JPH07105444B2 - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH07105444B2
JPH07105444B2 JP62187582A JP18758287A JPH07105444B2 JP H07105444 B2 JPH07105444 B2 JP H07105444B2 JP 62187582 A JP62187582 A JP 62187582A JP 18758287 A JP18758287 A JP 18758287A JP H07105444 B2 JPH07105444 B2 JP H07105444B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路装置に係り、特に複数の論理レ
ベルの論理回路を同一半導体基板上に混在させ、システ
ムの最適設計をオンチツプで可能とする半導体集積回路
装置に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and in particular, allows the logic circuits of a plurality of logic levels to be mixed on the same semiconductor substrate, and enables the optimum design of the system on-chip. The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、バイポーラトランジスタとMOSトランジスタが同
一半導体基板上に混在する半導体集積回路装置について
は、プロシーデイングズ オブ1984,アイ・イー・イー
・イー,アイ・シー・シー・デイー,第428頁から第433
頁,10月,1984年(Proceedings of 1984 IEEE ICCD,PP.4
28−433,Oct.1984)において論じられている。バイポー
ラトランジスタとCMOS(Complementary MOS)トランジ
スタを同一の単一な半導体基板板上に形成し、これら2
つのトランジスタを基本回路内で複合する事により、バ
イポーラの高速性とCMOSの低消費電力性を兼ね備えた高
性能半導体集積回路装置を実現する事ができる。この半
導体集積回路装置においては、内部回路はバイポーラ・
CMOS複合論理回路またはCMOS論理回路で構成されてお
り、これら2つの論理回路を適宜選択する事によつて、
より高性能なシステムを設計する事ができる。また、入
出力回路はCMOSあるいはTTL(transistor−transistor
logic)コンパチブルの他、ECLチツプやバイポーラ・CM
OSチツプとのインタフエースも可能である。このチツプ
を中心に複数の論理レベル回路のチツプであるシステム
を構成した例を第2図に示す。201から204はそれぞれ1
つの半導体集積回路装置であり、201はバイポーラ・CMO
S複合論理回路、202はCMOS論理回路、203はECL回路、20
4はTTL回路によつてそれぞれ構成されたチツプである。
各々の論理回路の特長を活かし、システムを最適に設計
する事ができる。例えば高速性が要求される論理演算部
を203のECLチツプで構成し、高集積性が要求されるメモ
リ部を202のCMOSチツプで構成し、高速性と高集積性の
両方が要求される論理部を205のバイポーラ・CMOSチツ
プで構成し、その他の部分を204のTTLチツプで構成する
ことが考えられる。この時、201のバイポーラ・CMOSチ
ツプと203のECLチツプのインタフエース部205はECL論理
レベルで行い、204のTTLチツプとのインタフエースはTT
L論理レベルで行うといつた様に、201のバイポーラ・CM
OSチツプはインタフエースする相手のチツプの論理レベ
ルにあわせて、信号のアクセスを行う事ができる。この
例でみる様に、それぞれの論理回路の特長を活かしてシ
ステム全体を構成する事によつて、全体として高性能な
システムが構成可能となる。
Conventionally, regarding a semiconductor integrated circuit device in which a bipolar transistor and a MOS transistor are mixed on the same semiconductor substrate, see Proceedings of 1984, IEE, ICD, pp.428-433.
Page, October, 1984 (Proceedings of 1984 IEEE ICCD, PP.4
28-433, Oct. 1984). A bipolar transistor and a CMOS (Complementary MOS) transistor are formed on the same single semiconductor substrate plate, and these 2
By combining two transistors in the basic circuit, it is possible to realize a high-performance semiconductor integrated circuit device that has both high-speed performance of bipolar and low power consumption of CMOS. In this semiconductor integrated circuit device, the internal circuit is bipolar
It is composed of a CMOS composite logic circuit or a CMOS logic circuit. By selecting these two logic circuits appropriately,
A higher performance system can be designed. The input / output circuit is CMOS or TTL (transistor-transistor).
logic) compatible, ECL chip, bipolar, CM
It is also possible to interface with OS chips. An example in which a system, which is a chip of a plurality of logic level circuits, is constructed around this chip is shown in FIG. 201 to 204 are 1
Two semiconductor integrated circuit devices, 201 is bipolar CMO
S composite logic circuit, 202 is CMOS logic circuit, 203 is ECL circuit, 20
Reference numeral 4 is a chip composed of TTL circuits.
The system can be optimally designed by taking advantage of the features of each logic circuit. For example, a logic operation unit requiring high speed is composed of 203 ECL chips, a memory unit requiring high integration is composed of 202 CMOS chips, and logic requiring both high speed and high integration is required. It is conceivable that the part is composed of 205 bipolar CMOS chips, and the other part is composed of 204 TTL chips. At this time, the interface section 205 of the 201 bipolar CMOS chip and the ECL chip of 203 performs at the ECL logic level, and the interface with the TTL chip of 204 is TT.
201 bipolar / CM as usual when done at L logic level
The OS chip can access signals according to the logic level of the chip of the other party to interface. As shown in this example, by constructing the entire system by utilizing the features of each logic circuit, a high-performance system as a whole can be constructed.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

