JPH07102382A - 無電解メッキ用の触媒槽 - Google Patents
無電解メッキ用の触媒槽Info
- Publication number
- JPH07102382A JPH07102382A JP26554493A JP26554493A JPH07102382A JP H07102382 A JPH07102382 A JP H07102382A JP 26554493 A JP26554493 A JP 26554493A JP 26554493 A JP26554493 A JP 26554493A JP H07102382 A JPH07102382 A JP H07102382A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- catalyst
- fabric
- electroless plating
- woven
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 連続式で織編物に金属メッキを行うための触
媒槽を提供する。 【構成】 触媒槽の水平な底面に対し、織編物の入口側
及び出口側槽壁を外へ４５〜６０度傾斜させ、平行した
２本のローラーを槽内の底面上部に配置し、槽を上下可
動にし更には、該槽の外周に触媒液温調整用の槽を設け
て、二重槽とする。
媒槽を提供する。 【構成】 触媒槽の水平な底面に対し、織編物の入口側
及び出口側槽壁を外へ４５〜６０度傾斜させ、平行した
２本のローラーを槽内の底面上部に配置し、槽を上下可
動にし更には、該槽の外周に触媒液温調整用の槽を設け
て、二重槽とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】無電解メッキ法によって、連続式
で織編物に金属メッキを行うための触媒槽に関するもの
である。
で織編物に金属メッキを行うための触媒槽に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】非導電性の有機繊維からなる織編物に無
電解メッキを行うには、金属触媒を付与しない限り、金
属メッキ膜の形成は不可能である。一般的に、非導電性
のプラスチック、繊維、紙等に行われる無電解メッキ用
の触媒付与には次の方法がある。 塩化スズ液 → 塩化パラジウム液の２浴法 塩化パラジウムと塩化スズの共溶した液の一浴法 、とも触媒槽は、メッキ工程の最前部に設置され
る。触媒付与には、素材によって大略定められた浸漬時
間が必要なため、槽の型状及び容量はメッキ工程に使用
される水洗槽、活性化槽と殆ど同じ形状のものが使われ
る。又、触媒液中での織物の移行は水洗槽等と同様、槽
内に備えた一本の案内ローラーの下面を通過させてい
る。
電解メッキを行うには、金属触媒を付与しない限り、金
属メッキ膜の形成は不可能である。一般的に、非導電性
のプラスチック、繊維、紙等に行われる無電解メッキ用
の触媒付与には次の方法がある。 塩化スズ液 → 塩化パラジウム液の２浴法 塩化パラジウムと塩化スズの共溶した液の一浴法 、とも触媒槽は、メッキ工程の最前部に設置され
る。触媒付与には、素材によって大略定められた浸漬時
間が必要なため、槽の型状及び容量はメッキ工程に使用
される水洗槽、活性化槽と殆ど同じ形状のものが使われ
る。又、触媒液中での織物の移行は水洗槽等と同様、槽
内に備えた一本の案内ローラーの下面を通過させてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】無電解メッキに使われ
る触媒は、貴金属の分類に属する金、白金、銀、パラジ
ウム等でいずれも高価である。市販されている触媒は、
塩化パラジウムと塩化スズの共存する塩酸酸性溶液で、
プラスチック、紙、織物等に無電解メッキを施す場合に
使われている。無電解メッキの加工費を下げるには、触
媒を合理的に少量使用する方策も一つの課題である。
る触媒は、貴金属の分類に属する金、白金、銀、パラジ
ウム等でいずれも高価である。市販されている触媒は、
塩化パラジウムと塩化スズの共存する塩酸酸性溶液で、
プラスチック、紙、織物等に無電解メッキを施す場合に
使われている。無電解メッキの加工費を下げるには、触
媒を合理的に少量使用する方策も一つの課題である。
【０００４】又、濃塩酸水溶液で腐蝕が激しいため、触
媒槽の材質も耐酸性を要する。被メッキ物に触媒を適性
量付与するには、最適所要時間と温度を管理する必要が
ある。一般的には、触媒液に浸漬後、水洗迄に１〜２分
間が適性とされている。極端に時間が短いと、被メッキ
物への吸着が弱く水洗によって触媒が被メッキ物から洗
い去られてメッキ斑になる。他方、長時間浸漬すると過
剰に触媒が吸着されるので経済的に不利であり、その上
溶液中のパラジウム濃度が低下するので、触媒性能の劣
化が早まるという問題がある。又、塩化パラジウム液は
表面張力が大きいため、繊維と繊維の交絡した微細な空
隙に浸入し難いという問題がある。上記した通り、無電
解メッキ用触媒槽には多くの課題があり触媒槽の改良が
望まれている。
媒槽の材質も耐酸性を要する。被メッキ物に触媒を適性
