of arrow CC in FIG. 4, and FIGS. 8 to 11 are views for explaining the operation of the embodiment of the alignment mechanism of the cluster device of the present invention.

【0013】本発明による一実施例のクラスタ装置は図
1に示すように、5面の壁面を有するチャンバ1の壁面
にそれぞれ外部の5台の処理装置4a,4b,4c,4d,4eが接続
して設けられているものであり、クラスタ装置の内部に
は外部の5台の処理装置4a,4b,4c,4d,4eに対応して5台
の位置合わせ装置3a,3b,3c,3d,3eが設けられている。
As shown in FIG. 1, a cluster apparatus according to one embodiment of the present invention is provided with five external processing units 4a, 4b, 4c, 4d and 4e connected to the wall surface of a chamber 1 having five wall surfaces. In the interior of the cluster device, five alignment devices 3a, 3b, 3c, 3d, corresponding to the five external processing devices 4a, 4b, 4c, 4d, 4e, 3e is provided.

【0014】このようなクラスタ装置を用いて処理物を
処理装置4aから取り出し、位置合わせした後、処理装置
4dに搬送する場合について詳細に説明する。図2及び図
3に示すようにまず処理装置4aから処理物を取り出して
搬送し、つぎに処理物を位置合わせ装置3dに搬送す
る。この位置合わせ装置3dにおいて処理物を所定の位置
に位置合わせした後、処理物を位置合わせ装置3dから
次工程の処理装置4dに処理物を搬送する。
A processing object is taken out from the processing device 4a by using such a cluster device, and after positioning, the processing device is processed.
The case of transporting to 4d will be described in detail. As shown in FIGS. 2 and 3, first, the processed product is taken out of the processing device 4a and conveyed, and then the processed product is conveyed to the alignment device 3d. After aligning the processed product at a predetermined position in the alignment device 3d, the processed product is conveyed from the alignment device 3d to the processing device 4d of the next step.

【0015】このように位置合わせ装置をクラスタ装置
のチャンバ1内に設けているから、図2及び図3に示す
ように搬送及び搬送を極めて短縮させることができ
るので、搬送時間自体を短縮することが可能となり、ま
た、外部の処理装置に対応してそれぞれ位置合わせ装置
を設けているので、位置合わせに要する時間を短縮する
ことができ、搬送アーム2が待機する待機時間を短縮す
ることが可能となる。
Since the alignment device is provided in the chamber 1 of the cluster device as described above, the transportation and the transportation can be extremely shortened as shown in FIGS. 2 and 3, so that the transportation time itself can be shortened. Further, since the positioning devices are provided corresponding to the external processing devices, respectively, the time required for the positioning can be shortened, and the waiting time for the transfer arm 2 to wait can be shortened. Becomes

【0016】位置合わせ装置の一実施例について図4〜
図11により詳細に説明する。図4は本発明のクラスタ
装置の位置合わせ機構の一実施例の構造を示す図であ
る。
An embodiment of the alignment device is shown in FIGS.
This will be described in detail with reference to FIG. FIG. 4 is a diagram showing the structure of an embodiment of the alignment mechanism of the cluster device of the present invention.

【0017】クラスタ装置の上部の壁面にはピニオンを
回転軸に固定して設けたモーター7とセンサー13とが設
けられており、下部には回転可能なウエーハチャック6
を備えた昇降ステージ5が設けられており、側壁には外
部の処理装置が接続されている。
A motor 7 having a pinion fixed to a rotating shaft and a sensor 13 are provided on the upper wall surface of the cluster device, and a rotatable wafer chuck 6 is provided on the lower part.
And an external processing device is connected to the side wall.