従来技術の問題点は2つあり、以下説明を行う。まず第
1は、チツプ間インタフエースにかかるデイレイ時間が
大きいという問題である。例えば、第2図におけるバイ
ポーラ・CMOSチツプとECLチツプの間のインタフエース
に要するデイレイ時間を考えてみる。ECLチツプからバ
イポーラ・CMOSチツプへの信号の流れを第3図(a)に
示す。ECLチツプ302内の内部回路311の信号は、出力バ
ツフア308を介してチツプ外に出力される。出力信号はE
CLレベルの信号である。一方、バイポーラ・CMOSチツプ
301は、チツプ内部のレシーバ307によつて信号を受信
し、レベル変換回路A306によつてECLレベルからバイポ
ーラ・CMOSレベルの信号にレベル変換し、更に入力バツ
フア305を介してバイポーラ・CMOSの内部回路310に信号
が伝えられる。この例の場合、インタフエースのデイレ
イ時間を大きくしている要因は、ECLチツプ302内の出力
バツフア308とバイポーラ・CMOSチツプ301内のレベル変
換回路306である。出力バツフア308は、出力信号をチツ
プ外部に出力する為、大きな負荷を駆動する必要があ
り、デイレイ時間が大きくなる。また、レベル変換回路
(A)306は、ECLレベルの信号(通常VOH=−0.9V,VOL
=−1.75V)をバイポーラ・CMOSレベルの信号(通常VOH
=+5V,VOL=0V)に変換する。GND(0V)からVEE(−5.
2V)の電源で動作しているECL信号をVCC(+5V)からGN
D(0V)の電源で動作しているバイポーラ・CMOSレベル
の信号に変換するには、上記の如く、大きなレベルシフ
トと振巾の増幅が必要であり、レベル変換に要する時間
は大きいものとなる。これら出力バツフア308とレベル
変換回路306によるデイレイにより、チツプ301と302の
インタフエースにかかるデイレイ時間が大きくなる。
There are two problems with the conventional technique, and the following description will be given. First, there is a problem that the delay time required for the interface between chips is long. For example, consider the delay time required for the interface between the bipolar CMOS chip and the ECL chip in FIG. The signal flow from the ECL chip to the bipolar CMOS chip is shown in Fig. 3 (a). The signal of the internal circuit 311 in the ECL chip 302 is output to the outside of the chip via the output buffer 308. Output signal is E
This is a CL level signal. On the other hand, bipolar CMOS chips
301 receives a signal by a receiver 307 inside the chip, level-converts it from an ECL level to a bipolar CMOS level signal by a level conversion circuit A306, and further, through an input buffer 305, an internal circuit of the bipolar CMOS. A signal is transmitted to 310. In this example, the factors that increase the interface delay time are the output buffer 308 in the ECL chip 302 and the level conversion circuit 306 in the bipolar CMOS chip 301. Since the output buffer 308 outputs the output signal to the outside of the chip, it is necessary to drive a large load and the delay time becomes long. Further, the level conversion circuit (A) 306 is provided with an ECL level signal (normally V OH = −0.9 V, V OL
= -1.75V) is a bipolar CMOS level signal (usually V OH
= + 5V, V OL = 0V). GND (0V) to V EE (−5.
2V) ECL signal operating from V CC (+ 5V) to GN
As described above, a large level shift and amplitude amplification are required to convert to a bipolar CMOS level signal operating with a D (0V) power supply, and the time required for level conversion is long. . Due to the delay due to the output buffer 308 and the level conversion circuit 306, the delay time required for the interface between the chips 301 and 302 becomes long.

次に第2の問題点は、設計自由度が限定される為、実装
面積の増大を招く点にある。例えば、第2図のシステム
において、高速性が要求される論理演算部は203のECLチ
ツプによつて構成されており、他の論理レベル回路のチ
ツプのスピード性能では実現する事ができない。したが
つて、論理演算部はECLチツプを使わざるをえない。次
に、このシステムはレジスタ部を持つており、論理演算
部との間で頻繁にデータのアクセスを行う。そこでこの
レジスタ部もECLチツプで実現したいが、ECLは消費電力
が大きく、集積度が低いので、レジスタの構成には適し
ていない。したがつて、レジスタ部は消費電力が小さ
く、高い集積度を持つバイポーラ・CMOS或いはCMOSによ
つて構成することになる。この一般的なシステム構成例
でみる様に、それぞれの論理チツプの性能限界から、論
理演算部とレジスタ部をワンチツプで実現する事ができ
ない。演算部とレジスタ部を別々のチツプで構成し、そ
れぞれをパツケージングして相互のチツプの接続をボー
ド上で行う事になり、実装面積が大きくなつてしまう。
A second problem is that the degree of freedom in design is limited, which leads to an increase in mounting area. For example, in the system shown in FIG. 2, the logic operation unit required to have high speed is constituted by the ECL chip 203, which cannot be realized by the speed performance of the chips of other logic level circuits. Therefore, the logic operation unit has no choice but to use the ECL chip. Next, this system has a register section and frequently accesses data with the logical operation section. Therefore, we would like to realize this register part with an ECL chip as well, but since ECL consumes a large amount of power and has a low degree of integration, it is not suitable for a register configuration. Therefore, the register section is configured by bipolar CMOS or CMOS with low power consumption and high integration. As seen in this general system configuration example, the logical operation unit and the register unit cannot be realized in one chip due to the performance limit of each logical chip. The arithmetic unit and the register unit are composed of separate chips, and the packages are packaged to connect the chips to each other on the board, resulting in a large mounting area.

上記の如く、従来技術では、チツプ間インタフエースの
デイレイ時間が大きく、また実装効率が悪いという2つ
の問題点がある。
As described above, the conventional technique has two problems that the delay time of the inter-chip interface is long and the mounting efficiency is low.

本発明の目的、デイレイ時間が小さく、また実装効率が
高い半導体集積回路装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having a short delay time and high mounting efficiency.