量付与するには、最適所要時間と温度を管理する必要が
ある。一般的には、触媒液に浸漬後、水洗迄に１〜２分
間が適性とされている。極端に時間が短いと、被メッキ
物への吸着が弱く水洗によって触媒が被メッキ物から洗
い去られてメッキ斑になる。他方、長時間浸漬すると過
剰に触媒が吸着されるので経済的に不利であり、その上
溶液中のパラジウム濃度が低下するので、触媒性能の劣
化が早まるという問題がある。又、塩化パラジウム液は
表面張力が大きいため、繊維と繊維の交絡した微細な空
隙に浸入し難いという問題がある。上記した通り、無電
解メッキ用触媒槽には多くの課題があり触媒槽の改良が
望まれている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決したもので、槽の水平な底面に対し、織編物の入口
側及び出口側槽壁を外へ４５〜６０度傾斜させ、平行し
た２本のローラーを槽内の底面上部に配置し、槽を上下
可動にしたことを特徴とする無電解メッキ用の触媒槽に
関する。更には、該槽の外周に触媒液温調整用の槽を設
けて、二重槽としたことを特徴とする無電解メッキ用の
触媒槽に関するものである。
解決したもので、槽の水平な底面に対し、織編物の入口
側及び出口側槽壁を外へ４５〜６０度傾斜させ、平行し
た２本のローラーを槽内の底面上部に配置し、槽を上下
可動にしたことを特徴とする無電解メッキ用の触媒槽に
関する。更には、該槽の外周に触媒液温調整用の槽を設
けて、二重槽としたことを特徴とする無電解メッキ用の
触媒槽に関するものである。
【０００６】触媒槽には必要最小限の触媒液を入れ、織
編物を連続して浸漬通過させる。織編物に持ち出されて
減少した量は、空気に触れないよう密封容器に入れた新
しい触媒液を定量ポンプで供給する。これにより、空気
に長時間触れることがなく、常に新しい触媒液が織編物
に付与できる。小容量の触媒液で、織編物に必要な浸漬
時間を維持するには、織編物の入口側及び出口側の槽壁
は、槽の水平面に対し、外へ４５〜６０度傾斜させるこ
とにより織編物の入口、出口を鈍角に維持できるので、
小容量の槽にもかかわらず、浸漬時間を長く保つことが
できる。塩化パラジウム触媒は空気中の槽壁に繰り返し
触れると酸化されて、黒褐色粒子状物を析出し、これが
被メッキ物の表面に付着すると粗面化すると共に、金属
光沢を失い欠点として残る。本発明では織編物と槽壁と
の接触を避けることができるので、黒褐色粒子状物の析
出を防ぐことができる。
編物を連続して浸漬通過させる。織編物に持ち出されて
減少した量は、空気に触れないよう密封容器に入れた新
しい触媒液を定量ポンプで供給する。これにより、空気
に長時間触れることがなく、常に新しい触媒液が織編物
に付与できる。小容量の触媒液で、織編物に必要な浸漬
時間を維持するには、織編物の入口側及び出口側の槽壁
は、槽の水平面に対し、外へ４５〜６０度傾斜させるこ
とにより織編物の入口、出口を鈍角に維持できるので、
小容量の槽にもかかわらず、浸漬時間を長く保つことが
できる。塩化パラジウム触媒は空気中の槽壁に繰り返し
触れると酸化されて、黒褐色粒子状物を析出し、これが
被メッキ物の表面に付着すると粗面化すると共に、金属
光沢を失い欠点として残る。本発明では織編物と槽壁と
の接触を避けることができるので、黒褐色粒子状物の析
出を防ぐことができる。
【０００７】更に、織編物を触媒液に浸漬させるための
押圧案内ローラーは、平行した２本のローラーを槽内の
底面上部に配置したもので、配置の一例として、２枚の
三角形板の底辺の両角間に設けた回転可能な平行した２
本のローラーを設け、三角形の頂点の角間に荷重用棒を
備えたものを示すことができる。これにより、一本の案
内ローラーの下面を通過させるよりも、液深が浅くても
織編物内への浸透がよい。
押圧案内ローラーは、平行した２本のローラーを槽内の
底面上部に配置したもので、配置の一例として、２枚の
三角形板の底辺の両角間に設けた回転可能な平行した２
本のローラーを設け、三角形の頂点の角間に荷重用棒を
備えたものを示すことができる。これにより、一本の案
内ローラーの下面を通過させるよりも、液深が浅くても
織編物内への浸透がよい。
【０００８】触媒液の表面張力は温度が高い程低下し
て、浸透はよくなるが、必要以上に加温すると塩酸ガス
の発生及び織編物に過剰の触媒が付与され、メッキ槽へ
余分の触媒が持ち込まれ、メッキ槽内にメッキ屑が多く
発生し極端な場合は、メッキ液の分解を誘発する。従っ
て、触媒液の温度を２０〜３５℃、望ましくは２０〜３
０℃の範囲に維持できるように、触媒槽の外周に温水を
循環させることにより加温し所定温度を保つ。液温を２
０〜３５℃の範囲に維持することにより、触媒液の表面
張力が低下し繊維ー繊維間の空隙に浸透し易くなる。触
媒付与に必要な滞留時間は、触媒槽の上下移動により浸
漬時間を調整して行うことができる。
て、浸透はよくなるが、必要以上に加温すると塩酸ガス
の発生及び織編物に過剰の触媒が付与され、メッキ槽へ
余分の触媒が持ち込まれ、メッキ槽内にメッキ屑が多く
発生し極端な場合は、メッキ液の分解を誘発する。従っ