【0018】図4のA−A矢視図である図5に示すよう
に、昇降ステージ5のウエーハチャック6には処理物、
例えば半導体基板14が搭載されている。図5のB−B矢
視図である図6に示すように、モーターの回転軸に取り
つけられているピニオン8と、両側の軸受け部9のスラ
イドベアリング9aによりガイドされるガイド棒10と結合
されているラック11とは噛み合っており、ガイド棒10の
下部には半導体基板の外形により半導体基板14の位置決
めをするウエーハガイド12が設けられている。
As shown in FIG. 5 which is a view taken along the line A--A of FIG.
For example, the semiconductor substrate 14 is mounted. As shown in FIG. 6 which is a view taken along the line BB of FIG. 5, the pinion 8 attached to the rotary shaft of the motor and the guide rod 10 guided by the slide bearings 9a of the bearing portions 9 on both sides are connected. A wafer guide 12 for positioning the semiconductor substrate 14 according to the outer shape of the semiconductor substrate is provided below the guide rod 10 so as to mesh with the rack 11.

【0019】図4のC−C矢視図である図7に示すよう
に、昇降ステージ5は半導体基板14を支持するフォーク
形の搬送アーム2の中心部に設けられており、昇降が可
能で半導体基板14の中心部にはこの半導体基板14を支持
するウエーハチャック6が回転可能に設けられている。
As shown in FIG. 7 which is a view taken along the line CC in FIG. 4, the elevating stage 5 is provided at the center of the fork-shaped transfer arm 2 which supports the semiconductor substrate 14, and is capable of elevating. A wafer chuck 6 that supports the semiconductor substrate 14 is rotatably provided at the center of the semiconductor substrate 14.

【0020】このような位置合わせ装置で半導体基板14
の位置合わせを行うには、まず図8に示すようにウエー
ハチャック6の表面に半導体基板14を搭載した状態で昇
降ステージ5を上昇させてウエーハガイド12の位置に半
導体基板14を移動し、つぎに図9に示すようにモーター
7を回転させてピニオン8を回転し、ラック11を矢印に
て示す方向に移動させてウエーハガイド12を用いて半導
体基板14の外形により半導体基板14の位置決めをした
後、図10に示すようにモーター7を逆回転させてピニ
オン8を逆回転し、ラック11を逆方向に移動させてウエ
ーハガイド12を矢印にて示す方向に開き、ウエーハチャ
ック6を回転させてセンサーにより半導体基板14のオリ
エンテーションフラットを検知して半導体基板14の位置
合わせを行っている。半導体基板14の位置合わせ完了
後、昇降ステージ5を下方向に下げると、半導体基板14
は搬送アーム2の上に載置され、更に昇降ステージ5を
下げると図11に示すような位置で停止する。
With such an alignment apparatus, the semiconductor substrate 14
To align the semiconductor substrate 14 with the semiconductor substrate 14 mounted on the surface of the wafer chuck 6 as shown in FIG. 8, the semiconductor substrate 14 is moved to the position of the wafer guide 12 by raising the elevating stage 5. As shown in FIG. 9, the motor 7 is rotated to rotate the pinion 8 to move the rack 11 in the direction indicated by the arrow, and the semiconductor substrate 14 is positioned by the outer shape of the semiconductor substrate 14 using the wafer guide 12. Then, as shown in FIG. 10, the motor 7 is rotated in the reverse direction to rotate the pinion 8 in the reverse direction, the rack 11 is moved in the reverse direction, the wafer guide 12 is opened in the direction indicated by the arrow, and the wafer chuck 6 is rotated. The sensor detects the orientation flat of the semiconductor substrate 14 and aligns the semiconductor substrate 14. After the alignment of the semiconductor substrate 14 is completed, when the elevating stage 5 is lowered, the semiconductor substrate 14
Is placed on the transfer arm 2, and when the elevating stage 5 is further lowered, it stops at the position shown in FIG.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば極めて簡単な構成の変更により、搬送時間を大
幅に短縮することが可能となる利点があり、著しい経済
的及び、信頼性向上の効果が期待できるクラスタ装置の
提供が可能である。
As is apparent from the above description, according to the present invention, there is an advantage that the transport time can be greatly shortened by the extremely simple modification of the structure, which is extremely economical and reliable. It is possible to provide a cluster device that can be expected to be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明による一実施例のクラスタ装置の構成
を示す図、
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a cluster device according to an embodiment of the present invention,

【図2】 本発明による一実施例のクラスタ装置の動作
を説明する図、
FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of a cluster device according to an embodiment of the present invention,