〔問題点を解決するための手段〕 上記目的は、ECLやCMOS等の異なる論理レベルの論理回
路を少なくとも含む論理ブロツクを同一チツプに集積形
成し、同一の電位をもつ電源で動作する事により達成さ
れる。
[Means for Solving Problems] The above object is achieved by integrating and forming logic blocks including at least logic circuits of different logic levels such as ECL and CMOS in the same chip and operating with power supplies having the same potential. To be done.

〔作用〕[Action]

同一のチツプ内に形成される異なる論理レベルの論理回
路を含む論理ブロツクを同一チツプに集積化することに
より、論理ブロツク相互間の従来の入出力バツフアは不
要となる。また、論理ブロツクを実質的に同一な電源に
よつて動作させるので、レベル変換の量が少なくなり、
遅延時間が少なくなる。
By integrating logic blocks containing logic circuits of different logic levels formed in the same chip in the same chip, the conventional I / O buffer between the logic blocks becomes unnecessary. Moreover, since the logic blocks are operated by substantially the same power source, the amount of level conversion is reduced,
Delay time is reduced.

〔実施例〕〔Example〕

第1図に示す様に、本発明の一実施例では、半導体基板
101は、ECL回路によつて構成される論理ブロツクとなる
領域102とバイポーラ・CMOS回路によつて構成される論
理ブロツクとなる領域103とCMOSによつて構成される論
理ブロツクとなる領域104を有している。この半導体チ
ツプ上には、既に確立されたバイポーラ・CMOS複合技術
によつて、どの領域にでもバイポーラトランジスタとMO
Sトランジスタを形成することが可能である。上記ECL領
域102には、バイポーラトランジスタを形成しMOSトラン
ジスタは形成しない。また逆に、上記CMOS領域104にはM
OSトランジスタを形成し、バイポーラトランジスタは形
成しない。バイポーラ・CMOS領域103にはバイポーラト
ランジスタとMOSトランジスタの両方を形成する。そし
て、それぞれの領域でECL回路,CMOS回路,バイポーラ・
CMOS回路を構成し、これらの回路を同一の電位レベルの
電源によつて動作させる。
As shown in FIG. 1, in one embodiment of the present invention, a semiconductor substrate
101 has a region 102 which is a logic block composed of an ECL circuit, a region 103 which is a logic block composed of a bipolar CMOS circuit, and a region 104 which is a logic block composed of a CMOS. is doing. On this semiconductor chip, the bipolar transistor and the MO
It is possible to form an S-transistor. A bipolar transistor is formed in the ECL region 102, and no MOS transistor is formed. On the contrary, in the CMOS area 104, M
The OS transistor is formed, and the bipolar transistor is not formed. Both bipolar transistors and MOS transistors are formed in the bipolar CMOS region 103. In each area, ECL circuit, CMOS circuit, bipolar
A CMOS circuit is configured, and these circuits are operated by power supplies having the same potential level.

上記説明では、ECL領域にはバイポーラトランジスタの
みを形成し、CMOS領域にはMOSトランジスタのみを形成
したが、チツプ全体にバイポーラトランジスタとMOSト
ランジスタをある割合で形成し、チツプのどの領域にお
いても、バイポーラLogicとCMOS Logicのどちらをも構
成可能とする事もできる。また、上記ECL,CMOS,バイポ
ーラ・CMOS回路の他に、I2L(Integrated Injection Lo
gic)やNTL(Non Threshold Logic)など他の種類の論
理回路を形成することもできる。
In the above description, only the bipolar transistor was formed in the ECL region, and only the MOS transistor was formed in the CMOS region.However, a bipolar transistor and a MOS transistor are formed in a certain proportion in the entire chip, and in any region of the chip, the bipolar transistor is formed. Both Logic and CMOS Logic can be configurable. In addition to the above ECL, CMOS, and bipolar / CMOS circuits, I 2 L (Integrated Injection Lo
It is also possible to form other types of logic circuits such as gic) and NTL (Non Threshold Logic).

本発明の一実施例によつて、第1の問題点であるインタ
フエースにかかるデイレイ時間を小さくする事ができる
事を第3図を用いて説明する。第3図(a)の従来技術
によれば、ECLの内部信号がバイポーラ・CMOS内部回路
に受信されるまでに、第3図(a)に図示の如く、出力
バツフア308,レシーバ307,レベル変換回路(A)306,バ
ツフア305を介して信号を伝搬する。そして、特に出力
バツフア308とレベル変換回路(A)306がデイレイの大
きな要因である事は前記した通りである。
It will be described with reference to FIG. 3 that the delay time required for the interface, which is the first problem, can be reduced according to one embodiment of the present invention. According to the prior art of FIG. 3 (a), the output buffer 308, the receiver 307, the level conversion, as shown in FIG. 3 (a), before the ECL internal signal is received by the bipolar CMOS internal circuit. A signal is propagated through the circuit (A) 306 and the buffer 305. As described above, the output buffer 308 and the level conversion circuit (A) 306 are the major causes of the delay.