て、触媒液の温度を２０〜３５℃、望ましくは２０〜３
０℃の範囲に維持できるように、触媒槽の外周に温水を
循環させることにより加温し所定温度を保つ。液温を２
０〜３５℃の範囲に維持することにより、触媒液の表面
張力が低下し繊維ー繊維間の空隙に浸透し易くなる。触
媒付与に必要な滞留時間は、触媒槽の上下移動により浸
漬時間を調整して行うことができる。
【０００９】
【作用】本発明は、織編物を触媒槽へ鈍角の状態にて進
入、出させることにより、必要最小限の触媒液量で連続
的に均一に浸漬通過させることができ、且つ槽壁に接触
することがない。更に、織編物に付着して槽外へ持ち出
された液量に相当する新しい触媒液を連続的に供給する
ことにより、空気酸化を避け、常に新しい触媒液を織編
物に付与できる。又、槽を二重槽にし外槽に温水を循環
させることにより触媒液を２０〜３５℃に保ち、液の表
面張力を低下させることにより、繊維ー繊維間の微細空
隙にまで均一に触媒を付与できる。
入、出させることにより、必要最小限の触媒液量で連続
的に均一に浸漬通過させることができ、且つ槽壁に接触
することがない。更に、織編物に付着して槽外へ持ち出
された液量に相当する新しい触媒液を連続的に供給する
ことにより、空気酸化を避け、常に新しい触媒液を織編
物に付与できる。又、槽を二重槽にし外槽に温水を循環
させることにより触媒液を２０〜３５℃に保ち、液の表
面張力を低下させることにより、繊維ー繊維間の微細空
隙にまで均一に触媒を付与できる。
【００１０】
【実施例】本発明の一実施例を図に基づいて以下に説明
する。織物１は駆動ローラー１７により、触媒槽６へ進
入引き込まれる。触媒槽６には、ポリ塩化ビニル製の２
枚の三角形板の底辺の両角間に平行して設けられた２本
の細いローラー４があり、織物はこの下面を通って触媒
液を付与させた後、駆動ローラー１７により水洗槽１８
へ移行する。尚、織物を引っ張るために生じるテンショ
ンにより、２本のローラーが触媒液から持ち上げられな
い様に、三角形板３の頂点に荷重棒５を設け、織物が触
媒液中を通過するように押圧する。
する。織物１は駆動ローラー１７により、触媒槽６へ進
入引き込まれる。触媒槽６には、ポリ塩化ビニル製の２
枚の三角形板の底辺の両角間に平行して設けられた２本
の細いローラー４があり、織物はこの下面を通って触媒
液を付与させた後、駆動ローラー１７により水洗槽１８
へ移行する。尚、織物を引っ張るために生じるテンショ
ンにより、２本のローラーが触媒液から持ち上げられな
い様に、三角形板３の頂点に荷重棒５を設け、織物が触
媒液中を通過するように押圧する。
【００１１】保温用外槽７には、温水入口１２と出口１
３を備えており、触媒槽６の周囲を温水が循環し触媒液
温を２０〜３０℃に維持する。触媒液への浸透時間の調
整は、保温用外槽７が置かれた調整板８の上下移動によ
り調節する。調整板８は、支柱９の中央部に設けられた
溝１０によって上下に移動ができ、所定位置に固定ネジ
１１で固定される。これにより、触媒槽と水洗槽の水面
までの距離、いいかえると水洗迄の所要時間を調整でき
る。織物１に付着して槽外へ持ち出された液量に相当す
る触媒量は、触媒タンク１６からポンプ１５により供給
され、常に液面は一定に維持され連続的に織物に均一な
触媒付与が出来る。
３を備えており、触媒槽６の周囲を温水が循環し触媒液
温を２０〜３０℃に維持する。触媒液への浸透時間の調
整は、保温用外槽７が置かれた調整板８の上下移動によ
り調節する。調整板８は、支柱９の中央部に設けられた
溝１０によって上下に移動ができ、所定位置に固定ネジ
１１で固定される。これにより、触媒槽と水洗槽の水面
までの距離、いいかえると水洗迄の所要時間を調整でき
る。織物１に付着して槽外へ持ち出された液量に相当す
る触媒量は、触媒タンク１６からポンプ１５により供給
され、常に液面は一定に維持され連続的に織物に均一な
触媒付与が出来る。
【００１２】
【発明の効果】本発明の触媒槽を用いることにより、必
要最小限の触媒液量にもかかわらず、織編物に均一な触
媒が付与され、均一な無電解メッキが施される。その
上、高価な触媒液の消費量が大巾に低減され、加工費が
安くできるという効果がある。
要最小限の触媒液量にもかかわらず、織編物に均一な触
媒が付与され、均一な無電解メッキが施される。その
上、高価な触媒液の消費量が大巾に低減され、加工費が
安くできるという効果がある。
【図１】本発明の装置の縦断面図である。
１ 織物 ２ 案内ローラー ３ 三角形板 ４ ローラー ５ 荷重棒 ６ 触媒槽 ７ 保温用外槽 ８ 調整板 ９ 支柱 １０ 溝 １１ 固定ネジ １２ 温水入口 １３ 温水出口 １４ 触媒供給ホース １５ ポンプ １６ 触媒タンク １７ 駆動ローラー １８ 水洗槽 １９ 案内ローラー
Claims (5)
- 【請求項１】 槽の水平な底面に対し、織編物の入口側
及び出口側槽壁を外へ４５〜６０度傾斜させ、平行した
２本のローラーを槽内の底面上部に配置し、槽を上下可
動にしたことを特徴とする無電解メッキ用の触媒槽。 - 【請求項２】 槽の外周に触媒液温調整用の槽を設け