【図3】 本発明による一実施例のクラスタ装置のタイ
ムチャート、
FIG. 3 is a time chart of a cluster device according to an embodiment of the present invention,

【図4】 本発明のクラスタ装置の位置合わせ機構の一
実施例の構造を示す図、
FIG. 4 is a diagram showing a structure of an embodiment of a positioning mechanism of a cluster device according to the present invention;

【図5】 図4のA−A矢視図、5 is a view on arrow AA of FIG. 4,

【図6】 図5のB−B矢視図、FIG. 6 is a view on arrow BB in FIG.

【図7】 図4のC−C矢視図、7 is a view taken along the line CC of FIG.

【図8】 本発明のクラスタ装置の位置合わせ機構の一
実施例の動作を説明する図(1) 、
FIG. 8 is a diagram (1) for explaining the operation of the embodiment of the alignment mechanism of the cluster device according to the present invention;

【図9】 本発明のクラスタ装置の位置合わせ機構の一
実施例の動作を説明する図(2) 、
FIG. 9 is a diagram (2) for explaining the operation of the embodiment of the alignment mechanism of the cluster device according to the present invention;

【図10】 本発明のクラスタ装置の位置合わせ機構の
一実施例の動作を説明する図(3) 、
FIG. 10 is a diagram (3) for explaining the operation of the embodiment of the alignment mechanism of the cluster device according to the present invention;

【図11】 本発明のクラスタ装置の位置合わせ機構の
一実施例の動作を説明する図(4) 、
FIG. 11 is a diagram (4) for explaining the operation of the embodiment of the alignment mechanism of the cluster device according to the present invention;

【図12】 従来のクラスタ装置の構成及び動作を説明
する図、
FIG. 12 is a diagram explaining the configuration and operation of a conventional cluster device;

【図13】 従来のクラスタ装置のタイムチャート、FIG. 13 is a time chart of a conventional cluster device,

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1はチャンバ、2は搬送アーム、3a,3b,3c,3d,3eは位置
合わせ装置、4a,4b,4c,4d,4eは処理装置、5は昇降ステ
ージ、6はウエーハチャック、7はモーター、8はピニ
オン、9は軸受け部、9aはスライドベアリング、10はガ
イド棒、11はラック、12はウエーハガイド、13はセンサ
ー、14半導体基板、
1 is a chamber, 2 is a transfer arm, 3a, 3b, 3c, 3d and 3e are alignment devices, 4a, 4b, 4c, 4d and 4e are processing devices, 5 is a lifting stage, 6 is a wafer chuck, 7 is a motor, 8 is a pinion, 9 is a bearing, 9a is a slide bearing, 10 is a guide rod, 11 is a rack, 12 is a wafer guide, 13 is a sensor, 14 semiconductor substrates,

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 壁面に複数の処理装置(4a,4b,4c,4d,4e)
が接続されているチャンバ(1) と、 前記処理装置(4a,4b,4c,4d,4e)において処理する処理物
を搬送することが可能な、前記チャンバ(1) 内に設けら
れている搬送アーム(2) と、 前記処理装置(4a,4b,4c,4d,4e)において載置する位置
に、前記処理物の位置合わせをすることが可能な、前記
チャンバ(1) 内に設けられている複数の位置合わせ装置
(3a,3b,3c,3d,3e)と、 を具備することを特徴とするクラスタ装置。
1. A plurality of processing devices (4a, 4b, 4c, 4d, 4e) on the wall
A chamber (1) connected to the chamber (1), and a transfer device provided in the chamber (1) capable of transferring a processing object to be processed in the processing device (4a, 4b, 4c, 4d, 4e). The arm (2) and the processing device (4a, 4b, 4c, 4d, 4e) are provided in the chamber (1) capable of aligning the processing object at a position to be mounted in the chamber (1). Multiple alignment devices
(3a, 3b, 3c, 3d, 3e), and a cluster device comprising:
JP28976792A 1992-10-28 1992-10-28 Cluster device Withdrawn JPH06140492A (en)

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