一方、本発明の一実施例による信号の伝搬経路を第3図
(b)にて考えてみる。本発明の一実施例では、ECL内
部回路およびバイポーラ・CMOS回路は同一半導体基板内
にある。図では、ECL回路の部分をECLブロツク304,バイ
ポーラ・CMOS回路の部分をバイポーラ・CMOSブロツク30
3と記す。ECLブロツクからバイポーラ・CMOSブロツクへ
信号を伝達する場合、同一チツプ上である為に入出力バ
ツフアは不要である。従つて、第3図(a)の出力バツ
フア308および入力バツフア305が不要となり、第3図
(b)にては、レシーバ307およびレベル変換回路
(B)のみによつて信号を伝達する事ができる。したが
つて、従来技術に比較して、本発明の一実施例では、出
力バツフアおよび入力バツフアのデイレイをなくする事
ができる。
On the other hand, consider a signal propagation path according to an embodiment of the present invention with reference to FIG. In one embodiment of the present invention, the ECL internal circuit and the bipolar CMOS circuit are on the same semiconductor substrate. In the figure, the ECL circuit part is the ECL block 304, and the bipolar CMOS circuit part is the bipolar CMOS block 30.
Write 3. When transmitting a signal from the ECL block to the bipolar CMOS block, the input / output buffer is not necessary because it is on the same chip. Therefore, the output buffer 308 and the input buffer 305 of FIG. 3 (a) are unnecessary, and the signal can be transmitted only by the receiver 307 and the level conversion circuit (B) in FIG. 3 (b). it can. Therefore, in comparison with the prior art, in the embodiment of the present invention, the delay of the output buffer and the input buffer can be eliminated.

また、従来技術のレベル変換回路(A)と本発明の一実
施例にて用いるレベル変換回路(B)を比較してみる
と、レベル変換回路(B)の方がレベル変換回路(A)
よりデイレイ時間が小さくなる。このことを以下説明す
る。ECL信号をバイポーラ・CMOS信号にレベル変換する
場合、信号のレベルシフトと増幅という2つの変換動作
をする必要がある。従来技術の場合、第3図(a)311
の出力信号であるECL信号は、VOH1=−0.9V,VOL1=−1.
75Vの論理レベルの信号であり、信号の中間電位をVth
するとVth1=−1.325Vである。また、第3図(a)310
の内部信号であるバイポーラ・CMOS信号は、VOH2=+5
V,VOL2=0Vの論理レベルの信号であり、信号の中間電位
をVthとするとVth2=+2.5Vである。したがつて、レベ
ル変換回路(A)306は、 ΔVth=Vth2−Vth1 =3.825V のレベルシフトと、 の信号増幅を行なわなければならない。一方、本発明に
よる第3図(b)のレベル変換回路(B)309において
は、バイポーラ・CMOS回路は、ECL回路と同一の電位レ
ベルで動作する。よつて、バイポーラ・CMOS信号は
VOH2′=0V,VOL2′=−5.2V,Vth2′=−2.6Vとなり、結
局レベル変換回路(B)は、 ΔVth′=Vth2′−Vth1 =1.275V のレベルシフトと、 の信号増幅を行うのみでよい。従来技術と比較すると、
信号増幅の絶対量はほぼ同じであるが、レベルシスト量
は従来技術の約1/3でよい。このことによつて、レベル
変換回路(B)のデイレイはレベル変換回路(A)の約
1/5となる。以上の如く、信号伝搬に介在する入出力バ
ツフアの除去と、レベル変換回路の高速化の2点が本発
明の一実施例により可能となり、従来技術の第1の問題
点であるインタフエースにかかるデイレイ時間を小さく
する事が可能となる。
Further, comparing the level conversion circuit (A) of the prior art with the level conversion circuit (B) used in the embodiment of the present invention, the level conversion circuit (B) is the level conversion circuit (A).
The delay time becomes smaller. This will be described below. When converting the level of the ECL signal into a bipolar CMOS signal, it is necessary to perform two conversion operations of level shifting and amplification of the signal. In the case of the conventional technology, FIG.
The ECL signal which is the output signal of V OH1 = -0.9 V, V OL1 = -1.
The signal has a logic level of 75 V, and V th1 = −1.325 V when the intermediate potential of the signal is V th . Also, FIG. 3 (a) 310
The internal signal of the bipolar CMOS signal is V OH2 = + 5
This is a signal having a logic level of V, V OL2 = 0 V, and V th2 = + 2.5 V when the intermediate potential of the signal is V th . Therefore, the level conversion circuit (A) 306 performs the level shift of ΔV th = V th2 −V th1 = 3.825 V, Signal amplification must be performed. On the other hand, in the level conversion circuit (B) 309 of FIG. 3B according to the present invention, the bipolar CMOS circuit operates at the same potential level as the ECL circuit. Therefore, bipolar CMOS signals are
V OH2 ′ = 0 V, V OL2 ′ = −5.2 V, V th2 ′ = −2.6 V, and the level conversion circuit (B) eventually has a level shift of ΔV th ′ = V th2 ′ −V th1 = 1.275 V, It is only necessary to amplify the signal of. Compared with the conventional technology,
The absolute amount of signal amplification is almost the same, but the level cyst amount may be about 1/3 of the conventional technique. As a result, the delay of the level conversion circuit (B) is about the same as that of the level conversion circuit (A).
It becomes 1/5. As described above, the removal of the input / output buffer intervening in the signal propagation and the speedup of the level conversion circuit are made possible by the embodiment of the present invention, and the interface which is the first problem of the prior art is concerned. It is possible to reduce the day time.