て、二重槽としたことを特徴とする請求項１記載の無電
解メッキ用の触媒槽。 - 【請求項３】 平行した２本のローラーを、相向き合っ
た２枚の三角形の板の底辺間に配置したことを特徴とす
る請求項１記載の無電解メッキ用の触媒槽。 - 【請求項４】 相向き合った２枚の三角形の板がステン
レス又はポリ塩化ビニルである請求項３記載の無電解メ
ッキ用の触媒槽。 - 【請求項５】 触媒液温を２０〜３５℃に維持すること
を特徴とする請求項２記載の無電解メッキ用の触媒槽。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26554493A JPH07102382A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 無電解メッキ用の触媒槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26554493A JPH07102382A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 無電解メッキ用の触媒槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07102382A true JPH07102382A (ja) | 1995-04-18 |
Family
ID=17418598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26554493A Pending JPH07102382A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 無電解メッキ用の触媒槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07102382A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5000650B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2012-08-15 | シャープ株式会社 | Ｔｆｔ基板およびそれを備える表示パネルならびに表示装置、ｔｆｔ基板の製造方法 |
| WO2016022159A1 (en) * | 2014-08-08 | 2016-02-11 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Roll-to-roll electroless plating system for controlled substrate depth |
| TWI551722B (zh) * | 2015-04-28 | 2016-10-01 | Triumphant Gate Ltd | Polyamide or poly (ethylene terephthalate) wet weight metallization treatment control method |
| CN111441040A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-24 | 株式会社杰希优 | 树脂膜的湿式处理装置 |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP26554493A patent/JPH07102382A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5000650B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2012-08-15 | シャープ株式会社 | Ｔｆｔ基板およびそれを備える表示パネルならびに表示装置、ｔｆｔ基板の製造方法 |
| WO2016022159A1 (en) * | 2014-08-08 | 2016-02-11 | Uni-Pixel Displays, Inc. | Roll-to-roll electroless plating system for controlled substrate depth |
| TWI551722B (zh) * | 2015-04-28 | 2016-10-01 | Triumphant Gate Ltd | Polyamide or poly (ethylene terephthalate) wet weight metallization treatment control method |
| CN111441040A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-24 | 株式会社杰希优 | 树脂膜的湿式处理装置 |
| CN111441040B (zh) * | 2018-12-26 | 2024-06-11 | 株式会社杰希优 | 树脂膜的湿式处理装置 |
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