次に、従来技術の第2の問題点である実装効率の問題
が、本発明によつて解決される事は自明であるが、以下
簡単に説明を行う。従来技術では、前記した如く、シス
テムの最適化から複数の種類の論理回路を用いる必要が
ある場合、これら異なる種類の論理回路は第2図に示す
様に、それぞれ別々の半導体基板となる。これら、別々
のチツプはそれぞれパツケージングし、ボード上にて相
互に接続する。一方、本発明の一実施例では、異なる種
類の論理回路を第1図に示す様に、単一の半導体基板に
集積化して実現する為、異なる論理回路の相互接続はオ
ンチツプで行う事ができる。したがつて、実装効率は飛
躍的に向上する。
Next, although it is obvious that the present invention solves the second problem of the conventional technique, that is, the problem of mounting efficiency, a brief description will be given below. In the prior art, as described above, when it is necessary to use a plurality of types of logic circuits due to system optimization, these different types of logic circuits are separate semiconductor substrates, as shown in FIG. These separate chips are each packaged and connected to each other on the board. On the other hand, in the embodiment of the present invention, different kinds of logic circuits are integrated and realized on a single semiconductor substrate as shown in FIG. 1, so that different logic circuits can be interconnected on-chip. . Therefore, the implementation efficiency is dramatically improved.

以下、本発明の具体的な実施例を第4図,第5図及び第
6図により説明する。
Specific embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 4, 5, and 6.

第4図において、401,402,403は半導体基板内部の論理
回路ブロツクを示し、それぞれ異なる論理レベルを有す
る複数種類の論理回路によつて構成されている。一例を
あげれば、401はECL回路によつて構成された論理回路ブ
ロツク、402はバイポーラ・CMOS回路によつて構成され
た論理回路ブロツク、403はCMOS回路によつて構成され
た論理回路ブロツクである。もちろん、論理回路の種類
や論理ブロツクの数は、上記一例の場合だけでなく、種
々の論理回路と論理回路ブロツクの数をとり得る。上記
一例において、404は各ブロツク間のインタフエース回
路である。論理回路ブロツク401と402の間のインタフエ
ース回路と論理回路ブロツク402と403の間のインタフエ
ース回路およびインタフエースする方向によつて、これ
らの回路は異なつたものとなる。405はチツプの内部と
外部をインタフエースする入出力回路である。図中には
4つの回路405が示されているが、これら4つの回路は
構成やその入出力信号レベル等が異なるものである。40
6は第1の電源電位の第1の電源線であり、この一例に
おいては、VCC=+5Vである。407は第3の電源電位の第
3の電源線であり、GND=0Vである。408は第2の電源電
位の第2の電源線であり、VEE=−5.2Vである。409は半
導体基板(チツプ)の内部を示し、上記論理回路ブロツ
クおよび各種インタフエース回路はすべて同一チツプ上
409の中にある。また、論理回路ブロツク401,402,403内
の内部回路はすべて第3の電位の電源線407と第2の電
位の電源線408に接続され、すなわち、GND(=0V)とV
EE(=−5.2V)の間で動作する。また、ブロツク間のイ
ンタフエース回路404も内部回路と同様に電源線407と40
8とに接続される。一方、チツプの内部と外部をインタ
フエースする回路405は、ECL信号(VOH=−0.9V,VOL
−1.75V)を入出力する回路は電源線407と408に接続さ
れ、TTL信号(VOH=+3V,VOL=0V)やCMOS信号(VOH
+5V,VOL=0V)を入出力する回路は電源線406と407に接
続される。この実施例においては、論理ブロツク回路40
1,402,403はそれぞれECL,バイポーラ・CMOS,CMOSと異な
る種類の論理回路によつて構成されているにも拘らず、
同一の電位の電源によつて動作する。したがつて、各ブ
ロツク間のインタフエースを高速化する点は前述した通
りである。
In FIG. 4, reference numerals 401, 402, and 403 denote logic circuit blocks inside the semiconductor substrate, which are composed of a plurality of types of logic circuits each having a different logic level. As an example, 401 is a logic circuit block configured by an ECL circuit, 402 is a logic circuit block configured by a bipolar CMOS circuit, and 403 is a logic circuit block configured by a CMOS circuit. . Of course, the types of logic circuits and the number of logic blocks are not limited to those in the above example, and various logic circuits and the number of logic circuit blocks can be taken. In the above example, 404 is an interface circuit between blocks. These circuits are different depending on the interface circuit between the logic circuit blocks 401 and 402, the interface circuit between the logic circuit blocks 402 and 403, and the direction of the interface. An input / output circuit 405 interfaces the inside and the outside of the chip. Although four circuits 405 are shown in the figure, these four circuits have different configurations and their input / output signal levels. 40
Reference numeral 6 is a first power supply line having a first power supply potential, and in this example, V CC = + 5V. Reference numeral 407 is a third power supply line having a third power supply potential, and GND = 0V. 408 is a second power supply line of the second power supply potential, and V EE = −5.2V. Reference numeral 409 indicates the inside of the semiconductor substrate (chip), and the above logic circuit block and various interface circuits are all on the same chip.
It's in 409. Further, all the internal circuits in the logic circuit blocks 401, 402, 403 are connected to the power source line 407 of the third potential and the power source line 408 of the second potential, that is, GND (= 0V) and V
It operates between EE (= -5.2V). The interface circuit 404 between the blocks is also connected to the power supply lines 407 and 40 like the internal circuit.
Connected to 8 and. On the other hand, the circuit 405 for interfacing the inside and the outside of the chip uses the ECL signal (V OH = −0.9V, V OL =
Circuit to input and output -1.75 V) is connected to the power supply line 407 and 408, TTL signal (V OH = + 3V, V OL = 0V) and a CMOS signal (V OH =
A circuit for inputting / outputting + 5V, V OL = 0V) is connected to power supply lines 406 and 407. In this embodiment, logic block circuit 40
Although 1,402 and 403 are respectively configured by ECL, bipolar CMOS, and a logic circuit of a different type from CMOS,
It operates with power supplies of the same potential. Therefore, the point of accelerating the interface between blocks is as described above.

本実施例によれば、異なる種類の論理回路を高速にイン
タフエースできる他、異なる種類の論理回路を高密度実
装する事ができる。また、本実施例の場合には内部論理
回路を負電源で動作している。したがつて、チツプ外部
とのインタフエースを考えた場合、ECL信号のインタフ
エースを高速化できる電源構成であるといえる。
According to this embodiment, different types of logic circuits can be interfaced at high speed, and different types of logic circuits can be mounted at high density. Further, in the case of this embodiment, the internal logic circuit is operated by the negative power supply. Therefore, when considering the interface with the outside of the chip, it can be said that the power supply configuration can speed up the interface of the ECL signal.

次に第5図に示した実施例は、内部論理回路を正電源で
動作する場合である。論理回路ブロツク401,402,403内
の内部回路および各論理ブロツク間インタフエース回路
404はすべて第1の電位の電源線406と第3の電位の電源
線407に接続される。また、チツプ外部とのインタフエ
ース回路405は、TTLおよびCMOS信号を入出力する回路は
電源線406と407に接続され、ECL信号を入出力する回路
は電源線407と408に接続される。本実施例において、異
なる論理回路間のインタフエースが高速化され、実装効
率が向上する効果は上記、負電源動作の一例の場合と同
様であるが、本実施例においては、内部回路を正の電源
で動作する点に特徴がある。この実施例の場合にはTTL
およびCMOS信号のインタフエースを高速化できる電源構
成である。
Next, the embodiment shown in FIG. 5 is a case where the internal logic circuit is operated by a positive power supply. Internal circuit in logic circuit block 401, 402, 403 and interface circuit between each logic block
All of 404 are connected to a power supply line 406 having a first potential and a power supply line 407 having a third potential. In the interface circuit 405 with the outside of the chip, circuits for inputting / outputting TTL and CMOS signals are connected to power supply lines 406 and 407, and circuits for inputting / outputting ECL signals are connected to power supply lines 407 and 408. In this embodiment, the effect of speeding up the interface between different logic circuits and improving the mounting efficiency is the same as in the case of the example of the negative power supply operation described above. It is characterized in that it operates on a power supply. In this example, TTL
It is a power supply configuration that can speed up the interface of CMOS signals.

他の実施例を第6図に示す。Another embodiment is shown in FIG.

本実施例においては、上記2つの実施例で用いた第1,第
2,第3の電位とは異なる電位の第4,第5の電位の電源線
を設ける。第4の電位は、例えばVCC′=+3V、第5の
電位はVEE′=−2Vである。本実施例においては、論理
回路ブロツク401,402,403内の内部回路およびブロツク
間のインタフエース回路404さらにチツプ外部とのイン
タフエース回路405がすべて電源線601および602に接続
される。本実施例は、上記2つの実施例と異なり、TTL
とCMOSおよびECL信号が混在する中間電位レベルで内部
回路が動作する点に特徴がある。本実施例の効果は、上
記2つの実施例に共通の効果の他に、チツプ外部とのイ
ンタフエースにおいて、TTL,CMOSおよびECL信号のどの
レベルの信号とも、高速なインタフエースが可能であ
る。その理由は、内部回路が中間電位レベルで動作する
為、外部入出力信号と内部回路信号との電位レベル差が
小さく、チツプ外部とチツプ内部のインタフエースの際
の信号のレベルシフト量が小さい事にある。
In the present embodiment, the first and the first used in the above two embodiments are used.
Power supply lines of fourth and fifth potentials different from the second and third potentials are provided. The fourth potential is, for example, V CC ′ = + 3V, and the fifth potential is V EE ′ = −2V. In this embodiment, the internal circuits in the logic circuit blocks 401, 402, 403 and the interface circuit 404 between the blocks and the interface circuit 405 with the outside of the chip are all connected to the power supply lines 601 and 602. This embodiment differs from the above two embodiments in that the TTL
It is characterized in that the internal circuit operates at an intermediate potential level where CMOS and ECL signals are mixed. In addition to the effects common to the above-described two embodiments, the effects of the present embodiment enable high-speed interface with any level of TTL, CMOS, and ECL signals in the interface with the outside of the chip. The reason is that the internal circuit operates at the intermediate potential level, so the potential level difference between the external input / output signal and the internal circuit signal is small, and the level shift amount of the signal at the interface between the outside of the chip and the inside of the chip is small. It is in.

次に、第4図に示す負電源動作の実施例を例にとり、ブ
ロツク1…401,ブロツク2…402,ブロツク3…403、に
使う内部回路の具体的な一実施例を第9図に示し、また
第4図に示すブロツク間インタフエース回路404の具体
的な一実施例を第10図に示す。第9図に示した様に、ブ
ロツク401〜403の一実施例は、それぞれECL論理回路,
バイポーラCMOS論理回路,CMOS論理回路であり、回路構
成は図中に示す通りである。これらの論理回路を少なく
とも一つ用いて、各ブロツク内で所望の論理演算を行
う。各ブロツク間はブロツク間インタフエース404で結
ばれる。また、各ブロツク内の内部回路は共通の電位を
有する電源線407と、407とは異なる共通の電位を有する
電源線408によつて動作する。
Next, taking a negative power source operation example shown in FIG. 4 as an example, FIG. 9 shows a concrete example of an internal circuit used for the blocks 1 ... 401, blocks 2 ... 402, and blocks 3 ... 403. FIG. 10 shows a specific embodiment of the inter-block interface circuit 404 shown in FIG. As shown in FIG. 9, one embodiment of the blocks 401 to 403 is an ECL logic circuit,
It is a bipolar CMOS logic circuit or CMOS logic circuit, and the circuit configuration is as shown in the figure. At least one of these logic circuits is used to perform a desired logic operation in each block. The blocks are connected by an inter-block interface 404. The internal circuit in each block operates by a power supply line 407 having a common potential and a power supply line 408 having a common potential different from 407.

第10図には、該実施例におけるブロツク401とブロツク4
02を結ぶインタフエース回路の一実施例を示す。インタ
フエース回路111はECL信号をバイポーラ・CMOS信号に変
換し、インタフエース回路112はバイポーラ・CMOS信号
をECL信号に変換する。本実施例回路によつて、ブロツ
ク401と402間の高速インタフエースが可能となる。
FIG. 10 shows blocks 401 and 4 in the embodiment.
An example of the interface circuit connecting 02 is shown. The interface circuit 111 converts the ECL signal into a bipolar CMOS signal, and the interface circuit 112 converts the bipolar CMOS signal into an ECL signal. The circuit of this embodiment enables a high-speed interface between the blocks 401 and 402.

また、もちろん上記内部回路およびインタフエース回路
は具体的な実施例の一例であつて、内部回路およびイン
タフエース回路は本実施例回路と異なつた回路構成でも
実現可能である。また、第4図に示す負電源動作の実施
例と第5図に示す正電源動作の実施例を混在した電源構
成システムも考えられる。すなわち、チツプ内部のある
領域は負電源動作の電源システムを用い、他の領域は正
電源動作の電源システムを用いる。この実施例の効果
は、チツプ外部とのインタフエースを最も高速化できる
点にある。つまり、TTL,CMOSレベルの外部信号は正電源
動作領域で演算処理し、再びTTL,CMOS信号としてチツプ
外部に出力する。また、ECLレベルの外部信号は負電源
動作領域で演算処理し、再びECL信号としてチツプ外部
に出力する。このようにする事で、TTL,CMOS,ECLのいず
れの信号レベルに対しても高速なインタフエースが可能
となる。
Of course, the internal circuit and the interface circuit described above are examples of specific embodiments, and the internal circuit and the interface circuit can be realized by a circuit configuration different from that of the circuit of this embodiment. Further, a power supply configuration system in which the negative power supply operation example shown in FIG. 4 and the positive power supply operation example shown in FIG. That is, a certain area inside the chip uses a power supply system operating with a negative power supply, and another area uses a power supply system operating with a positive power supply. The effect of this embodiment is that the speed of the interface with the outside of the chip can be maximized. That is, the TTL and CMOS level external signals are processed in the positive power supply operating region and output again as TTL and CMOS signals to the outside of the chip. The ECL level external signal is processed in the negative power supply operating region and is output again as an ECL signal to the outside of the chip. By doing so, high-speed interface is possible for any signal level of TTL, CMOS, and ECL.

本発明の各実施例によれば、ワンチツプ上にあらゆる種
類の論理回路を実現する事ができる。
According to the embodiments of the present invention, it is possible to realize all kinds of logic circuits on one chip.

従つて、第7図に示す様に、それぞれの論理回路で最適
に設計した種々の論理ブロツクを含む少なくとも1つの
マクロセルをマクロセルライブラリイとして登録・保管
しておき、必要なマクロセルをマクロセルライブラリイ
の中から自由に選択する事ができる。従来の技術では、
例えばCMOSチツプならCMOSのマクロセルライブラリイの
中からのみ、セルを選択するので選択の自由度が小さか
つた。しかし、本発明の実施例はあらゆる論理回路の中
からマクロセルを選択する事ができるので、選択の自由
度が大きくなる。第8図のグラフの横軸はゲート数,縦
軸は遅延時間を示し、CMOS,バイポーラ・CMOS,ECLを例
にとつて、その性能領域を表わしている。CMOSのマクロ
セルは801で示した低速・高集積領域をカバーし、ECLマ
クロセルは803で示した高速・低集積領域をカバーし、
バイポーラ・CMOSマクロセルはCOSとECLの中間の性能領
域をカバーしている。従来技術では、例えばCMOSチツプ
の場合、801の性能領域からのみマクロセルを選択す
る。したがつて、出来上るチツプもこの性能領域に限ら
れたものとなる。一方、本発明においては、801,802,80
3のどの性能領域からでもマクロセルを選択する事がで
きる。すなわち、破線で示した広い性能領域804の中か
ら自由にマクロセルを選択する事ができる。したがつ
て、出来上るチツプも804に対応した高性能領域をカバ
ーしたものが実現可能となる。
Therefore, as shown in FIG. 7, at least one macro cell including various logic blocks optimally designed for each logic circuit is registered and stored as a macro cell library, and necessary macro cells are selected from the macro cell library. You can choose freely. With conventional technology,
For example, in the case of a CMOS chip, cells are selected only from the CMOS macrocell library, so the degree of freedom in selection is small. However, according to the embodiment of the present invention, the macro cell can be selected from all logic circuits, so that the degree of freedom of selection is increased. The horizontal axis of the graph in FIG. 8 shows the number of gates, and the vertical axis shows the delay time, showing the performance region of CMOS, bipolar CMOS, and ECL as an example. The CMOS macro cell covers the low speed / high integration area indicated by 801 and the ECL macro cell covers the high speed / low integration area indicated by 803.
Bipolar CMOS macrocells cover the performance range between COS and ECL. In the conventional technology, for example, in the case of a CMOS chip, a macro cell is selected only from the performance area of 801. Therefore, the resulting chips are also limited to this performance area. On the other hand, in the present invention, 801, 802, 80
Macro cells can be selected from any of the three performance areas. That is, the macro cell can be freely selected from the wide performance area 804 indicated by the broken line. Therefore, it is possible to realize a chip that covers the high-performance area corresponding to the 804.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、デイレイ時間が小さく、また実装効率
が高い半導体集積回路装置を得ることができる。
According to the present invention, a semiconductor integrated circuit device having a short delay time and high mounting efficiency can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例のチツプ概念図、第2図は従
来例の概念図、第3図は本発明の実施例の効果の説明
図、第4図,第5図,第6図,第9図及び第10図は本発
明の一実施例の電源システム構成図、第7図は本発明の
実施例の設計方式の説明図、第8図は本発明効果の説明
図である。 101……チツプ、102〜104……論理ブロツク、105……ブ
ロツク間インタフエース、201〜204……各種論理チツ
プ、205……チツプ間インタフエース、301,302……チツ
プ、303,304……論理ブロツク、305〜309……インタフ
エース回路、310,311……内部回路、401〜403……論理
ブロツク、404,405……インタフエース回路、406〜408
……電源線、409……チツプ内部、601,602……電源線、
701……マクロセルライブラリイ、702……チツプ、703
……論理ブロツク、801〜803……各論理マクロセル性能
領域。
FIG. 1 is a conceptual diagram of a chip of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a conceptual diagram of a conventional example, and FIG. 3 is an explanatory view of the effect of the embodiment of the present invention, FIGS. 4, 5, and 6. FIG. 9, FIG. 9 and FIG. 10 are power supply system configuration diagrams of an embodiment of the present invention, FIG. 7 is an explanatory diagram of a design system of the embodiment of the present invention, and FIG. 8 is an explanatory diagram of effects of the present invention. . 101 ... Chip, 102-104 ... Logical block, 105 ... Block-to-block interface, 201-204 ... Various logical chips, 205 ... Chip-to-chip interface, 301,302 ... Chip, 303,304 ... Logic block, 305 ~ 309 ... interface circuit, 310, 311 ... internal circuit, 401 to 403 ... logic block, 404, 405 ... interface circuit, 406 to 408
...... Power supply line, 409 …… Inside the chip, 601,602 …… Power supply line,
701 ... Macrocell Library, 702 ... Chip, 703
…… Logic block, 801-803 …… Each logic macrocell performance area.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/06 321 J ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 27/06 321 J

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】外部から信号を入力する入力回路ブロック
と、 外部へ信号を出力する出力回路ブロックと、 電界効果トランジスタからなる第1の回路ブロックと、 バイポーラトランジスタと電界効果トランジスタの複合
回路からなる第2の回路ブロックと、 バイポーラトランジスタからなる第3の回路ブロックと
を同一半導体基板上に形成し、上記第1の回路ブロック
と上記第2の回路ブロックと上記第3の回路ブロックに
は同一の動作電源を供給し、上記第1の回路ブロックと
上記第2の回路ブロックと上記第3の回路ブロックとの
相互間には1方向性の信号レベル変換部を有することを
特徴とする半導体集積回路装置。
1. An input circuit block for inputting a signal from the outside, an output circuit block for outputting a signal to the outside, a first circuit block including a field effect transistor, and a composite circuit of a bipolar transistor and a field effect transistor. A second circuit block and a third circuit block composed of a bipolar transistor are formed on the same semiconductor substrate, and the first circuit block, the second circuit block and the third circuit block are the same. A semiconductor integrated circuit which supplies operating power and has a unidirectional signal level conversion unit between the first circuit block, the second circuit block and the third circuit block. apparatus.
【請求項2】特許請求の範囲第1項において、 上記動作電源は、3つの異なる電源電位線によって、供
給されることを特徴とする半導体集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the operating power supply is supplied by three different power supply potential lines.
【請求項3】特許請求の範囲第2項において、 上記3つの異なる電源電位線は、電位の高い第1の電位
線と、電位の低い第2の電位線と、上記第1の電位線と
上記第2の電位線との間の電位である第3の電位線とか
らなることを特徴とする半導体集積回路装置。
3. The power supply potential line according to claim 2, wherein the three different power supply potential lines are a first potential line having a high potential, a second potential line having a low potential, and the first potential line. A semiconductor integrated circuit device comprising: a third potential line which is a potential between the second potential line and the second potential line.
【請求項4】特許請求の範囲第3項において、 上記入力回路と上記出力回路は上記第1の電位線と上記
第3の電位線によって電源が供給され、上記内部回路は
上記第1の電位線と第2の電位線によって電源が供給さ
れることを特徴とする半導体集積回路装置。
4. The input circuit and the output circuit according to claim 3, wherein power is supplied by the first potential line and the third potential line, and the internal circuit is the first potential line. A semiconductor integrated circuit device characterized in that power is supplied by a line and a second potential line.
【請求項5】特許請求の範囲第3項において、 上記入力回路と上記出力回路と上記内部回路は上記第1
の電位線と第2の電位線によって電源が供給されること
を特徴とする半導体集積回路装置。
5. The input circuit, the output circuit, and the internal circuit according to claim 3, wherein the first circuit is the first circuit.
A semiconductor integrated circuit device characterized in that power is supplied by the second potential line and the second potential line.
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US5369309A (en) * 1991-10-30 1994-11-29 Harris Corporation Analog-to-digital converter and method of fabrication
DE19633715C1 (en) * 1996-08-21 1998-03-26 Siemens Ag System voltages for ECL-compatible input and output circuits in CMOS technology

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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